JPH03104892A - 有機イソシアネート類の製造法 - Google Patents

有機イソシアネート類の製造法

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JPH03104892A
JPH03104892A JP1210417A JP21041789A JPH03104892A JP H03104892 A JPH03104892 A JP H03104892A JP 1210417 A JP1210417 A JP 1210417A JP 21041789 A JP21041789 A JP 21041789A JP H03104892 A JPH03104892 A JP H03104892A
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JP
Japan
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acid amide
organic isocyanates
water
phase
electrolytic
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Pending
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JP1210417A
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English (en)
Inventor
Ikuzo Nishiguchi
西口 郁三
Tsunesuke Hirashima
平嶋 恒亮
Shinya Ando
信也 安藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Osaka City Government
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
Osaka City Government
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は有機インシアネート類の製造法に関する。
[従来の技術コ 従来、有機インシアネート類の製造法の例としてはカル
ボン酸アミドを出発物質とするホフマン反応による方法
がある。例えば(1)臭素、水酸化ナトリウムにより、
2相溶媒系でインシアネートを製造する方法( Tet
rahedron  Letters  21.  2
223(1980)) 、(2)K B rを用いてメ
タノール中で電解酸化する方法がある(Chem+1s
try Letters 5G5 (1982))。
[発明が解決しようとする課題コ しかし、これらの製造法には以下の問題点があった。即
ち、(l)の製造法では有毒な臭素自身を取り扱う必要
があり、(2)の製造法では比較的薄い基質濃度での均
一溶媒系であるため、工業的生産を考慮すると生成物の
みを分離する工程が煩雑になって連続生産には適さず、
経済的に不利である。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは有毒な臭素などのハロゲン自身を取り扱わ
ず、しかも生成物の分離・取り出しが容易で連続生産に
適した有機インシアネート類を製造する方法を得るべく
鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は水および水と不均一系を構成する有
機溶媒からなる2相の溶媒系にハロゲン基含有支持電解
質および相間移動触媒を溶解させ、ネート類の製造法で
ある。
本発明において水と不均一系を構成する有機溶媒として
は下記のものが挙げられる。
(1)ハロゲン系有機溶媒 塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、トリクレン
、バークレン、エチレンジクロリドなトオよびこれらの
混合物。
(2)炭化水素系有機溶媒 n−へキサン、シクロヘキサン、n−オクタン、n−ヘ
ブタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどおよびこれ
らの混合物。
(3)エーテル系有機溶媒 ジメチルエーテル、ジエチルエーテルなどおよびこれら
の混合物。
(4)ケトン系有機溶媒 メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどおよ
びこれらの混合物。
(5)アルコール系有機溶媒 t−ブチルアルコールなど。
これらのうちで好ましくはハロゲン系有機溶媒であり、
さらに好ましくは塩化メチレンである。
カルボン酸アミドとしては下記の化合物が挙げられる。
A.脂肪族アミド類 (A−1)脂肪族鎖状モノカルボン酸アミド類炭素数が
通常2〜22の脂肪族鎖状モノカルボン酸アミド例えば
アセトアミド、プロピオン酸アミド、プチルアミド、カ
プロン酸アミド、ラウリン酸アミド、ステアリン酸アミ
ドなと。
(A−2)脂肪族鎖状ポリカルボン酸アミド類炭素数が
通常3〜22の脂肪族鎖状ポリカルボン酸のボリアミド
例えばマロン酸ジアミド、コハク酸ジアミド、アジビン
酸ジアミド、スベリン酸ジアミド、セバチン酸ジアミド
、テトラデカンジカルボン酸ジアミド、オクタデカンジ
カルボン酸ジアミド、6−エチルヘキサデカンジカルボ
ン酸ジアミ ドなど。
(A−3)脂環式モノカルボン酸アミド類シクロペンタ
ンモノカノレボン酸アミド、シクロヘキサンモノカルボ
ン酸アミドなと。
(A−4)脂環式ポリカルボン酸アミドシクロヘキサン
−1.4−ジカノレボン酸アミド、4.4’−ジシクロ
ヘキシノレメタンジアミドなど。
B.芳香族アミド類 (B−1)芳香族モノカルボン酸アミド安息香酸アミド
、トルイル酸アミド、フェニル酢酸アミド、ナフトエ酸
アミドなと。
(B−2)芳香族ポリカルボン酸アミドテレフタル酸ジ
アミド、イソフタル酸ジアミド、フタル酸ジアミド、ト
ルエンジカルボン酸ジアミド、4.4’−ジフェニルメ
タンジアミド、ベンゼントリカルボン酸トリアミド、ナ
フタリンジカルボン酸ジアミドなど。
これらのうちで好ましくは脂環式モノカルボン酸アミが
脂肪族鎖状ポリカルボン酸アミド類、芳香族モノカルボ
ン酸アミドおよび芳香族ポリカルボン酸アミドである。
ハロゲン基含有支持電解質としてはカチオン部分が水素
H4、アルカリ金属(例えばN a4、Ll”、K4な
ど)、アルカリ土類金属(例えばCa2゛ Mg2◆な
ど)またはアルキル置換もしくは非置換アンモニウムで
あり、アニオン部分がハロゲン基(例えばBr−,  
C I −+  I一等)である塩が用いられる。
これらのうち好ましくはアルカリ金属のハロゲン塩であ
る。
相間移動触媒としては下記の化合物が挙げられる。
(A−1)四級アンモニウム塩類 ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド、テトラプチ
ルアンモニウム硫酸水素塩、テトラメチルアンモニウム
ブロマイド、テトラエチルアンモニウムアイオダイドな
ど。
(A−2)クラウンエーテル類 シヘンソ−18−クラウン−61  ジシクロヘキシノ
レ−18−クラウン−6、18−クラウン−6など。
(A−3)クリプタンド類など rとしてとしてとして]一クリプテートなど。
これらのうち好ましくは四級アンモニウム塩類であり、
さらに好ましくはテトラブチルアンモニウム硫酸水素塩
である。
本発明において、水と水と不均一系を構成する有機溶媒
の割合は体積比で10:90〜90:10であり、好ま
しくは30:7G〜70:3Gである。
カルボン酸アミドの水および水と不均一系を構成する有
機溶媒の総体積に対する濃度は通常0.1〜201wt
/volであり、好ましくは0 .5〜10 .0Xv
t/vo Iである。ハロゲン基含有支持電解質の水に
対する濃度は通常0.3〜1 5vt%であり、好まし
くは1.0〜8.Owtlである。
相間移動触媒の水に対する濃度は通常0.05〜として
0%であり、好ましくは0.1−1.0%である。
本発明における反応は通常は無隔膜のビーカー型の電解
槽で行われ、電解槽の中の水にハロゲン基含有支持電解
質と相間移動触媒を溶解させ、さらに基質としてのカル
ボン酸アミドを溶解または分散させた後、有機溶媒を加
える。マグネチックスクーラー用の回転子を入れた後、
電極および温度計さらに必要に応じてガス抜き管または
冷却管を取り付ける。本発明における電解酸化の電極材
料としては陽極として例えば炭素系材料(グラファイト
およびグラッシーカーボンなど)、白金または白金合金
(例えば白金/チタン)などの板状、棒状、網状のもの
が用いられる。これらのうち好ましくは白金である。
陰極としてはたとえば炭素系材料(グラファイトおよび
グラッシーカーボンなど)、銅、鉄、ステンレス鋼、ニ
ッケル、亜鉛などの板状、棒状、網状のものが用いられ
る。これらのうちで好ましくはニッケルとステンレス鋼
である。
反応温度は一般にO〜80℃の範囲で行われ、好ましく
は20−GO℃である また、本発明の溶媒系は2相系であるので2相の接触が
充分になるように攪拌を充分に行う必要があり、小規模
の場合は強力なマグネチックスクーラーなどで攪拌が必
要であり、大規模の場合は高速での液の循環などによる
攪拌が必要である。
陽極の電流密度は3〜100mA/cm2の範囲にわた
って選びうるが、好ましくは5〜30mA/am2であ
る。
上記の条件で電極酸化を行うと、有機インシアネートは
有機溶媒相に生成するので生成物の分離をするため、水
相と有機相を分離し、溶媒除去、抽出などの操作によっ
て目的とする有機インシアネートを得ることが出来る。
さらに、生成物を含んだ有機溶媒相のみを連続的に分離
して溶媒を回収し再使用するとともに、水相はそのまま
再使用できるので、原料のカルボン酸アミドを連続的に
補給することにより連続生産プロセスとすることも可能
である。
[実施例] 以下に実施例により本発明を具体的に説明するが本発明
はこれに限定されるものではない。
実施例1 容量100mlのビーカー型無隔膜電解槽内に陽極とし
て白金板(4c謬x 8cm)と陰極としてニッケル板
(3c+zX 3c■)および温度計と冷却管を取り付
けて電解酸化装置とした。電解槽に水40n+l、K 
B r 1.8g(0.013モ0、テトラブチルアン
モニウム硫酸水素塩0.2g (0.0006−t−ル
)、サらにシクロヘキサンモノカルボン酸アミド1 .
8g (0.013モル)、有機溶媒として塩化メチレ
ン40mlを加えた。液温を30”Cに保つため電解槽
を外部から温水で加温し、電解槽内をマグネチックスタ
ーラーで攪拌しながら極間電圧2 − 4V,  定電
流値320mA (電流密度]hA/cm’) (D条
件下にとして7F/n+olの電流量(理論電流量の1
35%)を3時間を要して通電し、電解酸化を行った。
反応終了後、水相と有機溶媒相を分液し、有機溶媒相中
に残留している臭素イオンを除去するためチオ硫酸ナト
リウム粉末として0gを投入して1時間撹拌し、固形物
を濾別した。  濾液から減圧下で溶媒ヲ除去し、さら
に粗インシアネートを減圧下で蒸留して純度38%のシ
クロヘキサンモノイソシアネー} 1 .07g (収
率67%)を得た。 (純度はガスクロマトグラフィー
で測定) 実施例2〜9 実施例1と同様の電解酸化装置で表−1のカルボン酸ア
ミド1 . Ilig,  ハロゲン基含有支持電解質
1 .8gおよび表−1の電流密度の条件で電解酸化を
行った。その他の原料仕込量、電解条件および後処理方
法は実施例−1と同様である。
カルボン酸アミド: A:n一カプロン酸アミド B:シクロヘキサンモノカルボン酸アミドC: シクロ
ペンタンモノカルボン酸アミドD= シクロヘキサン−
1.4−ジカルボン酸アミドE:テレフタル酸ジアミド 電流密度の単位: mA/c” 収率:原料のアえドの仕込量から計算される理論的な得
量に対する実際の得量の割合(%)表−1 実施例10〜14 実施例1に記載の電解装置で表−2のカルボン酸アミド
1.[igおよび表−2の温度の条件で電解酸化を行っ
た。その他の原料の仕込量、電解条件および後処理方法
は実施例1と同様である。
表−2 表−3 実施例15〜19 実施例1と同様の電解装置でカルボン酸アミドとしてシ
クロヘキサンモノカノレボン酸アミドIJgと表−3の
有機溶媒401lと相間移動触媒(PTC)を0.3g
を用いて電解酸化を行った。その他の原料仕込量、電解
条件および後処理方法は実施例1と同様である。
PTC:相間移動触媒(Phase Transfer
 Catalyst) イ: テトラブチルアンモニウム硫酸水素塩ロ: テト
ラエチルアンモニウムトシレート実施例20 容量200m lのビーカー型無隔膜電解槽内に電極と
して白金板( 5cmX 12co+)と陰極としてニ
ッケル板(4cmX 5cm)および温度計と冷却管を
取り付けて電解酸化装置とした。電解槽に水80ml、
KBr4.Og(0.034モル)、テトラブチルアン
モニウム硫酸水素塩0.4g (0.0Ol2モル)、
さらにシクロヘキサン−1,4−ジカルボン酸アミド2
,Ilig (0.015モル)、有機溶媒として塩化
メチレン80mlを加えた。液温を35℃に保つため電
解槽を外郎から温水で加温し、電解槽内をマグネチック
スクーラーで撹拌しながら極間電圧2 − GV1  
定電流値720mA (電流密度12+gA/cm2)
の条件下に4F/n+olの電流量(理論電流量のlO
O%)をとして2時間を要して通電し、電解酸化を行っ
た。
反応終了後、水相と有機溶媒相を分離し、有機溶媒相中
に残留している臭素イオンを除去するためチオ硫酸ナト
リウム粉末3.0gを投入して1時間撹し、固形物を濾
別した。  濾液から減圧下で溶媒を除去し、粗インシ
アネートを得た。また、回収した溶媒75mlに原料の
1,4−シクロヘキサンジアミドとして0gと新たな溶
媒(塩化メチレン)5mlを加えて電解槽に残っている
水相に加えた。この電解液を上記と同様の電解条件にて
電解酸化した。この操作をさらに3回繰り返し、得られ
た粗インシアネー} 10.4gを減圧蒸留して純度9
7%の1,4−シクロヘキサンジイソシアネート8.0
gを得た。 (収率75%)[発明の効果コ 本発明の製造法は次のような効果を奏する。
即ち、有毒なハロゲン自身を取り扱わず、しかも生成物
の分離・取り出しが容易で連続生産に適した製造法で有
機インシアネート類を製造することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、水および水と不均一系を構成する有機溶媒からなる
    2相の溶媒系にハロゲン基含有支持電解質および相間移
    動触媒を溶解させ、基質としてカルボン酸アミドを溶解
    または分散させてなる溶液又は分散液を電解酸化するこ
    とを特徴とする有機イソシアネート類の製造法。 2、カルボン酸アミドが脂肪族鎖状モノカルボン酸アミ
    ド類、脂肪族鎖状ポリカルボン酸アミド類、脂環式モノ
    カルボン酸アミド類、脂環式ポリカルボン酸アミド類、
    芳香族モノカルボン酸アミド類または芳香族ポリカルボ
    ン酸アミド類である請求項1記載の有機イソシアネート
    類の製造法。 3、ハロゲン基含有支持電解質がアルカリ金属またはア
    ルカリ土類金属のハロゲン塩である請求項1または2記
    載の有機イソシアネート類の製造法。
JP1210417A 1989-08-15 1989-08-15 有機イソシアネート類の製造法 Pending JPH03104892A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2265910B (en) * 1992-04-07 1995-02-22 Atomic Energy Authority Uk Hydrolysis
WO2009010420A1 (de) * 2007-07-13 2009-01-22 Basf Se Verfahren zur herstellung von isocyanaten durch anodische oxidation vom formamiden
CN113774412A (zh) * 2020-05-20 2021-12-10 深圳有为技术控股集团有限公司 异氰酸酯的电化学脱氢氧化制备方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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GB2265910B (en) * 1992-04-07 1995-02-22 Atomic Energy Authority Uk Hydrolysis
WO2009010420A1 (de) * 2007-07-13 2009-01-22 Basf Se Verfahren zur herstellung von isocyanaten durch anodische oxidation vom formamiden
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