JPH031121B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は大型形状セラミツクス製造工程におい
て、均質な成形体を得るために行う静水圧成形工
法に関するものであり、従来方法に比べて工程数
が低減でき、量産性に優れた静水圧成形工法を提
供しようとするものである。

従来、セラミツクス製造工程で、乾式成形を用
いて大型セラミツクスを製造する場合には、通常
の乾式成形では均一に加圧することは不可能であ
り、均質な成形体が得られず、こういつた不均質
な成形体を焼成すると、焼結体にクラツクを生じ
たりする。そして、前述の乾式成形における不均
一加圧を除去し、均質な成形体を得る方法として
静水圧成形工法が有効であることは公知である。

通常の静水圧成形工法では、まず乾式成形によ
り一旦予備成形し、この成形体を氷のうのような
ゴム製の袋に入れ、真空ポンプで吸引後密封し、
ゴムを成形体に充分密着させた後、静水圧加圧装
置により静水圧成形を行つている。

こうした従来の静水圧成形工法では、各個体を
それぞれ個別にゴム製袋に充填する必要があり、
この着脱が困難で作業性が悪く、量産上好ましく
なかつた。また、成形体とゴム製袋を充分密着さ
せるために脱気する必要があり、脱気工程が必要
であつた。

本発明はこのような従来の不都合を除去しよう
としてなされたものであり、以下に本発明による
静水圧成形工法について説明する。

本発明は従来工法が予備成形体をゴム製袋に入
れて真空脱気、静水圧成形後ゴム製袋を取外すの
に対し、ゴム製袋を着脱することなく、予備成形
体にも塗布もしくは浸漬によりゴムまたはプラス
チツクス等の高分子化合物膜を形成し、静水圧成
形を行つた後、高分子化合物膜を保持した状態の
成形体を焼成しようとするものである。これらの
予備成形体に形成された高分子化合物膜は、焼成
中飛散させることが可能であり、除去の必要がな
い。このように本発明によれば従来工法に比べて
工程数が大幅に低減でき、量産性が向上する。

次に、本発明工法を用いて60mmφ、40mmｔのセ
ラミツクス素子を静水圧成形した実施例を以下に
示す。

60mmφ、40mmｔに乾式法により予備成形した試
料を、ネオプレンゴムをベンゼンで稀釈し、2000
センチポイズ以下に粘度調節したもので吹付け塗
布乾燥後、静水圧成形し、その後焼成した。焼成
中ネオプレンゴムを飛散させるために、800℃で
１時間保持した後、所定の焼成温度で焼成した。
ここでは静水圧成形の効果を実現させるために、
ネオプレンゴム被膜の厚さを0.3〜0.5mmにできる
ように上記の通り粘度を2000センチポイズ以下に
設定した。

本発明工法をゴム製氷のうを用いた従来工法と
比べると、従来工法では予備成形後形体を氷のう
に投入してから焼成にいたるまでの着脱作業は１
ケ当り約７分必要であつたのに対し、一方本発明
工法では塗布、乾燥に２分を必要とするにすぎな
かつた。また、本発明工法で予備成形体に形成し
たネオプレンゴムにピンホール等は見られず、実
使用上問題は見られなかつた。

以上のように、本発明の工法は作業時間を大幅
に短縮することが可能で、量産性を有し、工業的
に有用性大なるものである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 予備成形物にプラスチツクスまたはゴム等の
   高分子化合物膜を形成し、静水圧成形を行うこと
   を特徴とする静水圧成形工法。