JPH03112963A - 光学活性３，４―デヒドロピロリジン化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、単為生殖性の原生動物による疾病の治療や、
植物例えば豆類のうどんこ病などのかびによる被害の防
除に有用な抗生物質アニソマイシンおよびその誘導体を
製造するために有用な反応中間体である 去 （式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基、Ｚはア
ミノ基の保護基、＊は光学活性炭素をそれぞれ意味する
） で示される光学活性３，４−デヒドロピロリジン化合物
およびそのＮ−遊離の化合物の製造方法に関する。

［従来技術および解決すべき課題］ −一般式１］で示される上記光学活性化合物の製造に関
しては、つぎの反応経路１で示すように、Ｄ−チロシン
を出発原料とする方法（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅ
ｔｔ、、２９．４４１９．１９８８．　Ｓ、ジエーガム
（Ｓ、Ｊｅｇｈａｍ　）　、　Ｂ、Ｃ，ダス（Ｂ、Ｃ，
Ｄａｓ　）　）が知られている。

反応経路１ （ＩＩＪ ［ＩＩＩ］ ↓ 〔■］ （上記各式中、 ｒは４−メ トキシフェニル、 は −ブチルオキシカルボニル、 Ｍｅは メチルをそれぞれ意味する） しかし、この反応経路の方法では中間体［ｖ］がラセミ
化しやすく、そのため最終製品である光学活性化合物［
Ｉ］の光学純度に問題があった。またこの方法ではＡｒ
が４−メトキシフェニルに限定されており、上記化合物
ＣＩ］の同族体は未だ開発されていなかった。

本発明は、上記の如き実情に鑑み、アニソマイシンおよ
びその同族体を製造する上で有用な光学活性３，４−デ
ヒドロピロリジン化合物［Ｉ］およびそのＮ−遊離の化
合物の新規製造方法を提供することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明による光学活性３．４−デヒドロピロリジン化合
物の製造方法は、 で示されるヒドロキシピロリジン化合物を脱水して、 ｙ （上記各式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基、
Ｚはアミノ基の保護基、＊は光学活性炭素をそれぞれ意
味する） で示される光学活性３，４−デヒドロピロリジン化合物
を得、必要に応じてそのＮ−保護基を除去して同化合物
［１１をＮ−遊離の化合物に導くことを特徴とする。

ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＩ　１を脱水して化合
物ＣＩ］を得るには、（１）ヒドロキシピロリジン化合
物［ＸＸＩ　］に二硫化炭素ついで一般式ＲＩＸ２で示
される化合物を反応させて、（上記各式中、Ａｒ、Ｚお
よび＊は上記定義のものと同じ意味を有し、Ｒ１はアル
キル基またはアラルキル基、Ｘ２はハロゲン原子または
スルホニルオキシ基、Ｙ′はＯＣＳ、Ｒ’をそれぞれ意
味する） で示されるキサンテート化合物を得、ついで同化合物［
ＸＩＩ　］を脱離反応に付する方法、（１１）ヒドロキ
シピロリジン化合物［ＸＩＩ　］を酸処理する方法、（
１１１）ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＩＩ　１の水
酸基をハロゲン、ｐ−トルエンスルホン酸エステル基ま
たはアセチルオキシ基で置換し、得られた化合物を脱離
反応に付する方法などがある。

上記方法に使用するヒドロキシピロリジン化合物［ＸＩ
Ｉ　１を製造するには、 で示されるアシルオキシピロリジン化合物のアミノ基を
保護試剤で保護して （上記各式中、Ａｒ５Ｚおよび＊は上記定義のものと同
じ意味を有し、Ａｒ−は置換または無置換のアリール基
をそれぞれ意味する）で示されるＮ−置換ピロリジン化
合物を得、ついで同化合物［！Ｘ］のアシルオキシ基を
加水分解する。

上記方法に使用するアシルオキシピロリジン化合物［Ｙ
ｆｆ］を製造するには、 （式中、Ａｒ５Ａｒ−および＊は上記定義のものと同じ
意味を有する） で示されるベンズアミド化合物を臭素、塩化ヨウ素、ヨ
ウ素、ピリジンのＨＢｒ、塩、Ｎ−ブロモコハク酸イミ
ドより成る群から選ばれた環化試剤で処理する。

上記方法に使用するベンズアミド化合物［Ｘ■］を製造
するには、 一般式 で示されるアリルアミン化合物を一般式Ａｒ’　ＣＯＸ
’またはＡ　ｒ　’　ＣＯ２ＣＯＡ　ｒ（上記各式中、
Ａ「、Ａｒ−および＊は上記定義のものと同じ意味を有
し、Ｘｌはハロゲン原子を意味する）で示されるアミド
化試剤で処理する。

上記方法に使用するアリルアミン化合物［Ｘ■］を製造
するには、 （式中、Ａｒおよび＊は上記定義のものと同じ意味を有
し、ＹはＮ　ＨＣＯ２ｔ　−Ｂ　ｕ　−Ｎ　ＨＣＯ２Ｂ
　ｎ　（Ｂ　ｎはベンジル基を意味する）ＢｎＯＮＣ０
２Ｂｎ。

ｏ　−Ｃｂ　Ｈ４（ＣＯ）　２　Ｎｓ Ｎ　Ｃ（Ｃｂ　Ｈ４）　３　、ＨＣＯＮ　Ｈ。

ｐ　−Ｍ　ｅ　（Ｃ６Ｈ４）　Ｓ　０２　ＮＨまたはＣ
６Ｈ，５ｏ２ＮＨを意味する） で示される含窒素化合物を塩基で処理するか、または上
記一般式においてＹがＮ、である含窒素化合物［ＸＷ］
を水素化反応に付する。

上記方法に使用する含窒素化合物［ＸＶｌ］を製造する
には、 で示されるアリルアルコール化合物を、一般式Ｒ２ｏ、
ＣＮ−ＮＣＯ２Ｒ２で示されるジアゾカルボン酸ジアル
キルおよび一般式 Ｐ（Ｒ３）３（上記各式中、Ａｒおよび＊は上記定義の
ものと同じ意味を有し、Ｒ２はアルキル基、Ｒ３はアリ
ール基またはアルキル基をそれぞれ意味する）で示され
る三級ホスフィン化合物の存在下、一般弐ＹＨ（Ｙは上
記定義の基のうちＮ、以外のものを意味する）で示され
る化合物と反応させるか、または ＣＣｂ　Ｈ５０）２　ＰＯＮ３と反応させる。

上記方法に使用するアリルアルコール化合物［ＸＶ］を
製造するには、 一般式 で示されるエポキシプロパン化合物をリチウムアセチリ
ドと反応させて （上記各式中、Ａｒおよび＊は上記定義のものと同じ意
味を有する） で示されるエチニルアルコールとし、これを部分還元す
る。

本発明方法の出発原料である１−アリール−２，３−エ
ポキシプロパン化合物［Ｘ］の調製方法を反応経路２に
示し、また上述した本発明による光学活性３，４−デヒ
ドロピロリジン化合物の製造方法を反応経路３に示す。

穴ＩＩＥｃ〕 Ｘ−ベンジルオキシ アリルオキシ 〔ＶＩＩＩａコ Ｘ同ハロゲン 反応経路２ 〔Ｉｘｂ〕 ＣＩＸａ〕 ｒＸ］ 〔ＶＩＩＩｂ　］ Ｘ−スルホニルオキシ ＣＸｌｌ１．］ 本発明方法において、上記一般式で示される各化合物の
定義について上記反応経路３の反応順に説明する。

エポキシプロパン化合物［Ｘ］のアリール基Ａｒとして
は、フェニル、ナフチル、インドリル、ビフェニルなど
の無置換アリール基、および芳香環にフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子や、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチルなどの炭素数１〜４のア
ルキル基、メトキシ、エトキシなどの炭素数１〜４のア
ルコキシ基、ベンジルオキシ基などのアラルキルオキシ
基、シアノ基、トリフルオロメチル基などの置換基を有
するフェニル、ナフチル、インドリル、ビフェニルなど
の置換アリール基が例示される。また、同化合物［Ｘ］
の＊は光学活性炭素を示す。

アリルアルコール化合物［ＸＶ］から含窒素化合物［Ｘ
Ｗ］を得る反、応で使用するジアゾカルボン酸ジアルキ
ルＲ２０□ＣＮ−ＮＣＯ２Ｒ２のアルキル基としては、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルなど
の炭素数１〜４のアルキル基が例示され、三級ホスフィ
ンＰ　（Ｒ３）のＲ３基としてはフェニルのようなアリ
ール基、ｎ−ブチルのようなアルキル基が例示される。

アリルアミン化合物［Ｘ■］のアミド化試剤Ａ　ｒ　”
　ＣＯＸ’またはＡ　ｒ　’　ＣＯ２ＣＯＡ　ｒにおけ
るアリール基Ａｒ−とじては、フェニル、ナフチルなど
の無置換アリール基、および芳香環にフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子や、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチルなどの炭素数１〜４のア
ルキル基、メトキシ、エトキシなどの炭素数１〜４のア
ルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、アセチル基、ベンゾ
イル基などの置換基を有するフェニル、ナフチルなどの
置換アリール基が例示される。また、同アミド化試剤に
おけるハロゲンＸ１としては塩素、臭素などが例示され
る。

アシルオキシピロリジン化合物［ＸＩＸ］のアミノ基保
護のためのカルバメート化またはアミド化に使用される
保護試剤としては、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸ベン
ジル、クロロ炭酸１−ブチルなどのクロロ炭酸アルキル
、クロロ炭酸アラルキル、ハロゲン化アセチル、無水酢
酸、ハロゲン化ベンゾイル、無水安息香酸などが例示さ
れる。したがって、アミノ基の保護基としての２は、ベ
ンジルオキシカルボニル、ｔ−ブチルオキシカルボニル
などのオキシカルボニル基、アセチル、ベンゾイルなど
のアシル基のように容易に除去可能な置換基である。

キサンテート化合物［ＸＸＩ　］のＹ′が０Ｃ５２Ｒ’
である場合、Ｒ１としては、メチル、エチルなどのアル
キル基、ベンジルなどのアラルキル基が例示される。

つぎに、上記反応経路２および３の各反応の条件につい
て反応順に説明する。

（＾）まず、本発明方法の出発原料であるエポキシプロ
パン化合物［Ｘ］の製造について上記反応経路２に従っ
て説明する。

反応経路２の出発原料である２、３−エポキシプロパン
誘導体［■コにおいて、Ｘはフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン、またはメタンスルホニルオキシ、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニ
ルオキシ、ｐ−１ルエンスルホニルオキシ、３−ニトロ
ベンゼンスルホニルオキシなどのスルホニルオキシ基、
ベンジルオキシ、ジフェニルメチルオキシ、トリチルオ
キシなどのアラルキルオキシ基、アリルオキシ基などの
容易に脱離可能な置換基を示す。

まず、２，３−エポキシプロパン誘導体［■コを不活性
溶媒中で一り００℃〜−１Ｏ℃の低温下で一価の銅塩０
．００５〜２．０モル当量の存在下にアリールリチウム
と反応させる。不活性溶媒としては、例えばヘキサン、
ペンタン、ヘプタン、トルエンなどの炭化水素、エーテ
ル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチル
エーテルなどのエーテル類あるいはこれらの混合溶媒が
使用される。銅塩としては Ｃｕ２　　（ＣＮ）２　、Ｃｕ２Ｉ　２などを用いるこ
とができる。アリールリチウムとしては、先に定義した
アリール基（Ａｒ）を有するものが適宜選択されて使用
される。通常はリチウムキュープレート試剤を用いる。

この際、（１）化合物［■］の置換基Ｘがハロゲンであ
る時は、化合物［１ａ］からハロヒドリンＣｆｆｘ］が
得られ、（ｉｆ）Ｘがトルエンスルホニルオキシなどの
スルホニルオキシ基である時は、化合物［■ｂ］からエ
ポキシプロパン化合物［Ｘ］が得られ、（Ｉｌｉ）　Ｘ
がアラルキルオキシやアリルオキシなどである場合は、
化合物［■Ｃ］から化合物［ＩＫｂが得られる。

（１）の方法では、ハロヒドリン［■１］に極性溶媒中
で塩基を反応させるか、あるいは非極性溶媒と上記塩基
の水溶液との二層系で相間移動触媒を用いて化合物［■
！］と塩基を反応させることによって、上記化合物［Ｘ
］を得ることができる。塩基としては、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムな
どが使用され、極性溶媒としては、水、メタノール、ア
セトン、エーテルなどが使用され、非極性溶媒としては
へキサン、エーテル、ジクロロメタンなどが使用される
。

また（Ｉｆｆ）の方法では、化合物［ｆｆｂ］から公知
の方法、例えばパラジウム触媒を用いた水素化分解ある
いはオレフィンの異性化を伴う酸分解により保護基を除
き、化合物［ｆｆｂ］をジオール［ｘ１〕とし、さらに
これを本発明者らにより開発された方法、即ち、ｐ−ト
ルエンスルホン酸などの酸触媒存在下ベンズアルデヒド
でアセタール化して化合物ＣＩＩ］とした後、これを臭
素あるいはＮ−ブロモコハク酸イミドを用いてブロモヒ
ドリンのベンゾイルエステル し、さらにこれを塩基で処理してエポキシプロパン化合
物［Ｘ］を得ることができる （Ｓｙｎｔｈｅｓｆｓ．１９８５．５０３参照）。塩基
としては、やはり水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどが使用される。

（Ｂ）つぎに、本発明による光学活性３，４−デヒドロ
ピロリジン化合物［Ｉ］およびそのＮ−遊離の化合物［
ＸＸＩＶ］の製造について、上記反応経路３に従ってさ
らに詳しく説明する。

ａ）　まず、反応経路２を経て製造されたエポキシプロ
パン化合物［Ｘ］を不活性溶媒中でリチウムアセチリド
と反応させて、エチニルアルコール化合物［Ｘｌｉ’］
を得る。リチウムアセチリドとしては市販のりチウムア
セチリドのエチレンジアミン錯体を用いるか、またはブ
チルリチウム、フェニルリチウムなどのりチオ化試剤の
不活性溶媒中にアセチレンガスを導入して調整したもの
を用いる。不活性溶媒はエーテル、テトラヒドロフラン
、ジオキサンなどのエーテル類、トルエン、ヘキサンな
どの炭化水素、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホ
スホアミドなどの非プロトン系極性溶媒およびこれらの
混合物から適宜選んで使用する。リチウムアセチリドは
エポキシプロパン化合物［Ｘ］に対して１〜５モル当量
用いられ、同化合物［Ｘ］に一７０℃〜８０℃の温度範
囲で反応させられる。

ｂ）エチニルアルコール化合物［ＸＩＶ］を部分還元し
てアリルアルコール化合物［ＸＶＩを得る。

この部分還元はリンドラ−触媒を用い、１〜５気圧の水
素雰囲気でアセトン、メタノール、クロロホルム、酢酸
エチル、酢酸などの溶媒中で反応を行なうことにより達
成できる。

Ｃ）アリルアルコール化合物［ＸＶＩを光延反応（旧ｔ
ｓｕｎｏｂｕ、５ｙｎｔｈｅｓ１ｓ、１９８１．Ｌ参照
）により、ジアゾカルボン酸ジアルキル （Ｒ２０□ＣＮ−ＮＣＯ２Ｒ２）および三級ホスフィン
化合物Ｐ　（Ｒ３）３の存在下、一般式ＹＨで示される
化合物と反応させて、アリルアルコール化合物［ＸＶＩ
とは立体配置が反転した含窒素化合物［Ｘ■］を得る。

アリルアルコール化合物［ＸＶＩに反応させられる化合
物ＹＨとしては、上記定義の基Ｙを有するものが適宜使
用される。ただし、ＹがＮ３である含窒素化合物［Ｘ■
］を得るにはＹＨの代わりに （Ｃ６Ｈ６０）２　ＰＯＮ３を用いる。光延反応は、基
質であるアリルアルコール化合物［ＸＶＩに、基質に対
してＹＨまたは （Ｃ６Ｈ６０）２ＰＯＮ３、ジアゾカルボン酸ジアルキ
ルおよび三級ホスフィンを各々１〜５モル当量反応させ
ることにより達成できる。ここでジアゾカルボン酸ジア
ルキルとしては上記定義のアルキル基Ｒ２を有するもの
が適宜使用され、三級ホスフィンとしては上記定義の基
Ｒ３を有するものが適宜使用される。反応溶媒としては
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレ
ングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類を用い
ることができる。反応温度は一り８℃〜室温の範囲であ
る。

ｄ）含窒素化合物［Ｘ■］を水酸化カリウム、水酸化ナ
トリウム、ヒドラジンなどの塩基で処理してアリルアミ
ン化合物［Ｘ■］とする。ただし含窒素化合物［ＸＶｌ
］中のＹがＮ３であるときは、パラジウム、白金などを
用いる水素化反応で含窒素化合物［Ｘ■］をアリルアミ
ン化合物［Ｘ■］とする。

ｅ）　アリルアミン化合物［Ｘ■コを一般式％式％ （式中、Ａｒ“は先に定義した意味を有し、Ｘｉは塩素
、臭素のようなハロゲン原子を意味する）で示されるア
ミド化試剤と反応させて、ベンズアミド化合物［Ｘ■］
とする。

ｆ）ベンズアミド化合物［Ｘ■］を含水溶媒たとえば水
−アセトリニトリル混合溶媒中で環化試剤で処理して、
Ｃ−４位のエピマー混合物としてアシルオキシピロリジ
ン化合物［ＸＩ］を得る。環化試剤としては、先に定義
したものから適当なものを選んで使用する。同環化試剤
としてヨウ素を使用する場合には、これをベンズアミド
化合物［Ｘ■コに１〜３当量反応させる。

ｇ）アシルオキシピロリジン化合物［ＸＩＫ］のアミノ
基を塩基の存在下に一般式ＺＨで示される化合物と反応
させてＮ−置換ピロリジン化合物［ＸＸ］を得、ついで
これを加水分解してヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸ
ｌ　］とする。一般般式Ｈで示される化合物としては、
先に定義したＺを有するものが適宜使用される。塩基と
しては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウムなどの無機塩基、トリエチルアミ
ン、ピリジンなどの有機塩基が適宜使用される。Ｎ−置
換ピロリジン化合物［ＸＸｌのベンゾイル基の加水分解
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの塩基の存
在下に行なう。

ｈ）　ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸＩ　１を脱水
処理してデヒドロピロリジン化合物［■］に導く。ヒド
ロキシピロリジン化合物［ＸＸＩ　］の脱水方法として
は、（１）同化合物［ＸＸＩ　１をキサンテート化合物
［ＸＸＩ　］に変換し、ついで同化合物［ＸＹＩ］を脱
離反応に付する方法、（１１）ヒドロキシピロリジン化
合物［ＸＩＩ　］を硫酸、ｐ−）ルエンスルホン酸、リ
ン酸などの酸で処理する方法、（ｌ１１）ヒドロキシピ
ロリジン化合物［ＸＸＩ　１の水酸基を塩素、臭素、ヨ
ウ素などのハロゲン原子、ｐ−トルエンスルホン酸エス
テル基、アセチルオキシ基などに変換した後、得られた
化合物を塩基の存在下に脱離反応に付する方法などがあ
る。

一例としてキサンテート化合物［ＸＸｌ１　］を経由す
る方法（１）をさらに詳しく説明する。ヒドロキシピロ
リジン化合物［ＸＸＩ　１を水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどの無機塩基の存在下に二硫化炭素と反応さ
せて、ジチオカルボン酸塩とし、これを一般式ＲＩＸ２
（式中、Ｒ１は先の定義と同じ意味を有し、Ｘ２は塩素
、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子またはｐ−トルエン
スルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、メタン
スルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキ
シなどのスルホニルオキシ基を意味する）で示されるア
ルキル化もしくはアラルキル化試剤と反応させて、キサ
ンテート化合物［ＸＸｌ　］を得る。この午サンテート
化合物［ＸＸＩ　］を］０−ジクロルベンゼンニトロベ
ンゼン、メシチレン、キシレンなどの高沸点溶媒中で加
熱還流すると、３．４−デヒドロピロリジン化合物［１
１（Ｚは先に定義したもののうち水素以外の基）と４．
５−デヒドロピロリジン化合物［ＸＸＩ　］の混合物が
得られる。この反応において例えば２がベンジルオキシ
カルボニル基であり、Ｒ’がメチル基であるキサンテー
ト化合物［ＸＸＩ　］を］Ｏ−ジクロルベンゼンで加熱
還流すると、化合物［Ｉ］と化合物［ＸＩＩ　］が８．
２：１の混合物として得られる。３，４−デヒドロピロ
リジン化合物［Ｉ］はシリカゲルなどを用いてクロマト
グラフィーで混合物から分離することができる。

Ｌ）　　３．４−デヒドロピロリジン化合物［Ｉ］はそ
れ自体マニソマイシン合成に有用な中間体であるが、必
要に応じて、アルカリ加水分解、あるいはパラジウムを
用いる水素化分解などそれ自体公知の方法により、３，
４−デヒドロピロリジン化合物［１］の保護基２を除去
して、Ｎ−遊離の３，４−デヒドロピロリジン［ＸＸｆ
ｆ１　として用いることもできる。

上記一連の反応によってそれぞれ中間的に得られる化合
物は、通常は単離した後つぎの工程に使用するが、必ず
しも単離を行なわなくてもよい。

［発明の効果］ 本発明による光学活性３．４−デヒドロピロリジン化合
物の製造方法は、以上の通り構成されているので、本書
冒頭で述べた従来法のように中間体がラセミ化しやすく
、そのため最終製品である光学活性化合物の光学純度が
低いといった問題を生じることなく、高純度の光学活性
物質を製造することができる。また、本発明の方法によ
って、一般式［Ｉ］で示される３、４−デヒドロピロリ
ジン化合物に属する種々の同族体を得ることができる。

（以下余白） ［実　施　例］ 本発明の技術的特徴を例証するために、以下に実施例お
よび参考例をいくつか挙げる。ただし、これらは本発明
を限定するものではない。

これら実施例および参考例において、上述説明でローマ
数字Ｃ１１〜［Ｘｆｆ１で示した化合物群にそれぞれ属
する具体的化合物を、上記ローマ数字に対応するアラビ
ア数字［１］〜［２４］で示す。また、割合を示す％は
すべて重量％を示す。

まず、本発明方法の出発原料［Ｘ］の１つであるＳ−（
＋）−１−（４−メトキシフェニル）−２，３−エポキ
シプロパン〔１０〕の合成について参考例として説明す
る。

参考例Ｉ Ｒ−１−ベンジルオキシ−２，３−エポキシプロパン［
８ｃ］からの上記［１０］の合成ａ） ４−ブｏモ７二Ｖ−ル３．０３　Ｆｉｌｌ　（２４，２
ｄ）　ノテトラヒドロフラン１０が溶液をアルゴン気流
下−７８℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム１５％ヘキサ
ン溶液１４．８層（２３，Ｏｄ）を滴下し、混合液を３
０分攪拌し、反応を遂行させた。この反応液を一７８℃
でシアン化第−銅り、０３　ｇ（ＬＬ、５ｍＭ）のテト
ラヒドロフラン１ｏｆｆｉ／懸濁液にキャヌラを用いて
加え、同温度でさらに３０分間攪拌を行なワた。

こうしてリチウムキュープレート試剤の懸濁液を調製し
た。

別途に、特開昭６１−１３２１９６号公報記載の方法に
よって得られた光学純度の高いＲ−（−）−エピクロル
ヒドリン［８ａ］を原料として光学純度の高いＲ−（−
）−１−ベンジルオキシ−２，３−エポキシプロパンＣ
８ｃ］　　（９６％ｅｅ）を合成した。

上記リチウムキュープレート試剤の懸濁液に、−７８℃
でＲ−（−）−ベンジルオキシ−２，３−エポキシプロ
パン［ｌｌｃコ１．２０ｇ　（７，３＋ａＭ　）のテト
ラヒドロフラン溶液を滴下し、混合液を３時間同温度で
攪拌した後、さらに−２５℃で１時間攪拌した。反応液
に飽和食塩水２（１’およびニーチル１００Ｎを加えて
抽出を行ない、エーテル層を飽和食塩水２０１１１１で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で溶媒
を留去した。得られた残渣をシリカゲル１２０ｇでカラ
ムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１
：２の溶媒によるフラクションより無色油状のＳ−（＋
）−アルコール［９ｂ］　　１．９７　ｇ　（収率９８
％）を得た。

［α］　”　　：　＋７．０　　（Ｃ＝３．１１．　Ｍ
ｅＯＨ）ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：１．８０（ＩＨ，
ｄ。

Ｊ　−４、５Ｈｚ　ｒ　Ｄ　２０で消失）　、　２．７
５　（２Ｈ。

ｄ、　８．３　Ｈｚ）　、　３．２０−３．８０　（２
Ｈ，ｍ）　、　３゜８０（３Ｈ，ｓ）、３．９０−４．
１０（ＩＨ，ｍ）、４゜５５（２Ｈ，ｓ）、６．７０−
７．２０（４Ｈ，ｍ）、７゜３３（５Ｈ，ｓ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ｃａｂ−’　：　３４５０，１Ｂ
２０．１５２０．１２４０Ｍ５　　ｌ１ｌｅ　：２７３
（Ｍ＋１）　、　１２１　　（１００％）。

ｂ） Ｓ−（＋）−アルコール［９ｂコ　１．７５　ｇ　（６
゜４５　ｍＭ）のメタノール３０層溶液に活性炭に担持
した２０％水酸化パラジウム５０ｍｇを加え、同溶液を
水素ガス１気圧雰囲気下で１６時間攪拌した。反応液を
セライト濾過した後、減圧下で溶媒を留去し、Ｓ−ジオ
ール［１１１１，１９ｇ　（収率９９％）を得た。これ
をエタノール＋ヘキサンの混合液で再結晶して、板状晶
を得た。

ａｐ　：　７４−７５℃ ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：　２．３０　（２Ｈ，ｂｒ
　ｓ。

Ｄ２０で消失）　、　２．８５　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　
−８，４Ｈｚ）　、　３．２５−４．０　　（３Ｈ，ｍ
）　、　３．７０　（３Ｈ。

ｓ）　、　８．８０（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　＝８．８　Ｈ
ｚ）　、　７．１０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．６　Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ａｍ−’　：　３４００．１６１
０．１５１０．１２４０゜Ｍ５　　Ｉｌ／ｅ　　：　１
８２　　（Ｍ”　）　　、１２１　　（１０ｔｌ　％）
。

Ｓ−ジオール［１１］　１．１７ｇ　（８，４＋Ｍ　）
のベンゼン溶液１０層にベンズアルデヒド０．８５層（
８，４０１Ｍ）およびｐ−トルエンスルホン酸水和物３
０Ｂ（２Ｍ％）を加え、反応器にディージ・スターク装
置を取り付けて５時間加熱還流を行なった。

反応液にエーテル５０層を加えて抽出を行ない、エーテ
ル層を飽和重曹水２０カおよび飽和食塩水２０ｒＩＩｌ
で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。つい
で減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲル７０
ｇでカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキ
サン−１：１０の溶媒によるフラクションよりアセター
ル［１２］　１゜６５ｇ（収率９５，５％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ／ｓ　）δ：　２．８５−３．２５　（
２Ｈ。

ｍ）　、　３．７５　（３Ｈ，ｓ　）　、　３．６０−
４．６０　（３Ｈ。

ｍ）　、　５．７０　（０，８Ｈ，ｓ）　、　５．９５
　（０，４Ｈ，ｓ）６．８０　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　＝
８．６　Ｈｚ）　、　７．１０　（２Ｈ１ ｄ。

一８．Ｂ Ｈｚ） ７．３０−７．５０　　（５Ｈ。

ｍ） Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）　　Ｃｍ−’　：　　１Ｂ２０．
１５２０．１２５０Ｍ５　　　ＩＩｂｅ　　：　２７０
　　（Ｍ”　　）、　　１４９　　（１００％）。

ｄ） アセクール［１２］　１．３１ｇ　Ｃ４，８５ｍＭ）の
四塩化炭素１５Ｉｖ２／溶液にＮ−ブロモコハク酸イミ
ド９Ｌ７ｍｇ　　（５，０１ＩＩＭ　）を加え、室温で
２０時間攪拌を行なった。生じた沈澱物をセライト濾過
し、濾液を飽和重曹水１０扉および飽和食塩水１０１１
／で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。

ついで溶媒を減圧下に留去し、黄色の油状物としてＳ−
ブロモベンゾエート［１３］　１．８７ｇの粗生成物を
得た。

この粗生成物をメタノールＩＱが溶液とし、これに炭酸
カリウム８５０＋ａｇ　　（８，１５ｍＭ）を加え、５
時間室温で攪拌を行なって、溶媒の大部分を減圧下で留
去した。この残留物にエーテル３０ＩＩｌｌを加えて抽
出を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥した。

ついで減圧下で溶媒を留去し、残渣をシリカゲル５０ｇ
でカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン−１：９の溶媒によるフラクションよりＳ−（＋）−
１−（４−メトキシフェニル）−２，３−エポキシプロ
パン［１０Ｆ　５４８１ｇ　（収率８１，２％）を得た
。

［α］　２８Ｄ、　＋　　ｔ４ｅ （Ｃｍ　ＬＯ，ＣＨＣ／　ｉ　） ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）　　δ：　　２．５０　　（ＩＨ
，ｄｄ、　　Ｊ　−２，４４，４，８８Ｈｚ　）　、　
２．７０−２．８５　（２Ｈ。

ｍ）　、　３．０−３．２０　（Ｉ　Ｈ，ｍ）　、　３
．８０　（３Ｈ。

ｓ）　、　１３．８０　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　−８，５
５Ｈｚ）　、　７．１０（２Ｈ，ｄ、８．５５Ｈｚ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ａｍ−’　：　１Ｂ１０，１５１
５．１２４０Ｍ５　　ｔｉｌｅ　：　１８４　　（Ｍ”
　）　、　　１１１　（１００％）。

参考ｆ！ＡＩ　２ Ｓ−（＋）−エビクロヒドリン［８ａ］からの［１０］
の合成 ４−ブロモアニソール１．２５層（ｌｏｍＭ）のテトラ
ヒドロフラン５ＩＩｌｌ溶液にアルゴン雰囲気下＝７８
℃でｎ−ブチルリチウム１５％ヘキサン溶液６゜Ｌ　ｌ
ｌ１（９，５ａ＋Ｍ　）を滴下し、２０分攪拌を行なっ
た。

得られた淡黄色溶液を一７８℃でシアン化第−銅４８８
Ｂ　　（５ｍＭ）のテトラヒドロフランｔｏＩＲ１懸濁
液にキヤスクを用いて加え、混合液を同温度で３０分攪
拌した後、−４５℃で２０分攪拌した。こうしてリチウ
ムキュープレート試剤の懸濁液を調製した。

この懸濁液に特開昭６２−６６９７号公報記載の方法で
得られた光学純度の高いＳ−（＋）−エピクロルヒドリ
ンｌ”８ａ］　４６３ｍｇ　　（５ｍＭ）のテトラヒド
ロフラン溶液を滴下し、同溶液を室温に戻した後、２．
５時間攪拌した。ついで飽和塩化アンモニウム水溶液１
０ｗ／およびエーテル３０１１１を加えて抽出を行ない
、エーテル層を飽和重曹水１０カおよび飽和食塩水１０
層で順次洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した
。

減圧下で溶媒を留去し、粗Ｓ−（＋）−クロルヒドリン
［９ａｌ　　１．３８　ｇを得た。これをテトラヒドロ
フラン１５７７！’に溶解し、粉末状水酸化ナトリウム
８００ａ＋ｇ　（１５ａ＋Ｍ）を加え、溶液を１１時間
室温で攪拌した。ついでエーテル１５０層を加えて抽出
を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄液が中性にな
るまで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下
で溶媒を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、エーテル；ヘキサン−１：　１０の
溶媒によるフラクションよりＳ−（＋）−１−（４−メ
トキシフェニル）−２，３−エポキシプロパン［１０コ
８０９ＩＩ１ｇ　　（収率７４％）を得た。

つぎに本発明の実施例を示す。

実施例１ Ｓ−（＋）−１−（４−メトキシフェニル）−２，３−
エポキシプロパン［１０］　　６１０　ｔａｇ　（３，
７２ｍＭ　）のジメチルスルホキシド５が溶液に９０ｖ
／ｖ％のりチウムアセチリド・エチレンジアミン錯体５
２Ｑｍｇ　　（５，１ｍＭ　）を徐々に加えた後、混合
液を１時間室温で攪拌した。

飽和食塩水３層を注意深く加えた後、エーテル５０　ｌ
ｌｌ１を加えて抽出を行ない、エーテル層を飽和食塩水
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下
溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲル３５ｇでカ
ラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−
１−３溶媒によるフラクションよりＲ−（＋）−エチニ
ルアルコール［１４］　５７８　ｍｇ　（収率８２％）
を得た。

［α］　”　　：　＋３．８４’ （Ｃ＝１．０４．　ＣＨＣｌ’　！　）ＮＭＲ（ＣＤＣ
／３　）δ：　　２．００　　（ＩＨ，ｂｒｓ）、　　
２．０５　　（ＩＨ，ｔ、　　Ｊ　−２，８Ｈｚ）、　
　２．３５　　（２Ｈ，ｄｄ、　　Ｊ＝２．４４．５．
４　Ｈｚ）　、　　２．８０　　（２Ｈ，ｍ）、　　３
．８０　　（３Ｈ，ｓ）、　　３．８０　−　４．１０
　　（ＩＨ，ｍ）、　　６．８０（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ−
８，５Ｈｚ）、　　　？、ＬＱ　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ
　　−１！、５５Ｈｚ） Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）ｃｔａ−’　：　　３４５０，３
３００，２１５０，１８１５．１５ＭＳ　　　ｔｉｌｅ
　　：　　　１９０（Ｍ”　　）　　。

１２１（１００％）。

実施例２ Ｒ−（＋）−エチニルアルコール［１４］　　４０５層
ｍｇ　（２，１３ｄ）　ノ酢酸エチル１０ｗ！溶液ニリ
ンドラ−触媒（鉛で被毒された５％パラジウム−炭酸カ
ルシウム）６Ｂを加え、混合物を水素雰囲気下室温で１
時間攪拌した。反応液をセライト濾過し、濾液を減圧上
溶媒留去し、残渣をシリカゲル１２ｇでカラムクロマト
グラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１：３の溶媒
によるフラクションよりＲ−（−）−アリルアルコール
［１５］　３８３　ａ＋ｇ　（９４％）を得た。

［α］　２２　　：　−１１，１″ （Ｃ−１，０８，ＣＨＣ／　、） ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　ｉ　　）　　δ　：　　１．８５
　　（Ｉ　Ｈ，ｂｒｓ）、　　　２．０−　２．４０　
　（２Ｈ，ｍ）、　　　２．４５　−２゜９０（２Ｈ，
ｍ）、　　　３．８０　　（３Ｈ，ｓ）、　　３．７０
−４．００（ＩＨ，ｍ）、　　　５．００　−５．３０
　　　（２Ｈ，ｍ）５．８０　−８．ＬＯ（ＩＨ，ｍ）
、　　　８．８０　　（２Ｈ。

ｄ、　　Ｊ　　−８，５５Ｈｚ）、　　　７．ＬＯ（２
Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝　８．５５Ｈｚ　） Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）　　ｃｍ−’　：　　３４００．
１Ｂ１０，１５２０．１２４０Ｍ５　　　ｌｌ１ｌｅ　
　：　　１９２　　（Ｍ”　　）、　　　１２１　　（
１００％）。

実施例３ Ｒ−（−）−アリルアルコール［１５］　　２．０３ｇ
　（１０，８ｍＭ　）　、）リフェニルフォスフィン３
．３３ｇ　（Ｌ２．７ａ＋Ｍ）およびフタルイミド　Ｌ
、ｌ！７ｇ　（１２，７１１Ｍ　）のテトラヒドロフラ
ン溶液の混合物を２０℃に冷却し、この混合物に攪拌下
ジイソプロピルアゾジカルボン酸エステル２．５７ｍ　
（１２，７ＩＩＭ）を２０分かけて滴下し、さらに同温
で１２時間攪拌を行なった。反応液を室温に戻し、シリ
カゲル２０ｇを加え、減圧下溶媒を留去した。残った粉
状残渣をシリカゲル１００ｇでカラムクロマトグラフィ
ーに付し、エーテル：ヘキサン−１ニアの溶媒によるフ
ラクシヨンより無色油状物としてアリルアミンのフタル
イミド誘導体Ｓ　−（＋）　−［１６］　　２．８９　
ｇ　（収率８５％）を得た。

ｒα３２６：　＋１４７．７゜ （Ｃ−１，０１，ＣＨＣ／、） ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）δ：　　２．４０−　３．５０（
４Ｈ，ｍ）、　　３．７１　　（３Ｈ，ｍ）、　　４Ｊ
Ｏ−４，７０（Ｌ　Ｈ，ｍ）　、　４．７０−５．１５
　（２Ｈ，ｍ）　。

５．５０−　６．００　　（ＩＨ，ｍ）　、　　８．８
０　　（２Ｈ，ｄＪ−８，５５Ｈｚ）　、　　７．１０
　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　−８，５５Ｈｚ）　、　　７
．５５−　７．８０　　（４Ｈ，ｍ）Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ
）　ｃｍ−’　：　１７８０．１７１０．１Ｂ２０．１
５２Ｇ、１４ｒａｃｅ　　： ３２１（Ｍ” ％） 実施例４ Ｃ１６］　　２．１１３　ｇ　（８，８ｒａＭ）のエタ
ノール１００が溶液にヒドラジンの一水和物０．６６ｇ
　（１３，２＋ｎＭ）を加え、５時間加熱還流を行なっ
た。溶媒を減圧下に留去し、クロロホルムを加え、セラ
イトで濾過し、濾液を減圧下に溶媒留去し、クーゲロー
ルで蒸留して無色油状のＳ−（＋）アリルアミン［１７
］　Ｌ、５７ｇ　（収率９３％）を得た。

ｂ　ｐ　：　１４０℃１０．ｇｍｍＨｇ〔α］”　　：
＋　２３．１’ （Ｃ−１，０７，ＣＨＣ／　３　） ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　３　）δ：　　１．５０　　（２
Ｈ，ｂｒｓ）　、　　１．８０−　Ｃ１５（５Ｈ，ｍ）
　、　　３．８０（３Ｈ，ｓ）　、　５．００−５．２
０（２Ｈ，ｍ）　、　５．８０−６．１０（ＩＨ，ｍ）
、　　６．８０　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１．５５Ｈｚ） ７、ｌｏ （２Ｈ１ ｄ。

８．５５ Ｈｚ）　　。

実施例５ Ｓ−（＋）−アリルアミン［１７］　５００１ｇ　（２
、［１２ｍＭ　）のジクロルメタン１０ｗ！溶液に０℃
でトリエチルアミン０．４４　ｍｌ　（３，１ｒＡＭ　
）および塩化ベンゾイル０．３４Ｎ（２，Ｈ＋ａＭ　）
を加え、１時間攪拌を行なった。反応液を室温に戻した
後、ジクロルメタン１０ｗ／を加え、有機層を水および
飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧下に留去し、５−（−）−ベンズアミ
ド［１ｇ］　８８Ｑｒｘｇを無色針状晶として得た。エ
タノール十へ牛サンの混合液で再結晶を行なって純粋な
Ｓ　−［１８］　　８００ｍｇ　　（収率９４％）を得
た。

ｍ　ｐ　：　１１０−１１２℃ ［α　コ　　”　　　　　ニーｅ、ｅａ’（Ｃ鴫０．３
Ｂ、　　ＣＨＣ／　３　）Ｎ〜ＩＲ（ＣＤＣＩｓ　　）
　　δ　：　　２．１０−２．５０　（２Ｈ。

ｍ）、　　２．９０　　（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　　＝６．
６　　Ｈｚ）、　　３．７９（３Ｈ，ｓ）、　　　４．
２０　−　４．６０　　（ＬＨ，ｍ）。

５．００−５．２０　（２Ｈ，ｍ）、　　５．ＢＯ−６
，１５（２Ｈ。

ｍ）、　　６．８０（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ＝　　８．５５
　　Ｈｚ）、　　　７、ＬＯ（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　　−
８，５５Ｈｚ）、　　７Ｊ５−７゜５５（３Ｈ，ｍ）、
　　７．８０−７．８０（２Ｈ，ｍ）Ｉ　　Ｒ（ｎｅａ
ｔ）ｃｏ＋−’　：　　３３１０．２９２１）、１８３
０゜実施例６ Ｓ−（−）−ベンズアミド［１８１１２０Ｂ　（０，４
１ｄ　）のアセトニトリルニ水−１：　１　（ｖ／ｖ）
　６Ｆｉ／溶液にヨウ素３１０　ｔａｇ　（１，２３ｍ
Ｍ）を加え、室温で３日間攪拌を行なった。反応液に飽
和重曹水および５％亜硫酸ナトリウム水溶液５−を加え
、ヨウ素の色が消えたのを確認した後、ジクロルメタン
２０度を加えて抽出を行なった。

有機層を飽和食塩水で洗浄した後無水硫酸マグネンウム
で乾燥し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲル５ｇ
でカラムクロマトグラフィーに付し、メタノール：クロ
ロホルム−３：９７の溶媒によるフラクションより２−
メトキシフェニルメチル−４−ベンゾイルオキシピロリ
ジン［１９］　１１４ｍｇ　　（収率９０％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：　１．５０−２．５５　（
３Ｈ。

ｍ、ＩＨはＤ２０で消失）、２．８０（２Ｈ，ｔ。

Ｊ　−７，１Ｈｚ）　、　２．９０−３．７０　（３Ｈ
，ｍ）　、　５゜３０−５．６０（ＩＨ，ｍ）、６．８
０（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝８．５５Ｈｚ）　、　７．１０　（
２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　＝８．５５Ｈｚ）　。

７．３０−７．７０　（３Ｈ，ｍ）　、　７．９０−８
．１０　（２Ｈ。

ｍ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　Ｃｍ−’　：　３３５０．１７１
０，１２７０．１２４０゜実施例７ ピロリジン［１９］　３９０ｍｇ　　（１，２５ＩＩＭ
）のジクロルメタン５７１２／溶液に０℃でトリエチル
アミン０゜２７Ｆ！／　（１，８３ａ＋Ｍ）　、りｏｏ
炭酸ベンジル０．２１１１１（１，５＋Ｍ　）を加え、
室温で１２時間攪拌を行なった。減圧工大部分の溶媒を
留去した後、残渣にエーテル５０１１１を加えて抽出を
行ない、エーテル層を飽和重曹水および飽和食塩水で順
次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧上
溶媒を留去し、カルバメートすなわち２−メトキシフェ
ニルメチル−４−ベンゾイルオキシ−Ｎ−ペンジルオキ
シ力ルポニルビロリジン［２０］８２８Ｉｌ１ｇを粗生
成物として得た。

実施例８ 上記カルバメーｈ　［２０Ｆ　８２８　ｍ　ｇの粗生成
物をメタノール１０Ｉ１１１に溶かし、炭酸カリウム１
９０ｒａｇ　　（１，３８ｍＭ　）を加え、室温で２時
間攪拌を行なった。ついで、減圧下で大部分の溶媒を留
去し、エーテル３１を加えて抽出を行なった。エーテル
層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧上溶媒を留去し、残渣をシリカゲル１２ｇ
でカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサ
ン−４＝１の溶媒によるフラクションよりヒドロキシカ
ルバメートすなわち２−メトキシフェニルメチル−４−
ヒドロキシ−Ｎ−ペンジルオキシ力ルポニルビロリジン
［２１］　３８８ａ＋ｇ　　（収率９１％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：　１．８０−２．００　（
４Ｈ。

ｍ）　、　２．５０−３．７０　（４Ｈ，ｍ）　、　３
．８０　（３Ｈ。

ｓ）　、　３．９０−４．５０　（２Ｈ，ｍ）　、　５
．２０　（２Ｈ。

ｂｒ　ｓ）　、　６．８０　（２Ｈ，ｍ）　、　７．１
０　（２Ｈ，ｂｒ　ｄ）７．３５（５Ｈ，ｓ） Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　　：　３４００，１８９０．１５
１５ｃｍ実施例９ ヒドロキシカルバメート［２１］　　１４８　ｍｇ　　
（０゜４３ｍＭ）のベンゼン３！ＩＩＩ溶液にテトラブ
チルアンモニウムハイドロゲンサルファート１４８ｍｇ
　　（０゜４３ｍＭ）および二硫化炭素３０２／　（０
，５６層Ｍ）を加え、１０分間攪拌後、５０％水酸化ナ
トリウム水溶液１層を加え、２５分室温で攪拌を続けた
。こうしてジチオカルボン酸塩を生成せしめた後、ヨー
ドメタン３３Ｉ１１１（０，５２＋ａＭ）を加え、３時
間激しく攪拌を行なった。反応液にエーテル３０層を加
えて抽出を行ない、エーテル層を飽和食塩水で洗浄し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧上溶媒を留去した
。得られた残渣Ｌ９０ｍｇをシリカゲル８ｇでカラムク
ロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキサン−１：２
の溶媒によるフラクションよりキサンテート［２２］　
１８２１ｇ　　（収率９゜％）を得た。

ＮＭＲ（ＣＤＣ／３　）δ：　２．０−２．３０　（２
Ｈ。

ｍ）、２．５０（２Ｈ，ｓ）、　　２．Ｅｉ５　　（Ｉ
Ｈ，ｓ）。

２．６５−３．５０（４Ｈ，ｍ）　、　３．８０　（３
Ｈ，ｓ）　。

４．００−４．４５　（Ｉ　Ｈ，ｍ）　、　５．２０　
（２Ｈ，ｍ）　。

５．６０−５．８０　　（０，６８Ｈ，ｍ）　　、　　
５．８０−８．１０　　（０，３３Ｈ，ｍ）　、　５．
７０−７．２０　（４Ｈ，ｍ）　、　７．４０　（５Ｈ
，ｓ） Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）ｃｍ−’　： ５０．１２００，１１００゜ 実施例１０ ２，５ １７００．１８０５．Ｌ５２０，１４１０．１２キサン
テート［２２］　１２３Ｂ　（０，２６ｍＭ）の０−ジ
クロルベンゼン１０ｒＩｌ溶液を２００℃で１．５時間
加熱した。ついで、減圧下溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル：ヘキ
サン−１＝７の溶媒によるフラクションよりＲ−（−）
−２−メトキシフェニルメチル−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−３，４−デヒドロピロリジン［１コ５９．５
Ｂ　（８６％）を得た。

ｍｐ：４９−５０℃（エーテル＋へキサンの混合液より
再結晶） ［α］　２６：−１９０，４゜ （Ｃ”１．０　、　ＣＨＣ／　ｓ　） ＮＭＲ（ＣＤＣ／　３　　）　　６　　：　２．６０−
３．３０　（２Ｈ。

ｍ）　　、　　３．７７　（３Ｈ，ｓ　）　　、　　３
．６０−３．９０　（２Ｈ。

ｍ）、４．０５−４．３０　（Ｉ　Ｈ，ｍ）、４．［１
０−４，９０（ＩＨ，ｍ）、５．２０（２Ｈ，ｍ）、５
．７０（２Ｈ。

ｍ）　　、　　６．７５−７．１０　（４Ｈ，ｍ）　　
、　　７．４０　（５Ｈ。

Ｓ） Ｉ　　Ｒ（ｎｅａｔ）　　ｃ〔’　：　　１７００．１
８００，１５１０．１４１０Ｍ５　　　ａｌｅ　　：　
３２３　　（Ｍ”　）　　、　　１２１　　ＣＬＱＯ％
）。

実施例１１ Ｒ−（−）−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−３，４−
デヒドロピロリジン［１１１１７ｎ＋ｇ　　（０゜３８
ａ＋Ｍ）のエチレングリコール３ＩＩＩＩ／溶液に水酸
化ナトリウム１．Ｏｇ　（２５ａ１Ｍ）を加え、１２０
　”Ｃで１４時間加熱攪拌を行なった。塩化メチレンを
加えて抽出を行ない、有機層を飽和食塩水で洗浄した後
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留
去し、残渣をシリカゲル５ｇでカラムクロマトグラフィ
ーに付し、メタノール：クロロホルム−５；９５の溶媒
によるフラクションよりＲ−（−）−２−メトキシフェ
ニルメチル−３，４−デヒドロピロリジンＣ２４］　　
７２ａ＋ｇ（収率８９％）を得た。

［α］２４ニー１０１．２”　　（Ｃ−１，４４，テト
ラヒドロフラン）１文献値［α］　　　ニー８９．３゜
（Ｃ−１，２６，テトラヒドロフラン）（前掲のＴｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、、２９．４４１９．１９
８８）ＮＭＲ（ＣＤ　Ｃ／　ｓ　）δ：　２．１５　（
Ｉ　Ｈ，ｂｒ　ｓ。

Ｄ２０で消失）　、　２．４４（２Ｈ，ｄ、　　Ｊ　−
８，８Ｈｚ　）　、　２．８０−２．９５　（２Ｈ，ｍ
）　、　３．７９　（２Ｈ。

ｓ　）　、　４．００−４．３５　（Ｉ　Ｈ，ｍ）　、
　５．Ｅ１５−５．９５（２Ｈ，ｍ）、８．８０（２Ｈ
，ｄ、Ｊ＝８．５５Ｈｚ）７．１０　　（２Ｈ，ｄ、　
　Ｊ−８，５５Ｈｚ）　　　Ｉ　Ｒ（ｎｅａｔ）　ｃｔ
ｓ−’：　　３３００．１８１０．１５１５．１２４０
．１１８０゜ ＮＭＲおよびｒＲの各スペクトル値は文献値と一致した
。

以上

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＸ I ］ で示されるヒドロキシピロリジン化合物を脱水して、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］ （上記各式中、Ａｒは置換または無置換のアリール基、
   Ｚはアミノ基の保護基、＊は光学活性炭素をそれぞれ意
   味する） で示される光学活性３，４−デヒドロピロリジン化合物
   を得、必要に応じてそのＮ−保護基を除去して同化合物
   ［ I ］をＮ−遊離の化合物に導くことを特徴とする光
   学活性３，４−デヒドロピロリジン化合物の製造方法。
2. （２）請求項１記載の方法において、ヒドロキシピロリ
   ジン化合物［ＸＸ I ］に二硫化炭素ついで一般式Ｒ＾
   １Ｘ＾２で示される化合物を反応させて、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＸII］ （上記各式中、Ａｒ、Ｚおよび＊は請求項１のものと同
   じ意味を有し、Ｒ＾１はアルキル基またはアラルキル基
   、Ｘ＾２はハロゲン原子またはスルホニルオキシ基、Ｙ
   ′は ＯＣＳ＿２Ｒ＾１をそれぞれ意味する） で示されるキサンテート化合物を得、ついで同化合物［
   ＸＸII］を脱離反応に付することによって、ヒドロキシ
   ピロリジン化合物［ＸＸ I ］の脱水を行なうことを特
   徴とする方法。
3. （３）請求項１記載の方法において、ヒドロキシピロリ
   ジン化合物［ＸＸ I ］を酸処理して脱水を行なうこと
   を特徴とする方法。
4. （４）請求項１記載の方法において、ヒドロキシピロリ
   ジン化合物［ＸＸ I ］の水酸基をハロゲン、ｐ−トル
   エンスルホン酸エステル基またはアセチルオキシ基で置
   換し、得られた化合物を脱離反応に付することによって
   、ヒドロキシピロリジン化合物［ＸＸ I ］の脱水を行
   なうことを特徴とする方法。
5. （５）請求項１から４のうちいずれか１記載の方法にお
   いて、ヒドロキシピロリジン化合物 ［ＸＸ I ］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸIX］ で示されるアシルオキシピロリジン化合物のアミノ基を
   保護試剤で保護して 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＸ］ （上記各式中、Ａｒ、Ｚおよび＊は請求項１のものと同
   じ意味を有し、Ａｒ′は置換または無置換のアリール基
   をそれぞれ意味する）で示されるＮ−置換ピロリジン化
   合物を得、ついで同化合物［ＸＸ］のアシルオキシ基を
   加水分解することを特徴とする方法。
6. （６）請求項５記載の方法において、アシルオキシピロ
   リジン化合物［ＸIX］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸVIII］ （式中、Ａｒ、Ａｒ′および＊は請求項５のものと同じ
   意味を有する） で示されるベンズアミド化合物を臭素、塩化ヨウ素、ヨ
   ウ素、ピリジンのＨＢｒ＿３塩、Ｎ−ブロモコハク酸イ
   ミドより成る群から選ばれた環化試剤で処理することを
   特徴とする方法。
7. （７）請求項６記載の方法において、ベンズアミド化合
   物［ＸVIII］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸVII］ で示されるアリルアミン化合物を 一般式Ａｒ′ＣＯＸ＾１または Ａｒ′ＣＯ＿２ＣＯＡｒ′（上記各式中、Ａｒ、Ａｒ′
   および＊は請求項６のものと同じ意味を有し、Ｘ＾１は
   ハロゲン原子を意味する）で示されるアミド化試剤で処
   理することを特徴とする方法。
8. （８）請求項７記載の方法において、アリルアミン化合
   物［ＸVII］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸVI］ （式中、Ａｒおよび＊は請求項７のものと同じ意味を有
   し、ＹはＮＨＣＯ＿２ｔ−Ｂｕ、ＮＨＣＯ＿２Ｂｎ（Ｂ
   ｎはベンジル基を意味する）、ＢｎＯＮＣＯ＿２Ｂｎ、 ｏ−Ｃ＿６Ｈ＿４（ＣＯ）＿２Ｎ、 ＮＣ（Ｃ＿６Ｈ＿４）＿３、ＨＣＯＮＨ、 ｐ−Ｍｅ（Ｃ＿６Ｈ＿４）ＳＯ＿２ＮＨまたはＣ＿６Ｈ
   ＿５ＳＯ＿２ＮＨを意味する） で示される含窒素化合物を塩基で処理するか、または上
   記一般式においてＹがＮ＿３である含窒素化合物［ＸV
   I］を水素化反応に付することを特徴とする方法。
9. （９）請求項８記載の方法において、含窒素化合物［Ｘ
   VI］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸＶ］ で示されるアリルアルコール化合物を、一般式Ｒ＾２Ｏ
   ＿２ＣＮ＝ＮＣＯ＿２Ｒ＾２で示されるジアゾカルボン
   酸ジアルキルおよび一般式 Ｐ（Ｒ＾３）＿３（上記各式中、Ａｒおよび＊は請求項
   ８のものと同じ意味を有し、Ｒ＾２はアルキル基、Ｒ＾
   ３はアリール基またはアルキル基をそれぞれ意味する）
   で示される三級ホスフィン化合物の存在下、一般式ＹＨ
   （Ｙは請求項８の基のうちＮ＿３以外のものを意味する
   ）で示される化合物と反応させるか、または （Ｃ＿６Ｈ＿５Ｏ）＿２ＰＯＮ＿３と反応させることを
   特徴とする方法。
10. （１０）請求項９項において、アリルアルコール化合物
    ［ＸＶ］を製造するに当たり、 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｘ］ で示されるエポキシプロパン化合物をリチウムアセチリ
    ドと反応させて 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼［ＸIV］ （上記各式中、Ａｒおよび＊は請求項９のものと同じ意
    味を有する） で示されるエチニルアルコールとし、これを部分還元す
    ることを特徴とする方法。