JPH03116499A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

Info

Publication number
JPH03116499A
JPH03116499A JP2216718A JP21671890A JPH03116499A JP H03116499 A JPH03116499 A JP H03116499A JP 2216718 A JP2216718 A JP 2216718A JP 21671890 A JP21671890 A JP 21671890A JP H03116499 A JPH03116499 A JP H03116499A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
output
transistor
circuit
flip
memory cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2216718A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0542080B2 (en
Inventor
Hiroshi Iwahashi
岩橋 弘
Kiyobumi Ochii
落井 清文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2216718A priority Critical patent/JPH03116499A/en
Publication of JPH03116499A publication Critical patent/JPH03116499A/en
Publication of JPH0542080B2 publication Critical patent/JPH0542080B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a desired binary output and to obtain the device of high reliability by controlling a conducting state of a first transistor by an output of an inverter means, and preventing a current from being allowed to flow steadily to a nonvolatile storage element. CONSTITUTION:A flip-flop is constituted by connecting an input and an output, and an output and an input of a CMOS inverter of transistors QP11, QN11, and a CMOS inverter of transistors QP12, QN12, and by an output of the latter CMOS inverter, a gate of the transistor QP11 is controlled. That is, to an output terminal of the flip-flop, a nonvolatile storage element whose impedance is varied nonvolatilely and the capacity are connected, and a ratio of capacities C1, C2 connected to two output terminals, respectively of the flip-flop is varied by varying an impedance state of the nonvolatile storage element under the condition of C1>C2. In such a way, when a power source is turned on, a stable state of the flip-flop can be varied, and accordingly, necessity for allowing a current to flow at all times to the nonvolatile storage element is eliminated, and reliability of the device becomes high.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は正規の回路を予備の回路に切り換える際などに
用いて好適する半導体集積回路装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device suitable for use when switching a regular circuit to a spare circuit.

[発明の技術的背景] 最近、半導体集積回路装置特に半導体メモリーにおいて
は、正規のメモリーセル回路と予備のメモリーセル回路
を形成しておき、製造時に正規のメモリーセル回路内に
不良ビットがあった場合には、この不良ビット部分を予
備のメモリーセル回路に置き換えて使用するような冗長
性機能をもったものが増加している。これは、正規のメ
モリーセル回路にわずか1ビツトの不良セルがあっても
メモリー全体としては不具合なため、このようなメモリ
ーは不良品として捨てられるからである。
[Technical Background of the Invention] Recently, in semiconductor integrated circuit devices, especially semiconductor memories, regular memory cell circuits and spare memory cell circuits are formed, and when a defective bit is found in the regular memory cell circuit during manufacturing. Increasingly, memory cells have a redundancy function in which the defective bit portion is replaced with a spare memory cell circuit. This is because even if a normal memory cell circuit has just one defective cell, the memory as a whole is defective, and such a memory is discarded as a defective product.

即ちメモリー容量が増大するのに伴ない、不良メモリー
セルが発生する確率が高くなってきており、不良が発生
しているメモリーを捨てていたのでは、製品のコストが
極めて高価なものとなってしまう。
In other words, as memory capacity increases, the probability of defective memory cells occurring increases, and if defective memory is thrown away, the cost of the product becomes extremely high. Put it away.

従って全体の歩留シ向上のために予備のメモリ−セル回
路を形成し、正規のメモリーセル回路の一部が不良の場
合に、これを切り換えて使う方法が採用されてきたので
ある。
Therefore, in order to improve the overall yield, a method has been adopted in which a spare memory cell circuit is formed and used by switching when a part of the regular memory cell circuit is defective.

第1図は、上記予備のメモリーセル回路が形成されてい
る半導体メモリーのブロック構成図である。図中1はア
ドレス信号が与えられるアドレスバッファであり、この
アドレスバッファ1からの出力は正規のアドレスデコー
ダ2および予備のアドレスデコーダ3に並列的に与えら
れる。正規のアドレスデコーダ2のデコード出力は正規
のメモリーセル回路4に与えられ、このデコード出力に
よって正規のメモリーセル回路4内の1つ行線が選択さ
れ、その後この選択された行線に接続されたメモリーセ
ルにデータが記憶されたり、データが読み出されたりす
る。また正規のアドレスデコーダ2は予備のアドレスデ
コーダ3からの出力によって、そのデコード動作が制御
される。予備のrド1/スデコーダ3のデコード出力は
予備のメモリーセル回路5に与えられ、このデコード出
力によって予備のメモリーセル回路5内のメモリーセル
が選択され、その後この選択されたメモリーセルにデー
タが記憶されたり、データが読み出された;ピッる。
FIG. 1 is a block diagram of a semiconductor memory in which the spare memory cell circuit described above is formed. In the figure, 1 is an address buffer to which an address signal is applied, and the output from this address buffer 1 is applied to a regular address decoder 2 and a spare address decoder 3 in parallel. The decoded output of the regular address decoder 2 is given to the regular memory cell circuit 4, and one row line in the regular memory cell circuit 4 is selected by this decoded output, and then connected to this selected row line. Data is stored in and read from memory cells. Further, the decoding operation of the regular address decoder 2 is controlled by the output from the spare address decoder 3. The decode output of the spare RDO1/S decoder 3 is given to the spare memory cell circuit 5, a memory cell in the spare memory cell circuit 5 is selected by this decode output, and then data is transferred to the selected memory cell. Data is stored or read; pick.

一方、上記予備のアドレスデコーダ3は、その構成によ
っては、正規のメモリーセル回路4内に不良ビットがあ
り、この不良部分を予備のメモリーセル回路5内のメモ
リーセルと交換する際に、メモリーセル交換のための情
報が予め不揮発性記憶素子に書き込まれている交換制御
信号発生部6から出力される交換制御信号によって制御
することもできる。即ちこのような構成の半導体メモリ
ーにおいては、正規のメモリーセル回路4に不良ビット
がなければ交換制御信号は出力されず、正規のアドレス
デコーダ2のみが動作して正規のメモリーセル回路4内
のメモリーセルがアクセスされる。一方、正規のメモリ
ー回路4内に不良ビットがあれば、この不良ビットを含
む行あるいは列アドレスに和尚するデコード出力が得ら
れるように予め予備のアドレスデコーダ3をプログラム
しておくとともに、交換制御信号発生部6から”1″レ
ベルまたは“0″レベルの交換制御信号が得られるよう
に、前記不揮発性記憶素子をプログラムしておく。従り
ていまアドレスバッファ1で正規のメモリーセル回路4
の不良ビットを含む行または列アドレスに対応する出力
が得られると、予備のアドレスデコーダ3によって予備
のメモリーセル回路5内のメモリーセルが選択される。
On the other hand, depending on the configuration of the spare address decoder 3, there may be a defective bit in the regular memory cell circuit 4, and when replacing this defective part with a memory cell in the spare memory cell circuit 5, the memory cell It is also possible to perform control using an exchange control signal output from an exchange control signal generator 6 in which information for exchange is written in advance in a nonvolatile memory element. In other words, in a semiconductor memory having such a configuration, if there is no defective bit in the regular memory cell circuit 4, the exchange control signal is not output, and only the regular address decoder 2 operates to replace the memory in the regular memory cell circuit 4. A cell is accessed. On the other hand, if there is a defective bit in the regular memory circuit 4, the spare address decoder 3 is programmed in advance so as to obtain a decoding output that corrects the row or column address containing the defective bit, and the exchange control signal is The nonvolatile memory element is programmed so that an exchange control signal of "1" level or "0" level can be obtained from the generating section 6. Therefore, address buffer 1 is now used as regular memory cell circuit 4.
When an output corresponding to the row or column address containing the defective bit is obtained, the spare address decoder 3 selects a memory cell in the spare memory cell circuit 5.

更にこの時の予備のアドレスデコーダ3のデコード出力
によって正規のアドレスデコーダ2のデコード動作が停
止され、正規のメモリーセル回路4はアクセスされない
。このような操作によって、正規のメモリーセル回路4
内の不良部分が予備のメモリーセル回路5と交換される
ものである。
Furthermore, the decoding output of the spare address decoder 3 at this time stops the decoding operation of the regular address decoder 2, and the regular memory cell circuit 4 is not accessed. Through such operations, the regular memory cell circuit 4
The defective part inside is replaced with a spare memory cell circuit 5.

第2図(a) $ (b)は上記交換制御信号発生部6
の従来の構成を示す回路図でちる。第2図(、)に示す
回路は、電源VD印加点と出力端子Outとの間に不揮
発性記憶素子の一つであるポリシリコン等によって構成
されたフェーズ素子Fを挿入し、出力端子Outとアー
ス点との間にプログラム用のエンハンスメントモードの
MOS )ランジスタQ8を挿入し、かつ出力端子Ou
tとアース点との間にデプレッションモードのMOS 
)ランゾスタQDを挿入し、MOSトラ/、ゾスタQ8
のデー、トにはプログラムa号pを与えるとともに、M
OSトラ/ゾスタQDのゲートはアース点に接続したも
のである。また第2図(b)に示す回路は、電源VD印
加点と出力端子Outとの間にプログラム用のエンハン
スメントモードのMOS )ランジスタQつを挿入し、
同様に電源VD印加点と出力端子Outとの間にデプレ
ッションモードのMOS )ランジスタQDを挿入し、
かつ出力端子とアース点との間にフユーズ素子Fを挿入
し7、MOSトランソスタQつのr−)にはプログラム
信号Pを与えるとともに、MOSトランジスタQnのデ
ートは出力端子Outに接続するようにしたものである
FIG. 2(a) $(b) shows the exchange control signal generating section 6
This is a circuit diagram showing the conventional configuration of . The circuit shown in Fig. 2 (,) inserts a phase element F made of polysilicon, etc., which is a type of nonvolatile memory element, between the power supply VD application point and the output terminal Out. Insert an enhancement mode MOS transistor Q8 for programming between the ground point and the output terminal Ou.
MOS in depletion mode between
) Insert Lanzosta QD, MOS Tra/, Zosta Q8
Give programs a and p to day and day, and
The gate of the OS Tra/Zosta QD is connected to the ground point. In addition, the circuit shown in FIG. 2(b) has Q MOS transistors in enhancement mode for programming inserted between the power supply VD application point and the output terminal Out.
Similarly, a depletion mode MOS transistor QD is inserted between the power supply VD application point and the output terminal Out.
In addition, a fuse element F is inserted between the output terminal and the ground point 7, a program signal P is applied to the MOS transistors Q (r-), and the date of the MOS transistor Qn is connected to the output terminal Out. It is.

第2図(a)の回路において、フユーズ素子Fが溶断さ
れていないとき、出力端子OutのレベルはMOS )
ラン・ゾスタQDとフユーズ素子Fとの抵抗比によって
″″1#1#レベルれている。一方、MOSトランジス
タQ8のダートに@1″レベルのプログラム信号Pを与
えると、このトランジスターがオンしてフユーズ素子F
に大きな電流が流れ、このとき発生する゛り1・−ル熱
にrってフユーズI子Fが溶断される67ユーズ素子F
が溶断されると、信号Pは再び@0#レベルとなってト
ランジスタQ。
In the circuit of Fig. 2(a), when the fuse element F is not blown, the level of the output terminal Out is MOS (MOS).
Depending on the resistance ratio between the Lan-Zostar QD and the fuse element F, the ``''1#1# level is determined. On the other hand, when a program signal P of @1'' level is applied to the dart of MOS transistor Q8, this transistor turns on and the fuse element F
A large current flows through the 67-use element F, and the fuse I element F is blown out by the heat generated at this time.
When the transistor Q is fused, the signal P becomes @0# level again.

はカットオンし、今度はトランジスタQDを介して出力
端Outが′0”レベルに放電される。そして上記出力
端子Outの信号、即ち前記交換制御信号のレベルが例
えば“1″レベルのときには、予備のアドレスデコーダ
3のデコード動作は停止され、例えば“0″レベルのと
きにデコード動作が行なわれる。
is cut on, and the output terminal Out is then discharged to the '0' level via the transistor QD.Then, when the signal at the output terminal Out, that is, the level of the exchange control signal is, for example, at the '1' level, the reserve The decoding operation of the address decoder 3 is stopped, and the decoding operation is performed when the address decoder 3 is at the "0" level, for example.

第2図[有])の回路では、第2図(a)の回路とは反
対にフユーズ素子Fが溶断されていないとき、出力端子
OutのレベルはMOS )ランジスタQDとフユーズ
素子Fとの抵抗比によって′0”レベルに保たれている
。そしてトランジスタQgのダートに11”レベルのグ
ロダラム信号Pを与えると、上記と同様にフユーズ素子
Fが溶断され、その後出力端子OutはトランジスタQ
Dを介して1”レベルに充電される。この場合には出力
端子Outの信号、即ち交換制御信号のレベルが例えば
″0″レベルのときには、予備のアドレスデコーダ3の
デコード動作は停′止され、例えば゛l″レベルのとき
にデコード動作が行なわれる。
In the circuit of Fig. 2 (with), contrary to the circuit of Fig. 2 (a), when the fuse element F is not blown, the level of the output terminal Out is MOS) The resistance between the transistor QD and the fuse element F When the 11" level Glodarum signal P is applied to the dart of the transistor Qg, the fuse element F is blown out in the same way as above, and then the output terminal Out is kept at the '0" level.
It is charged to the 1" level through D. In this case, when the level of the signal at the output terminal Out, that is, the exchange control signal, is, for example, the "0" level, the decoding operation of the spare address decoder 3 is stopped. For example, the decoding operation is performed when the signal is at the "l" level.

第3図は上記交換制御信号発生部6を用い々い場合にお
ける予備のアドレスデコーダ3の一つのデコート・回路
の構成例を示す。この回路は、負荷用のデプレッシヲン
モードのトランジスタQLDと、前記アドレスバッファ
1から出力される各アト゛し力とする駆動用の複数のエ
ンハンスメントモードのトランジスタQDRとトランジ
スタQLDとの間に挿入される複数のフユーズ素子FB
とから構成される。
FIG. 3 shows an example of the configuration of one decoding circuit of the spare address decoder 3 when the exchange control signal generating section 6 is not used frequently. This circuit is inserted between a depletion mode transistor QLD for load and a plurality of enhancement mode transistors QDR and transistor QLD for driving each attribution force output from the address buffer 1. Multiple fuse elements FB
It consists of

このようなデコード回路では、前記正規のメモリーセル
回路4のメモリーセルのうち、例ぐ4げアドレスAo=
Al−・・・An=Oに対応するものが不良の場合には
、このアドレスに相当するテ゛−f−・ド出力か′?)
られるように各フェーズ素子F3が、fログラン・、刷
ちAOHAl  +・・・Anをデート入力と、°する
) −y ン;t x p QDRに接続されているフ
ユー、I#素子FRが溶断される。このためA、=A、
=・・・=A =0の場合、そのアドレスの予備メモリ
ーセルがアクセスされるものである。
In such a decoding circuit, among the memory cells of the regular memory cell circuit 4, for example, the fourth address Ao=
Al-...If the one corresponding to An=O is defective, is the code output corresponding to this address?'? )
Each phase element F3 is connected to f log run, AOHAl +...An as a date input) -y in; t x p The I# element FR is blown out. be done. Therefore, A, = A,
=...=A When =0, the spare memory cell at that address is accessed.

[背景技術の問題点] ところで第2図(a) 、 (b)に示す従来の交換制
御信号発生部あるいは、第3図に示す従来の予備デコー
ダにあっては、フユーズ素子Fが溶断されていないとき
は、常に電流が流れた状態になつている。一方、フユー
ズ素子Fは溶断されやすくするために、そのパターン形
状の幅が極めて細く作られている。このためフェーズ素
子Fに定常的に電流を流すことは、信頼性上好ましくな
い。例えば何らかの原因によって電源VDにノイズがの
ったり、誤まって電源電圧を高くしてしまったような場
合には、フユーズ素子Fに異常電流が流れ、誤まって溶
断される恐れがある。
[Problems in the Background Art] By the way, in the conventional exchange control signal generator shown in FIGS. 2(a) and 2(b) or the conventional backup decoder shown in FIG. 3, the fuse element F is not blown. When there is no current flowing through it. On the other hand, the width of the pattern shape of the fuse element F is made extremely narrow so that it can be easily blown out. For this reason, it is not preferable in terms of reliability to constantly flow current through the phase element F. For example, if noise is added to the power supply VD for some reason, or if the power supply voltage is erroneously increased, an abnormal current will flow through the fuse element F, and there is a risk that it will be erroneously blown out.

[発明の目的] 本発明は上記実情に鑑みてなされたもので、不揮発性記
憶素子(フユーズ素子)に常時電流を流すことなく、希
望する二値の出力を得ることができ、以って信頼性の高
い半導体集積回路装置な提供しようとするものである。
[Object of the Invention] The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it is possible to obtain a desired binary output without constantly passing current to a nonvolatile memory element (fuse element), thereby improving reliability. The aim is to provide a semiconductor integrated circuit device with high performance.

[発明の概要] 本発明は、フリップフロップの出力端に、−インピーダ
ンスが不揮発的に変化する不揮発性記憶素子と容“量と
を接続し、上記フリップフロップ二つの出力端に各々接
続されている容1cllc2の比を、C,>Czの条件
下で、上記不揮発性記憶素子のインピーダンス状態を変
化させることにより変え、これによシミ源投入時、フリ
ップ70ツゾの安定状態を変化できるようにし、以って
上記不揮発性記憶素子に常時電流を流す必要性をなくし
、装置の信頼性を高くしたものである・[発明の実施例
] 以下図面を参照して本発明の一実施例’−:”:発明す
る。第7図が同実施例の回路図であるが、まず第4図か
ら説明していく。第4図に示される如くエンハンスメン
トモードMO8)ランジスタQ6゜Q、21.、FJデ
プレッションードMO8)ラン・ゾスタQD1 * Q
D2で構成されるフリップフロップFL、の出力N、に
は、不揮発性記憶素子となるポリシリコンフユーズFを
介して容量C,が接続される。
[Summary of the Invention] The present invention connects a nonvolatile memory element whose impedance nonvolatilely changes and a capacitor to the output terminal of a flip-flop, and connects each to the output terminals of the two flip-flops. By changing the impedance state of the non-volatile memory element under the condition of C,>Cz, the ratio of capacitance 1cllc2 is changed, thereby making it possible to change the stable state of the flip 70 when a stain source is input. This eliminates the need for constant current to flow through the nonvolatile memory element, thereby increasing the reliability of the device. [Embodiments of the Invention] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. :":invent. Although FIG. 7 is a circuit diagram of the same embodiment, explanation will be given first from FIG. 4. As shown in FIG. 4, enhancement mode MO8) transistor Q6°Q, 21. , FJ Depression MO8) Ran Zosta QD1 *Q
A capacitor C is connected to the output N of the flip-flop FL constituted by D2 via a polysilicon fuse F serving as a nonvolatile memory element.

一方、フリップフロラ7’FL1の他方の出力N、には
、容量C2が接続される。
On the other hand, a capacitor C2 is connected to the other output N of the flip roller 7'FL1.

第4図において容量関係がCI>C2とすれば、電流V
D投入時、出力NlがN1に比べよシ早く充電されるた
め、出力N1の電位がNlの電位より高くなり、このた
めトランジスタQE、がオン、Q幻がオフし、フリップ
フロップFL、はN2=″′0゜N 、 :=: 11
11 #に安定する。この時出力N!が前述の交換制御
信号となり、この時N1=10#のため予備回路(予備
メモリーセル)は使用されない口またこの時、ポリシリ
コンフユーズFは低インピーダンス状態である。しかし
て予備回路使用時は、ポリシリコンフユーズFを例えば
レーザで溶断する。この時は、プリシリコンフユーズF
が高インピーダンス状態に相当する。このため容量C!
は出力N1から切シ離され、今度は電源投入時、出力N
1がNlに比べよシ早く高電位になるため、トランジス
タQE2がオンtQg1がオフし、出力N1=1.N、
=”O”となシ、前記交換制御信号となる出力N1によ
り、予備回路は動作状態となる。
In Fig. 4, if the capacitance relationship is CI>C2, then the current V
When D is turned on, the output Nl is charged faster than N1, so the potential of the output N1 becomes higher than the potential of Nl, so the transistor QE is turned on, the transistor Q is turned off, and the flip-flop FL is charged as N2. =″′0゜N , :=: 11
Stable at 11 #. At this time, the output is N! becomes the above-mentioned exchange control signal, and since N1=10# at this time, the spare circuit (spare memory cell) is not used, and at this time, the polysilicon fuse F is in a low impedance state. When the preliminary circuit is used, the polysilicon fuse F is blown by, for example, a laser. At this time, pre-silicon fuse F
corresponds to a high impedance state. Therefore, the capacity C!
is disconnected from output N1, and now when the power is turned on, output N
1 rises to a high potential more quickly than Nl, transistor QE2 is turned on and tQg1 is turned off, resulting in output N1=1. N,
="O", the backup circuit is brought into operation by the output N1 which becomes the exchange control signal.

このようにすれば、ポリシリコンフユーズFに定常的に
電流が流れることはない。またポリシリコンフユーズF
が低インピーダンス状態の時は、出力8里は10″レベ
ルのため電源投入後、容量c1の充電のほんの一瞬だけ
、ポリシリコンフユーズFに電流が流れるだけで済む。
In this way, no current will constantly flow through the polysilicon fuse F. Also, polysilicon fuse F
When is in a low impedance state, the output 8ri is at the 10'' level, so after the power is turned on, current only flows through the polysilicon fuse F for a moment to charge the capacitor c1.

第5図は第4図のポリシリコンフユーズFの代わシに高
抵抗ポリシリコンRを用いている。通常このRは高抵抗
で、レーザアニールで低抵抗となる。このようにして低
抵抗化するのは、予備回路使用時である。即ち容量関係
がC,)C2のため、ポリシリコンRが低抵抗化された
時は、出力N!が″″0″0″レヘル、Nl″レベルと
なり、この時はNlが交換制御信号となる。この場合も
第4図の場合と同じ信号を供給することができる。
In FIG. 5, high resistance polysilicon R is used in place of the polysilicon fuse F in FIG. Normally, this R has a high resistance, but it becomes low resistance by laser annealing. The resistance is reduced in this way when the backup circuit is used. That is, since the capacitance relationship is C, )C2, when the resistance of polysilicon R is reduced, the output N! is at the "0" level, Nl level, and at this time, Nl becomes the exchange control signal. In this case as well, the same signal as in the case of FIG. 4 can be supplied.

第6図は予備デコーダに適用した具体例である。FIG. 6 shows a specific example applied to a preliminary decoder.

エンハンスメントモードMO8)ランジスタQ’g1+
Q′I、2、デプレッションモードMO8)ランジスタ
QD1 p QD2により構成されるスリップ70ツブ
FL2は、その出力N2  p N 2それぞれにポリ
シリコンフェーズF1pF2を介し、容量c3が接続さ
れる。そして不良のアドレスに応じて、ポリシリコンフ
ユーズF1pF2のいずれかが切断される。フリップフ
ロラ7’FL2の出力N2 、N2にエンハンスメント
モードMO8)ランジスタQz3yQi4が接続され、
これらトランジスタのr−)には信号N、が入力される
。アドレス信号Axの供給端と信号A’Xの供給端間に
は、エンハンスメントモードMO8)ランジスタQE5
が介挿され、アドレス信号緘の供給端と信号A′工の供
給端間には、エンハンスメントモードMoSトランジス
タQg6が介挿されている。上記トランジスタQ、5の
ケ9−トはフリップフロップFL2の出力N2に接続さ
れ、トランジスタQ。6のf−)は出力N2に接続され
る。予備デコーダはエンハンスメントモードMO8)ラ
ンジスタQEX p Qr、x1rQEX2 + ”’
 Qt27 p Qga 、デプレッションモードMO
3)ランジスタQD5で構成され、トランジスタQEX
 + QEX+ t QEX2 y ”’ QE7 p
 Qgaのケ9−トには、信号A′工+ A’X1 、
 A’X2・・・’rl  p Nlが供給され、この
予備デコーダの出方端は、バッファBuを介して予備メ
モリーセルに接続される。
Enhancement mode MO8) Transistor Q'g1+
Q'I, 2, depletion mode MO8) The slip 70 tube FL2 constituted by transistors QD1 p QD2 has a capacitor c3 connected to each of its outputs N2 p N 2 via a polysilicon phase F1 pF2. Then, depending on the defective address, one of the polysilicon fuses F1pF2 is cut off. Enhancement mode MO8) transistor Qz3yQi4 is connected to the output N2 and N2 of flip-flora 7'FL2,
A signal N is input to r-) of these transistors. An enhancement mode MO8) transistor QE5 is connected between the supply end of the address signal Ax and the supply end of the signal A'X.
is inserted, and an enhancement mode MoS transistor Qg6 is inserted between the supply end of the address signal line and the supply end of the signal A' line. The gate of the transistors Q and 5 is connected to the output N2 of the flip-flop FL2. 6 f-) is connected to output N2. The spare decoder is enhancement mode MO8) transistor QEX p Qr, x1rQEX2 + ”'
Qt27 p Qga, depression mode MO
3) Consists of transistor QD5, transistor QEX
+ QEX+ t QEX2 y ”' QE7 p
Qga 9- is signal A' + A'X1,
A'X2...'rl p Nl is supplied, and the output end of this spare decoder is connected to a spare memory cell via a buffer Bu.

第6図においてアドレス信号A z ” ” 0 ” 
+ AX =″1″の番地に不良メモリーセルがあった
とすると、ポリシリコンフェーズF2が切断される。こ
のためフリップフロップFL2では、出力N、の容量が
N2よシ大きくなシ、従って電源VDの投入時にN2=
″′0”t Nz =−11となシ、トランジスタQつ
5がオン。
In FIG. 6, the address signal A z ” ” 0 ”
Assuming that there is a defective memory cell at the address +AX=“1”, the polysilicon phase F2 is cut off. Therefore, in the flip-flop FL2, the capacitance of the output N is larger than N2, so when the power supply VD is turned on, N2=
When ``'0''t Nz = -11, transistor Q5 is turned on.

Q、6がオフし、アドレス信号AxがトランジスタQ、
、5を介してA′工となシ、トランジスター8のダート
に伝達される。同様にトランジスタ鍜、。
Q, 6 is turned off, and the address signal Ax is transferred to the transistor Q,
, 5 to A' and to the gate of transistor 8. Similarly, the transistor.

Qつ、□、・・・のダートには、他のアドレス入力がら
の信号A’X1 * ”N2 t・・・が入力される。
The signals A'X1*"N2t... from other address inputs are input to the Q darts, □, . . . .

これら信号は、第6図の7リツプフロツプ系と同様の構
成で不良アドレスに応じてフユーズF1tF2(r)い
スレ力が切断され、出力されたものである。そして信号
A’X 、 A’X1 + A’X2 t・・・ノスべ
てが”0″レベルドナった時、予備メモリーが選択され
ることになる。−方、予備メモリーセルを使用しない時
は、信号N1=“0”+NI =″′1#′1#レベル
ランシスタQB3F QE4 p Q10がオン、Qg
aがオフし、予備メモリーセルも出力信号が“0″レベ
ルのため、選択されることはないものである。
These signals are output after the fuse F1tF2(r) is disconnected in accordance with a defective address in a configuration similar to the 7 lip-flop system shown in FIG. When the signals A'X, A'X1 + A'X2 t... all reach the "0" level, the spare memory is selected. - On the other hand, when the spare memory cell is not used, signal N1 = "0" + NI = "'1 #'1 # level transistor QB3F QE4 p Q10 is on, Qg
Since a is turned off and the output signal of the spare memory cell is also at the "0" level, it will not be selected.

第7図は本発明の実施例である。この構成は、トランジ
スタQP111 QNl 1のCMOSインバータと、
トランジスタQP12 + QNl。のCMOSインバ
ータとの入出力、出入力を接続してフリップフロップを
構成し、後者のCMOSインバータ出力で、トランジス
タQP11のダート制御する点が特徴である。
FIG. 7 shows an embodiment of the present invention. This configuration includes a CMOS inverter of transistors QP111 QNl 1,
Transistor QP12 + QNl. The feature is that a flip-flop is formed by connecting the input/output with the CMOS inverter, and the dirt control of the transistor QP11 is performed by the output of the latter CMOS inverter.

ここで前述したC+)Czの条件を満たすものとして、
C1の容量を非常に大きく例えば無限大に選択した場合
は、7S−ズが直接接地に接続された場合と等価である
ので、C1は特に必要ない。
Assuming that the condition of C+)Cz mentioned above is satisfied,
If the capacitance of C1 is selected to be very large, for example infinite, it is equivalent to the case where 7S-s is directly connected to ground, so C1 is not particularly necessary.

この場合においてもフユーズには、電流が流れないのは
明らかである。このことを第7図で具体的に云えば、接
地の“0″がフユーズFを介してQp12+QN1゜を
有したCMOSインバータ手段の入力となる。
It is clear that no current flows through the fuse in this case as well. Specifically speaking, in FIG. 7, the ground "0" becomes the input to the CMOS inverter means having Qp12+QN1° via the fuse F.

従ってこのCMOSインバータの出力は″1#で、この
“1″がp型トランジスタQ、11のケ9−ト入力とな
るから、QPllはオフとなシ、フユーズFには電流は
流れない。
Therefore, the output of this CMOS inverter is "1#", and since this "1" becomes the gate input of the p-type transistor Q, 11, QPll is turned off and no current flows through the fuse F.

また第7図の如(CMOS回路とした場合に特に効果を
発揮する。なぜなら図示の如くpチャネル型トランジス
タQP11 * Qp 12 ! Nチャネル型トラン
ジスタQ11 pQ12を用いたフリップフロップ回路
を用いると、不揮発性記憶素子Fに定常的に電流が流れ
ないばかシでなく、第7図の交換制御信号発生回路自体
に流れる電流も零となるからである。
In addition, as shown in Fig. 7 (CMOS circuit), this effect is particularly effective. This is because, as shown in the figure, if a flip-flop circuit using p-channel transistors Q11 * Qp 12 ! N-channel transistors Q11 pQ12 is used, non-volatile This is because the current does not constantly flow through the storage element F, and the current flowing through the exchange control signal generation circuit itself shown in FIG. 7 also becomes zero.

[発明の効果] 以上説明した如く本発明によれば、不揮発性記憶素子に
定常的に電流が流れることがないため、電源ノイズ等に
よシ誤ってデータが書き込まれることがなく、低消費電
力化が可能であシ、信頼性の高い半導体集積回路装置が
提供できるものである。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, since current does not constantly flow through the nonvolatile memory element, data is not written erroneously due to power supply noise, etc., and power consumption is reduced. It is possible to provide a highly reliable semiconductor integrated circuit device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は予備メモリーセル回路が形成された半導体メモ
リーのブロック構成図、第2図、第3図は同構成の一部
詳細回路図、第4図ないし第6図は本発明の詳細な説明
図、第7図は本発明の一実施例の回路図である。 FL、・・・フリップフロップ回路、C1tC2・・・
容量、N1+N1 ・・・出力端、F−・・ポリシリコ
ンフユーズ、R・・・高抵抗ポリシリコン、QPll 
1 Qp12・・・P′チャネル型トランジスタ、QN
lj j QNl2・・・Nチャネル型トランジスタ。
FIG. 1 is a block configuration diagram of a semiconductor memory in which a spare memory cell circuit is formed, FIGS. 2 and 3 are partial detailed circuit diagrams of the same configuration, and FIGS. 4 to 6 are detailed explanations of the present invention. 7 are circuit diagrams of an embodiment of the present invention. FL,...Flip-flop circuit, C1tC2...
Capacitance, N1+N1...Output end, F-...Polysilicon fuse, R...High resistance polysilicon, QPll
1 Qp12...P' channel type transistor, QN
lj j QNl2...N-channel transistor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  不揮発性記憶素子と、この不揮発性記憶素子と電源間
に接続された第1のトランジスタ(Q_P_1_1)と
、この第1のトランジスタと前記不揮発性記憶素子との
接続点の電位を検出し反転して出力するCMOS回路で
構成されたインバータ手段(Q_P_1_2、Q_N_
1_2)と、このインバータ手段の出力端に接続された
容量(C_2)とを具備し、 前記インバータ手段の出力により、前記第1のトランジ
スタの導通状態を制御し、 前記不揮発性記憶素子に定常的に電流が流れないように
したことを特徴とする半導体集積回路装置。
[Claims] A nonvolatile memory element, a first transistor (Q_P_1_1) connected between the nonvolatile memory element and a power supply, and a potential at a connection point between the first transistor and the nonvolatile memory element. Inverter means (Q_P_1_2, Q_N_
1_2) and a capacitor (C_2) connected to the output terminal of the inverter means, the conduction state of the first transistor is controlled by the output of the inverter means, and the nonvolatile memory element is provided with a constant state of conduction. A semiconductor integrated circuit device characterized in that no current flows through the semiconductor integrated circuit device.
JP2216718A 1990-08-17 1990-08-17 Semiconductor integrated circuit device Granted JPH03116499A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2216718A JPH03116499A (en) 1990-08-17 1990-08-17 Semiconductor integrated circuit device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2216718A JPH03116499A (en) 1990-08-17 1990-08-17 Semiconductor integrated circuit device

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57060534A Division JPS58177599A (en) 1981-12-17 1982-04-12 Semiconductor integrated circuit device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03116499A true JPH03116499A (en) 1991-05-17
JPH0542080B2 JPH0542080B2 (en) 1993-06-25

Family

ID=16692835

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2216718A Granted JPH03116499A (en) 1990-08-17 1990-08-17 Semiconductor integrated circuit device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03116499A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0661678U (en) * 1993-02-08 1994-08-30 有限会社 弘伸電球製作所 Bicycle tail lamp

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0542080B2 (en) 1993-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5726562A (en) Semiconductor device and power supply controller for same
US5566107A (en) Programmable circuit for enabling an associated circuit
US5311470A (en) Data latch circuit having non-volatile memory cell
US4998223A (en) Programmable semiconductor memory apparatus
EP0376245A2 (en) Semiconductors memory device provided with an improved redundant decoder
EP0090332A2 (en) Semiconductor memory device
EP0195412B1 (en) Integrated circuit with built-in indicator of internal repair
US7764108B2 (en) Electrical fuse circuit
EP0867070A1 (en) Zero power fuse circuit
KR20210028178A (en) Memory circuit and semiconductor device
EP0063357B1 (en) Drive circuit
EP0090331A2 (en) Semiconductor memory device
JPH0438080B2 (en)
US6456547B1 (en) Semiconductor memory device with function of repairing stand-by current failure
JPH03116499A (en) Semiconductor integrated circuit device
US7403432B2 (en) Differential read-out circuit for fuse memory cells
JPS59124098A (en) Redundant decoder of semiconductor memory
JPS62107500A (en) Semiconductor memory device
JPH0219560B2 (en)
US6888216B2 (en) Circuit having make-link type fuse and semiconductor device having the same
JP2812202B2 (en) Semiconductor storage device
JPH05314789A (en) Redundant address storage circuit
JP3084715B2 (en) Semiconductor memory
JPH05120894A (en) Non-volatile semiconductor storage circuit
JPH04233826A (en) Programmable reference circuit