JPH0311669A - 磁気トランジスタ - Google Patents
磁気トランジスタInfo
- Publication number
- JPH0311669A JPH0311669A JP1144025A JP14402589A JPH0311669A JP H0311669 A JPH0311669 A JP H0311669A JP 1144025 A JP1144025 A JP 1144025A JP 14402589 A JP14402589 A JP 14402589A JP H0311669 A JPH0311669 A JP H0311669A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collector
- magnetic field
- carriers
- emitter
- collectors
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
- G01R33/066—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices field-effect magnetic sensors, e.g. magnetic transistor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はラテラル型の磁気トランジスタに関するもので
ある。
ある。
[従来の技術]
2つのコレクタ電極間の差電流により磁界の強さを検出
する磁気トランジスタが知られている。
する磁気トランジスタが知られている。
第3図は一般的な磁気トランジスタの動作原理を示す図
である。第3図ではキャリアが電子の場合(npn)ラ
ンジスタの場合)を示し、その等価回路を第3図(C)
に示している。一般に、磁気トランジスタの比感度Sは
、S−△Ic/Ico・△Bで表される。ここで、△■
cは2つのコレクタの差電流、ICOはB=0のときの
コレクタ電流、△Bは磁界の変化分である。
である。第3図ではキャリアが電子の場合(npn)ラ
ンジスタの場合)を示し、その等価回路を第3図(C)
に示している。一般に、磁気トランジスタの比感度Sは
、S−△Ic/Ico・△Bで表される。ここで、△■
cは2つのコレクタの差電流、ICOはB=0のときの
コレクタ電流、△Bは磁界の変化分である。
第3図(A)は磁界Bが印加されていない状態を示し、
このときはエミッタEよりコレクタC1、C2のそれぞ
れに到達する電子の量はほぼ等しいため、各コレクタ電
流は等しく (IC,・IC2)なる。従って、2つの
コレツク間における差電流△Icは0°゛になる。これ
に対し、第3図(B)はこのトランジスタに対して垂直
方向に磁界が印加された状態を示し、ここでは磁界Bに
よるローレンツ力により電子の移動方向が図のように曲
げられ、コレクタC1に到達する電子の量、即ち、コレ
クタ電流IC,の方がコレクタC2のコレクタ電流■C
2よりも大きくなる。このようにして、磁界の強さBは
、B■△■c (差電流)=IC11C2> Oで求め
られる。また、ベースの電位を変えることにより磁界の
検出特性を線形にしたり、コレクタ電流を増幅すること
もできる。
このときはエミッタEよりコレクタC1、C2のそれぞ
れに到達する電子の量はほぼ等しいため、各コレクタ電
流は等しく (IC,・IC2)なる。従って、2つの
コレツク間における差電流△Icは0°゛になる。これ
に対し、第3図(B)はこのトランジスタに対して垂直
方向に磁界が印加された状態を示し、ここでは磁界Bに
よるローレンツ力により電子の移動方向が図のように曲
げられ、コレクタC1に到達する電子の量、即ち、コレ
クタ電流IC,の方がコレクタC2のコレクタ電流■C
2よりも大きくなる。このようにして、磁界の強さBは
、B■△■c (差電流)=IC11C2> Oで求め
られる。また、ベースの電位を変えることにより磁界の
検出特性を線形にしたり、コレクタ電流を増幅すること
もできる。
[発明が解決しようとしている課題]
このような構成の磁気トランジスタでは、磁界により影
響されたキャリアのみが各コレクタに注入されることが
望ましいが、従来の構成の磁気トランジスタでは、磁界
検出に不要なキャリアも2つのコネクタC1,C2に注
入されてしまうため正確な磁界検出ができないという問
題がある。また、実際に磁界により影響されたキャリア
が全てコレクタC1及びC2に注入されず、その一部が
エミッタの両側などから流れ出してしまうため、磁界を
正確に測定することができない。更には、磁界による影
響を検出するためには、キャリアの移動する長さ(エミ
ッタからコレクタまての距離)を充分長くとる必要があ
るが、逆にこれらの距離を長くするとコレクタに到達す
るキャリアの数が少なくなり感度が低下するなどの問題
がある。
響されたキャリアのみが各コレクタに注入されることが
望ましいが、従来の構成の磁気トランジスタでは、磁界
検出に不要なキャリアも2つのコネクタC1,C2に注
入されてしまうため正確な磁界検出ができないという問
題がある。また、実際に磁界により影響されたキャリア
が全てコレクタC1及びC2に注入されず、その一部が
エミッタの両側などから流れ出してしまうため、磁界を
正確に測定することができない。更には、磁界による影
響を検出するためには、キャリアの移動する長さ(エミ
ッタからコレクタまての距離)を充分長くとる必要があ
るが、逆にこれらの距離を長くするとコレクタに到達す
るキャリアの数が少なくなり感度が低下するなどの問題
がある。
本発明は上記従来例に鑑みてなされたもので、磁界検出
に関係のないキャリアがコレクタ出力電極に流れ込まな
いようにすることにより、磁界検出の精度を高めた磁気
トランジスタを提供することを目的とする。
に関係のないキャリアがコレクタ出力電極に流れ込まな
いようにすることにより、磁界検出の精度を高めた磁気
トランジスタを提供することを目的とする。
また本発明は、磁界に影響されるキャリアの流れ出しを
防止した磁気トランジスタを提供することを目的とする
。
防止した磁気トランジスタを提供することを目的とする
。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するために本発明の磁気トランジスタは
以下の様な構成からなる。即ち、印加された磁界の強度
に対応して2つのコレクタ電極間に差電流を出力する磁
気トランジスタであって、エミッタ電極と、前記エミッ
タ電極より出力されて半導体中を移動するキャリアを取
出すため、前記エミッタ電極よりほぼ等距離でほぼ等間
隔に配置された少なくとも3つのコレクタ電極と、前記
エミッタ電極より前記コレクタ電極方向にキャリアを加
速するための第1のベース電極とを有する。
以下の様な構成からなる。即ち、印加された磁界の強度
に対応して2つのコレクタ電極間に差電流を出力する磁
気トランジスタであって、エミッタ電極と、前記エミッ
タ電極より出力されて半導体中を移動するキャリアを取
出すため、前記エミッタ電極よりほぼ等距離でほぼ等間
隔に配置された少なくとも3つのコレクタ電極と、前記
エミッタ電極より前記コレクタ電極方向にキャリアを加
速するための第1のベース電極とを有する。
また他の発明によれば、前記エミッタ電極より前記コレ
クタ電極へのキャリアの移動経路周辺に設けられた第2
のベース電極を更に含んでいる。
クタ電極へのキャリアの移動経路周辺に設けられた第2
のベース電極を更に含んでいる。
[作用]
以上の構成において、エミッタ電極より出力されて半導
体中を移動するキャリアを取出すため、そのエミッタ電
極よりほぼ等距離でほぼ等間隔に配置された少なくとも
3つのコレクタ電極の両端のコレクタ電極をコレクタ出
力電極とする。
体中を移動するキャリアを取出すため、そのエミッタ電
極よりほぼ等距離でほぼ等間隔に配置された少なくとも
3つのコレクタ電極の両端のコレクタ電極をコレクタ出
力電極とする。
また、他の発明の構成によれば、エミッタ電極よりコレ
クタ電極へのキャリアの移動経路周辺に設けられた第2
のベース電極をさらに含み、この第2のベース電極にエ
ミッタ電極に対して逆電圧をかけることにより、キャリ
アの側方向への流れ出しを防止する。
クタ電極へのキャリアの移動経路周辺に設けられた第2
のベース電極をさらに含み、この第2のベース電極にエ
ミッタ電極に対して逆電圧をかけることにより、キャリ
アの側方向への流れ出しを防止する。
[実施例]
以下、添付図面を参照して本発明の好適な実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
[磁気トランジスタの説明(第1.2図)]第1図及び
第2図は実施例のラテラル磁気トランジスタの構成及び
等何回路を示す図で、第1図は紙面に対して垂直方向に
作用する磁界の強さを測定するラテラル型のpnp磁気
トランジスタ、同様に第2図は紙面に対して垂直方向に
作用する磁界の強さを測定するラテラル型のnpn磁気
トランジスタの場合で示している。
第2図は実施例のラテラル磁気トランジスタの構成及び
等何回路を示す図で、第1図は紙面に対して垂直方向に
作用する磁界の強さを測定するラテラル型のpnp磁気
トランジスタ、同様に第2図は紙面に対して垂直方向に
作用する磁界の強さを測定するラテラル型のnpn磁気
トランジスタの場合で示している。
第1図(A)において、11は磁気トランジスタ10の
A−A’断面を示しており、磁気トランジスタ10のエ
ミッタE、コレクタC1,C2及びベースBl、B4は
第3図に示した従来の磁気トランジスタのエミッタE、
コレクタC1,C2及びベースBのそれぞれに対応して
いる。
A−A’断面を示しており、磁気トランジスタ10のエ
ミッタE、コレクタC1,C2及びベースBl、B4は
第3図に示した従来の磁気トランジスタのエミッタE、
コレクタC1,C2及びベースBのそれぞれに対応して
いる。
この磁気トランジスタ10は、p形基板12の上にnエ
ピタキシャル層13を成長させ、更にn″1層を拡散し
てベースB1〜B4(14〜17)を形成する。さらに
ベースボロン拡散などによりp形のエミッタE(18)
及びコレクタC1〜C3(19〜21)を図のように形
成して作成される。22,2..3はボロン拡散などに
より形成された絶縁分離壁である。
ピタキシャル層13を成長させ、更にn″1層を拡散し
てベースB1〜B4(14〜17)を形成する。さらに
ベースボロン拡散などによりp形のエミッタE(18)
及びコレクタC1〜C3(19〜21)を図のように形
成して作成される。22,2..3はボロン拡散などに
より形成された絶縁分離壁である。
以上の構成により、ベースB1と84によりエミッタ1
8よりのキャリア(正孔)がコレクタ19〜21の方向
に加速される。また、エミッタ18の両端に設けられた
ベースB2.B3 (16゜17)はn+であるため、
キャリア(正孔)はベース部分16.17で再結合され
、それらベース16.17より外側には流れ出さない。
8よりのキャリア(正孔)がコレクタ19〜21の方向
に加速される。また、エミッタ18の両端に設けられた
ベースB2.B3 (16゜17)はn+であるため、
キャリア(正孔)はベース部分16.17で再結合され
、それらベース16.17より外側には流れ出さない。
このことは、ベース16.17がエミッタ18に対して
電位を持たない場合でも生じる。これにより、磁界検出
には不要である、ベース16.17より外側のキャリア
の流れを抑えることができる。
電位を持たない場合でも生じる。これにより、磁界検出
には不要である、ベース16.17より外側のキャリア
の流れを抑えることができる。
また逆に、ベース16.17にエミッタ18に対して逆
電圧をかけると、エミッタ18とベース16.17の間
に空乏層ができるため、エミッタ18よりベース16及
び17方向に向かうキャリア(正孔)の流れを完全に阻
止できることになる。これにより、磁界検出に必要なキ
ャリアを十分にエミッタ18よりコレクタ19〜21方
向に送り出すことができる。
電圧をかけると、エミッタ18とベース16.17の間
に空乏層ができるため、エミッタ18よりベース16及
び17方向に向かうキャリア(正孔)の流れを完全に阻
止できることになる。これにより、磁界検出に必要なキ
ャリアを十分にエミッタ18よりコレクタ19〜21方
向に送り出すことができる。
一方、コレクタ側では、コレクタCI C2(19,
21)の間にコレクタC3(20)を設けている。磁界
の検出に必要なキャリアは、コレクタ19及び21に到
達して検出されるもので充分であり、エミッタ18から
コレクタ20に直進するキャリアは磁界検出には不要な
ものである。
21)の間にコレクタC3(20)を設けている。磁界
の検出に必要なキャリアは、コレクタ19及び21に到
達して検出されるもので充分であり、エミッタ18から
コレクタ20に直進するキャリアは磁界検出には不要な
ものである。
よって、コレクタC3(20)によりこれらの余分なキ
ャリアを取出して、コレクタC1,C2による磁界の検
出に影響を与えないようにしている。
ャリアを取出して、コレクタC1,C2による磁界の検
出に影響を与えないようにしている。
第1図(B)はこのpnp磁気トランジスタ10の等価
回路を示したもので、このトランジスタ10はエミッタ
E、ベースBl、B4及びコレクタC3を共通にした2
つのpnpトランジスタの形で表すことができる。なお
、ベースB2とB3とを短絡して1つのベースとしても
よい。
回路を示したもので、このトランジスタ10はエミッタ
E、ベースBl、B4及びコレクタC3を共通にした2
つのpnpトランジスタの形で表すことができる。なお
、ベースB2とB3とを短絡して1つのベースとしても
よい。
第2図は第1図のp n p 磁気トランジスタの各部
の極性を逆にしたnpn磁気トランジスタの構成及び等
価回路を示す図である。
の極性を逆にしたnpn磁気トランジスタの構成及び等
価回路を示す図である。
第2図(A)において、41は磁気トランジスタ40の
C−C″断面示している。
C−C″断面示している。
この磁気トランジスタ40は、p形基板42の上にnエ
ピタキシャル層43を成長させ、更にその上にベースボ
ロン拡散により9層55を形成している。この9層部分
55の上にn+層を拡散してエミッタE48及びコレク
タc1〜C3(49〜51)を形成する。そして、この
9層部分55にベース31〜B4 (44〜47)を図
のように設けて作成される。52.53はボロン拡散な
どにより形成された絶縁分離壁である。
ピタキシャル層43を成長させ、更にその上にベースボ
ロン拡散により9層55を形成している。この9層部分
55の上にn+層を拡散してエミッタE48及びコレク
タc1〜C3(49〜51)を形成する。そして、この
9層部分55にベース31〜B4 (44〜47)を図
のように設けて作成される。52.53はボロン拡散な
どにより形成された絶縁分離壁である。
このトランジスタ40における動作は、第1図] 1
の場合はキャリアが正孔であったのに対して、第2図で
はキャリアが電子である点が異なるのみで、基本動作原
理は同じであるため、その動作を簡単に説明する。
はキャリアが電子である点が異なるのみで、基本動作原
理は同じであるため、その動作を簡単に説明する。
ベースBl(44)とベースB4 (45)はエミッタ
48よりコレクタ49〜51方向に移動するキャリア(
電子)を加速するために設けられており、ベースB2.
B3 (46,47)は、磁界の検出に関係のないキャ
リアの回り込みなどを防止するために設けられている。
48よりコレクタ49〜51方向に移動するキャリア(
電子)を加速するために設けられており、ベースB2.
B3 (46,47)は、磁界の検出に関係のないキャ
リアの回り込みなどを防止するために設けられている。
また、コレクタC3(50)は磁界に影響されないキャ
リアを取出すためのもので、これらのキャリアがコレク
タC1あるいはC2に流入することによる磁界検出精度
の低下を防止している。
リアを取出すためのもので、これらのキャリアがコレク
タC1あるいはC2に流入することによる磁界検出精度
の低下を防止している。
第2図(B)ばこのnpn磁気トランジスタの等価回路
を示す図で、エミッタE、ベースBl。
を示す図で、エミッタE、ベースBl。
] 2
B4及びコレクタC3を共通にする2つのnpnトラン
ジスタが結合された形で構成されている。
ジスタが結合された形で構成されている。
このように本実施例によれば、
■2つのコレクタ間にさらにコレクタを設け、このコレ
クタにより磁界の検出に不要なキャリアを除去すること
により、磁界検出の感度が向上できる。
クタにより磁界の検出に不要なキャリアを除去すること
により、磁界検出の感度が向上できる。
■エミッタからトランジスタ素子の周辺方向に移動する
キャリアの移動を抑えることにより、磁界により影響さ
れるキャリアの数の減少を防止できる。これにより、感
度の向上が図れる。
キャリアの移動を抑えることにより、磁界により影響さ
れるキャリアの数の減少を防止できる。これにより、感
度の向上が図れる。
■エミッタよりコレクタ側にキャリアが移動する経路の
両側にベースを設け、そのベースにエミッタに対して逆
電圧をかける。これにより、キャリアの移動経路を狭く
して感度を上げることができる。
両側にベースを設け、そのベースにエミッタに対して逆
電圧をかける。これにより、キャリアの移動経路を狭く
して感度を上げることができる。
このようにして、本実施例によれば微少磁界を高安定に
比例して出力することができるため、DC成分からAC
成分までの加速度を検出できる加速度センサにも応用で
きる。
比例して出力することができるため、DC成分からAC
成分までの加速度を検出できる加速度センサにも応用で
きる。
また、本実施例の磁気トランジスタはバイポーラプロセ
スによるシリコンに形成したラテラル磁気トランジスタ
であるため、信号処理回路などとの1チツプ化が可能に
なり、更に他の制御回路などを含めたインテリジェント
センサの開発にも適している。
スによるシリコンに形成したラテラル磁気トランジスタ
であるため、信号処理回路などとの1チツプ化が可能に
なり、更に他の制御回路などを含めたインテリジェント
センサの開発にも適している。
なお、前述した実施例では3つのコレクタは直線状に配
されているが、これに限定されるものでなく、エミッタ
を中心とした円周上に等間隔に配されるようにしてもよ
い。また、これらコレクタやペースの数は、この実施例
に限定されるものでないことはもちろんである。
されているが、これに限定されるものでなく、エミッタ
を中心とした円周上に等間隔に配されるようにしてもよ
い。また、これらコレクタやペースの数は、この実施例
に限定されるものでないことはもちろんである。
[発明の効果コ
以上説明したように本発明によれば、磁界検出に関係の
ないキャリアがコレクタ出力電極に流れ込まないように
することにより、磁界検出の精度を高められる効果があ
る。
ないキャリアがコレクタ出力電極に流れ込まないように
することにより、磁界検出の精度を高められる効果があ
る。
また本発明によれば、磁界に影響されるキャリアの流れ
出しを防止し、キャリアの移動経路を狭くして、感度を
向上できる効果がある。
出しを防止し、キャリアの移動経路を狭くして、感度を
向上できる効果がある。
第1図(A)は実施例のpnp磁気トランジスタの構成
を示す図、 第1図(B)は第1図(A)のトランジスタの等価回路
図、 第2図(A)は実施例のnpn磁気トランジスタの構成
を示す図、 5 6 第2図(B)は第2図(A)のトランジスタの等価回路
図、そして 第3図は従来の磁気トランジスタの動作原理を示す図で
、第3図(A)は磁界が存在しないときのキャリアの流
れを示す図、第3図(B)は磁界Bが存在するときのキ
ャリアの流れを示す図、第3図(C)はその等価回路図
である。 図中、10.40・・・磁気トランジスタ、12゜42
・・・p形基板、13.43・・・nエピタキシャル層
、14〜17.44〜47・・・ベース、18,48・
・・エミッタ、19〜21.49〜51・・・コレクタ
、22,23,52.53・・・絶縁分離壁である。 E 、(B) 第1図 (B) 第2図 IC+ IC2 IC+ C2 (A) CB) 01〒TC2 3図
を示す図、 第1図(B)は第1図(A)のトランジスタの等価回路
図、 第2図(A)は実施例のnpn磁気トランジスタの構成
を示す図、 5 6 第2図(B)は第2図(A)のトランジスタの等価回路
図、そして 第3図は従来の磁気トランジスタの動作原理を示す図で
、第3図(A)は磁界が存在しないときのキャリアの流
れを示す図、第3図(B)は磁界Bが存在するときのキ
ャリアの流れを示す図、第3図(C)はその等価回路図
である。 図中、10.40・・・磁気トランジスタ、12゜42
・・・p形基板、13.43・・・nエピタキシャル層
、14〜17.44〜47・・・ベース、18,48・
・・エミッタ、19〜21.49〜51・・・コレクタ
、22,23,52.53・・・絶縁分離壁である。 E 、(B) 第1図 (B) 第2図 IC+ IC2 IC+ C2 (A) CB) 01〒TC2 3図
Claims (2)
- (1)印加された磁界の強度に対応して2つのコレクタ
電極間に差電流を出力する磁気トランジスタであつて、 エミッタ電極と、 前記エミッタ電極より出力されて半導体中を移動するキ
ャリアを取出すため、前記エミッタ電極よりほぼ等距離
でほぼ等間隔に配置された少なくとも3つのコレクタ電
極と、 前記エミッタ電極より前記コレクタ電極方向にキャリア
を加速するための第1のベース電極とを有し、 前記少なくとも3つのコレクタ電極の両端のコレクタ電
極をコレクタ出力電極とすることを特徴とする磁気トラ
ンジスタ。 - (2)前記エミッタ電極より前記コレクタ電極へのキャ
リアの移動経路周辺に設けられた第2のベース電極を更
に含むことを特徴とする請求項第1項に記載の磁気トラ
ンジスタ。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1144025A JPH0311669A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 磁気トランジスタ |
| EP19900401580 EP0402271A3 (en) | 1989-06-08 | 1990-06-08 | Magnetic field sensitive semiconductor device |
| US07/700,352 US5099298A (en) | 1989-06-08 | 1991-05-07 | Magnetically sensitive semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1144025A JPH0311669A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 磁気トランジスタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0311669A true JPH0311669A (ja) | 1991-01-18 |
Family
ID=15352579
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1144025A Pending JPH0311669A (ja) | 1989-06-08 | 1989-06-08 | 磁気トランジスタ |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5099298A (ja) |
| EP (1) | EP0402271A3 (ja) |
| JP (1) | JPH0311669A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2358537A (en) * | 1998-08-21 | 2001-07-25 | Furuno Electric Co | Radar device similar device and received data write method |
| US6577476B1 (en) | 2002-03-28 | 2003-06-10 | International Business Machines Corporation | Flux guide structure for a spin valve transistor which includes a slider body semiconductor layer |
| CN111175675A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 电子科技大学 | 一种基于有机场效应管的磁场传感器及其制备方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5179429A (en) * | 1992-03-30 | 1993-01-12 | Motorola, Inc. | Magnetic field sensor with split collector contacts for high sensitivity |
| US5323050A (en) * | 1993-06-01 | 1994-06-21 | Motorola, Inc. | Collector arrangement for magnetotransistor |
| US5514899A (en) * | 1994-05-11 | 1996-05-07 | Hong Kong University Of Science And Technology | Dual-emitter lateral magnetometer |
| JP3602611B2 (ja) * | 1995-03-30 | 2004-12-15 | 株式会社東芝 | 横型ホール素子 |
| US6236072B1 (en) * | 1998-11-12 | 2001-05-22 | Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) | Method and system for emitter partitioning for SiGe RF power transistors |
| DE10100598A1 (de) * | 2001-01-09 | 2002-07-18 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zur Sensierung eines Magnetfeldes, Magnetfeldmesser und Strommesser |
| DE10125425A1 (de) * | 2001-05-25 | 2002-12-05 | Bosch Gmbh Robert | Vorrichtung zur Messung einer B-Komponente eines Magnetfeldes, Magnetfeldsensor und Strommesser |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1964589A1 (de) * | 1968-12-28 | 1970-09-17 | Sony Corp | Magnetfeld-Detektor |
| US3714559A (en) * | 1971-08-10 | 1973-01-30 | Texas Instruments Inc | Method of measuring magnetic fields utilizing a three dram igfet with particular bias |
| US4163986A (en) * | 1978-05-03 | 1979-08-07 | International Business Machines Corporation | Twin channel Lorentz coupled depletion width modulation effect magnetic field sensor |
| JPS58220474A (ja) * | 1982-06-15 | 1983-12-22 | インタ−ナシヨナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−シヨン | 磁気感応ダイオ−ド |
| DE3370875D1 (en) * | 1982-07-26 | 1987-05-14 | Landis & Gyr Ag | Magnetic field sensor and the use thereof |
| CH668146A5 (de) * | 1985-05-22 | 1988-11-30 | Landis & Gyr Ag | Einrichtung mit einem hallelement in integrierter halbleitertechnologie. |
| US4939563A (en) * | 1989-08-18 | 1990-07-03 | Ibm Corporation | Double carrier deflection high sensitivity magnetic sensor |
-
1989
- 1989-06-08 JP JP1144025A patent/JPH0311669A/ja active Pending
-
1990
- 1990-06-08 EP EP19900401580 patent/EP0402271A3/en not_active Ceased
-
1991
- 1991-05-07 US US07/700,352 patent/US5099298A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2358537A (en) * | 1998-08-21 | 2001-07-25 | Furuno Electric Co | Radar device similar device and received data write method |
| GB2358537B (en) * | 1998-08-21 | 2003-09-17 | Furuno Electric Co | Radar, sonar and other data processing apparatus, and a method of processing data received therein |
| US6577476B1 (en) | 2002-03-28 | 2003-06-10 | International Business Machines Corporation | Flux guide structure for a spin valve transistor which includes a slider body semiconductor layer |
| CN111175675A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 电子科技大学 | 一种基于有机场效应管的磁场传感器及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5099298A (en) | 1992-03-24 |
| EP0402271A3 (en) | 1991-12-11 |
| EP0402271A2 (en) | 1990-12-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5530345A (en) | An integrated hall•effect apparatus for detecting the position of a magnetic element | |
| US5528067A (en) | Magnetic field detection | |
| US4801883A (en) | Integrated-circuit one-way isolation coupler incorporating one or several carrier-domain magnetometers | |
| EP2436054B1 (en) | Vertical hall effect sensor with current focus | |
| CN107356885B (zh) | 一种单片集成二维磁场传感器及其制作工艺 | |
| JP4417107B2 (ja) | 磁気センサ | |
| CN102313563A (zh) | 霍尔传感器 | |
| US4100563A (en) | Semiconductor magnetic transducers | |
| JPH0311669A (ja) | 磁気トランジスタ | |
| CN105810815A (zh) | 霍尔元件 | |
| EP2681574B1 (en) | Magnetic sensors | |
| JPH0311679A (ja) | ホールデバイス | |
| RU2284612C2 (ru) | Полупроводниковый магнитный преобразователь | |
| RU2239916C1 (ru) | Полупроводниковый прибор, чувствительный к магнитному полю | |
| EP0846340A1 (en) | Switched magnetic field sensitive field effect transistor device | |
| US7002229B2 (en) | Self aligned Hall with field plate | |
| JP2827397B2 (ja) | 半導体光位置検出装置 | |
| CN207037051U (zh) | 一种单片集成二维磁场传感器 | |
| Nagy et al. | 3D magnetic-field sensor using only a pair of terminals | |
| RU2122258C1 (ru) | Сенсор вектора магнитного поля | |
| JPH0311678A (ja) | ラテラルホール素子 | |
| JPH0232795B2 (ja) | ||
| JPH0439973A (ja) | 半導体磁気センサ | |
| KR940008231B1 (ko) | 드레인 분리형 자기감지소자 | |
| KR100217436B1 (ko) | 홀소자의 특성개선을 위한 온칩 기준홀소자 |