JPH03120395A - 酸化ビスマスのコーティング法 - Google Patents
酸化ビスマスのコーティング法Info
- Publication number
- JPH03120395A JPH03120395A JP25527689A JP25527689A JPH03120395A JP H03120395 A JPH03120395 A JP H03120395A JP 25527689 A JP25527689 A JP 25527689A JP 25527689 A JP25527689 A JP 25527689A JP H03120395 A JPH03120395 A JP H03120395A
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- JP
- Japan
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- bismuth oxide
- solvent
- ketone
- film
- oxide powder
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D13/00—Electrophoretic coating characterised by the process
- C25D13/02—Electrophoretic coating characterised by the process with inorganic material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
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- Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、″電気泳動法による酸化ビスマスのコーティ
ング法に関する。
ング法に関する。
酸化物粉末の一般的なコーティング法として。
従来、スプレー法や電気泳動法が知られている。
ところが、酸化ビスマス粉末については適当な溶媒が選
択されない等の理由から、ａ気泳動法は実施されておら
ず、専らスプレー法によるコーティングが行われている
。
択されない等の理由から、ａ気泳動法は実施されておら
ず、専らスプレー法によるコーティングが行われている
。
スプレー法は操作が箭単であるが、被膜を均一に形成す
るのが困難である。またスプレー内の液中で酸化ビスマ
ス粉末の良好な分散を維持する必要があり、不均一な分
散のため暫々ノズルの詰まりを生じるなどの問題がある
。
るのが困難である。またスプレー内の液中で酸化ビスマ
ス粉末の良好な分散を維持する必要があり、不均一な分
散のため暫々ノズルの詰まりを生じるなどの問題がある
。
本発明者等は、ケトン類を溶媒として用いることにより
、電気泳動法によって酸化ビスマスを好適にコーティン
グできることを見出した。
、電気泳動法によって酸化ビスマスを好適にコーティン
グできることを見出した。
本発明は上記知見に基づくものであり、本発明によれば
、ケトン順番溶媒とし、該溶媒に酸化ビスマス粉末を懸
濁させ、該懸濁液中に設けた電極に通電し、陰極端子を
設けた基板表面に酸化ビスマスを電着させて被膜を形成
する方法が提供される。
、ケトン順番溶媒とし、該溶媒に酸化ビスマス粉末を懸
濁させ、該懸濁液中に設けた電極に通電し、陰極端子を
設けた基板表面に酸化ビスマスを電着させて被膜を形成
する方法が提供される。
電気泳動法において用いられる溶媒は、コーティングす
る粉体を均一に分散させ且つその分散を持続できること
が必要である。溶媒として従来−般に用いられているベ
ンゼン、トルエン、キシレン、トリクロルエチレン、ア
ルコール類を酸化ビスマスの溶媒として用いると、粉体
の分散性１分散の持続性に劣り、且つ被膜の付着力が弱
く良好な被膜を形成することが出来ない。分散性が悪い
と被膜の形成が困難であり、また分散の持続性が悪いと
、溶媒液面から離れた部分はど被膜が厚く、被膜の膜厚
が不均一になる。
る粉体を均一に分散させ且つその分散を持続できること
が必要である。溶媒として従来−般に用いられているベ
ンゼン、トルエン、キシレン、トリクロルエチレン、ア
ルコール類を酸化ビスマスの溶媒として用いると、粉体
の分散性１分散の持続性に劣り、且つ被膜の付着力が弱
く良好な被膜を形成することが出来ない。分散性が悪い
と被膜の形成が困難であり、また分散の持続性が悪いと
、溶媒液面から離れた部分はど被膜が厚く、被膜の膜厚
が不均一になる。
本発明において１分散溶媒としてケトン類が用いられる
。具体的な例を挙げれば、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、メ
チル１−ブチルケトン（ヘキサノン−２）、エチル−〇
−プロピルケトン（ヘキサノン−３）、メチル−ｔ−ブ
チルケトン（ビナコロン）、ジ−ｎ−プロピルケトン、
ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等があ
る。これらのケトン類の中で、アセトン、メチルイソブ
チルケトン、メチルエチルケトン等が好適に用いられる
。アセトンは被膜基板を溶媒から取り出す際に溶媒の流
れ落ちによる膜厚の不均一を生じることがない、更にア
セトンは印加電圧によって分解し難いので良好な電場が
形成される。此の結果、良好な膜質を得ることかできる
。アセトンは他のケトン類に比べて印加電圧に対する安
定性が最も高いが、被膜の付着性がやや弱い。他方、メ
チルイソブチルケトン、メチルエチルケトンはアセトン
よりも被膜の付着性が良い。
。具体的な例を挙げれば、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチル−ｎ−プロピルケトン、ジエチルケトン、メ
チル１−ブチルケトン（ヘキサノン−２）、エチル−〇
−プロピルケトン（ヘキサノン−３）、メチル−ｔ−ブ
チルケトン（ビナコロン）、ジ−ｎ−プロピルケトン、
ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等があ
る。これらのケトン類の中で、アセトン、メチルイソブ
チルケトン、メチルエチルケトン等が好適に用いられる
。アセトンは被膜基板を溶媒から取り出す際に溶媒の流
れ落ちによる膜厚の不均一を生じることがない、更にア
セトンは印加電圧によって分解し難いので良好な電場が
形成される。此の結果、良好な膜質を得ることかできる
。アセトンは他のケトン類に比べて印加電圧に対する安
定性が最も高いが、被膜の付着性がやや弱い。他方、メ
チルイソブチルケトン、メチルエチルケトンはアセトン
よりも被膜の付着性が良い。
酸化ビスマス粉体は上記ケトン類の溶媒に良好に分散し
かつ分散状態が長時間維持され、これにより膜厚が均一
で表面が平滑な被膜を得ることができる。
かつ分散状態が長時間維持され、これにより膜厚が均一
で表面が平滑な被膜を得ることができる。
電気泳動の際、上記溶媒は電極界面の電位勾配によって
被膜内部からはじき出されるので、膜質の品位が高く且
つ被膜の乾燥が早い。
被膜内部からはじき出されるので、膜質の品位が高く且
つ被膜の乾燥が早い。
被膜を形成する陰極基板として、（１）白金、ステンレ
ス等の通常の金属板、（２）複合金属酸化物ペレット、
例えばＬａ−５ｒ−Ｃｏ系酸化物ペレット、（３）ジル
コニア等の絶縁体ペレットを用いることができる。複合
金属酸化物ペレットや絶縁体ペレットを用いる場合には
、該基板表面に少なくとも２個以上の＠極端子を設ける
。此れら基板の相対向する両側端に夫々陰極端子を設け
ることにより、絶縁性基板についても基板表面全体に均
一に被膜が形成される。
ス等の通常の金属板、（２）複合金属酸化物ペレット、
例えばＬａ−５ｒ−Ｃｏ系酸化物ペレット、（３）ジル
コニア等の絶縁体ペレットを用いることができる。複合
金属酸化物ペレットや絶縁体ペレットを用いる場合には
、該基板表面に少なくとも２個以上の＠極端子を設ける
。此れら基板の相対向する両側端に夫々陰極端子を設け
ることにより、絶縁性基板についても基板表面全体に均
一に被膜が形成される。
被膜の膜質、膜厚は印加電圧、酸化ビスマス粉体の懸濁
量１通電時間、セルの電気抵抗等によって変化する。従
ってこれらの条件を調整することにより、種々の膜質及
び膜厚の被膜を形成することができる。
量１通電時間、セルの電気抵抗等によって変化する。従
ってこれらの条件を調整することにより、種々の膜質及
び膜厚の被膜を形成することができる。
本発明の方法によれば、酸化ビスマス粉体が均一に分散
され、分散状態も長時間安定であり、従って、膜厚が均
一で表面が平滑な亀裂のない固体電解質被膜を形成する
ことができる。
され、分散状態も長時間安定であり、従って、膜厚が均
一で表面が平滑な亀裂のない固体電解質被膜を形成する
ことができる。
また、本発明は金属酸化物等の絶縁性基板にも被膜を形
成することができるので、酸化ビスマス以卦の他の粉体
と共に電気泳動電着を繰り返すことにより、酸化ビスマ
スを含み、かつ組成の異なる金属酸化物被膜等を多層に
形成することができ。
成することができるので、酸化ビスマス以卦の他の粉体
と共に電気泳動電着を繰り返すことにより、酸化ビスマ
スを含み、かつ組成の異なる金属酸化物被膜等を多層に
形成することができ。
超イオン導電性固体電解質の厚膜を容易に形成すること
ができる。
ができる。
更に本発明の方法によれば、金属酸化物等の絶縁性基板
に被膜を形成できるので、固体電解質厚膜を用いた高温
型焼料電池の製造において、該電池の電極／１！解質／
電極の多層化膜の一貫生産を可能とする。この結果、高
出力の固体電解質厚膜を容易に且つ効率良く製造でき、
製造時間、コストの大幅な低減を達成できる。
に被膜を形成できるので、固体電解質厚膜を用いた高温
型焼料電池の製造において、該電池の電極／１！解質／
電極の多層化膜の一貫生産を可能とする。この結果、高
出力の固体電解質厚膜を容易に且つ効率良く製造でき、
製造時間、コストの大幅な低減を達成できる。
この他に１本発明は基板の材質を問わずに酸化ビスマス
の被膜を形成できるので１種々のセンサーや電子材料の
被膜を形成して多機能化することができる。更に１本発
明は基板の形状に拘束されないので、絶雑な形状の部材
に対しても被膜を形成することができる。
の被膜を形成できるので１種々のセンサーや電子材料の
被膜を形成して多機能化することができる。更に１本発
明は基板の形状に拘束されないので、絶雑な形状の部材
に対しても被膜を形成することができる。
〔実施例〕
以下に本発明の実施例を示す。
実施例１
第１図に示す装置を用いて本発明を実施した。
第１−図の装置において、電気泳動用セル１０は超音波
発生装［１１に収納されており、該セルＩＯの内部は溶
媒１３によって満たされている。該セル１０には溶媒に
浸漬された電極１５．１７が設けられており、該電極１
５．１７は電源１９、制御系２０に接続し、記録計２１
が詩けられている。電源１９及び制御系２０により電極
１５．１７に直流高電圧矩形波パルスを印加する。ｆｌ
ｉｌ晴着時測される電流変化を記録計２１に記録する。
発生装［１１に収納されており、該セルＩＯの内部は溶
媒１３によって満たされている。該セル１０には溶媒に
浸漬された電極１５．１７が設けられており、該電極１
５．１７は電源１９、制御系２０に接続し、記録計２１
が詩けられている。電源１９及び制御系２０により電極
１５．１７に直流高電圧矩形波パルスを印加する。ｆｌ
ｉｌ晴着時測される電流変化を記録計２１に記録する。
酸化ビスマス（Ｂｉ２０．） １ ｇをアセトン６０
＋Ｒに分散懸濁させ、 １０４Ｖの電圧で５秒通電した
結果、均一で良好な電着表面のＢｉ、Ｏ，被膜が得られ
た。このとき用いた基板は、両極とも金属鉄を用いた。
＋Ｒに分散懸濁させ、 １０４Ｖの電圧で５秒通電した
結果、均一で良好な電着表面のＢｉ、Ｏ，被膜が得られ
た。このとき用いた基板は、両極とも金属鉄を用いた。
実施例２
実施例１の同一の装置および方法により１通電時間を２
．５秒、１０秒と変化させた場合、何れも均一なかつ良
好な電着表面を有するＢｉ２Ｏ，被膜を得た。
．５秒、１０秒と変化させた場合、何れも均一なかつ良
好な電着表面を有するＢｉ２Ｏ，被膜を得た。
実施ｉｓ３
実施例１と同一の装置を用い、Ｂｉ２Ｏ，Ｉｇをジエチ
ルケトン６０ｄに分散懸濁させ、６００ｖの電圧を印加
して５秒間通電した結果、均一かつ平滑な電着表面のＦ
ｌｉ、Ｏ，被膜が得られた。
ルケトン６０ｄに分散懸濁させ、６００ｖの電圧を印加
して５秒間通電した結果、均一かつ平滑な電着表面のＦ
ｌｉ、Ｏ，被膜が得られた。
比較例
実施例１と同一の装置を用い、次の表に示すケトン類以
外の溶媒を使用して、表記の電圧および通電時間の条件
で表記の基板を陰極として電気泳動によるコーティング
を実施した結果、何れも電着が起らず、被膜を得ること
ができなかった。
外の溶媒を使用して、表記の電圧および通電時間の条件
で表記の基板を陰極として電気泳動によるコーティング
を実施した結果、何れも電着が起らず、被膜を得ること
ができなかった。
なお両極には実施例１と同様に金属鉄を用いた。
表
溶 媒
水＋アセトン（１：
シリコンオイル
メチルアルコール
エチルアルコール
ベンゼン
トルエン
ｐ−キシレン
トリクロルエチレン
拳トナートリキッド
ヘキサン
電 圧（Ｖ） 通電時間（秒）
１） ２５０ ５
６０６ ２．５
６０６ １０
１１５
５００ １０
６００ ２０
４００ ２０
３００ ２０
エ ３５０ ２０
４０４ ２０
図は電気泳動電着装置の概略図である。図面中、１０・
・・セル、１１・・・超音波発生装置、１３・・・溶媒
、１５、１７・・・電極、１９・・・電源、２０・・・
制御系２１・・・記録計。
・・セル、１１・・・超音波発生装置、１３・・・溶媒
、１５、１７・・・電極、１９・・・電源、２０・・・
制御系２１・・・記録計。
Claims (1)
- （１）ケトン類を溶媒とし、該溶媒に酸化ビスマス粉末
を懸濁させ、該懸濁液中に設けた電極に通電し、陰極端
子を設けた基板表面に酸化ビスマスを電着させて被膜を
形成する酸化ビスマスのコーティング法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25527689A JPH03120395A (ja) | 1989-10-02 | 1989-10-02 | 酸化ビスマスのコーティング法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25527689A JPH03120395A (ja) | 1989-10-02 | 1989-10-02 | 酸化ビスマスのコーティング法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03120395A true JPH03120395A (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=17276503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25527689A Pending JPH03120395A (ja) | 1989-10-02 | 1989-10-02 | 酸化ビスマスのコーティング法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03120395A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030033421A (ko) * | 2001-10-22 | 2003-05-01 | 주식회사 미래소재 | 초음파를 이용한 전기도금장치 및 그 방법 |
| KR100461717B1 (ko) * | 2001-12-19 | 2004-12-14 | 삼성전기주식회사 | 바렐 도금장치 및 그 도금방법 |
| JP2008291338A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | National Institute For Materials Science | セラミックス成形体の製造方法とこれに使用する電気泳動装置。 |
| WO2024055355A1 (zh) * | 2022-09-15 | 2024-03-21 | 广东省科学院测试分析研究所(中国广州分析测试中心) | 一种氧化铋薄膜制备方法及可重构光电逻辑门 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01159399A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-06-22 | Ciba Geigy Ag | 任意の形状の超伝導材料の製造方法 |
-
1989
- 1989-10-02 JP JP25527689A patent/JPH03120395A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01159399A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-06-22 | Ciba Geigy Ag | 任意の形状の超伝導材料の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20030033421A (ko) * | 2001-10-22 | 2003-05-01 | 주식회사 미래소재 | 초음파를 이용한 전기도금장치 및 그 방법 |
| KR100461717B1 (ko) * | 2001-12-19 | 2004-12-14 | 삼성전기주식회사 | 바렐 도금장치 및 그 도금방법 |
| JP2008291338A (ja) * | 2007-05-28 | 2008-12-04 | National Institute For Materials Science | セラミックス成形体の製造方法とこれに使用する電気泳動装置。 |
| WO2024055355A1 (zh) * | 2022-09-15 | 2024-03-21 | 广东省科学院测试分析研究所(中国广州分析测试中心) | 一种氧化铋薄膜制备方法及可重构光电逻辑门 |
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