JPH03120502A - カラーフィルタおよびその製造方法 - Google Patents
カラーフィルタおよびその製造方法Info
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- JPH03120502A JPH03120502A JP1259085A JP25908589A JPH03120502A JP H03120502 A JPH03120502 A JP H03120502A JP 1259085 A JP1259085 A JP 1259085A JP 25908589 A JP25908589 A JP 25908589A JP H03120502 A JPH03120502 A JP H03120502A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light shielding
- shielding parts
- parts
- resist
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- Pending
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- Liquid Crystal (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明はカラーフィルタおよびその製造方法に関し、例
えば液晶表示装置に用いることによりカラー表示を可能
とするカラーフィルタおよびその製造方法に関する。
えば液晶表示装置に用いることによりカラー表示を可能
とするカラーフィルタおよびその製造方法に関する。
［従来の技術］
カラー表示できる液晶表示装置の１種としてカラーフィ
ルタを用いるものがある。その代表的構造を第４図に示
す、１対のガラスの基板１１．１２間に封止部材１３を
用いて液晶１４を封入している。下側基板１２上には遮
光部（遮光膜＞１５が形成され、所定パターンの窓１６
を画定している。この窓１６上にカラー表示用染色層（
カラーフィルタ層）１７．１８．１９が作成されている
。
ルタを用いるものがある。その代表的構造を第４図に示
す、１対のガラスの基板１１．１２間に封止部材１３を
用いて液晶１４を封入している。下側基板１２上には遮
光部（遮光膜＞１５が形成され、所定パターンの窓１６
を画定している。この窓１６上にカラー表示用染色層（
カラーフィルタ層）１７．１８．１９が作成されている
。
たとえば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の染
色層であり、３つの染色層が１単位となって合成色を表
示する１画素を形成する。染色層１７．１８．１９の上
を有機系染色層保護膜２１が覆い、その上に下側基板１
２の全カラー表示用染色層１７．１８．１つに共通の電
極であるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）製の透明電ｆ！
２２が設けられ、パターニングされている。さらに、そ
の透明電極２２の上に表面保護膜２７が設けられている
。上側基板１１には薄膜トランジスタ２４を形成してい
る。
色層であり、３つの染色層が１単位となって合成色を表
示する１画素を形成する。染色層１７．１８．１９の上
を有機系染色層保護膜２１が覆い、その上に下側基板１
２の全カラー表示用染色層１７．１８．１つに共通の電
極であるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）製の透明電ｆ！
２２が設けられ、パターニングされている。さらに、そ
の透明電極２２の上に表面保護膜２７が設けられている
。上側基板１１には薄膜トランジスタ２４を形成してい
る。
遮光部１５はブラックマトリクスまたはブラックマスク
とも呼ばれ、不要な光が透過することを防止して、表示
コントラストを上げるためのものである。遮光部１５に
は、クロムＣｒ、モリブデンＭＯ、アルミニウムＡｊそ
の他の金属が用いられる。
とも呼ばれ、不要な光が透過することを防止して、表示
コントラストを上げるためのものである。遮光部１５に
は、クロムＣｒ、モリブデンＭＯ、アルミニウムＡｊそ
の他の金属が用いられる。
に、微細なパターンになればなる程、遮光部の占める面
積は増してくるので、その影響は大きくなる。
積は増してくるので、その影響は大きくなる。
本発明の目的は簡単な方法で作成でき遮光部の光反射が
少なく表示が見やすい液晶表示装置のカラーフィルタお
よびその製造方法を提供することである。
少なく表示が見やすい液晶表示装置のカラーフィルタお
よびその製造方法を提供することである。
［課題を解決するための手段］
透明性基板の表面上のブラックマトリクスとなる遮光部
を形成する部分を粗面化し、この粗面化した部分に遮光
部を形成する。その後、染色層を形成する。
を形成する部分を粗面化し、この粗面化した部分に遮光
部を形成する。その後、染色層を形成する。
［発明が解決しようとする課題］
遮光部１５を形成するＣｒ、Ｍｏ等の金属は反射率が大
きい、また、これらの材料を用いた遮光部は表示面の約
半分の面積を占めているため、全体としてガラス基板上
の金属の鏡面反射が大きくなり、明るい場所では表示が
見えにくくなる。特［作用］ 透明基板と遮光部との境界面を粗面化することにより、
その上に形成される遮光部のＣｒ等の金属を散乱面とし
て鏡面反射をなくし、表示を見え易くすることができる
。
きい、また、これらの材料を用いた遮光部は表示面の約
半分の面積を占めているため、全体としてガラス基板上
の金属の鏡面反射が大きくなり、明るい場所では表示が
見えにくくなる。特［作用］ 透明基板と遮光部との境界面を粗面化することにより、
その上に形成される遮光部のＣｒ等の金属を散乱面とし
て鏡面反射をなくし、表示を見え易くすることができる
。
［実施例］
第１図に本発明の１実施例によるカラーフィルタを示す
、ガラス基板１２上には遮光部１５が形成され、ガラス
基板１２と遮光部１５との境界面２６は粗面化されてい
る。遮光部１５は所定パターンの窓１６を画定し、この
窓１６上にカラー表示用染色層１７．１８．１９が作成
されている。
、ガラス基板１２上には遮光部１５が形成され、ガラス
基板１２と遮光部１５との境界面２６は粗面化されてい
る。遮光部１５は所定パターンの窓１６を画定し、この
窓１６上にカラー表示用染色層１７．１８．１９が作成
されている。
たとえば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の染
色層であり、３つの染色層が１単位となって合成色を表
示する１画素を形成する。染色層１７．１８．１９の上
を有機系染色層保護膜２１が覆い、その上に下側基板１
２の全カラー表示用染色Ｎ１１７．１８．１９に共通の
電極であるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）製の透明なｆ
！２２が設けられ、パターニングされている。さらに、
その上に保護膜２７が設けられている。このように構成
したカラーフィルタを下側に配置し、第４図と同様にし
て第２図の液晶表示装置が構成される。
色層であり、３つの染色層が１単位となって合成色を表
示する１画素を形成する。染色層１７．１８．１９の上
を有機系染色層保護膜２１が覆い、その上に下側基板１
２の全カラー表示用染色Ｎ１１７．１８．１９に共通の
電極であるインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）製の透明なｆ
！２２が設けられ、パターニングされている。さらに、
その上に保護膜２７が設けられている。このように構成
したカラーフィルタを下側に配置し、第４図と同様にし
て第２図の液晶表示装置が構成される。
このようなカラーフィルタは、たとえばだお３次（Ａ）
〜（Ｈ）に示される以下の手順で作製される。
〜（Ｈ）に示される以下の手順で作製される。
ガラス基板１２の表面で遮光部１５を形成する部分を粗
面化する。￥１面化する方法としては、次の方法がある
。
面化する。￥１面化する方法としては、次の方法がある
。
■第３図（Ａ）に示すように、フォトリングラフ工程を
用いて、非租面化部分をレジスト３１でパターニングし
て、覆う。
用いて、非租面化部分をレジスト３１でパターニングし
て、覆う。
■第３図（Ｂ）に示すように、レジスト３１で覆われて
いない部分２６を弗酸等の酸処理で溶解するか、または
サンドプラスターにより研磨粉等を吹き付けて粗面化す
る。
いない部分２６を弗酸等の酸処理で溶解するか、または
サンドプラスターにより研磨粉等を吹き付けて粗面化す
る。
■第３図（Ｃ）に示すように、レジストを除去し洗浄を
行う。
行う。
これ以降の第３図（Ｄ＞から（Ｈ）までの工程は従来技
術と同様である。すなわち第３図（Ｄ）に示すように、
スパッタリングによりＣｒ、Ｍ。
術と同様である。すなわち第３図（Ｄ）に示すように、
スパッタリングによりＣｒ、Ｍ。
等の金属薄膜を全面に形成し、フォトリングラフ工程に
より粗面化された部分（格子状）２６に遮光部１５を形
成する。ここで、金属薄膜１５は下面のみならず上面も
散乱面となる０次に、遮光部１５の窓部分１６に、第３
図（Ｅ）に示すように、フォトリングラフ工程を用いた
染色法などによりＲＧＢのカラー染色層１７．１８．１
９を形成する。第３図（Ｆ）に示すように、カラー染色
層１７．１８．１９を覆らて有機系のカラー染色層保護
層２１を全面にコートする。材料は、たとえばアクリル
系、シリコン系の樹脂である０次に第３図（Ｇ）に示す
ように、ＩＴＯ等の透明電極２２を保護［１２１上にス
パッタリング、蒸着などにより形成し、これをフォトリ
ソグラフ工程を用いてパターニングして、共通電極を形
成する。その上に第３図（Ｈ）に示すように、表面保護
層として８１０２ 膜を形成する０以上のようにして
、第１図のカラーフィルタの構造が得られる。
より粗面化された部分（格子状）２６に遮光部１５を形
成する。ここで、金属薄膜１５は下面のみならず上面も
散乱面となる０次に、遮光部１５の窓部分１６に、第３
図（Ｅ）に示すように、フォトリングラフ工程を用いた
染色法などによりＲＧＢのカラー染色層１７．１８．１
９を形成する。第３図（Ｆ）に示すように、カラー染色
層１７．１８．１９を覆らて有機系のカラー染色層保護
層２１を全面にコートする。材料は、たとえばアクリル
系、シリコン系の樹脂である０次に第３図（Ｇ）に示す
ように、ＩＴＯ等の透明電極２２を保護［１２１上にス
パッタリング、蒸着などにより形成し、これをフォトリ
ソグラフ工程を用いてパターニングして、共通電極を形
成する。その上に第３図（Ｈ）に示すように、表面保護
層として８１０２ 膜を形成する０以上のようにして
、第１図のカラーフィルタの構造が得られる。
［発明の効果］
遮光部（ブラックマトリクス）を有する液晶表示装置に
おいて、透明基板と遮光部との境界面を粗面化すること
により、遮光部ｗｐ散乱面として反射を低くし、表示を
見えやすくすることができる。
おいて、透明基板と遮光部との境界面を粗面化すること
により、遮光部ｗｐ散乱面として反射を低くし、表示を
見えやすくすることができる。
第１図は、本発明の１実施例によるカラーフィルタの断
面図、 第２図は、第１図のカラーフィルタを用いた液晶表示装
置の断面図、 第３図（Ａ）−（Ｈ）は、第１図のカラーフィルタの製
造プロセスを説明するための断面図、第４図は、従来技
術による液晶表示装置の断面図である。 符号の説明 １１．１２ 基板 １３ 封止部材 １４ 液晶 １５ 遮光膜 １６窓 １７．１８．１９ 染色層 １ ２ ４ ６ ７ 有機系保護膜 透明電極 ＰＴ 境界面 保１ｉＩＪＩＩ
面図、 第２図は、第１図のカラーフィルタを用いた液晶表示装
置の断面図、 第３図（Ａ）−（Ｈ）は、第１図のカラーフィルタの製
造プロセスを説明するための断面図、第４図は、従来技
術による液晶表示装置の断面図である。 符号の説明 １１．１２ 基板 １３ 封止部材 １４ 液晶 １５ 遮光膜 １６窓 １７．１８．１９ 染色層 １ ２ ４ ６ ７ 有機系保護膜 透明電極 ＰＴ 境界面 保１ｉＩＪＩＩ
Claims (2)
- （１）、透明基板と、該透明基板上に形成され、ブラッ
クマトリクスを構成する遮光部と、該透明基板上の、該
遮光部以外の部分に形成された染色層とを含み、該透明
基板の該遮光部との境界面が粗面化されていることを特
徴とするカラーフィルタ。 - （２）、透明基板の表面でブラックマトリクスとなる遮
光部を形成する部分を粗面化する工程と、該粗面化した
部分に遮光部を形成する工程と、該遮光部が形成されて
いない部分に染色層を形成する工程と を含むカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1259085A JPH03120502A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1259085A JPH03120502A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03120502A true JPH03120502A (ja) | 1991-05-22 |
Family
ID=17329111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1259085A Pending JPH03120502A (ja) | 1989-10-04 | 1989-10-04 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03120502A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0980476A (ja) * | 1995-09-12 | 1997-03-28 | Nec Corp | アクティブマトリックス基板とその製造方法 |
| KR100218724B1 (ko) * | 1996-10-30 | 1999-09-01 | 노승민 | 티에프티 엘씨디용 글라스의 자동 에칭장치 및 에칭방법 |
| KR100938666B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2010-01-25 | 이승헌 | 턱 전용 미용팩 |
| KR100938657B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2010-01-25 | 이승헌 | 턱과 목 전용 미용팩 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778003A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-15 | Toppan Printing Co Ltd | Color separation filter |
| JPH0224604A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルター |
-
1989
- 1989-10-04 JP JP1259085A patent/JPH03120502A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778003A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-15 | Toppan Printing Co Ltd | Color separation filter |
| JPH0224604A (ja) * | 1988-07-14 | 1990-01-26 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルター |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0980476A (ja) * | 1995-09-12 | 1997-03-28 | Nec Corp | アクティブマトリックス基板とその製造方法 |
| KR100218724B1 (ko) * | 1996-10-30 | 1999-09-01 | 노승민 | 티에프티 엘씨디용 글라스의 자동 에칭장치 및 에칭방법 |
| KR100938666B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2010-01-25 | 이승헌 | 턱 전용 미용팩 |
| KR100938657B1 (ko) * | 2007-10-16 | 2010-01-25 | 이승헌 | 턱과 목 전용 미용팩 |
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