JPH03123770A - アゼチジノン誘導体及びその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は成る種の２−アゼチジノン誘導体の新規な製造
法に関し、さらに詳しくは、下記式式中、Ｒ１は水酸基
の保護基を表わし、Ｚは水素原子又はアミノ基の保護基
を表わし、式中、Ｒ１及び２は前記定義のとおりであり
、Ｙ２はＯＲ”又はＳＲ’を表わし、ここでＲ３は水素
原子、カルボキシル基の保護基又ＣＨｔ　　ＣＯＹ　”
　ヲ表わし、ここでＸはハロゲン原子を表わし、Ｙはハ
ロゲン原子又はＯＲ’を表わし、Ｒ２は水素原子又はカ
ルボキシル基の保護基を表わし、Ｙ２はＯＲ３又はＳＲ
４を表わし、ここでＲ３は水素原子、カルボキシル基の
保護基又はエステル残基を表わし、Ｒ４はエステル残基
を表わす、 で示される２−アゼチジノン誘導体の製造方法に関する
。

上記式（Ａ）で示される化合物はイミペネムやＲ５−５
３３などの抗菌活性に優れたカルバペネム系抗生物質の
合成中間体として有用である。

従来、上記式（Ａ）で示される化合物の製造方法はいく
つか提案されているが（例えば、特開昭５６−１５００
５８号公報、特開昭６０−１８５７７８号公報等参照）
、従来の製造法は工程数が長い高価な反応剤を必要とし
反応操作が煩雑であるなどの欠点があり、いずれも工業
的に充分に満足できるものではなかった。

本発明は上記式（Ａ）で示される化合物の新規且つ有効
な製造法を提供するものであり、その方法を反応式で示
せば次のとおりである。

上記反応式ｌにおいて、Ｒ１は水酸基の保護基を表わし
、Ｚは水素原子又はアミノ基の保護基を表わし　Ｒ１１
はカルボキシル基の保護基を表わし、Ｘはハロゲン原子
を表わし、Ｙｌはハロゲン原子又はＯＲ”を表わし、こ
こでＲ２は水素原子又はカルボキシル基の保護基を表わ
し、Ｙ！ｌはＯＲ１１又はＳＲ’を表わし、ここでＲ３
１及びＲ４は各々エステル残基を表わし、ｙｉはＯＲ３
又はＳＲ’を表わし、ここで、Ｒ”は水素原子、カルボ
キシル基の保護基又はエステル残基を表わす。

本明細書において、「水酸基の保護基」は加水分解又は
水素添加分解によって離脱しうる通常の水酸基の保護基
であることができ、例えば、以下のものを例示すること
ができる。

（１）低級アルカノイル基：例えばアセチル、プロピオ
ニル、ブチリルなど。

（２）ハロ低級アルキル基；例えば、クロロアセチル、
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、ブロモアセチ
ル、ジクロロアセチルなど。

（３）アリル基；例えばアリル、２−メチルアリルなど
。

（４）置換もしくは未置換のベンジル基；例えハヘンジ
ル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−
メチルベンジル、ｐ−クロロベンジル、ｏ、ｐ−ジニト
ロベンジルなど。

（５）置換もしくは未置換のベンジルオキシカルボニル
基：例えばベンジルオキシカルボニル、ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、ｐ−クロロベンジルオキシカル
ボニルなど。

また、「アミノ基の保護基」はペプチド化学の分野にお
いてよく知られている任意のアミノ基の保護基であるこ
とができ、その代表的なものとしては次のものを例示す
ることができる。

（１）　　置換もしくは未置換フェニル基：例えば、４
−メトキシフェニル、２，４−ジメトキシフェニルなど
。

置換もしくは未置換アラルキル基；例えば、ベンジル、
ｐ−ニトロベンジル、ジアニシルメチル、２．４−ジメ
トキシベンジルなど。

さらに「カルボキシル基の保護基」は加水分解、水素添
加分解等により離脱しうる通常の任意のカルボキシル基
の保護基であることができ、例えば、次のものを代表例
として挙げることができる。

（１）低級アルキル基；例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなど。

置換もしくは未置換ベンジル；ベンジル、ｐ−メトキシ
ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−クロロベンジル、
ｐ−メチルベンジル％０１ｐ−ジニトロベンジルなど。

一方、「ハロゲン原子」にはフッ素、塩素、臭素及びヨ
ウ素原子の４種が包含され、また、「エステル残基」と
しては、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ｔｅｒｔ−ブチルなどのアルキル基；ヘンシル、ｐ−メ
トキシベンジル、ｐ−ニトロベンジル、ｐ−クロロベン
ジル、ｐ−メチルベンジル、０．ｐ−ジニトロベンジル
などの置換もしくは未置換のベンジル基；フェニル基等
を挙げることができる。

なお、本明細書において、「低級」なる語はこの語で修
飾された原子団又は化合物の炭素数が６個以下、好まし
くは４個以下であることを意味するものである。

以下、前記反応式ｌの各工程について順を追ってさらに
詳細に説明する。

［第１工程］ 本工程は、特開昭６３−１５６７８８号公報により既知
の式（Ｖ）の化合物を加水分解して式（Ｉ）の化合物に
導く工程である。

式（Ｖ）の化合物の加水分解は、酸、例えば酢酸、トリ
フルオロ酢酸などの有機酸；塩酸、硫酸、スルホン酸な
どの無機酸等を用い、水性媒体中で通常の条件下に行う
ことができる。

これにより、式（Ｖ）の化合物の４−位側鎖におけるジ
オールの保護基が離脱し、式（Ｉ）の化合物が得られる
。

［第２工程］ 第１工程で得られる式（１）の化合物は次いで酸化する
ことにより、式（ＩＩ−１）の化合物とする。

この酸化は、触媒の存在下に酸素含有ガスを用いて行な
う。用いうる酸素台をガスとしては、酸素ガスや空気又
は酸素ガスと不活性ガスとの混合物などが挙げられる。

また、触媒としては、例えば、白金活性炭素、白金黒等
を用いることができる。

酸化は通常、式（Ｉ）の化合物を水、緩衝液（例えば、
リン酸緩衝液）、アルコール類等の溶媒中に溶解ないし
分散させておき、約２０〜約１００°Ｃ１好ましくは約
７０〜約９０°Ｃの温度において酸素含有ガスを通気す
ることにより行なうことができる。その際の反応液のｐ
Ｈは約７．０〜約９゜０の範囲内の弱アルカリ性側に保
持しておくことが好ましく、そのために、例えば、炭酸
水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウムな
どの塩基性物質をｐＨｍ整のために添加することもでき
る。

上記酸化反応は通常常圧下に行なうことができるが、場
合によっては加圧下又は減圧下に行なうこともできる。

かくして得られる式（ｆ［−１）の化合物は、必要に応
じて、４−位側鎖のカルボキシル基を保護してもよい。

このカルボキシル基の保護は、その保護基の種類に応じ
それぞれの保護基に適したそれ自体既知の通常の方法で
行なうことができ、例えば、ジアゾメタン、ジアゾフェ
ニメタン等と反応させる方法；無水のジメチルホルムア
ミド中でトリエチルアミン存在下にヨウ化アルキル又は
ベンジルブロマイド等と反応させる方法；アルコールの
存在下に脱水縮合剤例えばジシクロへキシルカルボジイ
ミドを作用させる方法等Ｉこより、式（Ｈ−２）の化合
物が得られる。

［第３工程］ 本工程は、上記第２工程で得られる式（Ｉｆ−１）又は
（ｎ　−２）の化合物、すなわち下記式式中、Ｒ’、Ｒ
’及び２は前記定義のとおりである、 で示される化合物をハロゲン化して式（ｎＩ）の化合物
に導く工程である。

ハロゲン化は、式（ＩＩＩ）の化合物をハロゲン化剤と
反応させることにより行なうことができる。

ハロゲン化剤としては、アルコール性水酸基をハロゲン
原子と置換しうるものが使用でき、例えば、塩化チオニ
ル、臭化チオニル、五塩化リン、オキシ塩化リン、オギ
ザリルクロリド等が挙げられる。

該ハロゲン化は、通常、適当な溶媒中、例えば、トルエ
ン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジクロルメタン
、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素
類；酢酸エチルなどのエステル類等の中で、約−３０°
Ｃないし溶媒の還流温度、好ましくは約２０〜約７０℃
の範囲内の温度で行なうことができる。

ハロゲン化剤の使用量は厳密に制限されるものではない
が、式（Ｉｔ）の化合物１モルに対してハロゲン化剤は
一般に１−１０当量、好ましくは２〜５当量の範囲内で
用いるのが好都合である。

かくしてアゼチジノン環の４−位に隣接する炭素原子上
に導入されるハロゲン原子は、用いるハロゲン化剤の種
類に応じて、Ｓ−又はＲ−立体配置のいずれか又は両者
の混合物となる。

以上述べた如くして得られる式（ＩＩＩ）の化合物にお
いて、Ｙｌがハロゲン原子を表わす場合には、該化合物
を必要に応じて下記式 ％式％（） 式中、Ｙ”は前記定義のとおりである、で示されるアル
コール又はチオールと反応させることによりエステル化
して、式（■）の化合物に変えることもできる。

このエステル化は通常の方法で行なうとができ、例えば
適当な溶媒中、例えば、ベンゼン、トルエンなどの芳香
族炭化水素類；クロロホルム、ジクロルメタンなどのハ
ロゲン化炭化水素類；酢酸エチルなどのエステル類；ジ
エチルエーテル、テトラヒドロ７ラン（ＴＨＦ）などの
エーテル類ニジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）　、ピリ
ジン等の中で、約−３０℃ないし溶媒の還流温度、好ま
しくは約Ｏ〜約３０℃の温度において行なうことができ
る。

上記式（■）のアルコール又はチオールの使用量は特に
制限されないが、通常、式（ＩＩＩ）の化合物（Ｙ’−
ハロゲン原子）１モルに対して該アルコール又はチオー
ルを１−１００モル、好ましくは１〜１０モルの範囲内
で用いることができる。

［第４工程］ 本工程は、第３工程で得られる式１）又は（ＶＴ）の化
合物、すなわち下記式 ％式％ 式中、Ｙ３はＹｌ又はＹ２′を表わし、Ｒ’、Ｚ。

Ｘ、Ｙ’及びＹ”は前記定義のと、おりである、で示さ
れる化合物を脱ハロゲン化反応に付し、式（ＩＶ）の化
合物に変える工程である。

脱ハロゲン化は、式（■）の化合物を接触還元又は金属
と酸との還元としてＺｎ−酢酸系を用いて還元的にハロ
ゲン原子を離脱せしめることができる。上記還元的脱ハ
ロゲン化に通常用いられる溶媒としては例えば、酢酸又
は水、メタノール、エタノール、酢酸エチル、ジクロル
メタン、ＤＭＦ等の溶媒を単独で又はそれらの溶媒と酢
酸との混合溶媒が挙げられる。

特にＹ３がハロゲン原子を表わす場合の式（■）の化合
物の還元的脱ハロゲン化を水又はＲ”ＯＨもしくはＲ’
ＳＨで示されるアルコールもしくはチオールのような溶
媒中で実施すると、Ｙ２がハロゲン原子を表わす場合の
式（Ｉｔ／）の化合物が得られずに％Ｙ’が水酸基、Ｏ
Ｒ３′又はＯＲ’を表わす場合の式（ＩＶ）の化合物が
生成する。

また、Ｙ３がハロゲン原子を表わす場合の式（■）の化
合物を溶媒なしで還元的脱ハロゲン化する場合、中間的
に混合酸無水物が生成するので、これを水洗すると容易
に加水分解されて、Ｙ！が水酸基を表わす場合の式（Ｉ
Ｖ）の化合物が得られる。

式（■）の化合物の還元的脱ハロゲン化は、酢酸中に分
散させたＺｎ末を用い、通常的−３０〜５０℃、好まし
くは０〜２５℃の範囲内の温度で行なうことができる。

その際のＺｎ末の使用量はハロゲン化物に対しｌ−１０
０当量、好ましくは５〜８０当量の範囲とすることがで
きる。

以上の如くして得られる式（ＩＶ）の化合物はそれ自体
既知の方法、例えば、結晶化、クロマトグラフィー、抽
出、濾過等を適宜組合わせることにより、反応混合物か
ら分離し及び／又は精製することができる。

本発明の方法により製造される式（ＩＶ）の化合物は、
例えばカルバペネム系抗生物質の合成中間体として有用
である。例えば、ｙｔが水酸基である式（■）の化合物
は、アルカリ性加水分解又は水素添加分解により水酸基
の保護基（Ｒ’）を離脱せしめた後、Ｄ、Ｇ、ＭＥＬ　
Ｉ　ＬＬＯｌｌ、５ＨＩＮＫＡＩ、ｅｔａｌ　　Ｔ、Ｌ
、、２土、２７８３等の文献に記載の方法により下記式 で示されるカルバペネムに誘導することができる。

また、Ｙ２がＳ−フェニル基を表わす場合の式（ＩＶ）
の化合物は、特開昭５９−５１２８６号公報等の文献に
記載の方法により下記式 で示されるＲ５−５３３に誘導することができる。

前述した本発明の方法において、第３工程で得られる前
記式（■）の化合物、殊に下記式式中、Ｒ１＋は低級ア
ルカノイル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、
クロロアセチル基、ブロモアセチル基など）、ハロ低級
アルカノイル基（例えば、クロロアセチル基、トリクロ
ロアセチル基、ブロモアセチル基など）、アリル基、置
換もしくは未置換のベンジル基（例えば、ベンジル基、
ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基なト）
又は置換もしくは未置換のベンジルオキシカルボニル基
（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル基など）を表わし、ｘ＋は塩素
又は臭素原子を表わし　ｙ！１は塩素もしくは臭素原子
、ＯＲ３″又は−Ｓ−低級アルキルもしくは−Ｓ−フェ
ニル基を表わし、ここでＲ”は水素原子、低級アルキル
基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基など）又は置換もしくは未置換のベンジル基（例えば
、ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−メチルベン
ジル基、ｐ−クロロベンジル基など）を表わし、ｚ＋は
水素原子、置換もしくは未置換のフェニル基（例えば、
ｐ−メトキシフェニル基、ｏ＋ｐ−ジメトキシフェニル
基など）又は置換もしくは未置換のアラルキル基（例え
ば、ベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、シアニシルメ
チル基など）を表わす、 で示される化合物は、従来の文献に未載の新規な化合物
であり、その代表例を示せば次のとおりである。

次に実施例により本発明の方法をさらに具体的に説明す
る。

実施例１ α■。

化合物１　１００ｍｇ　（０，３０８５ｍｍｏｌ）をピ
リジンＱ、５ｍ＋２に溶かし水冷下に無水酢酸４３．７
μＱ　（０，４６２７ｍｍｏｆｆ）を滴下して室温にて
一晩撹拌した。反応液を氷水に注ぎ酢酸エチルで抽出し
た。有機層をＯ，ｌＮ塩酸で２回、飽和食塩水で２回洗
浄した後、無水硫酸ナトリウムで脱水した。

減圧下に濃縮乾固した後シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（Ｍｅｒｃｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエ
ン、■トルエン／ｉ［エチル−１０：ｌ、■７：１、■
５：１１■３：１１■２：１）にて精製し、表題化合物
を１０７．９ｍｇ（収率９６％）得ｔこ　。

白色針状結晶 融点　１１７〜１１９．５℃ Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩ２ｓ）；　ｌ　７３０ｃｍ−’（β−
ラクタムＣ−０） １７２５　ｃｍ−’（エステルＣ−０）１５１０ｃｍ−
’（ｐ−メトキシフェ ニル） ＮＭＲ（ＣＤＣ４ｓ）＃　（Ｐ　ＰＭ）：１．３３（３
Ｈ１ｓ、ＣＨｓ） １．４０（３Ｈ％　ｓ、Ｃ１，） １．４４（３■、ｄ、　　Ｊ−６，ＯＨｚ、　ＣＨ３）
１ ２−０５（３Ｈ，ｓ、ＣＣＨ３） ３．３１（３Ｈ，ｄｄ、　　Ｊ＝　１．５１．７．５Ｈ
ｚ、　ＣＭ−３）３．８１（３Ｈ，ｓ、ＯＣＨ，） ３．６７〜３．８７（１）１．ｍ、ＣＢ−６）４−０１
〜４．２０Ｃ２Ｈ，ｒｎ、Ｃｌ−６、ＣＨ−４）４．４
９（ＩＩ、ｄｔＳ　Ｊ＝３．９．７．５Ｈｚ、ＣＨ−５
）５．１２〜５．４２（１８，ｍ、Ｃｌ−７）実施例２ 化合物４　５２．８ｍｇ　（０，１４４２ｍｍｏｌ）を
酢酸−水（４：１）１ｍｆｆに溶解し４０’Ｃで２２時
間撹拌した。反応液にトルエンを加え減圧下に濃縮乾固
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍ
ｅｒｃｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■トル
エン／酢酸エチルー５：１１■３：１１■２：１１■Ｉ
：２、■ｌ：３）にて精製し、オイル状の表題化合物を
４３．４ｍｇ（収率９８％）得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＱｓ）；　１７４０ｃｍ−’（β−ラク
タムＣ−０） １５１０ｃｍ−’（ｐ　−メ）　キシ７ｘニル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱｓ）δ（Ｐ　Ｐ　Ｍ）　：１．
４０（３Ｈ１ｄ、　　Ｊ＝６．０Ｈｚ、　ＣＨｓ）１ ２．０２（３Ｈ，ｓ、　　ＣＣＨ３） ２．７６（１８，ｂｔ、　　Ｊ６Ｈｚ、　０Ｈ−５）３
．１０（ＬＨ，ｂｄ、　　Ｊ−４，５Ｈｚ、　０Ｈ−６
）３．４８（１８％ｄｄ、　　Ｊ＝１．５Ｈｚ、　７．
５Ｈｚ、　ＣＨ−３）３．８０（３８１ｓ、０ＣＨｓ） ３．５３〜３−７３Ｃ２Ｈ，ｍＳ　ＣＨｔ−６）４．０
５（ＩＨ，ｔ、Ｊ−１，５Ｈｚ、ＣＨ４−１３〜４．３
３（ＩＨ，ｍ、ＣＨ−７）５．２７（ＩＨ，ｍ、　　（
ｊ（−５）４） 実施例３ 化合物１　２．０ｇ（６，２２３ｍｍｏｌ）を無水りへ
一＾ ＭＦ４０ｍ１２に溶解し、氷冷下にＮａＨ２８０ｍｇ　
（７、Ｑ　Ｑ　ｍｍｏｆｆ）を加え５分間撹拌後ベンジ
ルブロマイド１．１２ｍ２（９，７１ｍＱ）を滴下した
。室温で一晩撹拌後、酢酸エチル２００ｍ１２を加え、
１５％食塩水１００　ｍＱ、飽和食塩水５ＱｍＱで洗浄
後、無水硫酸ナトリウムで脱水し減圧下に濃縮乾固した
。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍｅｒｃ
ｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■トルエン／
酢酸エチルー１ｏ：ｌ）にて精製し、表題の化合物が２
．４６ｇ（収率９６．１％）得られた。

白色結晶 融点：１０９〜ｌｌｌ’０ ＩＲ（ＣＨＣα＝）；　ｌ　７３５ｃｍ−’（β−ラク
タムＣ−０） １５１０ｃｍ−’（ｐ−／　トキシ７工二ル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱｓ）δ（ＰＰＭ）：ｌ・３１（
３Ｈ・・・戻×ＣＨ・） １．３９（３Ｈ％５１Ｈ３ＣＸ％） １．４０（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ、ＣＨｘ）３．２
２（ＩＨ，ｄａ、Ｊ−２，２，７，２Ｈｚ％　ＣＨ−３
）３．８０（３Ｈ，ｓ、ＯＣＲ，） ３．８〜４．２（４Ｈ，ｍ、　ＣＨ−４、Ｃｌ−７、ｃ
ｕｔ−６）４．４〜４．７（３）１％ｍ、０隻、ＣＨ−
５）実施例４ ルー２−アゼチジノン４の合成 化合物２２−４ｇ（５−８３２ｍｍｏｌ）を酢酸−水（
４：　１）　１３０ｍ１に溶解し、４０°Ｃで１４時間
撹拌した。反応液を減圧下に濃縮乾固し残渣をシルカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ＭｅｒｃｋＡｒｔ７７３
４　　■トルエン、■トルエン：酢酸エチルー３　：　
１．■トルエン：酢酸エチル罵ｌ：１）にて精製し、表
題化合物が２．１ｇ（収率９６゜９％）得られた。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ（ｉｓ）；　ｌ　７３０ｃｍ−’（β−
ラクタムＣ−０） １５１０　ｃｍ−’（ｐ−メトキシフェニル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃｌ２ｓ）δ（ＰＰＭ）：１．４０
（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．ＯＨｚ、ＣＨＩ）２．８５（ＩＨ
，ｂｄ、　　Ｊ＝５．０Ｈｚ、　０Ｈ−５）３．０８（
１８，ｂｔ、　Ｊ＝７．０Ｈｚ、　０Ｈ−６）３．４２
（２Ｈ，ｄｄ、　Ｊ−２，０，９，１Ｈｚ、　ＣＨ−３
）３．６０（２Ｈ，ｍ、　　ＣＨｚ−６）３．８０（３
Ｈ，５１０ＣＨｓ） ３．８５〜４．２０（３ＨＳｍ、　ＣＨ−４、Ｃｌ−５
、ＣＨ−７）４−５６（２Ｈ，ＡＢｑ、◎縄） 実施例５ １　５　１　０ｃｍ−’ ＮＭＲ（ＣＤ、ＯＤ）＆（Ｐ　ＰＭ）：１．２１（３Ｈ
，ｄ、　　Ｊ　＝　６．２Ｈ２，ＣＨり３．４４（ＩＨ
，ｄｄ、　　Ｊ−２，０Ｈｚ、　　３．８Ｈｚ、　　Ｃ
ｌ−３）３．７６（３Ｈ，ｓ、０ＣＨ３） ３．９５（ＩＨ，ｍ、　　Ｃｌ−７） ４．４〜４．６（３Ｈ，ｍ、　ＣＨ−４、◎縄）４．７
３（ＩＨ，ｄ１Ｊ＝２．０Ｈｚ、　　ＣＨ−５）実施例
６ α１゜ ＯＣＲ。

化合物４　１．０ｇ（２，６９２ｍｍｏｌ）をイソプ＾
−） ロピルアルコール２０＋ｎＩ２に溶解し、ｐＨ８，０の
０゜１ＭＰＨ５バツフア一４０ｍＱを加え、さらに１０
％Ｐｔ−Ｃ６７０ｍｇを加えて８０〜８５℃で撹拌しな
がら空気を吹き込んだ。

１４時間反応後、反応液を冷却しセライト濾過し、０．
１ＭＰＢＳで撹拌した。濾液と洗液を１つにしジクロル
メタンで洗浄後、水層をＩＮＨｃＱでｐＨ２，５に調整
し、ジクロルメタン１００　ｒｎＱ。

５０ｍｆｆで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後無
水硫酸ナトリウムで脱水し減圧下に濃縮乾固して表題化
合物を８３０ｍｇ（収率８０％）得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ１２ｓ）；　ｌ　７３０ｃｍ−’（β−
ラクタムＣ−０） ＯＣＲ。

化合物６　４３８ｍｇ（１，１３６ｍｍｏｌ）を無水り
Ｑへ Ｄ　Ｍ　Ｆ　７　ｍＱ＋：溶解し、水冷下にＴＥＡｏ、
４７５ｍＱ　（３ｅｑ）とベンジルブロマイド０．２’
７＋ａ（２ｅｑ）を加え室温で一晩撹拌した。反応液に
酢酸エチル１５０ｍＱを加え、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下に濃縮乾固した。

残渣をシリカゲルカムラクロマトグラフイー（Ｍｅｒｃ
ｋ　Ａｒｔ　７７３４■トルエン、■トルエン／酢酸エ
チル＝１０：１．■トルエン／酢酸エチル＝５：ｌ）に
て精製し、表題化合物を４３Ｏｎ＋ｇ（収率７９．６％
）得た。

ｔ　Ｒ（ＣＨＣＱｓ）　；　ｌ　７３０ｃｍ−’（β−
ラクタムＣ−０） １５１０　ｃｍ−’（ｐ−）トキシフェニル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＬ）δ（ＰＰＭ）：１．１７（３
ＨＳｄ、　　Ｊ−６，１Ｈｚ、　　ＣＨｓ）３．３８（
２Ｈ，ｍ、　　０Ｈ−５、ＣＨ−３）３．７７（３Ｈ，
ｓ、　　０ＣＨ３） ３．９（ＬＨ，ｍ、ＣＨ−７） ４．３５〜４．６（３Ｈ，ｍ、　ＣＨ−４、◎縄）４．
７（ＩＨＳｄｄ％　Ｊ−２，４，５，０Ｈｚ％　ＣＨ−
５）５．０（２Ｈ，ＡＢｔｙｐｅ　ｑ、◎ＣＨ，）（３
Ｓ、４　Ｓ） ３− ０ＣＲ。

［（１ Ｒ） ■ 一ベンジル 実施例７ 化合物７　１０２ｍｇ（０，２１４５ｍｍｏｌ）をビへ
Ｊヘ リジン２ｍＱに溶解し、水冷下に塩化チオニル５０ｐＱ
　（０，６８５４ｍｍｏｌ）を加え室温で一晩撹拌した
。反応液を氷水２ＱｍＱを注ぎ込み酢酸エチル７５ｍ１
２で抽出した。抽出液を０．５ＮＨ（ｄｉ　　５０ｍ１
２で洗浄し、さらに飽和食塩水、飽和Ｎ　ａＨＣＯｓ水
、飽和食塩水でそれぞれ洗浄した。有機層を無水Ｎａ２
５Ｏａで脱水し、減圧下に濃縮乾固した。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍｅｒｃ
ｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■トルエン／
酢酸エチル＝５：２）にて精製し、表題化合物を９２．
５＋ｎｇ得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＤＣＩ２３）ｉ　１７５０ｃｍ−’（β−ラ
クタムＣ＝Ｏ） １５１０　ｃｍ−’（ｐ−メトキシフェニル） ＮＭＲ（ＣＤＣＩ２３）δ（ＰＰＭ）：１．３７（３Ｈ
％　ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、ＣＨｓ）３．４７（ＩＨ，ｄ
ｄＳ　Ｊ−２，１，５，１Ｈｚ。

３．７７（３Ｈ，ｓ％　ＯＣＲ，） ４．０（ＬＨ，ｍ、ＣＨ−７） ４．３〜４．６（３Ｈ，ｍ。

ＣＨ−４、◎淡） ＣＨ ３） ４．７８（ＩＨ，ｄ、Ｊ−４，４Ｈｚ。

５．０７（２Ｈ，ｓ、◎馬） 実施例８ ＯＣＨ。

ＣＨ−５） ニル） 化合物８　８９ｍｇ　（０，１８０２ｍｍｏｌ）を酢酸
５ｍＱに溶解し、亜鉛８９０ｍｇを加え室温で３．５時
間撹拌した。

反応液を酢酸エチル５０ｍ（２で希釈しセライト濾過し
た。濾液を５％ＮａＣ０，水、飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナリトウムで脱水後、減圧下に濃縮乾固した。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍｅｒｃ
ｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■トルエン：
酢酸エチル＝１０：１）にて精製し表題化合物を７３．
２ｍｇ（収率８８．４％）得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩ２３）；　１７３０ｃｍ−’（β−ラ
クタムＣ−０） １５１０　ａｍ−’（ｐ−メトキシフエＮ　Ｍ　Ｒ（Ｃ
Ｄ　Ｃ１２ｓ）δ（ＰＰＭ）：１．２９（３Ｈ，ｄ、　
　Ｊ＝　６−ＩＨｚＳＣＨ３）２．５〜３．１（２Ｈ，
ｍ５ＣＨｚ−５）３．２（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝２．４
．６．１Ｈｚ、　ＣＨ−３）３．８０（３Ｈ，ｓ、　　
０ＣＨｓ） ３．８〜４．１（ＬＨ，ｍ５ＣＨ−７）４．３〜４．７
（３Ｈ，ｍ５ＣＨ−４、◎虫）５．０６（２Ｈ，ｓ、◎
ＣＨ，） 実施例９ ＯＣＲ。

叩 化合物９　３７０ｍｇ　（０，８０５２ｍｍｏｌ）をエ
タノール２ＱｍＱに溶解し、酢酸０．９２５ｍＭとｌＯ
％パラジウム炭素３７０ｍｇを加え４．５気圧の水素加
圧下２４時間振とうした。触媒をセライトで濾過し、エ
タノールで充分洗浄した。濾液と洗液を合わせ濃縮乾固
した。

残渣を０．ＩＮ水酸化ナトリウム水溶液１５０ｍＱに溶
解しジクロルメタン１５０ｍ１２．　１００ｍ１２で洗
浄した。水層をＩＮ塩酸でｐＨ２，５に調製し、酢酸エ
チル２００ｍｆｆ、　　ｌ　００ｍＱで抽出した。有機
層を飽和食塩水５０ｍ（２で洗浄後、無水硫酸すｌ−Ｉ
Ｊウムで脱水し、減圧下に濃縮乾固して表題化合物を１
８８ｍｇ（収率８８．０％）得た。

白色結晶 融点１４５〜１４８°Ｃ Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ（ｈ）；　１７２０ｃｍ−’（β−ラク
タムＣ−〇） １６８０　ｃｍ−’（カルボン酸 Ｃ＝０） １５１０　ｃｍ−’（ｐ−メトキシフェニル） ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、）δ（ＰＰＭ）： １．３０（３Ｈ，ｄＳ　Ｊ−６，６ＨｚＳ　ＣＨｓ）２
．６−３．１（２ＨＳ　ｍｌ　ＣＨ２−５）３．１５（
ＩＨ，ｄｄ、　Ｊ−２，２，５，９Ｈｚ、　ＣＨ−３）
３．７７（３Ｈ，ｓ、０ＣＨ３） ４．１（ＩＨ，ｍ、ＣＨ−７） ４．４（１Ｂ。

実施例１ 化合物ＪＪ４　９８ｍｇ　（０，３６９４ｍｍｏＬ）を
無水ＴＨＦ３ｍｆｆｉに溶解しカルボニルジイミダゾー
ル６ＣＲ３ ６ｍｇ　Ｃｏ、４０７ｍｍｏｌ）を加え１時間室温ニテ
撹拌した。その後、マグネシウムｐ−ニトロベンジルマ
ロネート２９６ｍｇ（０，５９１２ｍｍｏｌ）を加え室
温でさらに２０時間撹拌した。

反応液を酢酸エチル３０ｍ１２で希釈し、０．５Ｎ塩酸
、飽和食塩水、飽和Ｎ　ａＨＣＯｓ水、飽和食塩水で順
次洗浄した。

有機層を無水硫酸ナリトウムで脱水後、減圧下に濃縮乾
固した。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍｅｃｋ
　　Ａｒｔ　　７７３４、トルエン／アセトン−５：ｌ
溶出）で精製して表題化合物を７７ｍｇ（収率４５．７
％）得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ（２ｓ）；　ｌ　７３５ｃｍ−’（β−
ラクタムＣ−０） １５１０ｃｍ−’（ｐ−）　トキシフェニル） １３４０ｃｍ＋−’（−−）　口） ＮＭＲ（ＣＤＣ１２ｓ）δ（ＰＰＭ）：１．３３（３Ｈ
，ｄ、　Ｊ−６，２Ｈｚ、　ＣＩ、）−３，０−（３Ｈ
，ｍ、　ＣＨ，−５、ＣＨ−３）３．６（２Ｈ，ｓ、　
ＣＨ２−７） ３．８（３Ｈ，ｓ、　０ＣＨ３） ４−０〜４．５（２Ｂ％ｍ、　ＣＨ−４、ＣＨ−９）５
．２７（２Ｂ、　ｓ、　Ｎｏ、◎玉）（３Ｓ、４Ｒ） ３　− ゼチノン１２の合成 ■０ ｃｏｓ ［（１ Ｒ） ■−ヒドロキ ７．５３（２Ｈ１ｄ、　Ｊ　＝　９．０Ｈｚ、　ｏ−Ｎ
ｏ、　）８．２５（２ＨＳｄ、　Ｊ−９，０Ｈｚ、　伽
ｏ、　）実施例１１ 化合物Ｊ、ｌ、　　２４ｍｇ（０，０５２６ｍ＋＋＋ｏ
ｌ）をアセトニトリル２ｍ（ｌに溶解し、−５°Ｃでセ
リツクアンモニウムナイトレート（ＣＡＭ）５７．６ｍ
ｇ（０゜１０５　ｍｍｏｌ）を水ＬｍＱに溶解したもの
を滴下した。

滴下後−５°Ｃで１時間撹拌し、酢酸エチル４０ｍＱと
飽和Ｎａ０ＨＣＯ，水２０＋ｎＱを加え、抽出した。

水層は少量の酢酸エチルで抽出し、先の有機層と合わせ
た。有機層を５％チオ硫酸ナトリウム水、飽和Ｎ　ａ　
ＨＣＯｓ水、飽和食塩水で順次洗った。無水硫酸ナトリ
ウムで脱水後、減圧下に濃縮乾固した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（Ｍｅｒｃｋ　　Ａｒｔ　
　７７３４のトルエン／酢酸エチル−１：１、■トルエ
ン／アセトンー２：ｌ、■トルエン／アセトン−１：ｌ
、■トルエン／アセトン＝ｌ：３）にて精製して表題化
合物を１２ｍｇ（収率６５％）得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＬ）；　ｌ　７５０ｃｍ−’（β−ラク
タムＣ−０） １７０５ｃｍ−’（Ｃ−０） １５０５．１３４０ｃｍ−’ にトロ） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃｆｆ３）δ（ＰＰＭ）：１．３（
３Ｈ，ｄ％　Ｊ−６，２Ｈｚ％　ＣＨｓ）２．７〜３．
１（３Ｈ，ｍ、ＣＨｚ−５、ＣＨ−３）３．６０（２Ｈ
，ｓ、ＣＴｏ−７） ３．８〜４．３（２Ｈ，Ｉｌｘ　　ＣＨ−４、ＣＨ−９
）５．３（２Ｈ，ｓ、　Ｎｏ！◎到） ６．１（ＩＨ，ｂｓ、　　ＮＨ） ？、５３（２Ｈ，ｄ、　Ｊ　−９，０Ｈｚ、　）ＮＯ，
）８−３（２Ｈ１ｄＳＪ　−９−０ＨｚＳ＠ＹＮｏｔ　
）実施例１２ ３．９〜４．２（ＩＬ　ｍ、　ＣＨ−７）４．４〜４．
９（３Ｈ，ｍ、　ＣＨ−４、◎淡）５．０（１■、ｄ、
　　Ｊ−３Ｈｚ、　ＣＨ−５）化合物６　１００ｍｇ（
０−２５９５ｍｍｏｌ）を無水トルエン２ｍ１２に懸濁
し、塩化チオニル１３０μＱ　（１，７８２ｍｍｏｌ）
と無水ＤＭＦ　ｌ　９．６μａ（０゜２５３　ｍｍｏｌ
）を加え７０℃で１時間撹拌した。

反応液を減圧下に濃縮乾固して表題化合物を得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＬ）；　ｌ　７５０ｃｎ＋−’（β−ラ
クタムＣ−０） １５１ＯＣＩ＋−１（ｐ−メトキシフェニル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱｓ）δ（ＰＰＭ）：１．３８（
３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，３Ｈｚ、ＣＨｓ）３．４（ＩＨ，ｄ
ｄ、Ｊ−２，０，５，０Ｈｚ。

３−８（３Ｈ，ｓ、ＯＣＨ，） ＣＨ−３） ぴ ＯＣＲ。

ニル） 上記実施例で得た化合物を酢酸４ｍｆｆに溶解し亜鉛末
５００ｍｇを加え室温で一晩撹拌した。反応液をセライ
ト濾過し、減圧下に濃縮乾固した。

残渣に酢酸エチル２０ｍｆｆを加え溶解し、冷０゜５Ｎ
水酸化ナトリウム溶液２０ｍ（１で抽出した。水層を酢
酸エチル２０ｍ１２で洗浄後、ＩＮ塩酸でｐＨ２，５に
調製し、酢酸エチル３０ｍＱ、１０ｍｆｆで抽出した。

有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで脱
水し、減圧下に濃縮乾固して表題化合物を６８ｍｇ得た
。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩ２ｓ）；　ｌ　７３５ｃｍ−’（β−
ラクタムＣ−０） １５１０　ｃｍ−’（ｐ　−１トキシフエＮ　Ｍ　Ｒ（
ＣＤ　Ｃ（２，）δ（ＰＰＭ）：１．３（３Ｈ，ｄ、　
　Ｊ＝　６．１１（ｚ、　ＣＨｓ）２．５〜３．０（２
Ｈ，ｍ、ＣＪ−５）３．２（ＩＨ，ｄｄ、　　Ｊ＝２．
１．　５．１Ｈｚ、　　ＣＨ−３）３−８（３Ｈ，ｓ、
ＯＣＨ，） ３．９〜４．２（ＩＨ，ｍ、ＣＨ−７）４．３〜４．７
（３Ｈ，ｍ、　ＣＨ−４、◎五）８．５（ＩＨ，ｂｓ、
　　Ｃ００Ｈ） 実施例１４ ＯＣＲ。

実施例１２の方法に従って合成した化合釣場を無水メタ
ノール１ｍＱに溶解し、室温で３時間撹拌した。反応液
に酢酸エチルを加え飽和ＮａＣＱ水で２回洗浄した。有
機層を無水硫酸ナトリウムで脱水後、減圧下に濃縮乾固
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍ
ｅｒｃｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■トル
エン／酢酸エチルーｆｏｉｌ）にて精製し表題化合物を
６１ｍｇ得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＱｓ）　；　ｌ　７４５　ｃｍ−’（β
−ラクタムＣ−０） １５１０ｃｍ−’（ｐ−メトキシ７エ 二ル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱｓ）δ（Ｐ　Ｐ　Ｍ）　：１．
３５（３Ｈ１ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、ＣＨｓ）３．４５（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ、２．２Ｈｚ％　ＣＨ１ ３，６８（３Ｈ，ｓＳ　Ｃ０ＣＨ，） ３．８０（３Ｈ，ｓ、０ＣＲｓ） ３．９〜４．２（ＩＨ，ｍ、Ｃｌ−７）４−４〜４．８
（４Ｈ，ｍ１ＣＨ−４、◎免、実施例１ チル− １ （４−メトキシ） フェニル−２−アゼ ＯＣＲ。

化合物Ｊ　　６１ｍｇ　（０，１４６ｍｍｏｌ）を酢酸
２ｍＱに溶解し亜鉛末２００ｍｇを加え室温下に撹拌し
ｔこ　。

６．５時間反応後、反応液に酢酸エチルを加え濾過した
。濾液を飽和Ｎ　ａＨＣＯｓ水で２回、飽和ＮａＣｌ２
水で１回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで脱水
後、減圧下に濃縮乾固した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ＭｅｒｃｋＡｒｔ　　７７３４、■
トルエン、■トルエン／酢酸エチルー１０　：　ｌ）に
て精製し、表題化合物を５Ｑｍｇ得　ｔこ　。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩ２３）；　１７３０ＣＩ１１−’（β
−ラクタムＣ＝０） １５１０　ｃｍ−’（ｐ−メトキシ７エ二ル） ＮＭＲ（ＣＤＣ（２，）δ（ＰＰＭ）：１．３３（３Ｈ
，ｄ、Ｊ−６，１Ｈｚ、ＣＨｓ）２．５〜３．３（３Ｌ
　　ｍ、ＣＨ−３、ＣＨ，−５）１ ３．６５（３ＨＳ　ｓ、Ｃ０ＣＨｓ） ３．８２（３ＨＳ　ｓ、０ＣＨ３） ３．８〜４．１（ＬＨ，ｍ、ＣＨ−７）４．３〜４．７
（３Ｈ，ｍ１◎ＣＨ，、ＣＨ−４）ＯＣＩ（３ ＯＣＨ。

実施何重２の方法に従って合成した化合物置無水ジクロ
ルメタン２ｍＱに溶解し、−５℃で撹拌しながらチオフ
ェノール３０　ｐＱ　（０，２９２ｍｍｏｌ）を加えた
。

１時間後、さらにチオフェノール５０μＱヲ加えさらに
１時間反応した。反応液を酢酸エチルで希釈し、飽和Ｎ
ａＨＣＯｓ水および飽和ＮａＣＱ水で洗浄した。有機層
を無水硫酸ナトリウムで脱水し、減圧下に濃縮乾固した
。

残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｍｅｒｃ
ｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■トルエン／
酢酸エチル＝ｌＯ：１）にて精製し、オイル状の表題化
合物を１９ｍｇ得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣＩ２３）；　１７５０ｃｍ−’（β−ラ
クタムＣ−０） １５１０　ｃｍ−’（ｐ−メトキシフェニル） １６８０　ｃｍ−’（エステルＣ−Ｏ）ＮＭＣ−０）Ｎ
ら）δ（ＰＰＭ）： １．２８（３Ｈ，ｄ、　Ｊ　−６，１Ｈｚ、　ＣＨｓ）
３．５３（ＩＨｌｄｄｌＪ−４，５，２，２Ｈｚ。

３．８１（３Ｈ％ｓ、　０ＣＨｓ） ３．９〜４．２（ＩＨ，ｍ、　ＣＨ−７）４．５〜４．
９（３Ｈ，ｍ、　ＣＨ−４、◎ユ ５．０６（ＩＨ％ｄ、　Ｊ−３，０Ｈｚ。

ＣＨ−５） 実施例１ ＯＣＲ。

ＣＨ−３） ） 化合物Ｊ、２　１９ｍｇ（０，０３８３ｍｍｏｌ）を酢
酸ｌｄに溶解し亜鉛末１００ｍｇを加え室温下に撹拌し
た。３．５時間後面鉛末６０ｍｇを追加し、その後１時
間撹拌した。

反応液に酢酸エチルを加え濾過した。濾液を飽和Ｎ　ａ
ｏ　ＣＨｓで２回、飽和ＮａＣｌ２水で１回洗浄した。

有機層を無水硫酸ナリトウムで脱水後、減圧下に濃縮乾
固した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（
Ｍｅｒｃｋ　　Ａｒｔ　　７７３４、■トルエン、■ト
ルエン：酢酸エチルー１０：１）にて精製し表題化合物
を９ｍｇ得た。

Ｉ　Ｒ（ＣＨＣ（２ｓ）；　１７３５ｃｍ−’（β−ラ
クタムＣ−０） １６９０ｃｃｍ−’（工Ｚｆルｃ−０）１５１０ｃ＋ｍ
−”（ｐ−／　トキシフェニル） Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＱｓ）δ（ＰＰＭ）：１．３３（
３１，ｄ、　Ｊ−６，１Ｈｚ、　ＣＨｓ）２．８〜３−
４Ｃ３Ｈ％ｍ％ＣＨ−３、ｃｕｔ−ｓ）３．８４（３Ｈ
，ｓ、　ＯＣＲ，） ３．８５〜４．２（ＩＨ，ｍ、ＣＨ−７）４．４〜４．
７（３Ｈ，ｍ％◎隻、Ｃｌ−４）実施例１ ２−アゼチジノン （とぶ） の合成 化合物８　２２．９ｍｇ（０，０４６４ｍｍｏｌ）を酢
酸０．５１１１１２に溶かし、１０％Ｐｄ−Ｃ２３，９
ｍｇを加え、水素雰囲気下で２２時間撹拌した。さらに
１０％Ｐｄ−Ｃ１４，２ｍｇを添加し水素雰囲気下で４
時間反応した後、反応液をエタノールで希釈しセライト
濾過した。濾過物はエタノールで充分洗浄し、濾液と洗
液を合せトルエンで希釈した後、減圧下に濃縮乾固した
。同様の操作を２度行ない表題化合物を１２．８ｍｇ（
収率８７．４％）得手続補正書ω発） た。

平成１年１２月１５日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を表わし、 Ｚは水素原子又はアミノ基の保護基を表わすで示される
   化合物を酸素含有ガスで酸化することを特徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II−１） 式中、Ｒ＾１及びＺは前記定義のとおりである。 で示される化合物の製造法。 ２、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を表わし、 Ｒ＾２は水素原子又はカルボキシル基の保護基を表わし
   、Ｚは水素原子又はアミノ基の保護基を表わす、 で示される化合物をハロゲン化剤と反応させることを特
   徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＺは前記定義のとおりであり
   、 Ｘはハロゲン原子を表わし、Ｙ＾１はハロゲン原子又は
   ＯＲ＾２を表わす、 で示される化合物の製造法。 ３、式 ▲数式、化学式、表等があります▼（VIII−１） 式中、Ｒ＾１＾１は低級アルカノイル基、ハロ低級アル
   カノイル基、アリル基、置換もしくは未置換のベンジル
   基又は置換もしくは未置換のベンジルオキシカルボニル
   基を表わし、Ｘ＾１は塩素もしくは臭素原子、ＯＲ＾３
   ＾２又は−Ｓ−低級アルキルもしくは−Ｓ−フェニル基
   を表わし、ここでＲ＾３＾２は水素原子、低級アルキル
   基又は置換もしくは未置換のベンジル基を表わし、Ｚ＾
   １は水素原子、置換もしくは未置換のフェニル基又は置
   換もしくは未置換のアラルキル基を表わす、 で示される化合物。 ４、（ａ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を表わし、 Ｚは水素原子又はアミノ基の保護基を表わすで示される
   化合物を酸素含有ガスで酸化し、（ｂ）得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II−１） 式中、Ｒ＾１及びＺは前記定義のとおりである。 で示される化合物を、必要に応じてカルボキシル基を保
   護した後、ハロゲン化剤と反応させ、 （ｃ）得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２及びＺは前記定義のとおりであり
   、 Ｘはハロゲン原子を表わし、Ｙ＾１はハロゲン原子又は
   ＯＲ＾２を表わす、 をＹ＾１がハロゲン原子を表わす場合には必要に応じて
   エステル化した後、脱ハロゲン化反応に付す、ことを特
   徴とする式 ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） 式中、Ｒ＾１及びＺは前記定義のとおりであり、Ｙ＾２
   はＯＲ＾３又はＳＲ＾４を表わし、ここでＲ＾３は水素
   原子、カルボキシル基の保護基又はエステル残基を表わ
   し、Ｒ＾４はエステル残基を表わす、 で示される化合物の製造方法。