JPH031279B2 - - Google Patents

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JPH031279B2
JPH031279B2 JP60270866A JP27086685A JPH031279B2 JP H031279 B2 JPH031279 B2 JP H031279B2 JP 60270866 A JP60270866 A JP 60270866A JP 27086685 A JP27086685 A JP 27086685A JP H031279 B2 JPH031279 B2 JP H031279B2
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JP
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foil
magnesium
oxide
whiskers
weight
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JP60270866A
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Aaru Shiguraa Deiuitsudo
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Motors Liquidation Co
Original Assignee
General Motors Corp
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Publication date
Application filed by General Motors Corp filed Critical General Motors Corp
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Publication of JPH031279B2 publication Critical patent/JPH031279B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/02Pretreatment of the material to be coated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/06Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases
    • C23C8/08Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using gases only one element being applied
    • C23C8/10Oxidising

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳现な説明】 本発明は倚数のホむスカヌにより特城付けられ
る酞化物局をその䞊に圢成するための鉄−クロム
−アルミニりム合金ホむルの酞化に関する。より
詳しくは、本発明は匕続くホむスカヌの成長を可
胜にする汚染合金で構成されるホむルのための予
備粟補凊理に関する。
アルミニりム−含有プラむトステンレススチ
ヌルはそれを高枩床甚途䟋えば自動車の觊媒転換
噚における機材ずしお有甚にする耐腐蝕性を含む
特性を有する。兞型的な鋌は15〜25重量クロ
ム、〜重量アルミニりム及び残郚が䞻ずし
お鉄である。高枩においお酞玠に曝された際にこ
の鉄−クロム−アルミニりム合金は䞋局の金属を
それ以䞊の腐蝕から保護する衚面アルミナ局を圢
成する。この合金は金属ぞの酞化物の付着を促進
しお曎に高枩耐腐蝕性を改良する少量のむツトリ
りム或いはセリりムなどの詊剀を含有するこずが
できる。
鉄−クロム−アルミニりム合金䞊に兞型的に圢
成される保護酞化物局の衚面は比范的平滑であ
る。しかしながら、或る条件䞋においおは倚数の
ホむスカヌにより特城付けられる酞化物局が圢成
される。これらのホむスカヌは塗垃される被膜の
結合を実質的に改良する。米囜特蚱第4331631号
明现曞Chapman等は金属剥離方法により圢
成されたホむル䞊のホむスカヌの成長を蚘茉しお
いる。米囜特蚱第4318828号明现曞Chapman
は特に冷間圧延ホむル䞊にホむスカヌを成長させ
るのに有甚な二段階酞化凊理を蚘茉しおいる。こ
の二段階凊理においおは、ホむルは最初に䜎酞玠
雰囲気内においお数秒間のオヌダヌの短い時間加
熱され、前駆䜓酞化物膜を圢成する。その埌ホむ
ルを空気䞭においお適圓な枩床で数時間加熱する
こずによりホスカヌが成長される。
或る皮の鉄−クロム−アルミニりム合金ホむル
は奜たしい条件䞋においおその様にするために酞
化されおも所望の倚数のホむスカヌを成長させな
いこずが芋出された。特に、倧きな熱から調補さ
れた垂販の冷間圧延品にホむスカヌを成長させる
際に困難が芋られる。このホむスカヌを成長させ
るこずができないこずが金属䞭のマグネシりム䞍
玔物の存圚に関連するこずが芋出された。汚染ホ
むルの兞型䟋においおはマグネシりムは0.01重量
のオヌダヌの量で存圚する。マグネシりムは構
成金属䞭或いは脱酞化或いは脱硫詊剀䞭に導入さ
れ埗る。もう䞀぀の朜圚的な源は、合金がその䞭
で溶融されるる぀がその他の容噚の耐火ラむニン
グである。このラむニングは䞻ずしおアルミナな
どの䞍掻性セラミツクであるが少量の酞化マグネ
シりムを含む堎合がある。倚量の合金の調補に際
しおは金属は長時間耐火ラむニングず接觊しおい
お、その間にマグネシりムが溶融物䞭に混入し埗
る。いずれにせよ玄0.002重量より倚量のマグ
ネシりムの存圚は所望のホむスカヌの成長を顕著
に抑制する。
埓぀お、本発明の目的はマグネシりム䞍玔物を
酞化物ホむスカヌ圢成を抑制するに十分な量で含
んでなるアルミニりム含有ステンレススチヌルホ
むルの凊理方法を提䟛するこずであり、その方法
は遞択的に合金からマグネシりムを陀去し、それ
により倚数のホむスカヌをその䞊に匕続き成長さ
せるものである。本発明の䞀぀の特城は、凊理が
ホむルを物理的に倉化させるこずなく或いは合金
を準備するための或いはホむルを補造するための
方法或いは装眮に劂䜕なる倉化も必芁ずするこず
なく固䜓鋌䞊に合金を粟補するために行われるこ
ずである。事実、汚染ホむル品に適甚されその䞊
に他の堎合には適圓でないホむスカヌの成長を行
わせる堎合にこの方法は特に有甚である。曎に、
任意にむツトリりム或いはセリりムなどの酞化物
付着剀を任意に含有する鉄−クロム−アルミニり
ム合金の凊理は、ベヌス合金の組成を倉化させる
こずなく、或いは鋌の望たしい高枩特性に悪圱響
を及がすこずなく望たしくないマグネシりムを陀
去する。
本発明の奜たしい実斜態様に埓えば、マグネシ
りム−汚染鉄−クロム−アルミニりム合金ホむル
を熱凊理しお固盞合金からマグネシりムを遞択的
に蒞発させおからホむルを酞化しおホむスカヌを
その䞊に成長させる。ホむルは高枩で加熱されマ
グネシりムをホむル衚面に拡散させ、昇華させる
が、しかし合金の初期の溶融は䌎わない。マグネ
シりムの蒞気は適圓な呚囲蒞気盞䟋えば真空或い
は也燥氎玠ガス䞭に逃散する。その埌、粟補され
たホむルが適圓な条件䞋で酞化されお実質的にホ
むル衚面を芆う倚数のホむスカヌを圢成する。
本発明の方法は玄0.01重量のマグネシりムを
含有する汚染ホむルを凊理しおマグネシりム含量
を奜たしくは0.002重量に枛少させるのに特に
有甚である。所望のホむスカヌを成長させるのに
必芁ずさせる長時間の酞化工皋は内郚のマグネシ
りムを衚面に拡散させ、ホむスカヌの成長を挫折
させるのでホむル衚面のみを粟補するこずが十分
であるずは考えられない。この様に、この凊理は
ホむルの内郚領域䞊びに衚面を粟補するものであ
り、それはマグネシりムが陀去のために内郚領域
から衚面に拡散するこずを必須ずするものであ
る。マグネシりムは衚面においお容易に昇華する
が固䜓合金を通しおの拡散は比范的遅い過皋であ
る。より高い枩床はこの拡散を加速し、凊理時間
を枛少するのに望たしい。しかしながら、枩床は
初期の溶融が起こる皋には高くなく、ホむルが取
扱いが䟿利であるように十分䜎いのが奜たしい。
䞀般的に、汚染ホむルは1000℃〜1150℃の枩床で
加熱するこずにより凊理するのが適圓である。ホ
むルを凊理するために必芁ずされる時間は初期の
マグネシりム含量及びホむル厚み䞊びに特定の枩
床により異るが汚染ホむルは奜たしい枩床範囲内
の枩床においお実際的な時間奜たしくは〜60分
間の範囲で兞型的に凊理される。
本発明の粟補凊理はホむスカヌに適甚された被
芆の結合を改良するこずを芁求する甚途に、さも
なくば適圓でない、所望のホむスカヌ酞化物をホ
むル䞊に圢成するこずを可胜にする。この凊理は
望たしくないマグネシりムを陀去するが、しか
し、鉄、クロム、アルミニりムを䜙り蒞発させな
い。又、この凊理は、この皮の鋌に察する奜たし
い添加剀であるむツトリりム或いはセリりムを抜
出さない。この様に、本発明の凊理はその䞻成分
に䜙り圱響を及がすこずなく汚染合金を粟補す
る。曎に、この凊理は固䜓ホむルに぀いおその補
造埌䞔぀ホむルを物理的に倉化させるこずなく行
われる。
本発明の方法は、商業的に埗られた冷間圧延鉄
−クロム−アルミニりム−セリりム合金ホむルを
凊理するこずにより瀺された。このホむルは0.05
mmの厚さであ぀た。受取られた時点においお、こ
の合金は重量基準で玄19.8のクロム、玄5.2
のアルミニりム、玄0.022のセリりム、玄0.009
のランタン、玄0.011のマグネシりム及び残
郚が鉄及び無害の䞍玔物により構成されおいた。
セリりム及びランタンは高枩耐腐蝕性を高める改
良剀である。マグネシりムは䞍玔物ずしお存圚し
た。このホむルを詊料パネルに切断した。ミル油
はパネルを氎性の穏やかにアルカリ性の掗浄液に
呚囲枩床においお浞挬しながら超音波により枅浄
化するこずにより陀去した。その埌、パネルを先
ず氎道氎䞭においお、次いでアセトン䞭においお
浞挬し、超音波により振動させるこずにより濯い
だ。次いでパネルを熱匷制空気を甚いお也燥し
た。
本発明は、粟補予備凊理なしに所望の酞化物ホ
むスカヌをマグネシりム汚染ホむスカヌ䞊に成長
させる詊みず察比させるこずによりより良奜に理
解される。埓぀お、枅浄化されたパネルをこの皮
のホむル䞊にホむスカヌを成長させるための奜た
しい二段酞化凊理に付した。パネルを高玔床也燥
二酞化炭玠により圢成される雰囲気に曝しながら
900℃で10秒間加熱した。二酞化炭玠は高枩にお
いお分解しお、衚面を酞化しおその䞊に適圓な前
駆䜓酞化物膜を圢成するに十分な埮少量の酞玠を
䞎える。その埌、パネルを冷华し、空気に曝しな
がら925℃で16時間再加熱した。冷間圧延ホむル
に酞化物ホむスカヌを成長させるためのこの二段
階凊理に関しおの远加の情報は本発明においお準
甚される米囜特蚱第4318828号明现曞䞭に䞎えら
れおいる。
第図は走査電子顕埮鏡を甚いお調べられたマ
グネシりム汚染ホむルの埗られた酞化衚面の䞀郚
を瀺す、酞化物衚面は高倍率のために䞍揃いに芋
えるが、衚面は䞻ずしおノゞナラヌ圢成により芆
われおいる。ホむスカヌは時々芋られるにすぎな
い。第図に瀺されるようなノゞナラヌ状酞化物
に適甚されるセラミツクの塗型被芆washcoat
のよらな被膜はホむルに緊密には接着せず、剥萜
する傟向を瀺すこずが刀明した。
第二のパネルは、本発明に埓぀お凊理されおか
ら所望の酞化物ホむスカヌをその䞊に銖尟良く成
長させた。枅浄化されたパネルをほが0.01パスカ
ルの圧力に排気された真空炉内においお真空アニ
ヌリングず同様にしお玄1000℃においお玄時間
加熱した。この真空熱凊理に続いお金属を分析し
た。クロム−アルミニりム、セリりム及びランタ
ンを含む䞻たる金属の割合は実質的に䞀定に留た
るが、しかし、マグネシりムの濃床は0.002重量
未満に枛少したこずが刀明した。
次いで、このパネルを第図のパネルに぀いお
䜿甚した䞊蚘二段階方法に埓぀お酞化した。即ち
二酞化炭玠䞭においお900℃で10秒間、その埌空
気䞭においお925℃で16時間凊理した。第図は
走査電子顕埮鏡を甚いお芳察した生成物の酞化衚
面の䞀郚分を瀺す。この図に芋られる劂く、粟補
ホむルの酞化はホむル衚面を実質的に芆う倚数の
ホむスカヌを生成した。これらのホむスカヌは長
く、薄い、突出した結晶を含み、適甚される被芆
を䟵入させ、緊密に結合するのに奜たしい。
本発明の他の実斜態様においお、マグネシりム
汚染合金のもう䞀぀の枅浄化されたパネルを也燥
氎玠雰囲気に曝しながら凊理しおからその䞊にホ
むスカヌを銖尟よく成長させた。このパネルを玄
1100℃においお玄10分間加熱した。氎玠雰囲気の
露点は玄−60℃乃至−30℃であ぀た。この気䜓は
倧気圧近蟺であ぀た。その埌、パネルを第図及
び第図におけるパネルに察するのず本質的に同
䞀の条件䞋においおホむスカヌを成長させるため
の奜たしい二段階操䜜に付した。第図は走査電
子顕埮鏡で芳察された酞化衚面の䞀郚を瀺す。こ
れに芋られる劂く、衚面は実質的に酞化物ホむス
カヌにより芆われおいる。第図に瀺されるホむ
スカヌに比べお、このより高枩の氎玠凊理は面積
圓りのホむスカヌの数を増倧したが、しかし、䞀
般的により小さな結晶を圢成した。第図におけ
る倧きなホむスカヌ皋には奜たしくないが、第
図におけるこのホむスカヌの圢状は、特に第図
の酞化物ず察比しお適甚された被芆の接着を改良
するのに適したものである。
この様に、本発明の方法は、さもなくば、せい
ぜい時々ホむスカヌを圢成するにすぎない汚染合
金で圢成されおいるホむル䞊に、倚数のホむスカ
ヌを成長させるために䜿甚するこずができる。ア
ルミナにより䞻ずしお構成されおいるこのホむス
カヌの圢成された局はホむルを実質的に被芆し、
䞋局の金属をそれ以䞊の酞化に察しお防埡する。
劂䜕なる特別の理論に限定されるものではない
が、ホむスカヌ成長は合金䞊に初期に圢成される
酞化物膜内の欠陥を介するアルミニりム移動から
生ずるものず思われる。アルミニりムは䞋局の金
属から移動し、酞化物衚面にあらわれおアルミナ
結晶を所望のホむスカヌに成長させる。汚染合金
においおは、マグネシりムはこれらの欠陥に明ら
かに浞透し、アルミニりムの移動を劚害し、その
結果衚面に圢成されるアルミナ結晶はホむスカヌ
にたで成長しない。しかしながら、本発明の方法
は合金からマグネシりムを陀去するこずによりア
ルミナ結晶を成熟させる。
本発明は䞻ずしお鉄、クロム及びアルミニりム
により圢成されるステンレススチヌルホむルに適
甚可胜である。觊媒転換噚甚に奜たしい鋌は15〜
25重量のクロム、〜重量のアルミニり
ム、及び残郚が䞻ずしお鉄よりな぀おいる。説明
される具䜓䟋においおは、合金は又少量のセリり
ム及びランタン添加しお酞化物の接着を促進す
る。奜たしいセリりム含量は玄0.002〜0.05重量
である。この効果は䞻ずしおセリりムに垰せら
れるが、セリりムは兞型的には又酞化物接着を高
めるランタンを含有する混合金属ずしお兞型的に
添加される。むツトリりムも又酞化物接着を促進
し、セリりムの代りに奜たしくは玄0.3〜1.0重量
の量で添加される。曎に、この合金は望たしく
冶金特性に圱響を及がすためにゞルコニりムその
他の適圓な詊剀を含有するこずができる。この皮
の鋌に察しお、マグネシりムは意図的に添加され
ず或いは特別の冶金特性を高めるものずは考えら
れず、むしろ、䞍玔物或いは残枣ずしお存圚す
る。しかしながら、マグネシりムはこの䞍玔物の
少量さえもがホむスカヌ成長を実質的に抑制する
ずいうホむスカヌ圢成に察しお甚倧な圱響を有す
るこずが刀明した。党おの鉄−クロム−アルミニ
りム合金がホむスカヌ成長を抑制するに十分な量
のマグネシりムで汚染されおいるものでないこず
が認められた。汚染合金に぀いおマグネシりム濃
床は䞀般的に0.02未満であり、それは本発明の
凊理により0.002重量未満に枛少され、即ちマ
グネシりムがホむスカヌ成長を劚害しないレベル
に枛少される。合金を凊理するために必芁ずされ
る時間は、汚染の量に関係する。䞀般的にそれは
合金を実際的な時間内奜たしくは時間以内に凊
理するのが望たしい。玄0.02重量未満のマグネ
シりムを含有する合金に察しおは凊理は䞀般的に
〜60分以内で行われる。
本発明の方法は、比范的薄い合金䟋えば玄0.1
mm以䞋の厚さのホむル或いはシヌトを凊理するの
に特に適しおいる。固䜓合金を通るマグネシりム
の拡散は特に比范しお比范的遅い過皋であるの
で、合金を凊理するために必芁ずされる時間も又
合金の厚さに応じお異る。より厚い合金はマグネ
シりムが衚面たで移動しなければならない距離増
倧させ、それによりマグネシりムを陀去するため
に必芁ずされる時間を延長する。䞀般的に、合金
を粟補するために必芁ずされる時間は合金の厚さ
の二乗に比䟋するこずが刀明した。説明される具
䜓䟋においおは、この方法は冷間圧延ホむルに適
甚されおいるが、本発明の方法はその他のタむプ
のホむル䟋えば金属剥離方法により圢成されたホ
むルの凊理にも適したものである。
固䜓合金を通しおのマグネシりムの拡散は枩床
にも関連しおいる。䞀般的により高い枩床がこの
拡散を加速するために望たしい。マグネシりムは
1000℃未満の枩床においお蒞発するが、䜎枩にお
けるマグネシりムの遅い拡散は合金を凊理するた
めに必芁ずされる時間をかなり延長する。䟋え
ば、1000℃においお時間で適圓に凊理されうる
合金は9000℃においおは玄時間を必芁ずする。
曎に本発明に埓えば、凊理枩床は若し生じたなら
ばホむルの物理的性質に圱響を及がす初期の溶融
を避けるためにベヌス合金の溶融点未満に維持さ
れる。説明された具䜓䟋における合金に぀いお
は、凊理はホむルに損傷を䞎えるこずなく玄1300
℃たでの枩床においお行われる。しかしながら、
実際的な考慮ずしお玄1150℃を越える枩床におい
おはホむルの取扱いにより倧きな困難が生ずる。
それ故、凊理を玄1000℃乃至1150℃の枩床におい
お行うのが奜たしい。
粟補凊理により創り出されるマグネシりム蒞気
は、適圓な呚囲盞䞭に逃げる。適圓な盞ずしお
は、説明された具䜓䟋におけるような真空或いは
氎玠雰囲気が挙げられる。マグネシりムを合金衚
面における反応を避けながら蒞発される。酞玠は
マグネシりム及びアルミニりムの䞡者ず反応する
傟向があるので関心ずなるのは呚囲盞における酞
玠の存圚である。呚囲の酞玠含量は、マグネシり
ムの逃散に察しお物理的な障壁を圢成するような
合金衚面における実質的に連続なアルミナフむル
ムの圢成を避けるために十分䜎いこずが奜たし
い。しかしながら、マグネシりムの蒞発は䜎量の
酞玠の存圚によ぀おは䜙り抑止されない。マグネ
シりムの酞化傟向にも拘らず、呚囲酞玠はマグネ
シりムの蒞発を劚害しないように芋える。この理
由は十分には理解されないが、マグネシりムの酞
化は薄いマグネシりム濃床のために合金衚面にお
いおは熱力孊的には奜たしいものではないず思わ
れる。いずれにせよ本発明の方法は呚囲盞におけ
る埮量酞玠の存圚にも拘らず行うこずができる。
説明された具䜓䟋においおは、ホむスカヌは粟
補された合金が第䞀段階においお二酞化炭玠雰囲
気に曝された二段階酞化方法により成長された。
二酞化炭玠の解離により圢成された酞玠がホむル
衚面ず反応しおホむスカヌを成長させるための前
駆䜓膜を生成する。反応性酞玠を奜たしくは100
パスカル未満の分圧䞋においお含有するその他の
雰囲気を二酞化炭玠雰囲気の代りに甚いるこずが
できる。説明された具䜓䟋においおは、二酞化炭
玠雰囲気による凊理は䞀貫しおホむスカヌを成長
させるための再珟可胜な方法を提䟛するが、粟補
凊理に続く別の䜎酞玠工皋はホむスカヌ成長には
必須ではないこずが刀明した。即ち、本発明の粟
補凊理は、合金がマグネシりム蒞発に察する障壁
を圢成するには䞍十分であるが、しかし、ホむル
衚面䞊にホむスカヌを成長させるための前駆䜓酞
化物膜を生成するには有効である適圓な䜎酞玠含
量を含む気盞に曝しながら行うこずができる。そ
れ故、他の具䜓䟋においおは、合金の粟補予備凊
理を埮量の酞玠を含有する也燥氎玠雰囲気に曝し
ながら行い䞔぀その埌凊理された合金を盎接に空
気䞭においお適圓な枩床においお酞化しおホむス
カヌを成長させるこずにより、汚染合金䞊にホむ
スカヌが成長された。
これらのホむスカヌは、米囜特蚱第4331631号
及び第4318828号各明现曞に蚘茉されるように、
空気䞭に曝しながらホむルを加熱するこずにより
圢成するのが奜たしい。ホむスカヌを成長するた
めの最適枩床は特定の合金組成物を含む幟぀かの
芁因に応じお異るが、䞀般的にはホむスカヌは奜
たしい鉄−クロム−アルミニりム−セリりム合金
を870℃乃至970℃、奜たしくは900℃乃至930℃の
枩床においお玄時間を越える時間加熱するこず
により成長される。
【図面の簡単な説明】
第図は、10000倍の倍率のマグネシりム汚染
鉄−クロム−アルミニりム合金で構成されるホむ
ルの非−ホむスカヌ酞化合金金属組織衚面を瀺す
走査電子顕埮鏡写真である。第図は、第図の
ホむルず同様であるが、しかし、本発明の第䞀の
態様に埓぀お真空粟補凊理に付されおからホむル
を酞化しおその䞊にホむスカヌを成長させたホむ
ルの衚面䞊に圢成された倚数の酞化物ホむスカヌ
を含む合金金属組織衚面の10000倍の倍率におい
お瀺す走査顕埮鏡写真である。第図は、第図
のホむルず同様であるが、しかし、本発明の他の
態様に埓぀お氎玠粟補凊理に付しおからホむルを
酞化しおその䞊にホむスカヌを成長させたホむル
の衚面䞊に圢成された酞化物ホむスカヌを含む合
金金属組織衚面の10000倍の倍率における走査顕
埮鏡写真である。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  鉄ベヌスのクロム、アルミニりム及びマグネ
    シりムを含む合金により圓初構成されるプラむ
    トステンレススチヌルホむル䞊の倚数の酞化物ホ
    むスカヌにより特城付けられる䞀䜓的酞化物局を
    圢成する方法であ぀お、該マグネシりムが該ホむ
    スカヌの圢成を抑制するの十分な量の䞍玔物ずし
    お存圚する方法においお、 該方法がホむルを合金の初期の溶融を避けなが
    ら固䜓合金からマグネシりムを遞択的に蒞発させ
    るのに有効な枩床においお加熱し、該マグネシり
    ムがホむルの内郚領域からその衚面に拡散し、適
    圓な呚囲盞䞭に昇華し、該マグネシりムの蒞発が
    合金䞭のマグネシりム濃床を0.002重量未満に
    枛少するのに十分な時間継続し、䞔぀粟補された
    ホむルを酞化しお酞化物ホむスカヌ局を圢成する
    こずを特城ずする方法。  15〜25重量のクロム、〜重量のアル
    ミニりム、セリりムずむツトリりムずよりなる矀
    から遞ばれた任意に酞化物付着を促進するに有効
    量の詊剀、及び0.02重量未満の量のマグネシり
    ム䞍玔物を含む鉄ベヌス合金により圓初構成され
    るアルミニりム含有プラむトステンレススチヌ
    ルホむル䞊に䞀䜓的酞化物ホむスカヌ局を圢成す
    るための特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法におい
    お、ホむルが真空に曝されながら1000℃乃至1150
    ℃の枩床で加熱されるこずを特城ずする特蚱請求
    の範囲第項に蚘茉の方法。  ホむルが乃至60分間の間加熱され、粟補ホ
    むルを埗、次いでこの粟補ホむルを該ホむル䞊に
    適圓な前駆䜓酞化物膜を圢成するのに十分な枩床
    においお二酞化炭玠雰囲気に曝しながら加熱し、
    その埌ホむルを倚数の酞化物ホむスカヌをその䞊
    に成長させるに十分な枩床及び時間空気に曝しな
    がら加熱するこずを特城ずする特蚱請求の範囲第
    項に蚘茉の方法。  初め15〜25重量のクロム、〜重量の
    アルミニりム、セリりムずむツトリりムずよりな
    る矀から遞ばれた任意に酞化物付着を促進するに
    有効量の詊剀、及び0.02重量未満の量のマグネ
    シりム䞍玔物を含む鉄ベヌス合金により構成され
    るアルミニりム含有プラむトステンレススチヌ
    ルホむル䞊に䞀䜓的酞化物ホむスカヌ局を圢成す
    るための特蚱請求の範囲第項蚘茉の方法におい
    お、ホむルを也燥氎玠雰囲気に曝しながら1000℃
    乃至1150℃の枩床で加熱するこずを特城ずする特
    蚱請求の範囲第項に蚘茉の方法。  ホむルが乃至60分間の間加熱され、粟補ホ
    むルを埗、次いでこの粟補ホむルを該ホむル䞊に
    適圓な前駆䜓酞化物膜を圢成するのに十分な枩床
    においお二酞化炭玠雰囲気に曝しながら加熱し、
    その埌ホむルを倚数の酞化物ホむスカヌをその䞊
    に成長させるに十分な枩床及び時間空気に曝しな
    がら加熱するこずを特城ずする特蚱請求の範囲第
    項に蚘茉の方法。
JP60270866A 1984-12-03 1985-12-03 汚染アルミニりム含有ステンレススチヌルホむル䞊における酞化物ホむスカヌの成長 Granted JPS61136999A (ja)

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EP0184311B1 (en) 1990-02-07
JPS61136999A (ja) 1986-06-24
EP0184311A2 (en) 1986-06-11
CA1240906A (en) 1988-08-23
DE3575956D1 (de) 1990-03-15
EP0184311A3 (en) 1987-10-07

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