JPH0313343A - 液体トランスファー品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 １１上皇五貝玉１ 本発明は精確に計量した量の液体を別の面に移すのに用
いるための液体トランスファー品の製造方法に関する。

このような液体トランスファー品の例はグラビア印刷プ
ロセスにおいて用いるためのロールである。液体トラン
スファー品は、基材（５ｕｂｓｔｒａｔｅ）に、セラミ
ック或は金属カーバイド層を被覆し、該被覆層の上に放
射線を透過させない不連続物質の着脱可能なマスクを重
ね、次いで、放射線のレーザービームをマスク及び被覆
面に向けて不連続物質のマスクによっておおわれない被
覆面の領域上に液体を受け入れるように適応させたくぼ
み或はウェルのパターンを生じることによって作る。

え米皇五ｌ 印刷産業において、液体トランスファー品、例えばロー
ルを使用して特定量のインク或は他の物質のような液体
を液体トランスファー品から別の面にトランスファーす
る。液体トランスファー品は表面に液体を受け入れるよ
うに適応させたくぼみ或はウェルのパターンがあり、該
パターンは、液体トランスファー品を別の面に接触させ
る際にトランスファーされるのが普通である。液体がイ
ンクであり、かつインクを品に塗布する場合、ウェルに
インクを満たし、品の残りの面をぬぐい去る。インクは
ウェルによって定められるパターン内に収容されるだけ
であるので、別の表面にトランスファーされるのはこの
パターンである。

商業上の実施においては、ワイパー或はドクターブレー
ドを用いて液体トランスファー品の表面から過剰の液体
を取り去る。被覆面の表面があまり荒いと、インクのよ
うな過剰の液体は荒い品のランド領域面から除かれず、
それで受面及び／又は不都合な場所にトランスファーさ
れることになる。よって、液体トランスファー品の表面
を仕上げ加工しかつウェル或はくぼみをそれらが液体な
受け入れることができるように明瞭に境界を定めるべき
である。

グラビアロールは液体トランスファーロールとして一般
に用いられている。グラビアロールは、また、アプリケ
ーター或はプリントロールとも呼ばれている。グラビア
ロールは、種々の寸法のウェルをロール面の部分に切断
或は彫って作る。これらのウェルに液体を満たし、次い
で液体を受面にトランスファーさせる。ウェルの直径及
び深さを変えて液体トランスファーの容積を調節するこ
とができる。受面にトランスファーさせる液体のパター
ンをもたらすのはウェルの位置であり、ウェルを定める
ランド領域は液体を何ら収容せず、よって液体を何らト
ランスファーすることができない、液体を表面に塗布し
て液体がウェルを満たし或はあふれる場合に、ロール表
面にわたってドクターブレードでぬぐうことによって過
剰の液をランド領域から取り去ることができる。

各々のウェルの深さ及び大きさが受面にトランスファー
される液体の量を決める。ウェルの深さ及び大きさ及び
表面におけるウェルの位置（パターン）を調節すること
によって、トランスファーさせる液体の容積及び受面に
トランスファーさせる液体の位置の正確な制御を行うこ
とができる。

加えて、ウェルの種々の深さ及び／又は寸法を持つこと
によって、液体な受面に所定のパターンで高い精度にト
ランスファーすることができる。

グラビアロールを金属にし、外屡を銅にするのが代表的
である。銅を彫るのに用いる彫刻技法は機械的プロセス
が普通であり、例えばダイヤモンド針を使用してウェル
パターンを彫る、或は光化学プロセスを用いてウェルパ
ターンを化学的に食刻する。

彫刻を完了した後に、銅表面をクロムでめっきするのが
普通である。この最終工程は、ロールの彫刻した銅表面
の摩耗寿命を向上させるのに要する。クロムめっきしな
い場合、ロールの摩耗は速く、印刷において用いるイン
クによって一層容易に腐食される。このため、クロムめ
っきしない場合、鯛ロールが有する寿命は容認し得ない
程に短い。

しかしながら、クロムめっきした場合でさえ、ロールの
寿命が容認し得ない程に短いことがしばしばある。これ
は液体の摩損性及びドクターブレードが引き起こすスク
ラッピング作用によるものである。多くの用途において
、ロールの急速な摩耗は、過大のロールに過大の深さを
有するウェルを装備することによって補う、が、このロ
ールは、ロールが新しい場合、液体トランスファーが多
くなるといつ不利を有する。加えて、ロールが摩耗する
につれて、受面にトランスファーされる液体の容量は急
に減少し、それで品質管理問題を引き起こす、クロムめ
っきした銅ロールの急速な摩耗により、また、停止期間
及び維持費が相当になる。

セラミックコーティングは長年アニロックスロールにつ
いて用いられて極めて長い寿命をもたらした。アニロッ
クスロールは均一な液体容積をロールの全作用面にわた
ってトランスファーする液体トランスファーロールであ
る。セラミック被覆したロールの彫刻は銅ロールを彫刻
するのに用いられる慣用の彫刻技法によって行うことが
できず、それでこれらのロールを高エネルギービーム、
例えばレーザー或は電子ビームによって彫刻しなければ
ならない、レーザー彫刻すると、各々のウェルのまわり
に及びロールの元の表面上に新しいりキャスト（ｒｅｃ
ａｓｔ）面を有するウェルを形成するに至り、このよう
なりキャスト面は各々のウェルのまわりに小形の火山ク
レータ−の外観を有する。これは、高エネルギービーム
があたる際に表面から放散される融解材料が固化して引
き起こされる。

完全なアニロックスロールは彫刻されかつパターンをも
たないことから、リキャスト表面はアニロックスロール
の機能を有意に果たし得ない。

が、液体トランスファーを必要とするグラビア印刷プロ
セスでは、リキャスト表面は有意の問題を引き起こす、
グラビアロールとアニロックスロールとの間の主たる相
違は、アニロックスロール表面全体を彫刻するのに対し
、グラビアロールの場合、ロールの一部のみを彫刻して
所定のパターンを形成することである。グラビアロール
が液体をパターンによって決められる管理された様式で
トランスファーするためには、流体は未彫刻ランド領域
からドクターブレードによって完全にぬぐわれなければ
ならない、ドクターブレード下でランした後にランド領
域上に残る液体は受生成物上に付着されることになり、
それは望ましくない、レーザー彫刻したセラミックロー
ルの場合、リキャスト面が液体をいくらか保留すること
により、ドクターブレードはランド領域から液体を完全
には取り去ることができない、これより、リキャスト面
は、はとんどの印刷用途について、除くべきである。

レーザー技法を用いてプリントパターンを要する用途用
の液体トランスファー品を製造する場合、全てのウェル
の深さ及び寸法を調節することは極めて難かしい、詳細
には、レーザーは、ウェルを必要とする場合のみ活性化
し、ウェルを必要としない場合に不活性化することが要
求されるのが普通である。残念なことに、レーザーの始
動及び停止応答は、−担レーザーが設定期間の開作動し
ていて達成される応答と同じではない０例えば、レーザ
ーを始動させたとき、放射線の初めの数パルスは、レー
ザーが適当な時間作動していた後に生じるパルスについ
てのレーザービームのエネルギー含量に比べて小さい、
このことは、立ち代って、品の表面における初めの数ウ
ェルの形状及び深さが、品の表面において形成される引
き続く連続ウェルと異なることになる。その結果、パタ
ーンの境界を定めるウェルは、パターンの中央の内に収
容されるウェルと深さ及び／又は寸法が同じでなく、従
って、所望の容積の液体を収容することができない、こ
れは、受面にトランスファーされるパターンの境界が総
括パターンに関して色がずれる結果になる。換言すれば
、プリンテッドパターンのエツジはいく分毛羽立つ、こ
れは、異なる色相のプリンテッドパターンが受面にトラ
ンスファーされることになり得る。レーザー技法はウェ
ルを液体トランスファー品の表面において作る有効な手
段となるが、レーザーのいくつかの始動及び停止パルス
の不均一性が品質の劣った液体トランスファー品を生成
し得る。ウェルの位置に関し、鋭い境界線のパターンは
、良好な境界エツジ鮮明度を得るのを確実にするのに、
完全及び断片寸法表面領域ウェルの組合せを必要とする
のが普通である。マスクがない場合、鋭い境界エツジ鮮
明度を達成することができない。

本発明の目的は、均一な寸法及び深さのウェルを表面上
に有する液体トランスファー品の製造方法を提供するに
ある。

本発明の別の目的は、グラビア印刷プロセスにおいて、
慣用のステンシルを用いて有効に得ることができる所望
の形状及び色相のプリンデッドパターンを提供するのに
使用することができる品質液体トランスファーロールを
製造する方法を提供するにある。

本発明の別の目的は、液体を受け、次いでこれを受面に
トランスファーして所定の形状及び色相のプリンデッド
パターンを受面上に作ることができるように適応させた
所望の寸法及び深さのウェルを有するグラビアロールな
製造する方法を提供するにある。

本発明の別の目的は、液体を受け、次いでこれを受面に
トランスファーしてプリンデッドパターンを定める毛羽
立ったエツジのない所定のプリンテッドパターンを作る
ことができるように適応させた所望の寸法及び深さのウ
ェルを有するグラビアロールな製造する方法を提供する
にある。

本発明の上記及びそれ以上の目的は下記の記述を検討し
て明らかになるものと思う。

及豆五璽滅 発明は、液体を別の面にトランスファーする際に用いる
液体トランスファー品の製造方法であって、 （ａ）品に、セラミック及び金属カーバイドからなる群
より選ぶコーティング材料の内の少なくとも１つの層を
被覆し； （ｂ）被覆面の上に、選択したエネルギーレベルの放射
線のビームを透過させない不連続物質の着脱し得るマス
ク材料を重ね： （Ｃ）該選択したエネルギーレベルの放射線のビームを
有するレーザーを品の被覆面に向け、それで不連続マス
ク材料によっておおわれない被覆面の領域において液体
を受けるように適応させたウェルのパターンを生じ、該
ウェルのパターンは不連続物質によっておおわれない被
覆面の領域によって定められるようにし； （ｄ）被覆品からマスク材料を取り去る工程を含む方法
に関する。

工程（ａ）において、コーティングを適用した後に、被
覆面を慣用の研削仕上技法によって被覆表面の所望の寸
法及び許容差に仕上げるのが普通である。被覆表面をま
た、レーザー処理するのに平らな表面にするために、荒
さ約２０マイクロ−インチ（５１マイクロ−ａｍ）Ｒａ
或はそれ以下、好ましくは約１０マイクロ−インチ（２
５マイクロ−ｃｍ）Ｒａ或はそれ以下に仕上げる。

本明細書中で用いる通りのＲａは、ＡＮＳ　Ｉメソッド
Ｂ４６．１，１９７８によってマイクロ−インチで測定
する平均表面荒さである。この測定系では、数が大きい
程、表面は荒くなる。

好ましくは、レーザー処理した品の各々のウェルのまわ
りに形成したりキャスト領域を処理し或は仕上げ加工し
、それでリキャスト領域の表面の相当の部分を円滑にし
て荒さ６マイクロ−インチ（１５マイクロ−ｃｍ）Ｒａ
或はそれ以下、好ましくは４マイクロ−インチ（１０マ
イクロ−ｃ＋ｎ）Ｒａ或はそれ以下にすべきである。よ
って、レーザー処理した品の表面をほとんどの用途につ
いて、荒さ６マイクロ−インチＲａ或はそれ以下に仕上
げるべきである。

所望の場合、工程（ａ）の後に、シーラントを用いて被
覆面をシールする。適したシーラントはエポキシシーラ
ント、例えば、コネチカット、ダンパリー在ユニオンカ
ーバイドコーポレーションから得ることができるＵＣＡ
Ｒ１００シーラントである。ＵＣＡＲｌｏｏはＤＧＥＢ
Ａを含有する熱硬化性エポキシ樹脂についてのユニオン
カーバイドコーポレーションの商標である。シーラント
はコーティングプロセスの間に発生され得る微細な微孔
質を有効にシールし、よって被覆品を最終使用する間に
遭遇され得る水及びアルカリ溶液への耐性を付与し、か
つまた被覆品を取り扱う間に遭遇し得る汚染物への耐性
も付与することができる。

本明細書中で用いる通りの、パルスレーザ−ビームのよ
うな放射線のビームを透過させない物質とは、放射線の
ビームを吸収及び／又は反射し、それで放射線ビームを
物質を透過させて物質によっておおわれた表面に接触す
ることのない物質を意味する０選択した特定の不透過性
物質を十分に厚くして放射線のビームを吸収及び／又は
反射し、それで、ビームが物質を透過するのを防止しな
ければならない。

本明細書中で用いる通りの不連続物質とは、物質の通常
２或はそれ以上の独立した表面領域を一緒に連続させず
かつ任意の方法で配置して総括パターンを生じ得るよう
にさせてなるものである。

発明の一実施態様は、液体を別の面にトランスファーす
る際に用いる液体トランスファー品の製造方法であって
、 （ａ）品に、セラミック及び金属カーバイドからなる群
より選ぶコーティング材料の内の少なくとも１つの層を
被覆し； （ｂ）被覆面の上に、選択したエネルギーレベルの放射
線のビームを実質的に透過させる第−層と、該第−層の
上に配置した、選択したエネルギーレベルの放射線のビ
ームを透過させない不連続物質の第２層とを有する２層
フィルムからなる着脱し得るマスク材料を重ね、それで
第２層によっておおわれない第１層の領域と定められる
第１ｒｒＩにおけるパターンをもたらし： （Ｃ）該選択したエネルギーレベルの放射線ビームを有
するレーザーを２層フィルムを通して品の被覆面に向け
、それで被覆面において液体を受けるように適応させた
ウェルのパターンを生じ、該ウェルのパターンは２層フ
ィルムの第２層の不透過性物質によっておおわれない第
１層の領域によって定められる 工程を含む前記方法に関する。

発明の一実施態様において用いるのに適した２層フィル
ムは、放射線波が有効に透過し得るように放射線波を実
質的に透過させる第１層と、放射線波を吸収及び／又は
反射する物質の不連続領域の第２層とを含む、プリンデ
ッド回路部品用の銅被覆ラミネートは本発明において用
いることができる２層フィルムのタイプである。放射線
透過性層は、シート成形することができ、かつ有効に放
射線波或はパルスを実質的に物質を透過させ、それで放
射線波或はパルスがプラスチック材料によっておおわれ
た表面に接触することができる多数のプラスチック材料
からなることができる。透過性要用に適した材料はポリ
エステルフィルム、例えばＭｙｌａｒポリエステルフィ
ルムである。　Ｍｙｌａｒはポリエチレンテレフタレー
ト樹脂の高耐久性、透過性の撥水性フィルムについての
Ｅ、１．デュポンドネマーアンドカンパニーの商標であ
る。多くのプラスチックフィルムの組成によって、フィ
ルムは通常レーザーパルスを完全には透過させず、これ
よりレーザー操作の間に破壊され得る。

よって、多くの用途において、プラスチックフィルムは
破壊され、よって再使用し得ない。放射線波を透過させ
ない物質は放射線を吸収及び／又は反射する任意の金属
、例えば銅、ニッケル、金、等にすることができる。放
射線吸収体層として銅及びニッケルを用いるのが好まし
く、銅が最も好ましい、放射線波を透過させない物質を
放射線波を吸収するものにする場合、物質を十分に厚く
し、それで、放射線波から発生される熱を、物質によっ
ておおわれた品を損傷させずに、伝導し得るようにする
。

２層フィルムは、銅ホイルのような材料なＭｙ　ｌａｒ
ポリエステルフィルムのような材料で作ったラミネート
シートに結合させて作ることができる１次いで、パター
ンを非食刻性保護コーティングを用いて銅層に適用し、
次いで露出された未保護鋼を食刻して取り去る。銅によ
っておおわれない領域が放射線透過性層上のパターンを
定め、放射線のレーザーパルスはそれを通過することが
できる。このようにして、適当なレーザー装置を使用す
る場合、不連続放射線吸収体物質（銅）によっておおわ
れない領域として定められる放射線透過性層におけるパ
ターンを液体トランスファー品にウェルのパターンとし
て付与することができる。

フィルムの各々の層の厚さ及び材料は、レーザーからの
パルスの放射線のビームのエネルギー及び周波数と共に
、液体トランスファー品への各々のくぼみの形状及び深
さを決める。グラビア印刷プロセスにおいて用いるため
のほとんどのロールについて、２層フィルムの第１層の
厚さを約１０〜１００ミクロン、−層好ましくは約３５
ミクロンにし、Ｍｙｌａｒポリエステルで作るのが好ま
しい、放射線不透過性層は、銅で作る場合、厚さ２５〜
２００ミクロン、最も好ましくは約１００ミクロンにす
べきである。

２層フィルムの第１層は０．１０ミリジュール或はそれ
以上の放射線のビーム（レーザーパルス）を透過させる
べきである。２層フィルムの第２層は０．１０ミリジュ
ール或はそれ以上の放射線のビームを吸収及び／又は反
射すべきである。使用する特定の２層フィルムに応じて
、適当な動力を有する任意のレーザーを使用して放射線
のビーム或はパルスを生じ、これらは第２屡によって吸
収及び／又は反射されかつ第１Ｎを透過されて液体トラ
ンスファー品に接触して所望の寸法及び形状のウェルな
付与することができる。

操作において、２Ｎフイルムを液体トランスファー品の
被覆面の上に重ね、慣用のレーザーを使用して、ウェル
のパターンを液体トランスファー品の表面に付与するこ
とができる。液体トランスファー品を円筒形ロールにす
る場合、２Ｍフィルムはロールの上をすべる中空シリン
ダーにすることができ、或はロールのまわりを包むシー
トにすることができる。レーザーとフィルム被覆ロール
との間の相対運動を用いて、所望のパターンのウェルな
ロールに付与することができる。主題の発明を用いて、
パターンを定めるウェルな均一な側及び深さにすること
ができる。グラビア印刷ブロセスにおいて用いるための
ロールはアルミニウム或はスチール、好ましくはスチー
ルで作ることができる。

発明の別の実施態様は、液体トランスファー品の製造方
法であって、 （ａ）品に、セラミック及び金属カーバイドからなる群
より選ぶコーティング材料の内の少なくとも１つの層を
被覆し； （ｂ）品の被覆面の上に、選択したエネルギーレベルの
放射線のビームを透過させないマスク材料を付着させ； （ｃ）不連続領域のレジスト層をマスク材料の上に付着
させて、レジスト層によっておおわれないマスク材料の
露出した領域の上に所望のパターンを生じ （ｄ）レジスト層によっておおわれないマスク材料の露
出した領域を取り去り、それで被覆材料の露出した表面
上に所望のパターンを形成し；（ｅ）放射線のビームを
有するレーザーを品の表面に向け、そこでマスク材料に
よっておおわれないコーティング材料の露出した領域の
表面において、液体を受けるように適応させたウェルの
パターンを生じ、他方、マスク材料は放射線のビームが
該マスク材料を透過するのを防止し、それでマスク材料
によっておおわれたコーティング材料の領域を保護し； ｆｆ）マスク材料を品から取り去る 工程を含む前記方法を指向する。

所望の場合、工程（Ｃ）においてマスク材料の上に付着
させたレジスト材料は道具を供給する工程（ｅ）の前に
取り去ることができる。また、マスク材料の波面への一
層良好な接着力を得るために、工程（ａ）における被覆
品を比較的小さい放射線のビームを使用してレーザー処
理して表面に複数の小さなウェルな生じることができる
。深さ１〜８ミクロン、好ましくは約４ミクロン及び１
ｃｍ当り２００〜３００ラインで配置したウェルのレー
ザー彫刻がほとんどの用途について適している。

好ましいマスク材料は銅であり、これを、プラズマスプ
レーコーティングのような慣用の技法を用いて被覆品の
上に付着させることができる。所望の場合には、マスク
材料の付着層を磨き仕上げ或はその他の方法で仕上げて
円滑な表面を生じることができる。

ポリマーのようないくつかのレジスト材料は、初めに有
機溶媒に可溶性であるが、適当な光源に暴露した後に、
同じ溶媒に不溶性になることが知られている。すなわち
、これらのレジスト材料の内の１つをマスク材料の層の
上に付着させ、所定の領域に関してカチオン性放射線の
ような光に暴露するならば、光に暴露した領域は不溶性
になり、レジスト材料の未暴露領域は可溶性のままにな
る９品の上にレーザー彫刻する所望のパターンは、レジ
スト層における未露出領域によって形成することができ
、それで未露出領域を溶解してマスク材料を露出させ、
これを次いで化学的或は機械的手段によって取り去る。

レジスト被覆マスク材料の残りの領域はパルスレーザ−
のような放射線のビームを透過させず、よって、品をレ
ーザー彫刻する場合、レーザービームは品の露出被覆領
域のみを透過することになる。所望の場合には。

レジスト層を適当に取り去った後に、適した溶媒におい
て溶解することによってレーザー彫刻することができる
。レジスト層を取り去らないマスク層の部分上に残す場
合、レジスト層及びマスク層は化学的或は機械的手段に
よってレーザー彫刻した後に取り去ることができる１次
いで、円滑なフラット表面をもたらすために、品を研削
仕上、等によって適当に仕上げ加工して所望の荒さにす
ることができ、この場合、ドクターブレードが表面上の
液体を容易にかつ効率的に取り去ることができる。こう
して、レーザー彫刻したウェルは液体を収容し、品の残
りの領域は平らになり、それで、平らな表面上の液体を
ドクターブレードによって容易に取り去ることができる
。

マスク材料の選択した部分を取り去るつもりの場合、溶
解しない或は影響されない任意の適したレジスト材料を
使用することができる。例えば、マスク材料を銅にする
場合、レジスト材料は品の上の銅の露出領域を取り去る
のに用いる食刻溶液によって影響されてはならない。適
したレジスト材料は米国特許４．０６２．６８６号、同
３．７２６゜６８５号及び同３，６４５，７４４号に開
示されているタイプのポリマーである。これらの参考文
献を本明細書中に援用する。

任意の適したセラミックコーティング、例えば耐火性酸
化物或は金属カーバイドコーティングをロールの表面に
塗布することができる６例えば下記を用いることができ
る：炭化タングステン−コバルト、炭化タングステン−
ニッケル、炭化タングステン−コバルトクロム、炭化タ
ングステン−ニッケルクロム、クロム−ニッケル、酸化
アルミニウム、炭化クロム−ニッケルクロム、炭化クロ
ム−コバルトクロム、タングステン−炭化チタン−ニッ
ケル、コバルト合金、コバルト合金における酸化物分散
体、アルミニウムーチタニア、銅ベースの合金、クロム
ベースの合金、酸化クロム、酸化クロム＋酸化アルミニ
ウム、酸化チタン、チタン＋酸化アルミニウム、鉄ベー
スの合金、鉄ベースの合金に分散させた酸化物、ニッケ
ル及びニッケルベースの合金等。酸化クロム（ＣｒｚＯ
３）、酸化アルミニウム（Ａｌｔｏｓ）、酸化ケイ素或
はこれらの混合物をコーティング材料として用いること
ができ、酸化クロムが最も好ましい。

セラミック或は金属カーバイドコーティングを、２つの
よく知られた技法、すなわち、デトネーションガンプロ
セス或はプラズマコーティングプロセスのいずれかによ
ってロールの金属表面に適用することができる。デトネ
ーションガンプロセスはよく知られており、米国特許２
．７１４５６３号、同４ｊ７３．６８５号及び同４．５
１９゜８４０号に十分に記載されており、これらの米国
特許の開示を本明細書中に援用する。基材を塗布する慣
用のプラズマ技法は米国特許３．０１６゜４４７号、同
３，９１４．５７３号、同３．９５８゜０９７号、同４
．１７３．６８５号及び同４．５１９゜８４０号に記載
されており、これらの米国特許の開示を本明細書中に援
用する。プラズマプロセスか或はＤ−ガンプロセスのい
ずれかによって塗布するコーティングの厚さは０．５〜
１００ミル（０，０１３〜２．５　ｍｍ）の範囲にする
ことができ、かつ荒さはプロセス、すなわちＤ−ガン或
はプラズマ、コーティング材料のタイプ、コーティング
の厚さに応じて約５０〜約１０００Ｒａの範囲にする。

ロール上のセラミック或は金属カーバイドコーティング
を、上述した通りにして、好ましくは適当な細孔シーラ
ント、例えばエポキシシーラント、例えばユニオンカー
バイドコーポレーションから入手し得るＵＣＡＲｌ　０
０エポキシで処理することができる。処理は細孔をシー
ルして水分或はその他の腐食性物質がセラミック或は金
属カーバイドコーティングを透過してロールの下層スチ
ール構造を侵食及び劣化するのを防ぐ。

コーティングを塗布した後に、レーザー処理するのに表
面を平らにするために、慣用の研削仕上技法によってロ
ール表面の所望の寸法及び許容差に仕上げ、平滑度約２
０〜約ｌＯマイクロ−インチ（５１〜２５マイクロ−ｃ
ｍ）Ｒａにする。

トランスファーする液体の容量は各々のウェルの容積（
深さ及び直径）及び単位面積当りのウェルの数によって
調節する。レーザー形成するウェルの深さは２ミクロン
又はそれ以下のような数ミクロンから２５０ミクロン又
はそれ以上程に大きい範囲にすることができる。各々の
ウェルの平均直径をパターン及び線１インチ当りのレー
ザー形成するウェルの数によって調節するのはもち論で
ある。ロールの表面上の領域を２つの部分に分割してウ
ェルの不均一分布或はパターンを表面上に形成するのが
好ましい、１つの部分はウェルな均一なパターン、例え
ば直角パターン、３０″′パターン或は４５°パターン
で含み、レーザー形成したウェルの直線１インチ当りの
数を代表的には８０〜５５０にし、残りの第２部分はウ
ェルのないものくランド領域）にする、ウェル収容領域
とランド領域との間の転位において、リキャストがラン
ド領域上に存在すれば、ドクターブレードを表面上に通
して液体を取り去る際に、インクがよごれてウェルの存
在しない部分に入ることになる。この問題は、ウェルの
間のランド領域においてリキャストの存在しないランド
領域をもたらすことによって、回避する。

セラミック或は金属カーバイドコーティングにおいてウ
ェルな形成するのに、広範囲のレーザーマシンが利用可
能である０通常、レーザーパルス当り０．０００１〜０
．４ジユールの放射線のビーム或はパルスを１０〜３０
０マイクロ秒の期間発生することができるレーザーを使
用することができる。レーザーパルスは、所望のウェル
の特定のパターンに応じて３０〜２０００マイクロ秒離
すことができる。エネルギー及び期間の一石大きい或は
−要事さい値を用いることができ、かつ当分野において
容易に利用し得る他のレーザー彫刻技法を本発明につい
て使用することができる。レーザー彫刻した後に、荒さ
は代表的には２０〜１ＯＯＯマイクロ−インチ（５１〜
２５００マイクロ−ａｍ）Ｒａの範囲になり、かつウェ
ルは直径１０〜３００ミクロン及び高さ２〜２５０ミク
ロンの範囲になることができる。

液体トランスファー品の被覆面をレーザー処理した後に
、被覆面を、マイクロフィニッシング（また、スーパー
フィニッシングとも呼ばれる）技法、例えば、Ｃａｒｂ
ｉｄｅ　ａｎｄ　Ｔｏｏｌ　Ｊｏｕｒｎａｌ、　３月／
４月、１９８８、パブリケーションにＡｌａｎ　Ｐ。

Ｄｔｎｓｂｅｒｇがｒ　Ｒａ１ｌ　Ｓｕｐｅｒｆｉｎｉ
ｓｈｉｎｇ　ｗｉｔｈ　ＣｏａｔｅｄＡｂｒａｓｉｖｅ
ｓ　Ｊで載せている技法を用いて、仕上げ加工して約６
マイクローインチ（１５マイクロ−ａｍ）Ｒａより小さ
くすることができる。マイクロフィニッシング技法は彫
刻したロールの全長にわたって予測可能なばらつきのな
い表面をもたらしかつリキャストのない表面をもたらす
。よって、望まない流体を全てドクターブレードによっ
てランド領域から取り去ることができる。その上、マイ
クロフィニッシング技法は被覆品の所望の仕上げをもた
らすことができる。

受面にトランスファーすることができる液体は、リンク
、液体接着剤、等のような任意の液体である。

第１図はポリマーの第１層４と銅の第２層６とからなる
２層フィルム２を示す、ポリマー層４はパルスレーザ−
のビームを透過させ、銅Ｎ６はパルスレーザ−のビーム
を透過させず、それで、銅Ｍ６に向けるパルスレーザ−
のビームは銅層６を透過してポリマー層４に接触しない
、第１図に示す通りに、不連続領域５は銅Ｎ６でおおわ
れないポリマー層４の露出した領域によって定められる
。この２層フィルム２におけるこれらの不連続領域５を
用い、慣用のタイプのレーザー装置を使用してレーザー
彫刻されるパターンを表面に付与することができる。

第２及び３図は第１図の２屡フイルム２をプリントロー
ル８のまわりに巻いた状態を示し、プリントロール８は
、第３図に示す通りに、スチール基材１２をセラミック
コーティング１４で被覆させてなる。前に検討した通り
に、２層フィルム２をプリントロール８のまわりに配置
する場合、パルスレーザ−のビームをプリントロール８
の領域に横ざまに向け、それで、エネルギーのビームは
露出した銅領域６によって吸収及び／又は反射され、露
出したポリマー領域４を通過される。パルスレーザ−は
露出したポリマー領域５でおおわれた領域に透過し、プ
リントロール８上のセラミツり被覆層１４においてウェ
ルな形成する。レーザー彫刻した後に、２Ｎフイルム２
を取り去り、それでレーザー彫刻されたプリントロール
を露出させる。第６図は第１．２及び３図の２層フィル
ム２を用いて作製することができるレーザー彫刻したロ
ール１６を示す、レーザー彫刻したロール１６は複数の
ウェル１８を有するように示し、各々のウェル群は第２
図に示す露出させたポリマー領域５に対応する不連続パ
ターンを形成する。

第６及び９図に示すレーザーウェルな、発明を一層良く
理解することができるように、実際に作られるよりも一
暦大きく示す。実際上、各々のウェルは非常に小さいの
で、肉眼では見えないであろう。

第４及び５図は発明の別の実施態様を例示するものであ
り、所望のパターンの銅層２０をプリントロール２４の
スチール基材２１上のセラミック被覆層２２の表面上に
配置する。前に検討した通りにして、銅層２０をセラミ
ック被覆したプリントロール２４の上に付着させ、次い
でレジスト層を銅の上に付着させた後にレジスト層を選
択的に光に暴露させることによって所望のパターンを生
じ、残留レジスト層及び銅を取り去って、第４及び５図
に示す通りに、露出したセラミック領域の、幾何学形状
２６がプリントロール２４の上に残る。詳細には、第４
図は、セラミック被覆プリントロール２４がその表面上
に銅２０の贋を付置させ、ｗ１２０の層はプリントロー
ル２４の上のセラミック被覆材料２２の露出領域２６を
有するように示す。プリントロール２４のレーザー彫刻
はレーザーパルスのビームを銅層によって吸収及び／又
は反射させかつ被覆層２２を透過させる。銅を機械的或
は化学的手段によって取り去ると、第６図に示すタイプ
のレーザー彫刻したプリントロール１６が作られる。こ
のように、第６図のレーザー彫刻したプリントロール１
６は第１〜３図に示す２層フィルムを使用して或は第４
及び５図に示す通りに銅を直接プリントロールの上に付
着させることによって作ることができる。

第７図は第１図に示すのと同様の２層フィルム３０を示
すが、ポリマーシート３４の上に分散させた銅３２は第
１図のポリマー層４の上に分散させた銅６のネガと同様
であり、追加鋼幾何学形状３５を外胴幾何学形状３６内
に配置する点で異る。この第７図に示す通りに、銅３２
は複数の独立した幾何学形状３５及び３６を形成する。

この２層フィルム３０をセラミック被覆プリントロール
の上に重ね、次いでプリントロールを上述した通りにし
てレーザー彫刻することによって、第９図に示す通りに
ウェルの存在しない領域４４が幾何学形状を形成するレ
ーザー彫刻されたプリントロール４０を製造することが
できる。プリントロール４０はインクのような液体を受
け入れるウェル４２を複数収容し、それでインクな受面
にトランスファーさせ、インクのない幾何学形状４４を
有するプリントが残り得ることを注記する。

第８図はセラミック被覆プリントロール５ｏの上の種々
の幾何学形状５３及び５４の銅分数された層５２を示す
０分散させた銅形状５３及び５４は、銅を第４図に示す
プリントロール上に付着させた通りにして付着させるこ
とができる。第８図に示すセラミックプリントロール５
０を使用して、プリントロール５０を上述した通りにし
てレーザー彫刻して銅を取り去ると、第９図に示す通り
のウェルのない領域４４が幾何学形状を形成するレーザ
ー彫刻されたプリントロール４０が生じる。プリントロ
ール４０はインクのような液体を受け入れるウェル４２
を複数収容し、それでインクを受面にトランスファーさ
せ、インクのない幾何学形状５６を有するプリントが残
り得ることを注記する。

直径１５０ミリメートルのスチールグラビアロールに酸
化クロム（Ｃｒｉｅｓ）の０．０１２インチ（０，３０
ｍｎ＋）の層を被覆した。厚さ０．０１０インチ（０，
２５ｍｍ）のＭｙｌａｒボリエ又チルフィルムを用い、
これに銅ホイルを結合させて２層フィルムを作製した。

非食刻性の保護コーティングを銅ホイルの選定した領域
に付着させて保護層を被覆しない銅の領域において不連
続パターンを定めた。

露出した銅（未被覆銅）を、塩化第二鉄を用いて食刻し
て取り去った。残留する綱領域は、レーザーマシンから
の放射線のパルスを吸収及び／又は反射する領域になっ
た。

２層フィルムを被覆したグラビアロールの上に重ね、Ｃ
Ｏ□を用いたレーザーマシンを使用して放射線のパルス
を発生させて２Ｎフイルムに向けた。パルスは綱領域に
よって吸収及び／又は反射されかつＭｙｌａｒポリエス
テルフィルム（銅層を含有しない）を透過した。使用し
たレーザーは下記のパラメータを有していた： 周波数　　　　　　　１３００Ｈｚ パルス幅　　　　　　２００ＵＳ 電流　　　　　　　　　　　　　　　７０　ミリンペア
平均電力　　　　　　６５　ワット 焦点距離　　　　　　３．５　インチ（８，９ｃｍ）Ｍ
ｙｌａｒｉを透過させた放射線のパルスはグラビアロー
ルの被覆面に接触して被覆面においてくぼみ或はウェル
な複数生じた。レーザーからのパルスは全く均一のエネ
ルギーであり、よって、被覆面において均一なウェルな
複数生じてロール上にパターンを定めた。こうして、パ
ターンの境界を定めるウェルは、パターンの中央内に収
容されるウェルと同じ深さ及び寸法を有していた。境界
領域におけるウェルのこの均一性は、受面上にプリント
する際にパターンのエツジが毛羽立つのを防ぐ。

レーザー処理した被覆グラビアロールな、フィルム裏付
ダイヤモンドテープからなるロールを被覆ロール上に所
望の速度的１２０ｒｐｍで移動させて用いてマイクロ仕
上げしてウェルな定めるリキャスト領域の除去を助成し
た。仕上げ加工した表面は荒さ約３マイクロ−インチ（
７，６マイクロ−ａｍ）Ｒａを有していた。ウェルのパ
ラメータは下記の通りであった： ウェルを検査して、パターンの中央及びウェルの境界に
おける全てのウェルは総括寸法が同じであり、よって、
ロールは印刷用に使用する場合、毛羽立ったエツジを持
たないパターンを受面に確実に付与することを示した。

匠ｌ 直径１５０ミリメートルのスチールグラビアロールに酸
化クロム（Ｃｒ、０３）の０．０１２インチ（０，３０
ｍｍ）の層を被覆した。厚さ０．０１０インチ（０，２
５ｍｍ）のＭｙｌａｒポリエステルフィルムを用い、こ
れに銅ホイルを結合させて２層フィルムを作製した。非
食刻性の保護コーティングを銅ホイルの選定した領域に
付着させて保護層を被覆しない銅の領域において不連続
パターンを定めた。

露出した銅（未被覆銅）を、塩化第二鉄を用いて食刻し
て取り去った。残留する綱領域は、レーザーマシンから
の放射線のパルスを吸収及び／又は反射する領域になっ
た。

２層フィルムを被覆したグラビアロールの上に重ね、Ｃ
Ｏ２を用いたレーザーマシンを使用して放射線のパルス
を発生させて２層フィルムに向けた。パルスは綱領域に
よって吸収及び／又は反射されかつＭｙｌａｒポリエス
テルフィルム（銅層を含有しない）を透過した。使用し
たレーザーは下記のパラメータを有していた： 周波数　　　　　　　１０００Ｈｚ パルス幅　　　　　　２００ＵＳ 電流　　　　　　　　　　　　　　　　５０　ミリ７ン
ベ７平均電力　　　　　　５３　ワット 焦点距離　　　　　　３．５　インチ（８，９ａｍ）記
の通りであった： Ｍｙｌａｒ層を透過させた放射線のパルスはグラビアロ
ールの被覆面に接触して被覆面においてくぼみ或はウェ
ルな複数生じた。レーザーからのパルスは全く均一のエ
ネルギーであり、よって、被覆面において均一なウェル
を複数生じてロール上にパターンを定めた。こうして、
パターンの境界を定めるウェルは、パターンの中央内に
収容されるウェルと同じ深さ及び寸法を有していた。境
界領域におけるウェルのこの均一性は、受面上にプリン
トする際にパターンのエツジが毛羽立つのを防ぐ。

レーザー処理した被覆グラビアロールな、フィルム裏付
ダイヤモンドテープからなるロールを被覆ロール上に所
望の速度約１２０　ｒｐｍで移動させて用いてマイクロ
仕上げしてウェルを定めるリキャスト領域の除去を助成
した。仕上げ加工した表面は荒さ約３マイクロ−インチ
（７，６マイクロ−ｃｍ）Ｒａを有していた。ウェルの
パラメータは下ウェルを検査して、パターンの中央及び
ウェルの境界における全てのウェルは総括寸法が同じで
あり、よって、ロールは印刷用に使用する場合、毛羽立
ったエツジを持たないパターンを受面に確実に付与する
ことを示した。

近ｌ 直径１５０ミリメートルのスチールグラビアロールに酸
化クロム（Ｃｒ２ｂｓ）の０．０１２インチ（０，３０
ｍｍ）の層を被覆した。厚さ０．０１０インチ（０，２
５ｍｍ）のＭｙｌａｒポリエステルフィルムを用い、こ
れに銅ホイルを結合させて２層フィルムを作製した。非
食刻性の保護コーティングを銅ホイルの選定した領域に
付着させて保護層を被覆しない銅の領域において不連続
パターンを定めた。

露出した銅（未被覆銅）を、塩化第二鉄を用いて食刻し
て取り去った。残留する銅領域は、レーザーマシンから
の放射線のパルスを吸収及び／又は反射する領域になっ
た。

２層フィルムを被覆したグラビアロールの上に重ね、Ｃ
Ｏ２を用いたレーザーマシンを使用して放射線のパルス
を発生させて２層フィルムに向けた。パルスは銅領域に
よって吸収及び／又は反射されかつＭｙｌａｒポリエス
テルフィルム（銅層を含有しない）を透過した。使用し
たレーザーは下記のパラメータを有していた： 周波数　　　　　　　２５００Ｈｚ パルス幅　　　　　　１００ＵＳ 電流　　　　　　　　　　　　　　　　　９０　　ミリ
アンペア平均電力　　　　　　６５　ワット 焦点距離　　　　　　２．５　インチ（６，４ｃｍ）Ｍ
ｙｌａｒ層を透過させた放射線のパルスはグラビアロー
ルの被覆面に接触して被覆面においてくぼみ或はウェル
を複数生じた。レーザーからのパルスは全く均一のエネ
ルギーであり、よって、被覆面において均一なウェルを
複数生じてロール上にパターンを定めた。こうして、パ
ターンの境界を定めるウェルは、パターンの中央内に収
容されるウェルと同じ深さ及び寸法を有し、ていた。境
界領域におけるウェルのこの均一性は、受面上にプリン
トする際にパターンのエツジが毛羽立つのを防ぐ。

レーザー処理した被覆グラビアロールを、フィルム裏付
ダイヤモンドテープからなるロールを被覆ロール上に所
望の速度約１２０　ｒｐｍで移動させて用いてマイクロ
仕上げしてウェルな定めるリキャスト領域の除去を助成
した。仕上げ加工した表面は荒さ約３マイクロ−インチ
（７，６マイクロ−ａｍ）Ｒａを有していた。ウェルの
パラメータは下記の通りであった： ウェルを検査して、パターンの中央及びウェルの境界に
おける全てのウェルは総括寸法が同じであり、よって、
ロールは印刷用に使用する場合、毛羽立ったエツジを持
たないパターンを受面に確実に付与することを示した。

旧 スチールグラビアロールに酸化クロムの０．０１２イン
チ（０，３０ｍｍ）の層を被覆した。ロールをレーザー
彫刻して深さ０．００４ミリメートル及び１ｃｍ当り２
００〜３００ライン分散させたウェルを作り、それでコ
ーティングの表面が銅層な受け入れるのを一層受け入れ
やすくした。慣用のプラズマ蒸着手段を用いて、厚さ０
．１５ミリメートルの銅層なレーザー彫刻した被覆面の
上に蒸着させた。感光性ポリマーレジストを銅表面上に
付着させ、所望のパターンを有するネガを感光性ポリマ
ーレジストの上に置いた。ネガにおける露出させた感光
性ポリマーレジスト領域を適当な光源に暴露させ、それ
から次いで感光性ポリマーレジストを発現させた。光源
を接触させない感光性ポリマーレジストの領域を取り去
って露出させた綱領域が残り、これもまた慣用の食刻に
よって取り去った。レジストによっておおわれた残留銅
領域はレーザーパルスを吸収及び／又は反射することが
できた。

慣用のレーザー装置を使用して放射線のパルスをグラビ
アロールに横ざまに向け、それで、綱領域はパルスを吸
収及び／又は反射し、パルスは露出されたセラミック領
域に接触して該露出セラミック領域においてウェルを形
成した。次いで、ロール上に残る綱領域を取り去った。

レーザー処理したロールを次いで例３に記載する通りに
してマイクロ仕上げして荒さ約３マイクロ−インチ（７
，６マイクロ−ａｍ）Ｒａに仕上げた。ウェルを検査し
て、パターンの中央及びウェルの境界における全てのウ
ェルは総括寸法が同じであり、よって、ロールは、印刷
用に使用した際に、確実に毛羽立ったエツジを持たない
パターンな受面に付与することを示した。

本発明によって、発明の範囲から逸脱しないで多くの可
能な実施態様をなし得るので、記述した全ての事項は制
限する意味でなく、例示と解すべきことは理解されるも
のと思う０例えば、本発明を用いて、液体或は接着剤の
パターンを紙、布、フィルム、木材、スチール、等に付
与することができる液体トランスファー品を製造するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明において用いるための２層マスクシート
の斜め正面図である。 第２図は第１図の２層マスクシートでおおったプリント
ロールの側面図である。 第３図は第２図のプリントロールの線３−３についての
断面図である。 第４図は本発明において用いるためのマスク材料で被覆
したプリントロールの側面図である。 第５図は第４図のプリントロールの線４−４についての
断面図である。 第６図は本発明に従って作ったレーザー彫刻したプリン
トロールの側面図である。 第７図は本発明において用いるための別の２層マスクシ
ートの正面図である。 第８図は本発明において用いるためのマスク材料で被覆
したプリントロールの別の実施態様の側面図である。 第９図は本発明に従って作ったレーザー彫刻したプリン
トロールの側面図である。 ２．３０・・・２層フィルム ４．３４・・・ポリマー層 ５・・・不連続領域 ６．２０．３２・・・金属層 ７・・・不連続パターン ８．２４．４０，５０・・・プリントロール１２．２１
・・・基材 １４．２２・・・セラミック被覆層 １６・・・レーザー彫刻したロール １８．４２・・・ウェル ＦＩＧ、１ ＦＩＧ、６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、液体を別の面にトランスファーする際に用いる液体
   トランスファー品の製造方法であって、 （ａ）品に、セラミック及び金属カーバイドからなる群
   より選ぶコーティング材料の内の少なくとも１つの層を
   被覆し； （ｂ）被覆面の上に、選択したエネルギーレベルの放射
   線のビームを透過させない不連続物質の着脱し得るマス
   ク材料を重ね； （ｃ）該選択したエネルギーレベルの放射線のビームを
   有するレーザーを品の被覆面に向け、それで不連続マス
   ク材料によっておおわれない被覆面の領域において液体
   を受け入れるように適応させたウェルのパターンを生じ
   、該ウェルのパターンは不連続マスク材料によっておお
   われない被覆面の領域によって定められるようにし； （ｄ）被覆品からマスク材料を取り去る 工程を含む方法。 ２、工程（ａ）の後に、下記の工程： （ａ′）被覆面を処理して荒さ５１マイクロ−ｃｍ（２
   ０マイクロ−インチ）Ｒａ未満を得る を加える特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３、工程（ａ）の後に、下記の工程： （ａ′）被覆面をシーラントでシールする を加える特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４、工程（ｂ）における前記着脱し得るマスク材料が、
   選択したエネルギーレベルの放射線のビームを実質的に
   透過させる第１層と、該第１層の上に配置した、選択し
   たエネルギーレベルの放射線のビームを透過させない不
   連続物質の第２層とを有する２層フィルムからなり、そ
   れで第２層によっておおわれない第１層の領域と定めら
   れる第１層におけるパターンを生じる特許請求の範囲第
   １項記載の方法。 ５、前記着脱し得るマスク材料を被覆品の表面に付着さ
   せる特許請求の範囲第１項記載の方法。 ６、工程（ａ′）の後に、下記の工程； （ａ″）被覆面を処理して荒さ５１マイクロ−ｃｍ（２
   ０マイクロ−インチ）Ｒａ未満を得る を加える特許請求の範囲第３項記載の方法。 ７、工程（ｄ）の後に、下記の工程： （ｅ）レーザー処理した品の表面を円滑にして荒さ１５
   マイクロ−ｃｍ（６マイクロ−インチ）Ｒａ又はそれ以
   下にする を加える特許請求の範囲第１、２、４、５又は６項記載
   の方法。 ８、工程（ｂ）において、第１層が少なくとも０．１０
   ミリジュールの放射線のビームを実質的に透過させ、か
   つ第２層が該放射線のビームを透過させない特許請求の
   範囲第４項記載の方法。 ９、工程（ｂ）において、第１層がポリエステルフィル
   ムである特許請求の範囲第４項記載の方法。 １０、工程（ｂ）において、第２層を銅、ニッケル及び
   金からなる群より選択する特許請求の範囲第４項記載の
   方法。 １１、工程（ｂ）において、第１層がポリエステルフィ
   ルムであり、第２層が銅である特許請求の範囲第４項記
   載の方法。 １２、工程（ｂ）において、着脱し得る材料を銅、ニッ
   ケル及び金からなる群より選ぶ特許請求の範囲第５項記
   載の方法。 １３、工程（ｂ）において、着脱し得る材料が銅である
   特許請求の範囲第１２項記載の方法。 １４、液体トランスファー品がグラビアロールである特
   許請求の範囲第１、２、４、５又は６項記載の方法。 １５、グラビアロールがアルミニウム及びスチールから
   なる群より選ぶ材料で作った基材を含み、該グラビアロ
   ールに酸化クロム、酸化アルミニウム、酸化ケイ素及び
   これらの混合物から選ぶ材料を被覆する特許請求の範囲
   第１４項記載の方法。 １６、基材を酸化クロムの層でスチール被覆する特許請
   求の範囲第１５項記載の方法。 １７、工程（ｃ）において、ウェルが直径１０〜３００
   ミクロンでありかつ深さ２〜２５０ミクロンである特許
   請求の範囲第１、２、４、５又は６項記載の方法。