JPH03133634A - 耐熱性積層体およびその製法 - Google Patents
耐熱性積層体およびその製法Info
- Publication number
- JPH03133634A JPH03133634A JP27337489A JP27337489A JPH03133634A JP H03133634 A JPH03133634 A JP H03133634A JP 27337489 A JP27337489 A JP 27337489A JP 27337489 A JP27337489 A JP 27337489A JP H03133634 A JPH03133634 A JP H03133634A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- heat
- resistant
- laminate
- polyimide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 12
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 67
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 67
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 33
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 33
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims abstract description 23
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 35
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 35
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 13
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 11
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 15
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 abstract description 14
- -1 aromatic tetracarboxylic acid Chemical class 0.000 abstract description 12
- 238000005476 soldering Methods 0.000 abstract description 10
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 abstract description 9
- 125000005442 diisocyanate group Chemical group 0.000 abstract description 7
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 abstract description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 abstract description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 abstract description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 29
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 21
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 14
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 14
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 5
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMTLVUCMBWBYSO-UHFFFAOYSA-N N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 Chemical compound N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 WMTLVUCMBWBYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 3
- JLTHXLWCVUJTFW-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoro-n,n'-diphenylbutane-1,4-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)NC1=CC=CC=C1 JLTHXLWCVUJTFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRMDXTVKVHKWEK-UHFFFAOYSA-N 1,2-diaminoanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=C(N)C(N)=CC=C3C(=O)C2=C1 LRMDXTVKVHKWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diisocyanatonaphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=C(N=C=O)C(N=C=O)=CC=C21 ZXHZWRZAWJVPIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHQULXYNBKWNDF-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylbenzene-1,2-diamine Chemical group CC1=CC=C(N)C(N)=C1C MHQULXYNBKWNDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 4-methylimidazole Chemical compound CC1=CNC=N1 XLSZMDLNRCVEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 2
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 2
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N phenylmethanediamine Chemical compound NC(N)C1=CC=CC=C1 DYFXGORUJGZJCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N (2s,3r)-butane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C[C@H](C(O)=O)[C@H](C(O)=O)CC(O)=O GGAUUQHSCNMCAU-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- OFXSBTTVJAFNSJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-tetradecafluoro-n,n'-diphenylheptane-1,7-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)NC1=CC=CC=C1 OFXSBTTVJAFNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VITYLMJSEZETGU-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluoro-n,n'-diphenylpentane-1,5-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)NC1=CC=CC=C1 VITYLMJSEZETGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3-tetramethylurea Chemical compound CN(C)C(=O)N(C)C AVQQQNCBBIEMEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHKAPDNEVMYVFU-UHFFFAOYSA-N 1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tetradecafluoro-1-n,1-n'-diphenylheptane-1,1-diamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(F)(C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F)NC1=CC=CC=C1 CHKAPDNEVMYVFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHUPYSUKYAIBW-UHFFFAOYSA-N 1-acetylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC(=O)N1CCCC1=O YLHUPYSUKYAIBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075142 2,5-diaminotoluene Drugs 0.000 description 1
- OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound CC1=CC(N)=CC=C1N OBCSAIDCZQSFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDSPLIQKGRTNCG-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylcyclohexa-1,5-diene-1,3-diamine Chemical group CC1C=CC(N)=CC1(C)N BDSPLIQKGRTNCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGSUUFDRDVJCLT-UHFFFAOYSA-N 3-methylazepan-2-one Chemical compound CC1CCCCNC1=O FGSUUFDRDVJCLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000570 Cupronickel Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001026509 Kata Species 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004693 Polybenzimidazole Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000971 Silver steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000838698 Togo Species 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1,2,2-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1(C(O)=O)C(O)=O STZIXLPVKZUAMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920005558 epichlorohydrin rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRYWBRATLBWSSG-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 WRYWBRATLBWSSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C2=CC(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 DSCIZKMHZPGBNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical group C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002480 polybenzimidazole Polymers 0.000 description 1
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/386—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of an organic polymeric bonding layer, e.g. adhesive
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、両面に金属箔層を有する耐熱性積層体および
その製法に関し、この積層体は、たとえば印刷回路板用
のフレキシブル金属張り回路基板等として極めて有用で
ある。
その製法に関し、この積層体は、たとえば印刷回路板用
のフレキシブル金属張り回路基板等として極めて有用で
ある。
[従来の技術]
上記の様な回路基板として用いられる、両面に金属層を
有する耐熱性積層体としては、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエーテルスルホンポリベンズイミダゾール
等よりなる耐熱性重合体フィルムの両面に、エポキシ樹
脂やその変性物。
有する耐熱性積層体としては、ポリイミド、ポリアミド
イミド、ポリエーテルスルホンポリベンズイミダゾール
等よりなる耐熱性重合体フィルムの両面に、エポキシ樹
脂やその変性物。
ニトリルゴム系樹脂、アセタール系樹脂やその変性物、
シリコーン系樹脂等の接着剤を介して金属箔を接合した
ものが主流となっている。これらの積層体を前述の様な
回路基板として使用するときは、該積層体表面の金属層
をエツチング等により除去して所定の回路パターンを形
成するが、前述の如き従来の積層体では、エツチング等
により露出する接着剤層の耐熱性が不十分であるため、
積層ベースとしてせっかく耐熱性樹脂を用いているにも
かかわらずその特長が有効に発揮されず、回路基板等と
しての耐熱性は需要者の要求を満たしているとは言えな
い。そこで接着剤として耐熱性の優れた弗素系樹脂を使
用して耐熱性を改善する方法も検討されたが、この場合
は積層ベースと金属を接合するときの接着性、あるいは
金属層をエツチングした後露出する接着剤表面を被覆す
るための被覆剤の接着性に問題があり、満足のいく結果
は得られていない。
シリコーン系樹脂等の接着剤を介して金属箔を接合した
ものが主流となっている。これらの積層体を前述の様な
回路基板として使用するときは、該積層体表面の金属層
をエツチング等により除去して所定の回路パターンを形
成するが、前述の如き従来の積層体では、エツチング等
により露出する接着剤層の耐熱性が不十分であるため、
積層ベースとしてせっかく耐熱性樹脂を用いているにも
かかわらずその特長が有効に発揮されず、回路基板等と
しての耐熱性は需要者の要求を満たしているとは言えな
い。そこで接着剤として耐熱性の優れた弗素系樹脂を使
用して耐熱性を改善する方法も検討されたが、この場合
は積層ベースと金属を接合するときの接着性、あるいは
金属層をエツチングした後露出する接着剤表面を被覆す
るための被覆剤の接着性に問題があり、満足のいく結果
は得られていない。
また、耐熱性重合体の前駆重合体(たとえばポリイミド
やポリアミドイミドの前駆体であるポリアミド酸)や未
硬化状態の耐熱性樹脂塗膜(たとえば可溶性ポリイミド
やポリアミドイミド等)を接着剤とし、積層後熱硬化さ
せた積層体も知られている。ところが前者の積層体では
接着剤として用いた前駆重合体の硬化過程で揮発性の縮
合生成物が生成し、また後者の積層体では、接着剤層に
多量の溶剤が残存してこれらの揮発・放散が起こり難い
ため、接着剤層に気泡欠陥ができたり、あるいは金属箔
表面に凹凸を生じるという問題があるほか、急激に加熱
すると、低分子量化合物や溶剤の蒸発によって接着部が
破壊するといった問題を生じることもある。
やポリアミドイミドの前駆体であるポリアミド酸)や未
硬化状態の耐熱性樹脂塗膜(たとえば可溶性ポリイミド
やポリアミドイミド等)を接着剤とし、積層後熱硬化さ
せた積層体も知られている。ところが前者の積層体では
接着剤として用いた前駆重合体の硬化過程で揮発性の縮
合生成物が生成し、また後者の積層体では、接着剤層に
多量の溶剤が残存してこれらの揮発・放散が起こり難い
ため、接着剤層に気泡欠陥ができたり、あるいは金属箔
表面に凹凸を生じるという問題があるほか、急激に加熱
すると、低分子量化合物や溶剤の蒸発によって接着部が
破壊するといった問題を生じることもある。
更に他の積層法として、接着剤を使用せず、金属箔と耐
熱性重合体フィルムを熱圧着し、あるいは金属箔上に耐
熱性重合体溶液を塗布・乾燥し硬化して予備積層体を得
、樹脂側の表面に金属箔を熱圧着する方法も知られてい
る。ところが耐熱性重合体は熱変形温度が高く、相当高
い温度と圧力をかけなければ熱圧着を行なうことができ
ないので、高価な熱圧着設備が必要となるばかりでなく
操作も煩雑になり、積層体は非常に高価なものになる。
熱性重合体フィルムを熱圧着し、あるいは金属箔上に耐
熱性重合体溶液を塗布・乾燥し硬化して予備積層体を得
、樹脂側の表面に金属箔を熱圧着する方法も知られてい
る。ところが耐熱性重合体は熱変形温度が高く、相当高
い温度と圧力をかけなければ熱圧着を行なうことができ
ないので、高価な熱圧着設備が必要となるばかりでなく
操作も煩雑になり、積層体は非常に高価なものになる。
このほか、アラミド繊維不織布やガラス繊維不織布等の
繊維質基板に、ポリイミド樹脂やエポキシ樹脂等を含浸
せしめた樹脂含浸繊維質基板を介して金属箔を接合して
なる積層体も知られているが、この積層体は可撓性が不
充分であり、厳しい折曲げ力が加わる用途には適用でき
ない。
繊維質基板に、ポリイミド樹脂やエポキシ樹脂等を含浸
せしめた樹脂含浸繊維質基板を介して金属箔を接合して
なる積層体も知られているが、この積層体は可撓性が不
充分であり、厳しい折曲げ力が加わる用途には適用でき
ない。
この様に金属箔を両面に有する耐熱性積層体には種々の
問題が残されており、性能およびコストを共に満足し得
るものは得られていない。
問題が残されており、性能およびコストを共に満足し得
るものは得られていない。
[発明が解決しようとする課題]
本発明はこの様な事情に着目してなされたものであって
、その目的は、金属箔層を両面に有し、耐熱性、殊に半
田付は時の熱に十分耐え得る耐熱性を有し、且つ安価で
可撓性等の物性にも優れた耐熱性積層体およびその製法
を提供しようとするものである。
、その目的は、金属箔層を両面に有し、耐熱性、殊に半
田付は時の熱に十分耐え得る耐熱性を有し、且つ安価で
可撓性等の物性にも優れた耐熱性積層体およびその製法
を提供しようとするものである。
[課題を解決するための手段]
上記課題を解決することのできた本発明に係る耐熱性積
層体の構成は、エポキシ系耐熱性接着剤を介してポリイ
ミド系樹脂および/またはポリアミドイミド系樹脂が積
層され、更にこれら樹脂層の両表面に金属箔層が形成さ
れてなるところに要旨を有するものである。こうした構
成の積層体は、金属箔上に、ポリイミド系樹脂および/
またはポリアミド系樹脂よりなる樹脂溶液を塗布し乾燥
して予備積層体を得、または上記ポリイミド系樹脂およ
び/またはポリアミドイミド系樹脂の前駆体であるポリ
アミド酸樹脂溶液を塗布し、乾燥・硬化して予備積層体
を得、この予備成形体の樹脂面同士をエポキシ系耐熱性
接着剤により接合することによって容易に得ることがで
きる。
層体の構成は、エポキシ系耐熱性接着剤を介してポリイ
ミド系樹脂および/またはポリアミドイミド系樹脂が積
層され、更にこれら樹脂層の両表面に金属箔層が形成さ
れてなるところに要旨を有するものである。こうした構
成の積層体は、金属箔上に、ポリイミド系樹脂および/
またはポリアミド系樹脂よりなる樹脂溶液を塗布し乾燥
して予備積層体を得、または上記ポリイミド系樹脂およ
び/またはポリアミドイミド系樹脂の前駆体であるポリ
アミド酸樹脂溶液を塗布し、乾燥・硬化して予備積層体
を得、この予備成形体の樹脂面同士をエポキシ系耐熱性
接着剤により接合することによって容易に得ることがで
きる。
[作用コ
本発明の耐熱性積層体は、前述の如くポリイミド系樹脂
および/またはポリアミドイミド系樹脂よりなる耐熱性
樹脂層の片面に金属箔を積層させた積層体の上記樹脂層
同士を、更にエポキシ系耐熱性接着剤を介して接合して
なるものであり、両面に金属箔層を有する高耐熱性の積
層体であり、表面の金属箔層をエツチングしたときに露
出する樹脂層は卓越した耐熱性を示し、半田付は等にも
十分に耐える耐熱性を発揮する。しかも上記本発明の方
法を利用すれば、高温・高圧の圧着処理設備等を使用す
る必要なしに金属箔と耐熱性樹脂層の強固な接合体を得
ることができ、また耐熱性樹脂層内に溶剤の揮発、ある
いは硬化時の重縮合反応に伴なう低分子量化合物の放出
による気孔欠陥等を生ずる恐れもなく、連続生産も容易
に行なうことができ、高性能の耐熱性積層体を安価に製
造することができる。
および/またはポリアミドイミド系樹脂よりなる耐熱性
樹脂層の片面に金属箔を積層させた積層体の上記樹脂層
同士を、更にエポキシ系耐熱性接着剤を介して接合して
なるものであり、両面に金属箔層を有する高耐熱性の積
層体であり、表面の金属箔層をエツチングしたときに露
出する樹脂層は卓越した耐熱性を示し、半田付は等にも
十分に耐える耐熱性を発揮する。しかも上記本発明の方
法を利用すれば、高温・高圧の圧着処理設備等を使用す
る必要なしに金属箔と耐熱性樹脂層の強固な接合体を得
ることができ、また耐熱性樹脂層内に溶剤の揮発、ある
いは硬化時の重縮合反応に伴なう低分子量化合物の放出
による気孔欠陥等を生ずる恐れもなく、連続生産も容易
に行なうことができ、高性能の耐熱性積層体を安価に製
造することができる。
本発明で使用されるポリイミド系樹脂とは、下記一般式
[11で示されるポリイミド繰り返し単位を有する重合
体を総称し、またその前駆体であるポリアミド酸樹脂と
は、下記一般式[II ]で示される繰り返し単位を有
する重合体を言い、これは最終的に一般式[I]で示さ
れる樹脂となる。
[11で示されるポリイミド繰り返し単位を有する重合
体を総称し、またその前駆体であるポリアミド酸樹脂と
は、下記一般式[II ]で示される繰り返し単位を有
する重合体を言い、これは最終的に一般式[I]で示さ
れる樹脂となる。
0 。
・・−[II ]
(式中、R1は芳香族ジアミンまたはジイソシアナート
のアミノ基を除いた残基を示し、R2は芳香族テトラカ
ルボン酸話導体のカルボン酸話導部を除いた残基を示す
) 上記一般式[I]または[!i]におけるR+を骨格と
する芳香族ジアミンまたはジイソシアナートとしては。
のアミノ基を除いた残基を示し、R2は芳香族テトラカ
ルボン酸話導体のカルボン酸話導部を除いた残基を示す
) 上記一般式[I]または[!i]におけるR+を骨格と
する芳香族ジアミンまたはジイソシアナートとしては。
、m、p−フ二二レンジアミン、2.4−ジアミノトル
エン、2.5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキ
シレン、ジアミノキシレン、1.5−ジアミノナフタレ
ン、2゜6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、4゜4
°−ジアミノターフェニル、4.4’ −ジアミノクォ
ーターフェニル、4.4°−ジアミノジフェニルメタン
、1.2−ビス(アニリン)エタン、4.4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、
2.2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2.2
−ビス(p−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン
、2゜6−ジアミノナフタレン、3,3°−ジメチルベ
ンジジン、3,3°−ジメトキシベンジジン、3.3゛
−ジメチル−4,4°−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3°−ジメチル−4,4゛ジアミノジフエニルメタ
ン、ジアミノトルエン、ジアミノベンシトリフルオライ
ド、1,4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、
4,4゜ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、2
゜2−ビス(4−(p−アミノフェノキシ)フェニル)
プロパン、ジアミノアントラキノン、4゜4゛−ビス(
3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホン、
1.3−ビス(アニリノ)へキサフルオロプロパン、1
,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,3
−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1.7−ビ
ス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタンなどのジア
ミン類、並びにこれらのジアミンとホスゲンなどの反応
によって得られるジイソシアナート、たとえばトリレン
ジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート
、ナフタレンジイソシアナート、ジフェニルエーテルジ
イソシアナート、フェニレン−1,3−ジイソシアナー
トなどの芳香族ジイソシアナート類がある。また、テト
ラカルボン酸並びにその誘導体、即ちR2としては次の
様なものが挙げられる。ここではテトラカルボン酸とし
て例示するが、これらのエステル化物、酸無水物、酸塩
化物ももちろん使用できる。たとえばピロメリット酸、
2,3.3’ 、4−テトラカルボキシジフェニル、3
,3°、4.4’ −テトラカルボキシジフェニルエー
テル、2,3.3’4−テトラカルボキシジフェニルエ
ーテル、2゜3.4°、4°−テトラカルボキシベンゾ
フェノン、2,3,6.7−テトラカルボキシナフタレ
ン、1,4,5.7−テトラカルボキシナフタレン、1
,2,5.6−テトラカルボキシナフタレン、3.3’
、4,4°−テトラカルボキシジフェニルメタン、2
.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(3゜4−ジカルボキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、3.3’ 、4.4’ −テトラ
カルボキシジフェニルスルホン、3,4,9.10−テ
トラカルボキシペリレン、2.2−ビス(4−(3゜4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン、2.
2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル)へキサフルオロプロパン、ブタンテトラカルボ
ン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などがある。
エン、2.5−ジアミノトルエン、2,4−ジアミノキ
シレン、ジアミノキシレン、1.5−ジアミノナフタレ
ン、2゜6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、4゜4
°−ジアミノターフェニル、4.4’ −ジアミノクォ
ーターフェニル、4.4°−ジアミノジフェニルメタン
、1.2−ビス(アニリン)エタン、4.4’−ジアミ
ノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスルホン、
2.2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、2.2
−ビス(p−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン
、2゜6−ジアミノナフタレン、3,3°−ジメチルベ
ンジジン、3,3°−ジメトキシベンジジン、3.3゛
−ジメチル−4,4°−ジアミノジフェニルエーテル、
3,3°−ジメチル−4,4゛ジアミノジフエニルメタ
ン、ジアミノトルエン、ジアミノベンシトリフルオライ
ド、1,4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼン、
4,4゜ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル、2
゜2−ビス(4−(p−アミノフェノキシ)フェニル)
プロパン、ジアミノアントラキノン、4゜4゛−ビス(
3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホン、
1.3−ビス(アニリノ)へキサフルオロプロパン、1
,4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1,3
−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1.7−ビ
ス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタンなどのジア
ミン類、並びにこれらのジアミンとホスゲンなどの反応
によって得られるジイソシアナート、たとえばトリレン
ジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート
、ナフタレンジイソシアナート、ジフェニルエーテルジ
イソシアナート、フェニレン−1,3−ジイソシアナー
トなどの芳香族ジイソシアナート類がある。また、テト
ラカルボン酸並びにその誘導体、即ちR2としては次の
様なものが挙げられる。ここではテトラカルボン酸とし
て例示するが、これらのエステル化物、酸無水物、酸塩
化物ももちろん使用できる。たとえばピロメリット酸、
2,3.3’ 、4−テトラカルボキシジフェニル、3
,3°、4.4’ −テトラカルボキシジフェニルエー
テル、2,3.3’4−テトラカルボキシジフェニルエ
ーテル、2゜3.4°、4°−テトラカルボキシベンゾ
フェノン、2,3,6.7−テトラカルボキシナフタレ
ン、1,4,5.7−テトラカルボキシナフタレン、1
,2,5.6−テトラカルボキシナフタレン、3.3’
、4,4°−テトラカルボキシジフェニルメタン、2
.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン
、2.2−ビス(3゜4−ジカルボキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、3.3’ 、4.4’ −テトラ
カルボキシジフェニルスルホン、3,4,9.10−テ
トラカルボキシペリレン、2.2−ビス(4−(3゜4
−ジカルボキシフェノキシ)フェニル)プロパン、2.
2−ビス(4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フ
ェニル)へキサフルオロプロパン、ブタンテトラカルボ
ン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸などがある。
また本発明で用いるポリアミドイミド系樹脂とは、下記
の一般式[III ]で示されるポリアミドイミド繰り
返し単位を有する重合体を総称し、またその前駆体であ
るポリアミド酸樹脂とは、下記−般式[TV]で示され
る繰り返し単位を有する重合体を言い、これは最終的に
一般式[Hl ]で示される樹脂となる。
の一般式[III ]で示されるポリアミドイミド繰り
返し単位を有する重合体を総称し、またその前駆体であ
るポリアミド酸樹脂とは、下記−般式[TV]で示され
る繰り返し単位を有する重合体を言い、これは最終的に
一般式[Hl ]で示される樹脂となる。
・・・ [rV]
(式中、R3は芳香族ジアミンまたはジイソシアナート
のアミノ基を除いた残基を示し、R4は芳香族トリカル
ボン酸話導体のカルボン酸誘導部を除いた残基な示す。
のアミノ基を除いた残基を示し、R4は芳香族トリカル
ボン酸話導体のカルボン酸誘導部を除いた残基な示す。
)
上記一般式[111]または[IV]における置換基R
3を与える芳香族ジアミンまたはインシアナートとして
は、o、m、p−フ二二レンジアミン、2.4−ジアミ
ノトルエン、2.5−ジアミノトルエン、2.4−ジア
ミノキシレン、ジアミノキシレン、1,5−ジアミノナ
フタレン、2゜6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、
4゜4°−ジアミノターフェニル、4,4° −ジアミ
ノクォーターフェニル、4.4°−ジアミノジフェニル
メタン、1.2−ビス(アニリン)エタン、4.4’−
ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスル
ホン、2.2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、
2.2−ビス(p−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2゜6−ジアミノナフタレン、3,3°−ジメ
チルベンジジン、3.3°−ジメトキシベンジジン、3
.3゛−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエー
テル、3,3゛−ジメチル−44゜ジアミノジフェニル
メタン、ジアミノトルエン、ジアミノベンシトリフルオ
ライド、1.4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、4.4゜ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル
、2゜2−ビス(4−(p−アミノフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、ジアミノアントラキノン、4゜4′−ビ
ス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホ
ン、1.3−ビス(アニリノ)へキサフルオロプロパン
、1.4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1
,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1.7
−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタンなどの
ジアミン類、並びにこれらのジアミンとホスゲンなどの
反応によって得られるジイソシアナート、たとえばトリ
レンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ナフタレンジイソシアナート、ジフェニルエーテ
ルジイソシアナート、フェニレン−1,5−ジイソシア
ナートなどの芳香族ジイソシアナート類等が挙げられる
。
3を与える芳香族ジアミンまたはインシアナートとして
は、o、m、p−フ二二レンジアミン、2.4−ジアミ
ノトルエン、2.5−ジアミノトルエン、2.4−ジア
ミノキシレン、ジアミノキシレン、1,5−ジアミノナ
フタレン、2゜6−ジアミノナフタレン、ベンジジン、
4゜4°−ジアミノターフェニル、4,4° −ジアミ
ノクォーターフェニル、4.4°−ジアミノジフェニル
メタン、1.2−ビス(アニリン)エタン、4.4’−
ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフェニルスル
ホン、2.2−ビス(p−アミノフェニル)プロパン、
2.2−ビス(p−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2゜6−ジアミノナフタレン、3,3°−ジメ
チルベンジジン、3.3°−ジメトキシベンジジン、3
.3゛−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニルエー
テル、3,3゛−ジメチル−44゜ジアミノジフェニル
メタン、ジアミノトルエン、ジアミノベンシトリフルオ
ライド、1.4−ビス(p−アミノフェノキシ)ベンゼ
ン、4.4゜ビス(p−アミノフェノキシ)ビフェニル
、2゜2−ビス(4−(p−アミノフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、ジアミノアントラキノン、4゜4′−ビ
ス(3−アミノフェノキシフェニル)ジフェニルスルホ
ン、1.3−ビス(アニリノ)へキサフルオロプロパン
、1.4−ビス(アニリノ)オクタフルオロブタン、1
,5−ビス(アニリノ)デカフルオロペンタン、1.7
−ビス(アニリノ)テトラデカフルオロヘプタンなどの
ジアミン類、並びにこれらのジアミンとホスゲンなどの
反応によって得られるジイソシアナート、たとえばトリ
レンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、ナフタレンジイソシアナート、ジフェニルエーテ
ルジイソシアナート、フェニレン−1,5−ジイソシア
ナートなどの芳香族ジイソシアナート類等が挙げられる
。
また置換基R4を与えるトリカルボン酸およびその説導
体としては次の様なものが挙げられる。
体としては次の様なものが挙げられる。
ここではトリカルボン酸として例示するが、これのエス
テル化物、酸無水物、酸塩化物も勿論使用できる。これ
らの具体例としては、トリメリット酸、1,2.4−ナ
フタレントリカルボン酸、1.4.5−ナフタレントリ
カルボン酸、2゜3.6−ナフタレントリカルボン酸、
2,3゜5−ナフタレントリカルボン酸、3.3’、4
゜トリカルボキシベンゾフェノン、2,2° 3ジフエ
ニルトリカルボン酸などが挙げられる。
テル化物、酸無水物、酸塩化物も勿論使用できる。これ
らの具体例としては、トリメリット酸、1,2.4−ナ
フタレントリカルボン酸、1.4.5−ナフタレントリ
カルボン酸、2゜3.6−ナフタレントリカルボン酸、
2,3゜5−ナフタレントリカルボン酸、3.3’、4
゜トリカルボキシベンゾフェノン、2,2° 3ジフエ
ニルトリカルボン酸などが挙げられる。
上記ポリイミド系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂および
それらの前駆体であるポリアミド酸樹脂の好ましい分子
量は5,000以上であり、5,000未満のものでは
耐熱性樹脂層が脆くなり、支持体としての適性を欠くも
のとなる。これらの樹脂は単独で使用し得るほか、2種
以上をブレンドしあるいは共重合乃至共縮合したものを
用いることもできる。
それらの前駆体であるポリアミド酸樹脂の好ましい分子
量は5,000以上であり、5,000未満のものでは
耐熱性樹脂層が脆くなり、支持体としての適性を欠くも
のとなる。これらの樹脂は単独で使用し得るほか、2種
以上をブレンドしあるいは共重合乃至共縮合したものを
用いることもできる。
これらの樹脂を用いて耐熱性樹脂層を形成するときに用
いられる溶媒としては、ポリマー樹脂と親和力があり、
かつ金属箔を腐蝕しない有機極性溶媒が好ましく、この
様な溶媒としては、例えばジメチルアセトアミド、ジエ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルカプロラクタム、ジメチルホルムアミド、ジエチ
ルホルムアミドなどのN、N−ジアルキルアミドやテト
ラメチル尿素、ジメチルスルフォン、ヘキサメチルホス
ホルアミド、テトラメチルスルホン、ホルムアミド、N
−メチルホルムアミド、ブチロラクトン、N−アセチル
−2−ピロリドン、m−クレゾールなどのフェノール類
等が挙げられる。これらの溶媒は夫々単独で使用し得る
ほか、2種以上を混合して用いることも可能であり、更
には他の溶媒としてトルエン、キシレン、ニトロベンゼ
ン、ジオキサン、シクロヘキサン、トリクレンなどを少
量加えて使用することもできる。
いられる溶媒としては、ポリマー樹脂と親和力があり、
かつ金属箔を腐蝕しない有機極性溶媒が好ましく、この
様な溶媒としては、例えばジメチルアセトアミド、ジエ
チルアセトアミド、N−メチル−2−ピロリドン、N−
メチルカプロラクタム、ジメチルホルムアミド、ジエチ
ルホルムアミドなどのN、N−ジアルキルアミドやテト
ラメチル尿素、ジメチルスルフォン、ヘキサメチルホス
ホルアミド、テトラメチルスルホン、ホルムアミド、N
−メチルホルムアミド、ブチロラクトン、N−アセチル
−2−ピロリドン、m−クレゾールなどのフェノール類
等が挙げられる。これらの溶媒は夫々単独で使用し得る
ほか、2種以上を混合して用いることも可能であり、更
には他の溶媒としてトルエン、キシレン、ニトロベンゼ
ン、ジオキサン、シクロヘキサン、トリクレンなどを少
量加えて使用することもできる。
上記樹脂溶液が塗布される基材、すなわち金属箔の種類
にも格別の制約はないが、回路基板用として好ましいも
のを例示すると、銅、鉄、アルミニウム、亜鉛、ニッケ
ル、銀等の金属およびステンレス鋼、真鍮、白銅などの
合金が挙げられ、これらは必要によりめっき処理、粗面
加工、酸化処理あるいはカップリング剤処理等の処理が
施されたものであフてもよい。しかし機械的あるいは電
気化学的粗面処理、酸化処理もしくはカップリング剤処
理等の施された金属箔は、前記耐熱性樹脂との間で特に
強固な接着力が得られるので好ましい。
にも格別の制約はないが、回路基板用として好ましいも
のを例示すると、銅、鉄、アルミニウム、亜鉛、ニッケ
ル、銀等の金属およびステンレス鋼、真鍮、白銅などの
合金が挙げられ、これらは必要によりめっき処理、粗面
加工、酸化処理あるいはカップリング剤処理等の処理が
施されたものであフてもよい。しかし機械的あるいは電
気化学的粗面処理、酸化処理もしくはカップリング剤処
理等の施された金属箔は、前記耐熱性樹脂との間で特に
強固な接着力が得られるので好ましい。
金属箔上に前記樹脂溶液を塗布する方法にも一切制限が
なく、たとえばロールコータ−、ナイフコーター ドク
ターブレード、フローコーター等を用いた公知の塗布手
段を採用すればよく、その厚さも用途・目的によって異
なるので一律に決めることはできないが、一般的には乾
燥膜厚で1〜1000μm程度の範囲から選定される。
なく、たとえばロールコータ−、ナイフコーター ドク
ターブレード、フローコーター等を用いた公知の塗布手
段を採用すればよく、その厚さも用途・目的によって異
なるので一律に決めることはできないが、一般的には乾
燥膜厚で1〜1000μm程度の範囲から選定される。
塗布後は乾燥して溶媒を除去するが、始めから高温で乾
燥を行うと耐熱性樹脂層の表面が粗面となったりひきつ
ったりすることがあるので、低温から徐々に温度を高め
て乾燥することが望まれる。乾燥温度は、使用する溶媒
の種類にもよるが、50〜250℃の範囲が好ましく、
また乾燥は大気中で行なフてもよく、あるいは減圧下や
不活性ガス雰囲気下で行なってもよい。
燥を行うと耐熱性樹脂層の表面が粗面となったりひきつ
ったりすることがあるので、低温から徐々に温度を高め
て乾燥することが望まれる。乾燥温度は、使用する溶媒
の種類にもよるが、50〜250℃の範囲が好ましく、
また乾燥は大気中で行なフてもよく、あるいは減圧下や
不活性ガス雰囲気下で行なってもよい。
また耐熱性樹脂層構成材としてポリアミド酸樹脂を使用
した場合は、樹脂溶液を塗布・乾燥後硬化処理する工程
が必要となるが、このときの好ましい加熱温度は130
〜400℃程度である。
した場合は、樹脂溶液を塗布・乾燥後硬化処理する工程
が必要となるが、このときの好ましい加熱温度は130
〜400℃程度である。
乾燥乃至硬化処理を終えた耐熱性樹脂層内には尚若干量
の揮発成分、たとえば溶媒、未反応成分、熱分解生成物
、縮重合反応による生成水等が残存するが、これら揮発
分は10重量%未満になる様に乾燥乃至硬化条件を制御
することが望まれる。しかして揮発分残量が10重量%
を超える場合は、エポキシ系耐熱性接着剤により樹脂層
同士を接合して耐熱性積層体に仕上げるときに発泡した
り金属箔面に凹凸を生じたり、急激な加熱により金属箔
面との接着が破壊されるといった問題を生じる原因とな
る。
の揮発成分、たとえば溶媒、未反応成分、熱分解生成物
、縮重合反応による生成水等が残存するが、これら揮発
分は10重量%未満になる様に乾燥乃至硬化条件を制御
することが望まれる。しかして揮発分残量が10重量%
を超える場合は、エポキシ系耐熱性接着剤により樹脂層
同士を接合して耐熱性積層体に仕上げるときに発泡した
り金属箔面に凹凸を生じたり、急激な加熱により金属箔
面との接着が破壊されるといった問題を生じる原因とな
る。
次に本発明で使用するエポキシ系耐熱接着剤とは、エポ
キシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤を含み、硬化により高耐
熱性を発揮するエポキシ系接着剤を言い、エポキシ樹脂
としては、たとえば商品名エピコート828,1001
,10041007.1010などとして市販されてい
るビスフェノールA型エポキシ樹脂;例えばエピコート
154などのフェノールノボラック型エポキシ樹脂;臭
素化ビフェノールA型エポキシ樹脂(商品名工ボトート
YDB−400など);臭素化フェノールノボラック型
エポキシ樹脂(商品名ブレンSなど)等が挙げられるが
、もとよりこれらに限定されるものではない。
キシ樹脂とエポキシ樹脂硬化剤を含み、硬化により高耐
熱性を発揮するエポキシ系接着剤を言い、エポキシ樹脂
としては、たとえば商品名エピコート828,1001
,10041007.1010などとして市販されてい
るビスフェノールA型エポキシ樹脂;例えばエピコート
154などのフェノールノボラック型エポキシ樹脂;臭
素化ビフェノールA型エポキシ樹脂(商品名工ボトート
YDB−400など);臭素化フェノールノボラック型
エポキシ樹脂(商品名ブレンSなど)等が挙げられるが
、もとよりこれらに限定されるものではない。
またエポキシ樹脂硬化剤としては、トリエタノールアミ
ン、トリエチレンテトラミンなどのアジン系硬化剤。ポ
リアミド系硬化剤、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フ
タル酸などの酸無水物系硬化剤、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール。
ン、トリエチレンテトラミンなどのアジン系硬化剤。ポ
リアミド系硬化剤、テトラヒドロ無水フタル酸、無水フ
タル酸などの酸無水物系硬化剤、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール。
4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール系硬化剤が
代表的なものとして挙げられる。しかし上記以外の公知
のエポキシ樹脂硬化剤が排除されるものではない。
代表的なものとして挙げられる。しかし上記以外の公知
のエポキシ樹脂硬化剤が排除されるものではない。
本発明で使用されるエポキシ系耐熱接着剤は、上記成分
のほか、必要によりたとえばアクリロニトリル−ブタジ
ェン共重合体、クロルスルホン化ポリオレフィン、アク
リルゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム
、イソシアナート化合物/ポリエステル樹脂、イソシア
ナート化合物/酸無水物/ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂、弗素樹脂等の樹脂又は化合物の1種あるいは2
f!以上を少量ブレンドし、接着性や接着層の物性を更
に改善することもでき、更には本発明の目的を損わない
範囲で、無機質充填剤、接着促進剤、難燃剤、表面平滑
化剤、消泡剤等を配合することもできる。
のほか、必要によりたとえばアクリロニトリル−ブタジ
ェン共重合体、クロルスルホン化ポリオレフィン、アク
リルゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリンゴム
、イソシアナート化合物/ポリエステル樹脂、イソシア
ナート化合物/酸無水物/ポリエステル樹脂、シリコー
ン樹脂、弗素樹脂等の樹脂又は化合物の1種あるいは2
f!以上を少量ブレンドし、接着性や接着層の物性を更
に改善することもでき、更には本発明の目的を損わない
範囲で、無機質充填剤、接着促進剤、難燃剤、表面平滑
化剤、消泡剤等を配合することもできる。
本発明の耐熱性積層体を製造するに当たっては、前述の
如く耐熱性樹脂層を構成する樹脂溶液もしくは前駆体樹
脂溶液を金属箔上に塗布・乾燥し、前駆体樹脂を用いた
場合は更に硬化処理して予備積層体を製造する。次いで
前述の様なエポキシ系耐熱接着剤を溶剤に溶解した溶液
を、通常の塗布方法、例えばバーコーティング、ロール
コーティング、ダイレクトロールコーティング、グラビ
アコーティング等によって前記予備積層体の樹脂層表面
に塗布し、樹脂面同士を重ね合わせ圧着硬化させればよ
い。このとき適度に加熱して硬化を促進させることもで
きる。また樹脂層表面に接着剤溶液を塗布し予備硬化(
半硬化)させてから樹脂面を重ね合わせて圧着し最終硬
化させることもできる。これらの工程は、帯状金属箔を
用いて連続的に行なうことができるので、非常に高い生
産性を得ることができる。尚エポキシ系耐熱接着剤層の
好ましい厚みは、硬化後の膜厚で5〜200μm1より
好ましくは15〜100μm程度である。
如く耐熱性樹脂層を構成する樹脂溶液もしくは前駆体樹
脂溶液を金属箔上に塗布・乾燥し、前駆体樹脂を用いた
場合は更に硬化処理して予備積層体を製造する。次いで
前述の様なエポキシ系耐熱接着剤を溶剤に溶解した溶液
を、通常の塗布方法、例えばバーコーティング、ロール
コーティング、ダイレクトロールコーティング、グラビ
アコーティング等によって前記予備積層体の樹脂層表面
に塗布し、樹脂面同士を重ね合わせ圧着硬化させればよ
い。このとき適度に加熱して硬化を促進させることもで
きる。また樹脂層表面に接着剤溶液を塗布し予備硬化(
半硬化)させてから樹脂面を重ね合わせて圧着し最終硬
化させることもできる。これらの工程は、帯状金属箔を
用いて連続的に行なうことができるので、非常に高い生
産性を得ることができる。尚エポキシ系耐熱接着剤層の
好ましい厚みは、硬化後の膜厚で5〜200μm1より
好ましくは15〜100μm程度である。
かくして得られる本発明の耐熱性積層体は、金属箔に直
接高度の耐熱性をもった樹脂層が強固に接合されたもの
であり、エツチングにより金属箔の一部を除去した場合
でも、露出した樹脂層は高度の耐熱性を有しており、半
田付は等の熱により変質することはない。しかもこの耐
熱性の積層体は前述の如く通常のラミネート法に準じて
容易に連続生産することができるので、安価に提供する
ことができる。
接高度の耐熱性をもった樹脂層が強固に接合されたもの
であり、エツチングにより金属箔の一部を除去した場合
でも、露出した樹脂層は高度の耐熱性を有しており、半
田付は等の熱により変質することはない。しかもこの耐
熱性の積層体は前述の如く通常のラミネート法に準じて
容易に連続生産することができるので、安価に提供する
ことができる。
[実施例]
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はも
とより下記実施例に拘束されるものではない。
とより下記実施例に拘束されるものではない。
去J011
(樹脂フェスの製造)
温度計、攪拌装置、還流コンデンサーおよび窒素導入管
を備えた4つロセパラプルフラスコを使用し、乾燥窒素
で置換した後、4,4°−ジアミノジフェニルエーテル
30.04g(0,15モル)とジメチルホルムアミド
377m1を入れて溶解した。この溶液に無水ピロメリ
ット酸32.y2g(o、tsモル)の粉末を添加し、
5℃で3時間攪拌してポリアミド酸溶液を得た。得られ
た溶液中のポリアミド酸の対数粘度数(ポリマー濃度0
.50g/di)は30℃で0.70di/gであった
。
を備えた4つロセパラプルフラスコを使用し、乾燥窒素
で置換した後、4,4°−ジアミノジフェニルエーテル
30.04g(0,15モル)とジメチルホルムアミド
377m1を入れて溶解した。この溶液に無水ピロメリ
ット酸32.y2g(o、tsモル)の粉末を添加し、
5℃で3時間攪拌してポリアミド酸溶液を得た。得られ
た溶液中のポリアミド酸の対数粘度数(ポリマー濃度0
.50g/di)は30℃で0.70di/gであった
。
(接着剤溶液の製造)
温度計、攪拌装置および還流コンデンサーを備えた3つ
ロセバラブルフラスコに、エポキシ樹脂r EplOO
IJ [油化シェルエポキシ(株)製]6゜重量部、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合体rNIPOL−
1001P J [日本ゼオン(株)製]40重量部
およびメチルエチルケトン150重量部を加え、80℃
で2時間攪拌して均一な樹脂溶液を得た。この樹脂溶液
を室温まで冷却した後、エポキシ樹脂硬化剤r 2E4
MZ−CNJ [四国化成工業(株)製]1重量部を
加え、更に2時間攪拌して接着剤溶液を得た。
ロセバラブルフラスコに、エポキシ樹脂r EplOO
IJ [油化シェルエポキシ(株)製]6゜重量部、
アクリロニトリル−ブタジェン共重合体rNIPOL−
1001P J [日本ゼオン(株)製]40重量部
およびメチルエチルケトン150重量部を加え、80℃
で2時間攪拌して均一な樹脂溶液を得た。この樹脂溶液
を室温まで冷却した後、エポキシ樹脂硬化剤r 2E4
MZ−CNJ [四国化成工業(株)製]1重量部を
加え、更に2時間攪拌して接着剤溶液を得た。
(積層体の製造)
上記フェスをドクターブレードを用いて電解銅箔(厚み
35μm)に均一にコーティングした。このコーティン
グ銅箔を80℃および160℃で各5分間乾燥し、更に
250℃で3時間加熱硬化して銅箔−ポリイミド樹脂よ
りなる予備積層体を得た。硬化後のポリイミド層の膜厚
は約20μmであった。この予備積層体の樹脂面に上記
接着剤溶液をドクターブレードを用いて乾燥膜厚が20
μmとなる様に均一にコーティングした。このコーティ
ング層を60℃、80℃および120℃で夫々2分間乾
燥した後、未コートの予備積層体の樹脂面と接着剤をコ
ーティングした予備積層体の樹脂面とを重ね合わせ、1
10℃、6 kg/c11+2、速度2m/分でロール
ラミネートした後、130℃で15時間加熱硬化して耐
熱性積層体を得た。得られた耐熱性積層体の半田耐熱性
試験結果を後記第1表に示す。
35μm)に均一にコーティングした。このコーティン
グ銅箔を80℃および160℃で各5分間乾燥し、更に
250℃で3時間加熱硬化して銅箔−ポリイミド樹脂よ
りなる予備積層体を得た。硬化後のポリイミド層の膜厚
は約20μmであった。この予備積層体の樹脂面に上記
接着剤溶液をドクターブレードを用いて乾燥膜厚が20
μmとなる様に均一にコーティングした。このコーティ
ング層を60℃、80℃および120℃で夫々2分間乾
燥した後、未コートの予備積層体の樹脂面と接着剤をコ
ーティングした予備積層体の樹脂面とを重ね合わせ、1
10℃、6 kg/c11+2、速度2m/分でロール
ラミネートした後、130℃で15時間加熱硬化して耐
熱性積層体を得た。得られた耐熱性積層体の半田耐熱性
試験結果を後記第1表に示す。
東五■ユ
(樹脂フェスの合成)
実施例1と同じ装置にジフェニルエーテルジイソシアナ
ート25.22g(0,1モル)とジメチルアセトアミ
ド200m1を加え、これに、トリメリット酸無水物t
9.2tg(0,tモル)を200m1のジメチルアセ
トアミドに溶解した溶液を一度に加えた。次いで攪拌し
ながら徐々に昇温し、約160℃で約3時間反応した。
ート25.22g(0,1モル)とジメチルアセトアミ
ド200m1を加え、これに、トリメリット酸無水物t
9.2tg(0,tモル)を200m1のジメチルアセ
トアミドに溶解した溶液を一度に加えた。次いで攪拌し
ながら徐々に昇温し、約160℃で約3時間反応した。
得られた溶液中のポリアミドイミドの対数粘度数(ポリ
マー濃度0.50g/di)は30℃で0.60dl/
gであった。
マー濃度0.50g/di)は30℃で0.60dl/
gであった。
(接着剤溶液の製造)
実施例1と同じ装置と方法を採用し、下記の原料配合に
より接着剤樹脂溶液を製造した。
より接着剤樹脂溶液を製造した。
接着剤溶液組成
臭素化エポキシ樹脂 20重量部[「ブ
レ234.日本化薬(株)製] クロル化スルホン化ポリエチレン樹脂10重量部「「ハ
イパロン20」昭和型エデュボン(株)製] エポキシ樹脂硬化剤 3重量部[’C+
+Z−アジン」四国化成工業(株)製コトルエン
20重量部1.2−二塩化エタン
45重量部(積層体の製造) 上記樹脂フェスをドクターブレードを用いて電解銅箔(
厚さ35μm)に均一にコーティングした。このコーテ
ィング銅箔を80℃および160℃で各5分間乾燥し、
更に180℃で15分間乾燥した。乾燥後の樹脂塗膜は
約30μmであった。その後、実施例1と同じ方法で上
記接着剤溶液を用いて積層し、耐熱性積層体を得た。
レ234.日本化薬(株)製] クロル化スルホン化ポリエチレン樹脂10重量部「「ハ
イパロン20」昭和型エデュボン(株)製] エポキシ樹脂硬化剤 3重量部[’C+
+Z−アジン」四国化成工業(株)製コトルエン
20重量部1.2−二塩化エタン
45重量部(積層体の製造) 上記樹脂フェスをドクターブレードを用いて電解銅箔(
厚さ35μm)に均一にコーティングした。このコーテ
ィング銅箔を80℃および160℃で各5分間乾燥し、
更に180℃で15分間乾燥した。乾燥後の樹脂塗膜は
約30μmであった。その後、実施例1と同じ方法で上
記接着剤溶液を用いて積層し、耐熱性積層体を得た。
得られた耐熱性積層体の半田耐熱性試験結果を後記第1
表に示す。
表に示す。
実施例3
(樹脂フェスの合成)
実施例1と同じ装置に、3.3°、4,4°−テトラカ
ルボキシジフェニル2無水物29.42g(0,1モル
)、p−フェニレンジアミン10.81g(0,1モル
)およびN−メチル−2−ピロリドン350nlを一度
に加え、室温で3時間攪拌してポリアミド酸溶液を得た
。得られた溶液中のポリアミド酸の対数粘度数(ポリマ
ー濃度0.508/di)は2.53dl/gであった
。
ルボキシジフェニル2無水物29.42g(0,1モル
)、p−フェニレンジアミン10.81g(0,1モル
)およびN−メチル−2−ピロリドン350nlを一度
に加え、室温で3時間攪拌してポリアミド酸溶液を得た
。得られた溶液中のポリアミド酸の対数粘度数(ポリマ
ー濃度0.508/di)は2.53dl/gであった
。
このポリアミド酸溶液を実施例2で得たポリアミド酸溶
液に固形分換算で15重量%配合し、ポリアミド酸−ポ
リアミドイミドの混合樹脂溶液を得た。
液に固形分換算で15重量%配合し、ポリアミド酸−ポ
リアミドイミドの混合樹脂溶液を得た。
(接着剤溶液の製造)
実施例1と同じ装置、方法および組成で接着剤溶液を製
造した。
造した。
(積層体の製造)
実施例1に準じて、上記のフェスおよび接着剤溶液を用
いて耐熱性積層体を得た。
いて耐熱性積層体を得た。
得られた耐熱積層体の半田耐熱性の試験結果を後記第1
表に示す。
表に示す。
比較例1
実施例1で得られた接着剤溶液を、電解銅箔(厚み35
μm)にドクターブレードを用いて最終的に20μ■の
厚みとなる様に均一にコーティングした。このコーティ
ングした銅箔を60℃、80℃および120℃で夫々2
分間乾燥した後、ポリイミドフィルム(「カプトン10
01−IJ厚み25μm)と重ね合わせ、150t、5
kg/cm’、速度1.5m/分でロールラミネート
してラミネート体を得た。
μm)にドクターブレードを用いて最終的に20μ■の
厚みとなる様に均一にコーティングした。このコーティ
ングした銅箔を60℃、80℃および120℃で夫々2
分間乾燥した後、ポリイミドフィルム(「カプトン10
01−IJ厚み25μm)と重ね合わせ、150t、5
kg/cm’、速度1.5m/分でロールラミネート
してラミネート体を得た。
電解銅箔に上記と同じ接着剤溶液を同条件でコーティン
グし、乾燥してコーティング銅箔を得、その接着剤樹脂
面と上記で得たラミネート体のポリイミド樹脂面を重ね
合わせ、150”C15J/cm2、速度1.5m/分
でロールラミネートした後、130℃で15時間加熱硬
化して耐熱性積層体を得た。得られた耐熱性積層体の半
田耐熱性試験結果を後記第1表に示した。
グし、乾燥してコーティング銅箔を得、その接着剤樹脂
面と上記で得たラミネート体のポリイミド樹脂面を重ね
合わせ、150”C15J/cm2、速度1.5m/分
でロールラミネートした後、130℃で15時間加熱硬
化して耐熱性積層体を得た。得られた耐熱性積層体の半
田耐熱性試験結果を後記第1表に示した。
比較例2
実施例1で得た樹脂ワニスをドクターブレードを用いて
2枚の電解銅箔(厚み35μm)に、乾燥膜厚が20μ
mとなる様にそれぞれ均一にコーティングし、80℃で
5分間乾燥した。乾燥後のコーテイング膜は室温でタッ
クのある状態であった。これらのコーティング銅箔の樹
脂面同士を重ね合わせ、150℃、6 kg/ca+2
、速度2m/分でロールラミネートした。ラミネート後
、0.05Torrの減圧下で100 g/cm’の荷
重をかけ、250’Cで5時間加熱硬化した。室温まで
冷却後、取り出したところ、銅箔面に凹凸が発生してお
り、また重ね合わせた樹脂面は手で簡単に剥離し、耐熱
性積層体として実用化し得るものではなかった。
2枚の電解銅箔(厚み35μm)に、乾燥膜厚が20μ
mとなる様にそれぞれ均一にコーティングし、80℃で
5分間乾燥した。乾燥後のコーテイング膜は室温でタッ
クのある状態であった。これらのコーティング銅箔の樹
脂面同士を重ね合わせ、150℃、6 kg/ca+2
、速度2m/分でロールラミネートした。ラミネート後
、0.05Torrの減圧下で100 g/cm’の荷
重をかけ、250’Cで5時間加熱硬化した。室温まで
冷却後、取り出したところ、銅箔面に凹凸が発生してお
り、また重ね合わせた樹脂面は手で簡単に剥離し、耐熱
性積層体として実用化し得るものではなかった。
第
表
国3cm角の各耐熱性積層体を280 tの溶融半田浴
に30秒間浸漬。
に30秒間浸漬。
2◆)耐熱性積層体表面の銅箔を全面除去し、露出した
樹脂面に375℃の表面が平らな円形の半田ごてを圧着
。
樹脂面に375℃の表面が平らな円形の半田ごてを圧着
。
〔発明の効果]
本発明の耐熱性積層体は以上の様に構成されており、金
属箔層の下面に高耐熱性樹脂層を直接強固に接合されて
いるので回路基板用等として半田付は時の熱にも十分耐
える優れた耐熱性を発揮する。しかも本発明の方法を採
用すればこの様な高耐熱性積層体を特殊な高温高圧接合
装置等を使用せずども能率良く安価に製造することがで
きる。
属箔層の下面に高耐熱性樹脂層を直接強固に接合されて
いるので回路基板用等として半田付は時の熱にも十分耐
える優れた耐熱性を発揮する。しかも本発明の方法を採
用すればこの様な高耐熱性積層体を特殊な高温高圧接合
装置等を使用せずども能率良く安価に製造することがで
きる。
Claims (3)
- (1)エポキシ系耐熱性接着剤を介してポリイミド系樹
脂および/またはポリアミドイミド系樹脂が積層され、
更にこれら樹脂層の両表面に金属箔層が形成されてなる
ことを特徴とする耐熱性積層体。 - (2)金属箔上に、ポリイミド系樹脂および/またはポ
リアミドイミド系樹脂よりなる樹脂溶液を塗布し乾燥し
て予備積層体を得、該予備積層体の樹脂面同士をエポキ
シ系耐熱性接着剤を介して接合することを特徴とする耐
熱性積層体の製法。 - (3)金属箔上に、ポリイミド系樹脂および/またはポ
リアミドイミド系樹脂の前駆体であるポリアミド酸樹脂
溶液を塗布し、乾燥・硬化して予備成形体を得、該予備
成形体におけるポリイミド系樹脂面および/またはポリ
アミドイミド系樹脂面同士を、エポキシ系耐熱性接着剤
を介して接合することを特徴とする耐熱性積層体の製法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27337489A JPH03133634A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 耐熱性積層体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27337489A JPH03133634A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 耐熱性積層体およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03133634A true JPH03133634A (ja) | 1991-06-06 |
Family
ID=17527012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27337489A Pending JPH03133634A (ja) | 1989-10-19 | 1989-10-19 | 耐熱性積層体およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03133634A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0818509A3 (en) * | 1996-07-08 | 1998-04-22 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Heat resistant polymer composition, alignment layer formed using the same and liquid crystal display having the alignment layer |
| JP2011014727A (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-20 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 複合樹脂層付銅箔、複合樹脂層付銅箔の製造方法、フレキシブル両面銅張積層板及び立体成型プリント配線板の製造方法 |
| JP2012515671A (ja) * | 2009-01-23 | 2012-07-12 | ドゥーサン コーポレイション | 新規な軟性金属箔積層板およびその製造方法 |
| WO2016121392A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 両面金属張積層板及びその製造方法 |
-
1989
- 1989-10-19 JP JP27337489A patent/JPH03133634A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0818509A3 (en) * | 1996-07-08 | 1998-04-22 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Heat resistant polymer composition, alignment layer formed using the same and liquid crystal display having the alignment layer |
| US5866034A (en) * | 1996-07-08 | 1999-02-02 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Heat resistant polymer composition, alignment layer formed using the same and liquid cyrstal display having the alignment layer |
| CN1105149C (zh) * | 1996-07-08 | 2003-04-09 | 三星电管株式会社 | 绝热聚合物组合物,使用它制作的校准层和带有该校准层的液晶显示器 |
| JP2012515671A (ja) * | 2009-01-23 | 2012-07-12 | ドゥーサン コーポレイション | 新規な軟性金属箔積層板およびその製造方法 |
| JP2011014727A (ja) * | 2009-07-02 | 2011-01-20 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 複合樹脂層付銅箔、複合樹脂層付銅箔の製造方法、フレキシブル両面銅張積層板及び立体成型プリント配線板の製造方法 |
| WO2016121392A1 (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-04 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 両面金属張積層板及びその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6635403B2 (ja) | 樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板及び多層配線板 | |
| CN107325285B (zh) | 聚酰亚胺、聚酰亚胺类胶粘剂、胶粘材料、胶粘层、胶粘片、层叠板、布线板及其制造方法 | |
| JP5648677B2 (ja) | プライマ、樹脂付き導体箔、積層板並びに積層板の製造方法 | |
| US7989081B2 (en) | Resin composite copper foil, printed wiring board, and production processes thereof | |
| TWI461287B (zh) | A copper foil with resin and a copper foil with resin | |
| EP2045295B1 (en) | Thermocurable polyimide resin composition | |
| CN108690552B (zh) | 胶粘剂、胶粘材料、胶粘层、胶粘片、铜箔、覆铜层叠板、布线板及制造方法 | |
| JPWO2008004615A1 (ja) | ポリイミド樹脂 | |
| US7459047B2 (en) | Preparation of flexible copper foil/polyimide laminate | |
| JP6825289B2 (ja) | 樹脂組成物、接着剤、フィルム状接着材、接着シート、多層配線板、樹脂付銅箔、銅張積層板、プリント配線板 | |
| JP5470678B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドフィルム及びポリイミド積層体 | |
| JP2000109645A (ja) | 樹脂組成物 | |
| US20060191632A1 (en) | Method for producing flexible metal foil-polyimide laminate | |
| JP4947976B2 (ja) | フレキシブルプリント配線板用基板及びその製造方法 | |
| JP3063929B2 (ja) | 耐熱性の接着剤 | |
| JP4967465B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドフィルム及びポリイミド積層体 | |
| JP2016141015A (ja) | 両面金属張積層板及びその製造方法 | |
| CN101134856B (zh) | 底漆、带有树脂的导体箔、层叠板以及层叠板的制造方法 | |
| JP3008471B2 (ja) | 耐熱性積層体及びその製造方法 | |
| JP2004322431A (ja) | 金属張積層板 | |
| JP3161601B2 (ja) | Tab用銅張基板および接着剤シ−ト | |
| JPH04370185A (ja) | 耐熱性樹脂接着剤 | |
| JP4923678B2 (ja) | 金属箔付フレキシブル基板及びフレキシブルプリント配線板 | |
| JPH11240107A (ja) | 金属箔積層体 | |
| JPH10226778A (ja) | 耐熱性樹脂接着剤シ−トおよび基板 |