JPH0313465Y2

JPH0313465Y2 -

Info

Publication number: JPH0313465Y2
Application number: JP1986070001U
Authority: JP
Priority date: 1986-05-12
Filing date: 1986-05-12
Publication date: 1991-03-27
Also published as: JPS62181519U

Description

【考案の詳細な説明】産業上の利用分野本考案は、半導体製造装置間で導体ウエハおよ
びこれを収納するためのウエハカセツトの搬送を
自動化するための搬送装置に関する。

考案の背景一般に、半導体工場のウエハ製造工程で、半導
体ウエハなどは、例えば露光工程、ホトレジスト
の塗布工程、乾燥工程、現像工程、ベーキング工
程などの数百にもおよび工程を経て製品化され
る。

それらの各工程間において、ウエハは、プラス
チツク製または金属製のウエハカセツトの内部に
収納され、次の工程へと運ばれていく。このウエ
ハカセツトは、半導体製造装置へ複数のウエハを
搬入または搬出するために、ウエハの破損防止の
役割を担うものであり、また製造過程での枚数管
理の単位にもなつている。さらに、これらの工場
では、製造工程の異なる多種類のワークとしての
半導体ウエハを大量に、しかも同時に製造過程に
置くため、それらの搬送が能率よく行われなけれ
ばならない。

またこれらの製造工程での作業空間は、クリー
ンルーム内に設定され、半導体ウエハの品質を確
保するために、常に高い清浄度に保たれている。
しかし、半導体製造装置の操作や、ウエハの搬送
のために大勢の作業員が処理空間を動き回るた
め、作業員自身から出る塵埃や、床、壁などに付
着した塵埃が作業員の被服に付着し、作業員の動
きとともに処理空間内に飛散し、それによつてウ
エハが汚染され、製造過程での歩留が低下する等
の好ましくない結果となつている。特に、ウエハ
の高密度化により、パターンが微細化するにつれ
て、高い清浄度が要求されるため、ウエハの搬送
過程での汚染防防止が重要な課題となつている。

従来技術従来、近いステーシヨン間では、定位置設置型
の搬送用ロボツトが用いられているが、遠いステ
ーシヨン間では、ウエハカセツトの搬送は、ほと
んど作業員によつて行われている。このように、
ウエハの搬送に作業員が携わる限り、それらの搬
送中に作業員が介在することになるため、ある程
度の汚染が避けられないことになる。

そこで、実用新案登録出願人は、特願昭60−
245923号でウエハの搬送に作業員が介在すること
のない自動化搬送装置を既に提案している。その
発明は、各ステーシヨンの半導体製造装置の相互
間に水平方向の搬送案内装置および垂直方向の昇
降装置を設け、それらの内部で走行台車によつて
ウエハカセツトとともにウエハを搬送できるよう
にしている。しかも、この搬送案内装置および昇
降装置の内部で、空気流が上から下に向けて流れ
ており、ウエハカセツトが常にその空気流の上流
側に位置し、その下流側に駆動部分が位置してい
るため、ウエハカセツト内のウエハは、発塵源と
なりやすい駆動部の影響を受けず、汚染しない状
態で搬送される。またこの搬送装置の内部に常に
清浄空気が上から下へ流れており、しかも上部に
フイルターや整流板およびパンチングプレートな
どが搬送空間全体にわたつて設けられているた
め、ウエハの通過領域で、その清浄空気が、安定
な層流として通過するので、ウエハの位置よりも
空気流の上方側で塵埃が発生せず、高い清浄度が
確保できる。

ところが、上記発明の装置の他、従来のこの種
の装置では、単独の給排気ダクトが搬送方向に対
し所定間隔で複数設けられている。このために、
クリーンルーム内に給排気専用の配管が必要とな
り、装置が大型となるとともに、コスト高とな
る。また装置の設置場所の制約を受けるなどの不
都合も生じる。

考案の目的および問題の解決手段したがつて、本考案の目的は、搬送装置の内部
に給排気調整手段を一体的に組み込むことによ
り、従来から必要とされた給排気ダクトを省略す
ることである。また、他の目的は、クリーンルー
ムの内部でも搬送空間を完全に独立させることに
より、搬送空間とクリーンルーム内の作業空間と
を相互に独立させ、それらの間で汚染の影響をな
くすることである。

そこで、本考案は、外部例えばクリーンルーム
から独立した清浄空気を搬送方向に形成するケー
シングの上部に給気道、中間部に搬送空間、下部
に排気道をそれぞれ搬送方向に沿つて設けること
により、清浄空気の給排気過程で、独立的なダク
トを省略するようにしている。また、本考案は、
清浄空気が搬送空間内で不均一になつたり、また
乱流として現れることを防止するために、給排気
道の部分に所定の間隔で開口面積の調整手段を設
け、搬送方向に沿つてそれらの開口面積を適当に
調整することにより、搬送空間の全区間で均一で
しかも乱流のない状態で清浄空気流を上方から下
方に向けて発生させるようにしている。

実施例の構成第１図は、本考案の搬送装置１の構成を示す。

この搬送装置１は、ケーシング２、隔壁３およ
び開口面積調整手段４によつて構成されている。

上記ケーシング２は、外部、例えばクリーンル
ームから独立した清浄空気間搬送方向に形成する
ように、角筒状になつている。

上記隔壁３は、ケーシング２内部の上方側およ
び下方側を仕切つており、この上下の隔壁３およ
び排気整流板２２，２３によりケーシング２の内
部は、上から給気道５、フイルター室１５、搬送
空間６、排気整流室１７、排気道７を形成するよ
うに分割される。そして、フイルター室１５の内
部には、高性能フイルター２１が設けられてび
り、その上方側がフイルター上流室１５ａ、下方
側がフイルター下流室１５ｂとして形成されてい
る。また、上記隔壁３には、搬送方向に所定の間
隔で例えば円形の開口部が形成されており、給気
道５側の隔壁３の開口部が給気口８となり、また
排気道７側の隔壁３の開口部が排気口９となつて
いる。そして給気道５には、一端部から中性能フ
イルターを通つた空気１２が供給され、搬送空間
６が正圧（例えば６mmH₂O）になるように、空
気１２−２が排出される。

さらに、上記開口面積調整手段４は、上記給気
口８および排気口９の開口面積を調整するため
に、各隔壁３に取り付けられており、第２図に示
すように、一対の案内枠４ａと、この案内枠４ａ
により例えば搬送方向に摺動自在な状態て支持さ
れた開口面積調整板４ｂとで構成されている。そ
して、この開口面積調整板４ｂは、その中央部分
で上記給気口８および排気口９と対応する孔４ｃ
を一体的に形成している。

一方、ケーシング２の側面には、メンテナンス
用の開口部１０が搬送方向に所定の間隔で設けら
れており、この開口部１０には、側面カバー１１
が丁番１３および止め具１４により開閉自在に取
り付けられている。

実施例の作用本考案の搬送装置１は、半導体工場内に水平な
状態で設置される。そして、搬送対象のウエハ
は、ウエハカセツトの内部に収納され、それとと
もに搬送空間６内の車輪２０を備えた搬送台車１
８により、一方の半導体製造装置から次の工程の
半導体製造装置へと自動的に運ばれていく。この
ため、搬送空間６の内部に、案内レール１９や給
電路などが組み込まれる。

この間に、給気道５から給気口８を通り、空気
１２が高性能フイルター２１を通過して搬送空間
６の内部に供給され、下方の排気口９を通り、排
気道７に排出されていく。

この場合、各給気口８よりフイルター室１５の
内部に供給される空気１２の供給量は、空気１２
の供給源およびケーシング端面との距離に関連し
て大きく異なる。しかし、開口面積調整手段４に
より、給気口８および排気口９の開口面積をそれ
ぞれ調整して、空気１２の供給量の多い給気口８
では、その開口面積を小さいし、供給量の少ない
給気口８では、その開口面積を大きくすることに
より、給気道５からの空気１２の流入を均一にし
ている。また、同様な手段により、排気道７への
空気１２−２の排気を均一化するように調整す
る。したがつて、高性能フイルター２１およびフ
イルター下流室１５ｂを通過した空気１２−１の
空気流は、搬送空間６の全域に渡つて内部で均一
な層流となり乱流を起こさない。

なお、装置内部の清帰などのメンテナンスを行
う場合は、側面カバー１１を開けることにより、
容易にケーシング２の内部に臨むことができる。

考案の変形例上記実施例では、空気１２−２の排気手段とし
てケーシング２の下方に排気道７を備えいるが、
床面全体が例えばハニカム構造でつくられ、排気
機能を持つているクリーンルームでは、このクリ
ーンルームの床面に直接この搬送装置１を設置す
る場場合などは、ケーシング２の下面を開口させ
て、クリーンルームの床面に直接空気１２−２を
排気してもよい。この場合、上記排気道７を必要
としないため、さらにコンパクトで安価な搬送装
置１を得ることができる。

考案の効果本考案の搬送装置では、搬送方向に沿つて給気
道および排気道を一体的に設けているために、独
立した給、排気ダクトを必要としないので、装置
がコンパクトとなり、設置場所の制約をうけな
い。

また、給、排気道の部分に、所定の間隔で給、
排気口の開口面積調整手段を設けているため、そ
れらの調整により搬送空間の全区間で均一な層流
の清浄空気を発生することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の搬送装置の側面から見た垂直
断面図、第２図は同装置の給、排気口の開口面積
調整手段の拡大平面図である。１……搬送装置、２……ケーシング、３……隔
壁、４……開口面積調整手段、５……給気道、７
……排気道、８……給気口、９……排気口、１０
……開口部、１１……側面カバー、１５……フイ
ルター室。

Claims

【実用新案登録請求の範囲】 (1) 外部から独立した清浄空間を搬送方向に形成
する密閉型のケーシング２と、このケーシング
２の内部上方を上側の給気道５と下側のフイル
ター室１５とに仕切る上方側の隔壁３と、上方
側の隔壁３の下方のフイルター室１５内に設け
られた高性能フイルター２１と、上方側の隔壁
３に搬送方向の所定の間隔で形成された給気口
８と、この給気口８の開口面積を調整する上方
側の開口面積調整手段４と、ケーシング２の内
部下方を上側の排気整流量１７と下側道７とに
仕切る下方側の隔壁３と、この下方側の隔壁３
に搬送方向の所定の間隔で形成された排気口９
と、この排気口９の開口面積を調整する下方側
の開口面積調整手段４と、高性能フイルター２
１の下方に設けられた排気整流板２２と下方側
の隔壁３の上方に設けられた排気整流板２３と
の間に形成された搬送空間６とからなることを
特徴とする搬送装置１。 (2) 上記ケーシング２は搬送空間６と対応する側
面に開口部１０を有し、この開口部１０に開閉
自在の側面カバー１１を備えることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲(1)項記載の搬送装置
１。