JPH03144301A - 測定システム - Google Patents
測定システムInfo
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- JPH03144301A JPH03144301A JP2237283A JP23728390A JPH03144301A JP H03144301 A JPH03144301 A JP H03144301A JP 2237283 A JP2237283 A JP 2237283A JP 23728390 A JP23728390 A JP 23728390A JP H03144301 A JPH03144301 A JP H03144301A
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- JP
- Japan
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- sensor
- measurement system
- measured
- head
- light beam
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02029—Combination with non-interferometric systems, i.e. for measuring the object
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/002—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates
- G01B11/005—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring two or more coordinates coordinate measuring machines
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02062—Active error reduction, i.e. varying with time
- G01B9/02067—Active error reduction, i.e. varying with time by electronic control systems, i.e. using feedback acting on optics or light
- G01B9/02068—Auto-alignment of optical elements
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/0207—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
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- Optics & Photonics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光源で発生した光ビームを用いて、例えばロ
ボットのアーム、軌道(トラック)に沿って移動可能な
車両、あるいは座標位置決め機のヘッド等の被測定物の
空間位置を測定する測定システムに関する。
ボットのアーム、軌道(トラック)に沿って移動可能な
車両、あるいは座標位置決め機のヘッド等の被測定物の
空間位置を測定する測定システムに関する。
(以下余白)
[従来の技術]
このような測定システムの一例としてレーザ干渉計があ
り、座標位置決め機(例えば、座標測定機あるいは工作
機械)のヘッドの位置を測定するのに用いられている。
り、座標位置決め機(例えば、座標測定機あるいは工作
機械)のヘッドの位置を測定するのに用いられている。
一般的には、この干渉計はミクロンのオーダの精度でヘ
ッド位置を測定する。したがって、例えば温度変化、ビ
ーム角度のわずかなずれ、空気の屈折率のわずかな局部
的変化、あるいは、ヘッドの振動等の現象が干渉計によ
るいずれの測定精度にも大きな影響を与えることになる
。
ッド位置を測定する。したがって、例えば温度変化、ビ
ーム角度のわずかなずれ、空気の屈折率のわずかな局部
的変化、あるいは、ヘッドの振動等の現象が干渉計によ
るいずれの測定精度にも大きな影響を与えることになる
。
[発明が解決しようとする課題]
周囲環境状態の監視をし、必要な場合には測定結果を補
正可能とするために、光学測定系の近辺に測候部(気象
観測手段)を設けることが知られている。しかしながら
、このような測候部はそのごく近辺の周囲環境状態に影
響を及ぼすパラメータの値を決定するに過ぎない。要求
された程度の精度を得るため、及び/又は被測定物の位
置を複数の異なる位置で測定すべき場合には、このよう
なパラメータ(更にl又はそれ以上の上述のパラメータ
も)をいろいろな箇所でモニタすることが必要となる。
正可能とするために、光学測定系の近辺に測候部(気象
観測手段)を設けることが知られている。しかしながら
、このような測候部はそのごく近辺の周囲環境状態に影
響を及ぼすパラメータの値を決定するに過ぎない。要求
された程度の精度を得るため、及び/又は被測定物の位
置を複数の異なる位置で測定すべき場合には、このよう
なパラメータ(更にl又はそれ以上の上述のパラメータ
も)をいろいろな箇所でモニタすることが必要となる。
そこで、本発明の目的は上述の点に鑑み、機械に取り付
けられた被測定物の位置を周囲環境に影響されずに高精
度に測定し、この被測定物を位置決めすることの可能な
測定システムを提供することにある。
けられた被測定物の位置を周囲環境に影響されずに高精
度に測定し、この被測定物を位置決めすることの可能な
測定システムを提供することにある。
[課題を解決するための手段]
かかる目的を達成するため、この発明の測定システムは
、光ビームを発生する光源を備え、この光ビームからの
光が被測定物に入射し、これにより被測定物がそのビー
ムと相互作用し、更に、この相互作用の結果を検出して
これに対応した検出信号を発生する検出器と、この検出
信号を受けてこの検出信号から被測定物の位置を測定す
る中央制御装置と、光ビームにより作動可能で、被測定
物の位置の測定に影響する物理的パラメータを感知する
少くとも1つのセンサ及びこのパラメータの値を示す無
線信号を中央制御装置に送信する送信手段を有するセン
サモジュールとを備えることを特徴とする。
、光ビームを発生する光源を備え、この光ビームからの
光が被測定物に入射し、これにより被測定物がそのビー
ムと相互作用し、更に、この相互作用の結果を検出して
これに対応した検出信号を発生する検出器と、この検出
信号を受けてこの検出信号から被測定物の位置を測定す
る中央制御装置と、光ビームにより作動可能で、被測定
物の位置の測定に影響する物理的パラメータを感知する
少くとも1つのセンサ及びこのパラメータの値を示す無
線信号を中央制御装置に送信する送信手段を有するセン
サモジュールとを備えることを特徴とする。
[作 用]
したがって、本発明によれば、例えば被測定物が座標位
置決め機のヘッドであり、このヘッドの位置な一定方向
に沿って測定すべきものである場合には、ヘッド上にセ
ンサアレイが設けられ、定方向に沿って種々のパラメー
タがこれらのセンサアレイで測定され、測定値に悪影響
を与え及び/又はヘッドの自由な移動を全体的に阻害す
る可能性のあるヘッドからひき延されるケーブルは送信
手段からの無線信号により不要となる。
置決め機のヘッドであり、このヘッドの位置な一定方向
に沿って測定すべきものである場合には、ヘッド上にセ
ンサアレイが設けられ、定方向に沿って種々のパラメー
タがこれらのセンサアレイで測定され、測定値に悪影響
を与え及び/又はヘッドの自由な移動を全体的に阻害す
る可能性のあるヘッドからひき延されるケーブルは送信
手段からの無線信号により不要となる。
[実施例]
以下、添付図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明
する。
する。
第1図は本発明の第1実施例の全体の構成を示す。
第1図を参照すると、レーザ10はほぼ完全に平行な光
ビーム12を放出する。このビーム12は複数の光学要
素からなる干渉計システム16に利用される。特に干渉
計システム16はビームスプリッタミラー18を備え、
このビームスプリッタミラー18はビーム12の一部を
据付けの再帰反射器20に向けて、干渉計システム16
の参照アームを形成する。偏向されることなくビームス
プリッタミラー18を直進したこのビーム12の残りの
部分は、再帰反射器22(位置を測定される被測定物に
結合されている)に入射して、干渉計システム16の検
知アームを形成する。再帰反射器20および22からの
戻りビームはビームスプリッタミラー18で再結合され
、これにより生ずる干渉縞が検出器24で検出される。
ビーム12を放出する。このビーム12は複数の光学要
素からなる干渉計システム16に利用される。特に干渉
計システム16はビームスプリッタミラー18を備え、
このビームスプリッタミラー18はビーム12の一部を
据付けの再帰反射器20に向けて、干渉計システム16
の参照アームを形成する。偏向されることなくビームス
プリッタミラー18を直進したこのビーム12の残りの
部分は、再帰反射器22(位置を測定される被測定物に
結合されている)に入射して、干渉計システム16の検
知アームを形成する。再帰反射器20および22からの
戻りビームはビームスプリッタミラー18で再結合され
、これにより生ずる干渉縞が検出器24で検出される。
この検出器24は検出信号をマイクロプロセッサ46に
伝送し、このマイクロプロセッサ46はこの検出信号か
ら再帰反射器22の位置を測定する。
伝送し、このマイクロプロセッサ46はこの検出信号か
ら再帰反射器22の位置を測定する。
測定精度を決定するパラメータの1つは、干渉計システ
ム16の構成部品に対する光ビーム12のアライメント
(整合)である、測定するためと、必要あらば発生の可
能性の何らがのミスアライメント(例えば、レーザに対
する干渉計の移動によるミスアライメント)を補償する
ために、干渉計16に対するビームのアライメントを検
出し、調整する調整装置が設けられている。この調整装
置は、ビーム12を干渉計システム16に向ける平面鏡
14と、干渉計の出射側(downbeam )でビー
ム12の光路内に配置されたビームスプリッタミラー2
6とを有する。ビームスプリッタミラー26は、ビーム
12の成分27をビーム12の伝搬方向を検出する電子
ターゲットへ向ける。この電子ターゲットは本事例では
4分割セル28(注:電荷結合素子アレイ(CCDアレ
イ)あるいは位置感知検出器も用いることもできる)で
ある、4分割セル28の4つの出力(A、B、C,D)
は論理回路部32の入力を供給し、この論理回路部32
は入力信号(A、B。
ム16の構成部品に対する光ビーム12のアライメント
(整合)である、測定するためと、必要あらば発生の可
能性の何らがのミスアライメント(例えば、レーザに対
する干渉計の移動によるミスアライメント)を補償する
ために、干渉計16に対するビームのアライメントを検
出し、調整する調整装置が設けられている。この調整装
置は、ビーム12を干渉計システム16に向ける平面鏡
14と、干渉計の出射側(downbeam )でビー
ム12の光路内に配置されたビームスプリッタミラー2
6とを有する。ビームスプリッタミラー26は、ビーム
12の成分27をビーム12の伝搬方向を検出する電子
ターゲットへ向ける。この電子ターゲットは本事例では
4分割セル28(注:電荷結合素子アレイ(CCDアレ
イ)あるいは位置感知検出器も用いることもできる)で
ある、4分割セル28の4つの出力(A、B、C,D)
は論理回路部32の入力を供給し、この論理回路部32
は入力信号(A、B。
C,D)に基づいて2軸モ一タ列34を駆動して、平面
鏡14のアライメントを再調整する。したがって、ビー
ム12がずれると、4分割セル28の各部に入る光の強
さの比がビームの適正なアライメントに対応する現在の
比のレベルから変化することになる。この変化は、論理
回路部32がモータ34を作動させて、入力信号30の
信号比が上記現在レベルに戻るまで平面鏡14のアライ
メントを調整することを生じさせる。この作動について
は後でさらに詳述する。更に、論理回路部32はLED
(発光ダイオード;図示しない)を接続してもよく、
また符号化信号を受信器44を通じてマイクロプロセッ
サ46に送信して、測定値に必要とされる補正を行うこ
とができるようにしてもよい。このように、このミスア
ライメント(整合ずれ)に関する情報は、正確な測定を
行うために使用される情報を得るためにも用いることが
できる。
鏡14のアライメントを再調整する。したがって、ビー
ム12がずれると、4分割セル28の各部に入る光の強
さの比がビームの適正なアライメントに対応する現在の
比のレベルから変化することになる。この変化は、論理
回路部32がモータ34を作動させて、入力信号30の
信号比が上記現在レベルに戻るまで平面鏡14のアライ
メントを調整することを生じさせる。この作動について
は後でさらに詳述する。更に、論理回路部32はLED
(発光ダイオード;図示しない)を接続してもよく、
また符号化信号を受信器44を通じてマイクロプロセッ
サ46に送信して、測定値に必要とされる補正を行うこ
とができるようにしてもよい。このように、このミスア
ライメント(整合ずれ)に関する情報は、正確な測定を
行うために使用される情報を得るためにも用いることが
できる。
論理回路部32およびモータ34は再充電可能な電池3
6から電力を供給され、この電池36によりアライメン
ト感知兼調整装置13の外部の電源から論理回路部に電
力を供給する必要がなくなる。ビーム成分27の光路内
に配置されたビームスプリッタミラー38はビーム成分
27の一部を光電池に偏向する0本実施例では、この電
池は硫化カドミウム(CdS)の太陽電池40であり、
この太陽電池が再充電可能な電池36を充電する。この
電池36は4分割セル28で変換された電力から直接充
電することが可能なことはもちろんであるが、この点に
関しては4分割セル28の効率は太陽電池40よりも低
い。これに代り、作動寿命に匹敵する寿命を有する電池
は論理回路部およびモータ34の電力供給に用いること
ができ、論理回路部は4分割セル28へのビーム27の
入射で作動される。
6から電力を供給され、この電池36によりアライメン
ト感知兼調整装置13の外部の電源から論理回路部に電
力を供給する必要がなくなる。ビーム成分27の光路内
に配置されたビームスプリッタミラー38はビーム成分
27の一部を光電池に偏向する0本実施例では、この電
池は硫化カドミウム(CdS)の太陽電池40であり、
この太陽電池が再充電可能な電池36を充電する。この
電池36は4分割セル28で変換された電力から直接充
電することが可能なことはもちろんであるが、この点に
関しては4分割セル28の効率は太陽電池40よりも低
い。これに代り、作動寿命に匹敵する寿命を有する電池
は論理回路部およびモータ34の電力供給に用いること
ができ、論理回路部は4分割セル28へのビーム27の
入射で作動される。
概して、アライメント調整を必要としない時間がほとん
どであるので、太陽電池40に入射する光のレベルが低
くても電池36を充電するには十分である。論理回路部
32は一般的にはCMOS回路であり、したがってその
作動に要する電力は極めて小さい0周囲の光(例えば日
光)のレベルが高い場所のシステムでは、太陽電池40
はこの光を用いて電池を充電することもできる。しかし
、有効な電力が不十分な場合には、太陽電池40の充電
促進を目的とするためだけの第2光源を設けることもで
きる。この第2光源はコヒーレント光(可干渉性光)あ
るいは周波数を安定化した光である必要はなく、したが
ってレーザ10よりもより低価格で設けることができる
。
どであるので、太陽電池40に入射する光のレベルが低
くても電池36を充電するには十分である。論理回路部
32は一般的にはCMOS回路であり、したがってその
作動に要する電力は極めて小さい0周囲の光(例えば日
光)のレベルが高い場所のシステムでは、太陽電池40
はこの光を用いて電池を充電することもできる。しかし
、有効な電力が不十分な場合には、太陽電池40の充電
促進を目的とするためだけの第2光源を設けることもで
きる。この第2光源はコヒーレント光(可干渉性光)あ
るいは周波数を安定化した光である必要はなく、したが
ってレーザ10よりもより低価格で設けることができる
。
以下、論理回路部および2軸モータ34の作動について
第2図および第3図を参照してさらに詳細に説明する。
第2図および第3図を参照してさらに詳細に説明する。
4分割セル28は4つの感知領域A、B、C,Dを備え
、各感知領域は入射光の強度に比例した電気信号を生起
するようになっている。出力A、Bおよび出力C,Dは
加算回路42.45に送出され、これらの加算回路はそ
れぞれA+BおよびC+Dの値に相当した信号を出力す
る。これらの各出力は減算回路47に送出され、この減
算回路はA+BとC+Dの値の差に相当する公知の差動
出力を生成する。この差動出力は、領域A+Bで限定さ
れた4分割セルの半片、および領域C+Dで限定された
その4分割セルの残りの半片に入射した光の強度の差を
表す。この差動出力は比較器48に送出され、この比較
器は差動出力の値を設定値Xと比較する。このXの値は
ビームが完全に整合しているときの差動出力の値である
。(注:ビームが完全に整合されたときに、4分割セル
の4つの領域の各に入射する強度が均一のレベルにある
場合には、比較器48は省略することができるが、装置
を組立てるときに適応性をより大きくするために、比較
器を用いることが好ましい)。比較器48の出力信号E
1は増幅器51(この増幅器は他の全ての論理回路部品
と同様に再充填可能な電池36から電力を供給されろ)
に送出され、この増幅器51の出力はモータ列34の駆
動モータM1に使用されて、ミラーを適切な方向に再整
合する。同様な動作が、加算回路42’ 、45’ と
、減算回路47′と、設定値Yとの比較で得られる誤差
信号E2を駆動モータM2に供給する比較器48′とを
用いて、ビームのアライメントと4分割セル28の半片
A、 Bおよびその残りの半片C,Dに関しても実行さ
れる。
、各感知領域は入射光の強度に比例した電気信号を生起
するようになっている。出力A、Bおよび出力C,Dは
加算回路42.45に送出され、これらの加算回路はそ
れぞれA+BおよびC+Dの値に相当した信号を出力す
る。これらの各出力は減算回路47に送出され、この減
算回路はA+BとC+Dの値の差に相当する公知の差動
出力を生成する。この差動出力は、領域A+Bで限定さ
れた4分割セルの半片、および領域C+Dで限定された
その4分割セルの残りの半片に入射した光の強度の差を
表す。この差動出力は比較器48に送出され、この比較
器は差動出力の値を設定値Xと比較する。このXの値は
ビームが完全に整合しているときの差動出力の値である
。(注:ビームが完全に整合されたときに、4分割セル
の4つの領域の各に入射する強度が均一のレベルにある
場合には、比較器48は省略することができるが、装置
を組立てるときに適応性をより大きくするために、比較
器を用いることが好ましい)。比較器48の出力信号E
1は増幅器51(この増幅器は他の全ての論理回路部品
と同様に再充填可能な電池36から電力を供給されろ)
に送出され、この増幅器51の出力はモータ列34の駆
動モータM1に使用されて、ミラーを適切な方向に再整
合する。同様な動作が、加算回路42’ 、45’ と
、減算回路47′と、設定値Yとの比較で得られる誤差
信号E2を駆動モータM2に供給する比較器48′とを
用いて、ビームのアライメントと4分割セル28の半片
A、 Bおよびその残りの半片C,Dに関しても実行さ
れる。
次に、モータML、M2および偏向ミラー14に対する
これらのモータとの関係について第3図を参照して説明
する。モータ列34は装置支持材上に固定して搭載され
た第1モータM1を備え、このモータは軸線A1の回り
に回転する。第2モータM2は第1モータM1を回転す
るために搭載され、軸線A1に垂直な軸線A2の回りに
回転する。ミラー14は軸53を介して第2モータM2
に結合され、それによりモータM2は軸線A2の回りに
ミラー14を回転することができ、かつ第1モータM1
の回転でミラー14を軸線AIの回りに回転させること
ができる。したがって、ミラー14は両軸線Al、A2
の回りに回転するため、その軸線の交差点(第3図に符
号Pで示す)でロータにより支持されている。装置を立
ち上げた時に、ミラー14上に点Pでビーム12が入射
するのが望ましい。軸線Al、A2の回りにミラー14
を回転することにより領域A、D、領域B、C1領域A
、B、領域C,Dをそれぞれ結合する線に平行な方向に
4分割セル28の表面をビームが横断するようにモータ
34の姿勢を調整すべきである。
これらのモータとの関係について第3図を参照して説明
する。モータ列34は装置支持材上に固定して搭載され
た第1モータM1を備え、このモータは軸線A1の回り
に回転する。第2モータM2は第1モータM1を回転す
るために搭載され、軸線A1に垂直な軸線A2の回りに
回転する。ミラー14は軸53を介して第2モータM2
に結合され、それによりモータM2は軸線A2の回りに
ミラー14を回転することができ、かつ第1モータM1
の回転でミラー14を軸線AIの回りに回転させること
ができる。したがって、ミラー14は両軸線Al、A2
の回りに回転するため、その軸線の交差点(第3図に符
号Pで示す)でロータにより支持されている。装置を立
ち上げた時に、ミラー14上に点Pでビーム12が入射
するのが望ましい。軸線Al、A2の回りにミラー14
を回転することにより領域A、D、領域B、C1領域A
、B、領域C,Dをそれぞれ結合する線に平行な方向に
4分割セル28の表面をビームが横断するようにモータ
34の姿勢を調整すべきである。
2軸モ一タ列34に代えて、平面ミラー14の姿勢を調
整するためにコンデンサ列で駆動される一連の圧電素子
を設けてもよい。この配置の場合には、ミラー14は2
軸のばね付勢されたラチェット装置上に搭載され、ラチ
ェット装置を介して圧電素子はミラーを“軽くつつく”
して一連のそれぞれ別個の姿勢とすることができる。
整するためにコンデンサ列で駆動される一連の圧電素子
を設けてもよい。この配置の場合には、ミラー14は2
軸のばね付勢されたラチェット装置上に搭載され、ラチ
ェット装置を介して圧電素子はミラーを“軽くつつく”
して一連のそれぞれ別個の姿勢とすることができる。
上述のように、干渉計に使用されるレーザは周囲環境の
変化に応じてその周波数を安定化させる必要があり、し
たがってこのような変化をモニタ(監視)することが望
ましい。再度第1図を参照すると、機械のヘッド(図示
しない)は温度センサ(例えばpt抵抗温度計)50を
携行している。温度計の出力はマイクロプロセッサ52
に送られ、このマイクロプロセッサは符号化信号をLE
D送信器/受信器54.44を通じて中央マイクロプロ
セッサ46に送る。マイクロプロセッサ52およびLE
D送信器54は再充電可能な電池56から電力を供給さ
れる。ビームスプリッタミラー18の出射側のビーム1
2の光路内に配置されたビームスプリッタミラー58は
、ビーム12の一部を太陽電池60上に偏向し、この太
陽電池は再充電可能な電池56を充電する。この構成は
、また干渉計測定における重要な補正ファクタを供給す
る遠隔圧力センサ、相対湿度ガスセンサおよび屈折率セ
ンサにも適用することができる。
変化に応じてその周波数を安定化させる必要があり、し
たがってこのような変化をモニタ(監視)することが望
ましい。再度第1図を参照すると、機械のヘッド(図示
しない)は温度センサ(例えばpt抵抗温度計)50を
携行している。温度計の出力はマイクロプロセッサ52
に送られ、このマイクロプロセッサは符号化信号をLE
D送信器/受信器54.44を通じて中央マイクロプロ
セッサ46に送る。マイクロプロセッサ52およびLE
D送信器54は再充電可能な電池56から電力を供給さ
れる。ビームスプリッタミラー18の出射側のビーム1
2の光路内に配置されたビームスプリッタミラー58は
、ビーム12の一部を太陽電池60上に偏向し、この太
陽電池は再充電可能な電池56を充電する。この構成は
、また干渉計測定における重要な補正ファクタを供給す
る遠隔圧力センサ、相対湿度ガスセンサおよび屈折率セ
ンサにも適用することができる。
更にまた1位置が測定される被測定物の振動及び/又は
撓みの存在を測定することは有益であり、このため加速
度計62が被測定物上に配置されている。加速度計(例
えば、圧電素子でもよい)は、再帰反射器22に作用す
る撓み及び/又は振動の程度を表す信号を出力する。こ
の情報は引続いて、測定計算が行われるときに振動によ
り生じた誤差を補正するように考慮される。同様に、温
度計50から得られた温度情報もマイクロプロセッサ4
6に送られる。遠隔加速度計も、干渉計自体を振動計と
して使用して得られたデータと比較するために用いるこ
とができる。
撓みの存在を測定することは有益であり、このため加速
度計62が被測定物上に配置されている。加速度計(例
えば、圧電素子でもよい)は、再帰反射器22に作用す
る撓み及び/又は振動の程度を表す信号を出力する。こ
の情報は引続いて、測定計算が行われるときに振動によ
り生じた誤差を補正するように考慮される。同様に、温
度計50から得られた温度情報もマイクロプロセッサ4
6に送られる。遠隔加速度計も、干渉計自体を振動計と
して使用して得られたデータと比較するために用いるこ
とができる。
距離測定も光ビームの振幅変調により行うことができる
。第4図を参照すると、ビーム発生器110は光ビーム
112を放出し、その光ビームの振幅はクロック170
で変調される。センサモジュールが位置を測定すべき被
測定物上に設けられ、このセンサモジュールはビーム1
12の強度を検出し、この検出信号を位相比較器174
に伝送する光検出器124を備えている。比較器174
はその検出信号をクロック回路172の出力(この出力
はクロック回路170と同じ周波数を有し、このクロッ
ク回路170に対して既知の位相関係を有する)と比較
して、位相出力信号を発生し、これによりこの位相出力
信号はマイクロプロセッサ186に伝送され、このマイ
クロプロセッサはLED184を作動して位相出力信号
に対応した符号化信号を発生させる。この符号化信号は
受信器(図示しない)が受けとり、中央マイクロプロセ
ッサ(図示しない)に伝送され、この中央マイクロプロ
セッサはこの位相出力信号から上記実施例と同様にビー
ム発生器110と光検出器124(したがって被測定物
)との間の距離を決定する。光検出器124とクロック
回路172と位相比較器174とマイクロプロセッサ1
86とは全て太陽電池あるいはバッテリ(この電力は光
検出器124にビーム112が入射したときにのみ消費
されるだけである)から電力を供給されることができる
。
。第4図を参照すると、ビーム発生器110は光ビーム
112を放出し、その光ビームの振幅はクロック170
で変調される。センサモジュールが位置を測定すべき被
測定物上に設けられ、このセンサモジュールはビーム1
12の強度を検出し、この検出信号を位相比較器174
に伝送する光検出器124を備えている。比較器174
はその検出信号をクロック回路172の出力(この出力
はクロック回路170と同じ周波数を有し、このクロッ
ク回路170に対して既知の位相関係を有する)と比較
して、位相出力信号を発生し、これによりこの位相出力
信号はマイクロプロセッサ186に伝送され、このマイ
クロプロセッサはLED184を作動して位相出力信号
に対応した符号化信号を発生させる。この符号化信号は
受信器(図示しない)が受けとり、中央マイクロプロセ
ッサ(図示しない)に伝送され、この中央マイクロプロ
セッサはこの位相出力信号から上記実施例と同様にビー
ム発生器110と光検出器124(したがって被測定物
)との間の距離を決定する。光検出器124とクロック
回路172と位相比較器174とマイクロプロセッサ1
86とは全て太陽電池あるいはバッテリ(この電力は光
検出器124にビーム112が入射したときにのみ消費
されるだけである)から電力を供給されることができる
。
上述の配列はある程度位置を逆にして、位置を測定すべ
き被測定物に変調された光ビームを当てることもできる
。被測定物に設けられたビーム発生器は上記実施例と同
様にその場所で電力を供給され、中央制御装置からの被
測定物上に設けられた光検出器へのビームの入射で作動
される。この配列では特に異なる方向に移動する光ビー
ムを使用して他の物との間で被測定物の位置の2つの量
を測定することができる。
き被測定物に変調された光ビームを当てることもできる
。被測定物に設けられたビーム発生器は上記実施例と同
様にその場所で電力を供給され、中央制御装置からの被
測定物上に設けられた光検出器へのビームの入射で作動
される。この配列では特に異なる方向に移動する光ビー
ムを使用して他の物との間で被測定物の位置の2つの量
を測定することができる。
レーザ干渉計で測定するときに考慮すべき最も重要なパ
ラメータの1つはビームに垂直な温度勾配である。第5
図を参照すると、座標測定機械200はX + V +
Zの方向に移動可能なヘッド202を有する。図示の
例におけるヘッド202の位置はy方向で測定すべきも
のであり、このヘッドの端部に向ってレーザ204はビ
ーム206を放出し、このビームは干渉計208(参照
アームを備える)を介して、ヘッド202に設けられた
再帰反射器(図示しない)に入射する。
ラメータの1つはビームに垂直な温度勾配である。第5
図を参照すると、座標測定機械200はX + V +
Zの方向に移動可能なヘッド202を有する。図示の
例におけるヘッド202の位置はy方向で測定すべきも
のであり、このヘッドの端部に向ってレーザ204はビ
ーム206を放出し、このビームは干渉計208(参照
アームを備える)を介して、ヘッド202に設けられた
再帰反射器(図示しない)に入射する。
温度センサ212のセンサアレイ210がヘッド202
に設けられ、Z方向における温度勾配を測定する。上記
実施例と同様に、センサからのデータは、共にその場所
で局地的に電力を供給されるマイクロプロセッサと送信
器とを具備するモジュール214により中央制御装置(
図示しない)に送信される。
に設けられ、Z方向における温度勾配を測定する。上記
実施例と同様に、センサからのデータは、共にその場所
で局地的に電力を供給されるマイクロプロセッサと送信
器とを具備するモジュール214により中央制御装置(
図示しない)に送信される。
検出器と情報取得システムと送信器とが一定の光学シス
テムの種々のポイントに配置されるべき場合に、検出器
(あるいは検出器アレイ)および論理回路部(あるいは
マイクロプロセッサ)を適切な外部焦点調節兼整合用光
学系と共に1個の小型パッケージ内の単一の印刷基板に
配設することは本発明の有益な実施である。
テムの種々のポイントに配置されるべき場合に、検出器
(あるいは検出器アレイ)および論理回路部(あるいは
マイクロプロセッサ)を適切な外部焦点調節兼整合用光
学系と共に1個の小型パッケージ内の単一の印刷基板に
配設することは本発明の有益な実施である。
必要な場合には、本発明の技術はレーザ(例えば3軸ス
テージに搭載することもできるレーザ)の姿勢を直接調
節するために用いることもできる。あるいは、光ビーム
は一対のプリズム状ウェッジ((さび)の姿勢を調整す
ることによりレーザからのビーム放出点に近(に調節す
ることができる。レーザからの光が光ファイバの端部か
ら放出される場合は、光ファイバの姿勢を調整すること
によりアライメントを調整することもできる。
テージに搭載することもできるレーザ)の姿勢を直接調
節するために用いることもできる。あるいは、光ビーム
は一対のプリズム状ウェッジ((さび)の姿勢を調整す
ることによりレーザからのビーム放出点に近(に調節す
ることができる。レーザからの光が光ファイバの端部か
ら放出される場合は、光ファイバの姿勢を調整すること
によりアライメントを調整することもできる。
遠隔に配置された個別のセンサと同様に、遠隔の屈折計
を整合させ、かつ作動させるためにこの光学的位置整合
技術を用いることもできる。
を整合させ、かつ作動させるためにこの光学的位置整合
技術を用いることもできる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、例えば被測定物
が座標位置決め機のヘッドであり、このヘッドの位置を
一定方向に沿って測定すべきものである場合には、ヘッ
ド上にセンサアレイが設けられ、一定方向に沿って種々
のパラメータがこれらのセンサアレイで測定され、測定
値に悪影響を与え及び/又はヘッドの自由な移動を全体
的に阻害する可能性のあるヘッドからひき延されるケー
ブルは送信手段からの無線信号により不要となる。
が座標位置決め機のヘッドであり、このヘッドの位置を
一定方向に沿って測定すべきものである場合には、ヘッ
ド上にセンサアレイが設けられ、一定方向に沿って種々
のパラメータがこれらのセンサアレイで測定され、測定
値に悪影響を与え及び/又はヘッドの自由な移動を全体
的に阻害する可能性のあるヘッドからひき延されるケー
ブルは送信手段からの無線信号により不要となる。
第1図は本発明の第1実施例の全体の構成を示す構成図
、 第2図および第3図はそれぞれ第1実施例の構成部品の
詳細を示す回路図および正面図、第4図は本発明の第2
実施例の構成を示すブロック図、 第5図は本発明の実施例の座標位置決め機械の概略構成
を示す斜視図である。 10.204・・・レーザ、 12.112,206・・・光ビーム、13・・・アラ
イメント感知兼調整装置、14・・・平面鏡、 16・・・干渉計システム、 18.26,38.58・・・ビームスプリッタミラー 20.22・・・再帰反射器、 24・・・検出器、 28・・・4分割セル(−次電池)、 32・・・論理回路部、 34・・・2軸モータ、 36.56・・・バッテリ、 40.60・・・太陽電池、 2.42’ 、45.45’・・・加算回路、4・・・
受信器、 6.52,186・・・マイクロプロセッサ、7.47
’・・・減算回路、 8.48’・・・比較器、 1.51’・・・増幅器、 0.212・・・温度センサ、 3・・・軸、 4・・・送信器、 2・・・加速度計、 10・・・ビーム発生器、 24・・・光検出器、 70.172・・・クロック回路、 74・・・位相比較器、 84・・・LED。 00・・・座標測定機、 02・・・ヘッド、 08・・・干渉計、 10・・・センサアレイ、 14・・・モジュール。
、 第2図および第3図はそれぞれ第1実施例の構成部品の
詳細を示す回路図および正面図、第4図は本発明の第2
実施例の構成を示すブロック図、 第5図は本発明の実施例の座標位置決め機械の概略構成
を示す斜視図である。 10.204・・・レーザ、 12.112,206・・・光ビーム、13・・・アラ
イメント感知兼調整装置、14・・・平面鏡、 16・・・干渉計システム、 18.26,38.58・・・ビームスプリッタミラー 20.22・・・再帰反射器、 24・・・検出器、 28・・・4分割セル(−次電池)、 32・・・論理回路部、 34・・・2軸モータ、 36.56・・・バッテリ、 40.60・・・太陽電池、 2.42’ 、45.45’・・・加算回路、4・・・
受信器、 6.52,186・・・マイクロプロセッサ、7.47
’・・・減算回路、 8.48’・・・比較器、 1.51’・・・増幅器、 0.212・・・温度センサ、 3・・・軸、 4・・・送信器、 2・・・加速度計、 10・・・ビーム発生器、 24・・・光検出器、 70.172・・・クロック回路、 74・・・位相比較器、 84・・・LED。 00・・・座標測定機、 02・・・ヘッド、 08・・・干渉計、 10・・・センサアレイ、 14・・・モジュール。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)機械に取り付けられた被測定物の位置を測定し、こ
の被測定物を位置決めするための測定システムであって
、 光ビームを発生する光源を備え、この光ビームからの光
が前記被測定物に入射し、これにより被測定物がそのビ
ームと相互作用し、 更に、この相互作用の結果を検出して、これに対応した
検出信号を発生する検出器と、 この検出信号を受けてこの検出信号から被測定物の位置
を測定する中央制御装置と、 光ビームにより作動可能で、被測定物の位置の測定に影
響する物理的パラメータを感知する少くとも1つのセン
サ及びこのパラメータの値を示す無線信号を前記中央制
御装置に送信する送信手段を有するセンサモジュールと を備える測定システム。 2)前記センサモジュールは被測定物上に設けられてい
る請求項1に記載の測定システム。 3)前記センサモジュールのセンサは前記検出器であり
、前記送信手段は前記検出信号を送信する請求項2に記
載の測定システム。 4)前記センサモジュールの各センサは、温度センサと
圧力センサと湿度センサと屈折率センサとビームアライ
メントセンサと振動センサとからなるグループから選定
される請求項2に記載の測定システム。 5)前記センサモジュールは電池で駆動される請求項1
に記載の測定システム。 6)前記電池は、光ビームによりエネルギを供給される
光電池で充電される請求項5に記載の測定システム。 7)前記光電池にエネルギを供給する補助光ビームを更
に備える請求項6に記載の測定システム。 8)前記被測定物は座標位置決め機のヘッドである請求
項2に記載の測定システム。 9)前記ビームに対して横方向に間隔をおいて、前記ヘ
ッド上に設けられ、それによりこのビームを横切る温度
勾配を測定する温度センサアレイを更に備える請求項8
に記載の測定システム。 10)前記センサは被測定物に対する光ビームのアライ
メントを感知するビームセンサである請求項1に記載の
測定システム。 11)ビーム光路内に設けられ、このビームとの相対的
な方向に応じた角度にわたってビームを偏向する偏向手
段と、この偏向手段の方向を変えるモータとを更に備え
る請求項10に記載の測定システム。 12)前記モータは電池で駆動される請求項11に記載
の測定システム。 13)前記電池は、光ビームによりエネルギを供給され
る光電池で充電される請求項12に記載の測定システム
。 14)前記光電池にエネルギを供給する補助光ビームを
更に備える請求項13に記載の測定システム。 15)前記被測定物上に設けられ、更に他の光ビームを
発生する更に他の光源を備え、この光ビームを検出する
更に他の検出器が前記中央制御装置に設けられている請
求項1に記載の測定システム。 16)ベッドに対して3方向に可動のヘッドと、このヘ
ッドに設けられたセンサモジュールとを有する座標位置
決め機であって、前記センサモジュールは周囲環境状態
を感知する少なくとも1のセンサと、このセンサの各々
で感知された環境状態を示す無線信号を送信する送信手
段とを備える座標位置決め機。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB898920448A GB8920448D0 (en) | 1989-09-09 | 1989-09-09 | Apparatus for adjusting the alignment of a light beam |
| GB8920448.1 | 1989-09-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03144301A true JPH03144301A (ja) | 1991-06-19 |
Family
ID=10662841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2237283A Pending JPH03144301A (ja) | 1989-09-09 | 1990-09-10 | 測定システム |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5127735A (ja) |
| EP (1) | EP0417934A3 (ja) |
| JP (1) | JPH03144301A (ja) |
| GB (1) | GB8920448D0 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009229235A (ja) * | 2008-03-21 | 2009-10-08 | Fujinon Corp | 干渉縞撮像装置およびこれを備えた光波干渉測定装置 |
| CN113091618A (zh) * | 2021-04-01 | 2021-07-09 | 吉林大学 | 一种用于交联电缆生产线的光电悬垂系统 |
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| US5991033A (en) * | 1996-09-20 | 1999-11-23 | Sparta, Inc. | Interferometer with air turbulence compensation |
| US6573996B1 (en) | 1997-11-12 | 2003-06-03 | Science Research Laboratory, Inc. | Method and apparatus for enhanced precision interferometric distance measurement |
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| FI110209B (fi) * | 1999-06-23 | 2002-12-13 | Leonid Mihaljov | Menetelmä laserinterferometrillä tehtävien mittauksien tarkkuuden parantamiseksi |
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| US8706211B2 (en) | 2007-08-17 | 2014-04-22 | The Invention Science Fund I, Llc | Systems, devices, and methods including catheters having self-cleaning surfaces |
| US8702640B2 (en) | 2007-08-17 | 2014-04-22 | The Invention Science Fund I, Llc | System, devices, and methods including catheters configured to monitor and inhibit biofilm formation |
| US8647292B2 (en) | 2007-08-17 | 2014-02-11 | The Invention Science Fund I, Llc | Systems, devices, and methods including catheters having components that are actively controllable between two or more wettability states |
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| US8460229B2 (en) | 2007-08-17 | 2013-06-11 | The Invention Science Fund I, Llc | Systems, devices, and methods including catheters having components that are actively controllable between transmissive and reflective states |
| US8734718B2 (en) | 2007-08-17 | 2014-05-27 | The Invention Science Fund I, Llc | Systems, devices, and methods including catheters having an actively controllable therapeutic agent delivery component |
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| US8585627B2 (en) | 2008-12-04 | 2013-11-19 | The Invention Science Fund I, Llc | Systems, devices, and methods including catheters configured to monitor biofilm formation having biofilm spectral information configured as a data structure |
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1989
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- 1990-09-05 US US07/577,737 patent/US5127735A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-09-10 JP JP2237283A patent/JPH03144301A/ja active Pending
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Also Published As
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