JPH03145580A - getta pump - Google Patents
getta pumpInfo
- Publication number
- JPH03145580A JPH03145580A JP28240389A JP28240389A JPH03145580A JP H03145580 A JPH03145580 A JP H03145580A JP 28240389 A JP28240389 A JP 28240389A JP 28240389 A JP28240389 A JP 28240389A JP H03145580 A JPH03145580 A JP H03145580A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- titanium
- getter
- getter material
- bulk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、ゲッタ材を気化させることによってチャンバ
内に化学的に活性な金属材料の表面、いわゆるゲッタ面
を作ることによりチャンバ内の気体分子を取り込んで、
チャンバ内の超高真空を遠戚する、いわゆるゲッタポン
プに関し、例えば分子線エキクピシャル装置や表面分析
装置等の、超高真空を必要とする装置に広く応用可能な
ポンプに関する。[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention creates a surface of a chemically active metal material, a so-called getter surface, in the chamber by vaporizing a getter material, thereby reducing gas molecules in the chamber. Incorporating the
The present invention relates to a so-called getter pump that is distantly related to ultra-high vacuum in a chamber, and relates to a pump that can be widely applied to devices that require ultra-high vacuum, such as molecular beam epitaxy equipment and surface analysis equipment.
〈従来の技術〉
ゲッタポンプには種々のものがあるが、現在量も一般的
に用いられているものはチタンサブリメーションポンプ
である。<Prior Art> There are various types of getter pumps, but the one currently in common use is the titanium sublimation pump.
チタンサブリメーションポンプ(以下、TSPと称する
)は、チタンの清浄な面のゲック作用を利用し、チャン
バ内に置かれたチタンを気化させてチャンバ内に蒸着面
を生成し、チャンバ内の気体分子ないしは原子がその清
浄なチタン蒸着面に吸着した際にこれをトラップさせる
もので、次々に新たなチタンの清浄面(蒸着面)を作り
出すことにより、気体分子のトラップを継続的に行い、
排気作用を持たせたものである。A titanium sublimation pump (hereinafter referred to as TSP) utilizes the Geck effect of a clean surface of titanium to vaporize titanium placed in a chamber to create a deposition surface within the chamber, and gas molecules within the chamber are vaporized. Or, when atoms are adsorbed on the clean titanium vapor deposited surface, they are trapped.By creating new titanium clean surfaces (deposited surfaces) one after another, gas molecules are continuously trapped.
It has an exhaust effect.
このTSPは、排気速度が大きいこと(チタンの清浄面
の面積に比例する)、安価なこと等の特徴を持っている
。This TSP has characteristics such as a high pumping speed (proportional to the area of the titanium clean surface) and low cost.
従来のTSPは、チタンの細い線を作り、チャンバ内で
その細い線に大電流を流すことによってチタンを昇華さ
せている。Conventional TSP involves making a thin wire of titanium and sublimating the titanium by passing a large current through the thin wire in a chamber.
第2図に従来のTSPの構成例を示す。FIG. 2 shows an example of the configuration of a conventional TSP.
被排気室である真空チャンバ21内にチタンフィラメン
ト22を挿入し、チャンバ外部の電流導入部23からチ
タンフィラメント22に大電流を流す(フラッシュする
)ことにより、チタンを昇華させる。ここで、遮蔽板2
4は、チャンバ21内でのチタンの回り込みを貼止する
ためのものである。なお、この例においては、チャンバ
21内にチタンフィラメント22を囲むようにLN、シ
ュラウド25を設け、このLN、シュラウド25の内側
の面25aに主としてチタンを蒸着させ、ここをゲッタ
面としている。A titanium filament 22 is inserted into a vacuum chamber 21, which is a chamber to be evacuated, and a large current is applied (flashed) to the titanium filament 22 from a current introducing section 23 outside the chamber, thereby sublimating titanium. Here, shielding plate 2
4 is used to prevent titanium from going around inside the chamber 21. In this example, an LN and a shroud 25 are provided in the chamber 21 so as to surround the titanium filament 22, and titanium is mainly vapor-deposited on the inner surface 25a of the LN and the shroud 25, which is used as a getter surface.
〈発明が解決しようとする課題〉
ところで、以上のような従来のTSPによれば、クライ
オポンプと併用する場合には相互の設置位置に制約が生
しるという問題がある。すなわち、従来のTSPではチ
タン細線に電流をフラッシュさせることでチタンを昇華
させるので、周囲に熱的影響を及ぼすことになり、熱に
弱いクライオポンプの排気口の上にTSPを持ってくる
には難点がある。<Problems to be Solved by the Invention> By the way, according to the conventional TSP as described above, when used together with a cryopump, there is a problem in that mutual installation positions are restricted. In other words, in conventional TSP, titanium is sublimated by flashing a current through a thin titanium wire, which has a thermal effect on the surrounding area, and it is difficult to bring TSP above the exhaust port of a cryopump, which is sensitive to heat. There are some difficulties.
また、従来のTSPでは、昇華したチタンの回り込み防
止用の遮蔽+ri、24は、その近傍の流動抵抗を増加
させることになり、チタン清浄面による排気速度が遮蔽
板24のところでのコンダクタンスによって律されてし
まい、実際上、排気能力はこの遮蔽板24によって左右
されてしまう。In addition, in the conventional TSP, the shield +ri, 24 for preventing sublimated titanium from going around increases the flow resistance in the vicinity, and the pumping speed due to the titanium clean surface is controlled by the conductance at the shield plate 24. Therefore, the exhaust capacity is actually influenced by this shield plate 24.
本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、他の部
分への熱的影響が極めて少なく、また、コンダクタンス
を大きくとれ、以て排気速度が大きいゲッタポンプの提
供を目的としている。The present invention has been made in view of these points, and an object of the present invention is to provide a getter pump that has extremely little thermal influence on other parts, has a large conductance, and has a high pumping speed.
〈課題を解決するための手段〉
上記の目的を遠戚するための構成を、実施例に対応する
第1図を参照しつつ説明すると、本発明は、チャンバ1
内でゲッタ材(例えばチタンバルク)2を支持する支持
体(例えば回転導入機)3と、そのゲッタ材2にチャン
バ1外からレーザ光を集光照射して気化させるレーザ装
置4を備えたことによって特徴付けられる。<Means for Solving the Problems> A configuration for achieving the above object will be explained with reference to FIG. 1 corresponding to the embodiment.
A support body (for example, a rotary introduction machine) 3 that supports a getter material (for example, titanium bulk) 2 inside the chamber, and a laser device 4 that irradiates the getter material 2 with focused laser light from outside the chamber 1 to vaporize it. characterized by
〈作用〉
レーザ光を集光させてゲッタ材に当てると、集光された
局所のみが高温になって、極めて短時間でゲッタ材の昇
華が可能となり、他の部分への熱的影響が少なくなる。<Function> When laser light is focused and applied to the getter material, only the focused area becomes high temperature, making it possible to sublimate the getter material in an extremely short time, with little thermal influence on other parts. Become.
また、レーザ光の集光照射によりゲッタ材を昇華させた
場合、線材に電流をフラッシュさせる場合に比して、蒸
気の飛散方向にはより指向性があり、辻蔽板をより小さ
くないしは無くすることができ、コンダクタンスを大き
くすることが可能となって排気速度は向上する。In addition, when the getter material is sublimated by focused irradiation of laser light, the direction of vapor scattering is more directional than when flashing a current to the wire, making the cross-section plate smaller or eliminated. This makes it possible to increase the conductance and improve the pumping speed.
〈実施例〉 第1図は本発明実施例の構成図である。<Example> FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of the present invention.
真空チャンバ1内には、ゲッタ材であるチタンバルク2
が回転導入N3によって支持されている。Inside the vacuum chamber 1 is a titanium bulk 2 which is a getter material.
is supported by the rotational introduction N3.
真空チャンバ1には透光性の窓6が配設されており、そ
の外方にはレーザ装置4と、そのレーザ装置5からのレ
ーザ光を集光するためのレンズ5が配設されている。A light-transmitting window 6 is provided in the vacuum chamber 1, and a laser device 4 and a lens 5 for condensing laser light from the laser device 5 are provided outside the window 6. .
真空チャンバ1内にはまた、チタンバルク2を取り囲む
ように円筒状のLN、シュラウド7が配設されており、
その内部にチャンバ外部からL N tを循環供給する
ことができる。このLN2シュラウド7とチタンバルク
2との位置関係は、チタンバルク2と窓6との間にLN
、シュラウド7の大部分の内面が存在するような関係と
なっている。A cylindrical LN and shroud 7 are also arranged in the vacuum chamber 1 so as to surround the titanium bulk 2.
L N t can be cyclically supplied into the chamber from outside the chamber. The positional relationship between the LN2 shroud 7 and the titanium bulk 2 is such that the LN2 shroud 7 is located between the titanium bulk 2 and the window 6.
, the inner surface of most of the shroud 7 exists.
レーザ装置4からのレーザ光は、レンズ5および窓6を
介してチタンバルク2の表面に集光される。これにより
、チタンバルク2の表面の直径数μmないし数百μm程
度の微小領域が、短時間、例えば数rls〜数μsで瞬
時に加熱され、チタンが昇華する。昇華したチタンの初
期飛翔方向は、主としてチタンバルク2のレーザ光照射
面のほぼ法線方向となり、特にチタンバルク2の後方に
遮蔽板を設けることなく、チタン粒子の殆どがLN、シ
ュラウド7の内側の面に蒸着し、ここでゲッタ面8を形
成する。Laser light from the laser device 4 is focused on the surface of the titanium bulk 2 via a lens 5 and a window 6. As a result, a minute region on the surface of the titanium bulk 2 with a diameter of several μm to several hundred μm is instantaneously heated over a short period of time, for example, several RLs to several μs, and the titanium sublimes. The initial flight direction of the sublimated titanium is mainly the normal direction of the laser beam irradiation surface of the titanium bulk 2, and most of the titanium particles are LN and inside the shroud 7, especially without providing a shielding plate behind the titanium bulk 2. The getter surface 8 is formed here.
ここで、レーザ装置4としては、加熱を目的とする赤外
光から、紫外光を用いて光化学反応を生起させて昇華さ
せることも可能であることから、各種の波長のものを使
用することができる。例えば、赤外光ならばCO2レー
ザ、YAGレーザ等が、また紫外光ならばエキシマレー
ザが大出力が得られて本発明の目的に適している。Here, as the laser device 4, it is possible to use infrared light for the purpose of heating and ultraviolet light to cause a photochemical reaction and sublimate, so laser devices with various wavelengths can be used. can. For example, for infrared light, a CO2 laser, YAG laser, etc. are suitable for the purpose of the present invention, and for ultraviolet light, an excimer laser can provide a large output and is suitable for the purpose of the present invention.
また、レーザ光をパルス化することによって、刻々と新
たなゲッタ面を作りだすことが可能となる。Furthermore, by pulsing the laser light, it becomes possible to create new getter surfaces every moment.
なお、以上の実施例において、LN2シュラウド7は必
ずしも必要ではなく、使用目的に応してチャンバ1の内
壁面そのものをゲッタ面としてもよく、あるいは専用の
ゲッタチャンバを真空チャンバに取り付けてそのゲッタ
チャソバの内壁面をゲッタ面とするような使用も可能で
ある。In the above embodiments, the LN2 shroud 7 is not necessarily required, and depending on the purpose of use, the inner wall surface of the chamber 1 itself may be used as the getter surface, or a dedicated getter chamber may be attached to the vacuum chamber and the getter chamber 7 may be used as the getter surface. It is also possible to use the inner wall surface as a getter surface.
〈発明の効果〉
以上説明したように、本発明によれば、チャンバ内に置
かれたゲッタ(イにチャンバ外部からのレーザ光を集光
照射することによって、ゲッタ材を昇華させるので、ゲ
ッタ材は局所的に極めて短時間に昇華されることになり
、従来のTSPに比して熱的影響が軽減され、特にクラ
イオポンプと併用する場合に相互の配設位置の制約が少
なくなるという利点がある。<Effects of the Invention> As explained above, according to the present invention, the getter material is sublimated by irradiating the getter placed in the chamber with focused laser light from outside the chamber. The TSP is locally sublimated in an extremely short period of time, which reduces thermal effects compared to conventional TSP, and has the advantage that there are fewer restrictions on mutual placement, especially when used in conjunction with a cryopump. be.
また、レーザ光の照射によりゲッタ材を昇華させる関係
上、ゲッタ材の飛散方向をある程度制御することが可能
となり、遮蔽板を無くするかあるいは極めて小さくする
ことができ、従来のTSPに比べてコンダクタンスを大
きくとれ、排気速度がより向上する。In addition, since the getter material is sublimated by laser light irradiation, it is possible to control the scattering direction of the getter material to some extent, and the shielding plate can be eliminated or made extremely small, resulting in a lower conductance than conventional TSP. can be made larger, and the pumping speed is further improved.
更に、従来のTSPのようにチャンバ内に電気を導入す
る必要がなくなるため、電気的トラブルの発生を低減さ
せることができる。Furthermore, unlike the conventional TSP, there is no need to introduce electricity into the chamber, so it is possible to reduce the occurrence of electrical troubles.
更にまた、ゲッタ材はバルク状のものでいいので、ゲッ
タ材を容易に大型化することができ、ゲッタ拐の取替え
のための真空破壊の頻度を減らずこともできる。Furthermore, since the getter material can be in bulk form, the getter material can be easily increased in size, and the frequency of vacuum breakage for replacing the getter can be reduced without reducing the frequency.
第1図は本発明実施例の構成図、第2図は従来のTSP
の構成例を示す図である。
1・・・・真空チャンバ
2・・・・チタンバルク
3・・・・回転導入機
4・・・・レーザ装置
5・・・・レンズ
6・・・・窓
7・・・・LN2シュラウ
8・・・・ゲッタ面
ドFigure 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention, Figure 2 is a conventional TSP
It is a figure showing an example of composition. 1... Vacuum chamber 2... Titanium bulk 3... Rotating introduction machine 4... Laser device 5... Lens 6... Window 7... LN2 shroud 8. ...Getta Mendo
Claims (1)
よって、チャンバの内側にゲッタ面を作成してチャンバ
内の気体分子を取り込むポンプにおいて、チャンバ内で
ゲッタ材を支持する支持体と、そのゲッタ材に上記チャ
ンバ外からレーザ光を集光照射して気化させるレーザ装
置を備えたことを特徴とするゲッタポンプ。In a pump that vaporizes a getter material placed in the chamber to create a getter surface inside the chamber and take in gas molecules in the chamber, a support body that supports the getter material in the chamber and a support for the getter material are used. A getter pump characterized by comprising a laser device that irradiates condensed laser light from outside the chamber to vaporize the chamber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28240389A JPH03145580A (en) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | getta pump |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28240389A JPH03145580A (en) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | getta pump |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03145580A true JPH03145580A (en) | 1991-06-20 |
Family
ID=17651956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28240389A Pending JPH03145580A (en) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | getta pump |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03145580A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009149751A1 (en) * | 2008-06-11 | 2009-12-17 | R&B Energy Research Sarl | Evacuated solar panel with a non evaporable getter pump |
| CN105674973A (en) * | 2014-11-17 | 2016-06-15 | 中国航空工业第六八研究所 | Laser gyro built-in getter activation method |
| WO2021070011A1 (en) * | 2019-10-09 | 2021-04-15 | Chevron U.S.A. Inc. | System and method for treating contaminated solid material |
-
1989
- 1989-10-30 JP JP28240389A patent/JPH03145580A/en active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009149751A1 (en) * | 2008-06-11 | 2009-12-17 | R&B Energy Research Sarl | Evacuated solar panel with a non evaporable getter pump |
| CN105674973A (en) * | 2014-11-17 | 2016-06-15 | 中国航空工业第六八研究所 | Laser gyro built-in getter activation method |
| WO2021070011A1 (en) * | 2019-10-09 | 2021-04-15 | Chevron U.S.A. Inc. | System and method for treating contaminated solid material |
| AU2020361669B2 (en) * | 2019-10-09 | 2026-02-26 | Chevron U.S.A. Inc. | System and method for treating contaminated solid material |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6331690B1 (en) | Process for producing single-wall carbon nanotubes uniform in diameter and laser ablation apparatus used therein | |
| US20020044629A1 (en) | Method and apparatus for generating X-ray or EUV radiation | |
| JP6824741B2 (en) | Controlled atomic source | |
| US2960457A (en) | Apparatus for vaporizing coating materials | |
| EP3927864A2 (en) | Source arrangement, deposition apparatus and method for depositing source material | |
| US3373050A (en) | Deflecting particles in vacuum coating process | |
| US2836754A (en) | Dark trace cathode-ray tube and method of manufacture | |
| EP1729550A2 (en) | Arrangement and method for protecting an optical component, particularly in an EUV source | |
| JP3938990B2 (en) | Solution vaporizer and film forming apparatus | |
| JPH0297670A (en) | Thin film manufacturing equipment | |
| Hess et al. | Vapor deposition of platinum using cw laser energy | |
| JPH07252645A (en) | Thin film forming equipment | |
| JPS6397226A (en) | Producing apparatus for hyperfine particle | |
| JPH0361361A (en) | Thin film forming device | |
| JPS6329585B2 (en) | ||
| JP2514465Y2 (en) | Getter pump | |
| JP3162684B2 (en) | Electron impact evaporation source | |
| JPH03240948A (en) | Generation of metal vapor | |
| JP2000144386A (en) | Method of forming thin film by laser vapor deposition method and laser vapor deposition apparatus used in the method of forming a thin film | |
| JPH0313568A (en) | Vapor and cluster ejecting device | |
| JPS6096757A (en) | Thin film vapor deposition apparatus | |
| JPH0261940A (en) | Ion source | |
| WO2023011733A1 (en) | Method of operating an evaporation system, deflection device, and evaporation system | |
| JPS6132940A (en) | liquid metal ion source | |
| JPS6110833A (en) | Solid evaporating source |