JPH03146614A - 焼入装置の洗浄槽から焼入塩を回収する装置 - Google Patents
焼入装置の洗浄槽から焼入塩を回収する装置Info
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- JPH03146614A JPH03146614A JP28368489A JP28368489A JPH03146614A JP H03146614 A JPH03146614 A JP H03146614A JP 28368489 A JP28368489 A JP 28368489A JP 28368489 A JP28368489 A JP 28368489A JP H03146614 A JPH03146614 A JP H03146614A
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、溶融焼入塩による焼入槽を有する焼入装置の
洗浄槽から焼入塩を回収する装置に関する。
洗浄槽から焼入塩を回収する装置に関する。
（従来の技術〕
金属部材を焼入温度から溶融塩による焼入槽で急冷して
焼入れし、続いて洗浄槽で洗浄する場合、焼入槽から引
き上げられた金属部材に焼入塩が付着し洗浄槽に移行す
る。そのため、洗浄槽は焼入塩が富化するので、洗浄槽
の焼入塩を回収し、これを焼入槽に戻すことが望まれる
。
焼入れし、続いて洗浄槽で洗浄する場合、焼入槽から引
き上げられた金属部材に焼入塩が付着し洗浄槽に移行す
る。そのため、洗浄槽は焼入塩が富化するので、洗浄槽
の焼入塩を回収し、これを焼入槽に戻すことが望まれる
。
焼入塩の富化した洗浄水をそのまま下水道に排出すると
、焼入塩の主成分は硝酸かり（ＫＮＯ３）と亜硝酸ソー
ダ（ＮａＮｏ２）なので、河川水のＢｏＤ （生物化
学的酸素要求量）及びＣｏＤ （化学的酸素要求量）を
高くし、河川の水質を汚濁するため、これをそのま−下
水道、河川等に排出することは許されない。
、焼入塩の主成分は硝酸かり（ＫＮＯ３）と亜硝酸ソー
ダ（ＮａＮｏ２）なので、河川水のＢｏＤ （生物化
学的酸素要求量）及びＣｏＤ （化学的酸素要求量）を
高くし、河川の水質を汚濁するため、これをそのま−下
水道、河川等に排出することは許されない。
洗浄槽から焼入槽に焼入塩を回収する装置として特公昭
５３年２０４４１号公報に示すものが提案されている。
５３年２０４４１号公報に示すものが提案されている。
同公報に記載された発明の概要を第２図に示す。第２図
において、１は金属部材を焼入温度に加熱し、これを溶
融塩により冷却する焼入装置の焼入槽である。
において、１は金属部材を焼入温度に加熱し、これを溶
融塩により冷却する焼入装置の焼入槽である。
２は焼入装置の洗浄水で満たされた洗浄槽を表わす。
焼入槽１には焼入槽１によって急冷された金属部材を洗
浄槽２へ送るコンベア３が配置される。
浄槽２へ送るコンベア３が配置される。
この装置の稼動により焼入槽の溶融塩が金属部材に付着
して、洗浄槽２に持ち出され、洗浄槽２にはられた洗浄
水に焼入塩が混入して洗浄水の焼入塩の濃度が上昇する
。これを阻止するのに、洗浄槽２に給水し、希釈するこ
とがおこなわれるが、これとは別に洗浄槽２にはられた
洗浄水から焼入塩を除去し、この焼入塩を焼入槽１に回
収するため、焼入槽１内の溶融焼入塩の浴面に倒立ホッ
パ状のフード４が配置され、このフード４は下側開放端
が焼入槽１内の溶融焼入塩の浴面より少し下まで浸漬さ
れている。
して、洗浄槽２に持ち出され、洗浄槽２にはられた洗浄
水に焼入塩が混入して洗浄水の焼入塩の濃度が上昇する
。これを阻止するのに、洗浄槽２に給水し、希釈するこ
とがおこなわれるが、これとは別に洗浄槽２にはられた
洗浄水から焼入塩を除去し、この焼入塩を焼入槽１に回
収するため、焼入槽１内の溶融焼入塩の浴面に倒立ホッ
パ状のフード４が配置され、このフード４は下側開放端
が焼入槽１内の溶融焼入塩の浴面より少し下まで浸漬さ
れている。
フード４の上端には蒸気取出管５があり、この管から傾
斜した導管６が洗浄槽２に通じている。
斜した導管６が洗浄槽２に通じている。
フード４内へ上から洗浄槽からの洗浄水戻導管７が開口
する。この洗浄水戻導管７は洗浄槽から洗浄水を吸出す
制御可能のポンプ８を備える。このポンプ８により制御
された量の焼入塩含有洗浄水が洗浄槽２からフード４内
へ送られる。フード４内で洗浄水は焼入槽内にはられた
焼入塩の熱によってただちに蒸気に変換され、洗浄水は
洗浄水に含まれている蒸発しない焼入塩と分離される。
する。この洗浄水戻導管７は洗浄槽から洗浄水を吸出す
制御可能のポンプ８を備える。このポンプ８により制御
された量の焼入塩含有洗浄水が洗浄槽２からフード４内
へ送られる。フード４内で洗浄水は焼入槽内にはられた
焼入塩の熱によってただちに蒸気に変換され、洗浄水は
洗浄水に含まれている蒸発しない焼入塩と分離される。
焼入塩を含まない洗浄水の蒸気フード４を出て蒸気取出
管５から導管６を介して凝縮水となり再び洗浄槽に戻る
。蒸発せずに洗浄水から分離された塩はフード４内に残
り、そこで直接焼入槽にはられた焼入塩へ合流する。こ
のように本従来例は洗浄槽２内にはられた焼入塩の濃度
を増した洗浄水から焼入塩と洗浄水とを簡単な構成で分
離し、焼入塩を焼入槽１に回収できる優れた装置を提供
している。
管５から導管６を介して凝縮水となり再び洗浄槽に戻る
。蒸発せずに洗浄水から分離された塩はフード４内に残
り、そこで直接焼入槽にはられた焼入塩へ合流する。こ
のように本従来例は洗浄槽２内にはられた焼入塩の濃度
を増した洗浄水から焼入塩と洗浄水とを簡単な構成で分
離し、焼入塩を焼入槽１に回収できる優れた装置を提供
している。
しかしながら、上記従来例においては焼入槽に配したフ
ード４内の焼入塩浴面で、洗浄槽２から洗浄水戻導管７
を通じて送出される洗浄水を効率よく蒸発させるために
は、焼入槽ｌに配したフード４内の焼入塩浴面の温度と
その焼入塩浴面に洗浄水戻導管７によって注加される焼
入塩含有洗浄水の量とが釣合う必要があり、注加量が多
いと浴面温度が下がり蒸発量が低下する。そのため洗浄
槽２からの焼入塩含有洗浄水の送出量を制限しなければ
ならない。
ード４内の焼入塩浴面で、洗浄槽２から洗浄水戻導管７
を通じて送出される洗浄水を効率よく蒸発させるために
は、焼入槽ｌに配したフード４内の焼入塩浴面の温度と
その焼入塩浴面に洗浄水戻導管７によって注加される焼
入塩含有洗浄水の量とが釣合う必要があり、注加量が多
いと浴面温度が下がり蒸発量が低下する。そのため洗浄
槽２からの焼入塩含有洗浄水の送出量を制限しなければ
ならない。
又、フード４内に注加される焼入塩含有洗浄水は濃縮さ
れていないので、制限された送出量の焼入塩含有洗浄水
にふくまれる焼入塩しか回収されないことになる。
れていないので、制限された送出量の焼入塩含有洗浄水
にふくまれる焼入塩しか回収されないことになる。
したがって、焼入塩含有洗浄水からの焼入塩の回収には
限界があり、焼入塩の洗浄槽への移行が焼入塩の回収を
上まわったときは、この装置以外に別の手段でこれに対
応する処理の必要が生じることになるという問題点があ
った。
限界があり、焼入塩の洗浄槽への移行が焼入塩の回収を
上まわったときは、この装置以外に別の手段でこれに対
応する処理の必要が生じることになるという問題点があ
った。
〔発明の目的］
本発明の目的は、焼入槽から洗浄槽に移行した焼入塩を
再使用するために、焼入塩を含む洗浄水を′ａ縮して焼
入槽に導くことにより、焼入槽の温度低下を来たすこと
なく大量の焼入塩を効率よく焼入槽内で回収することを
可能とし、洗浄水の排水処理を不要とする装置を提供す
ることにある。
再使用するために、焼入塩を含む洗浄水を′ａ縮して焼
入槽に導くことにより、焼入槽の温度低下を来たすこと
なく大量の焼入塩を効率よく焼入槽内で回収することを
可能とし、洗浄水の排水処理を不要とする装置を提供す
ることにある。
溶融焼入塩を冷却剤とする焼入槽と、洗浄槽を配し且つ
、焼入槽から、洗浄槽に焼入金属部品を移送する移送手
段を配した焼入装置の洗浄槽にはられた洗浄水に混入し
た、焼入塩を回収する装置において、洗浄槽と焼入槽と
の間に洗浄槽から焼入塩含有の洗浄水を汲み出す手段と
、この手段によって汲み出された洗浄水に含まれる焼入
塩を濃縮する濃縮手段と、この濃縮手段によって、濃縮
された洗浄水を焼入槽の返戻機構を備える、という構成
を採っている。これによって前述した目的を達成しよう
とするものである。
、焼入槽から、洗浄槽に焼入金属部品を移送する移送手
段を配した焼入装置の洗浄槽にはられた洗浄水に混入し
た、焼入塩を回収する装置において、洗浄槽と焼入槽と
の間に洗浄槽から焼入塩含有の洗浄水を汲み出す手段と
、この手段によって汲み出された洗浄水に含まれる焼入
塩を濃縮する濃縮手段と、この濃縮手段によって、濃縮
された洗浄水を焼入槽の返戻機構を備える、という構成
を採っている。これによって前述した目的を達成しよう
とするものである。
以下、本発明の一実施例を、第１図に基づいて説明する
。
。
第１図において、１１は焼入装置の溶融焼入塩を冷却剤
とする焼入槽を示す。
とする焼入槽を示す。
１２は焼入装置の焼入槽に併設される洗浄槽を表わし、
洗浄水で満されている。
洗浄水で満されている。
焼入槽１には焼入塩によって急冷された金属部材を洗浄
槽へ移送するコンベアＩ３が配置されている。尚、図示
実胸例では、移送手段にコンベアを図示したが、移送手
段はこれに限らないことは勿論であるその移送の際、焼
入塩が焼入槽から焼入処理をした金属部材によって持出
され、洗浄槽１２に移行し洗浄水に混入して洗浄水の焼
入塩の濃度が上昇する。しかし、この現象ばか可及的に
阻止しなければならない。本発明は、この現象のおきる
のを阻止するため、洗浄槽１２にこれを希釈するための
給水を行なうのとは別に、定量を超過した洗浄槽１２の
中の焼入塩を混入した洗浄水を洗浄槽１２から排出し、
この焼入塩を混入した洗浄水の中から焼入塩を分離し、
分離した焼入塩を焼入槽１に回収するため、洗浄槽１２
から焼入塩を混入した洗浄水を濃縮手段１４に送り出す
。洗浄槽１２から上記洗浄水の排出手段は、オーバーフ
ロ一方式でも、又ポンプによる汲出方式でもその方式は
問わない。この濃縮手段１４は、焼入塩を含む多量の洗
浄水を４縮するためのもので、加熱装置１５と蒸発槽１
６とから成る。加熱装置１５は、洗浄槽から排出された
焼入塩を混入した洗浄水の温度を高め蒸発槽１６で該洗
浄水の蒸発を効率的に行うためのいわば予熱を行うもの
で、図においては蛇管方式の加熱装置が使われているこ
とを示しているが、同等の熱効率を有する他の加熱装置
を用いることのできるのは勿論である。
槽へ移送するコンベアＩ３が配置されている。尚、図示
実胸例では、移送手段にコンベアを図示したが、移送手
段はこれに限らないことは勿論であるその移送の際、焼
入塩が焼入槽から焼入処理をした金属部材によって持出
され、洗浄槽１２に移行し洗浄水に混入して洗浄水の焼
入塩の濃度が上昇する。しかし、この現象ばか可及的に
阻止しなければならない。本発明は、この現象のおきる
のを阻止するため、洗浄槽１２にこれを希釈するための
給水を行なうのとは別に、定量を超過した洗浄槽１２の
中の焼入塩を混入した洗浄水を洗浄槽１２から排出し、
この焼入塩を混入した洗浄水の中から焼入塩を分離し、
分離した焼入塩を焼入槽１に回収するため、洗浄槽１２
から焼入塩を混入した洗浄水を濃縮手段１４に送り出す
。洗浄槽１２から上記洗浄水の排出手段は、オーバーフ
ロ一方式でも、又ポンプによる汲出方式でもその方式は
問わない。この濃縮手段１４は、焼入塩を含む多量の洗
浄水を４縮するためのもので、加熱装置１５と蒸発槽１
６とから成る。加熱装置１５は、洗浄槽から排出された
焼入塩を混入した洗浄水の温度を高め蒸発槽１６で該洗
浄水の蒸発を効率的に行うためのいわば予熱を行うもの
で、図においては蛇管方式の加熱装置が使われているこ
とを示しているが、同等の熱効率を有する他の加熱装置
を用いることのできるのは勿論である。
蒸発１ｆ（５は、加熱装置１５を通っていわば予熱され
た焼入塩混入の洗浄水を更に加熱し、水を蒸発させて焼
入塩の濃縮された洗浄水を作るためのもので、底部には
洗浄水の流入口が設けられている。
た焼入塩混入の洗浄水を更に加熱し、水を蒸発させて焼
入塩の濃縮された洗浄水を作るためのもので、底部には
洗浄水の流入口が設けられている。
蒸発槽１６の内部には蒸発した水分を蒸発槽外に逃がさ
ず、且つこれを凝結水として捕捉回収するため蒸発槽１
６内に邪魔板状に凝結板１７が設けられている。
ず、且つこれを凝結水として捕捉回収するため蒸発槽１
６内に邪魔板状に凝結板１７が設けられている。
凝結板１７は複数段から成り、交互に傾斜して配置され
、多数の小孔を有する凸又は凹状の断面の樋で構成され
ている。
、多数の小孔を有する凸又は凹状の断面の樋で構成され
ている。
蒸発槽１６内で加熱された前記洗浄水の水蒸気は前記凝
結板１７の下段で、又は凝結板の樋の小孔を通って中段
又は上段の各凝結板の樋の下面で凝結し凝結水となる。
結板１７の下段で、又は凝結板の樋の小孔を通って中段
又は上段の各凝結板の樋の下面で凝結し凝結水となる。
凝結水は凝結板１７下面をつたわって又水滴となって凝
結板上面に落下し順次下部に流れ、集められた凝結水は
洗浄槽１２に還流するようになっている。この加熱手段
によって、上記洗浄水は濃縮される。
結板上面に落下し順次下部に流れ、集められた凝結水は
洗浄槽１２に還流するようになっている。この加熱手段
によって、上記洗浄水は濃縮される。
７全槽１６内で作られた焼入塩混入の濃縮された洗浄水
はポンプその他の手段で焼入槽に送られる。
はポンプその他の手段で焼入槽に送られる。
この焼入槽の焼入塩浴面に送られた洗浄水は含有水分が
少ないため焼入槽の熱によって直ちに少量の水蒸気を発
するだけで、焼入塩に分離し、水蒸気は大気中に放出さ
れ分離された焼入塩は溶融焼入塩として焼入槽内に回収
される。
少ないため焼入槽の熱によって直ちに少量の水蒸気を発
するだけで、焼入塩に分離し、水蒸気は大気中に放出さ
れ分離された焼入塩は溶融焼入塩として焼入槽内に回収
される。
〔発明の効果」
以上のように、本発明によると洗浄水から焼入塩を回収
するに当り、外部加熱装置である加熱装置と蒸発装置を
有するので、従来例のようにホッパ内に注油される洗浄
水によって、焼入槽の温度低下を来たすことがあるとい
う問題点を解決し、又多量の希釈洗浄水でも蒸発濃縮し
て焼入槽内に導く二七ができるので焼入塩の回収効率が
飛躍的に増大することになる。
するに当り、外部加熱装置である加熱装置と蒸発装置を
有するので、従来例のようにホッパ内に注油される洗浄
水によって、焼入槽の温度低下を来たすことがあるとい
う問題点を解決し、又多量の希釈洗浄水でも蒸発濃縮し
て焼入槽内に導く二七ができるので焼入塩の回収効率が
飛躍的に増大することになる。
第１図は本発明の一実施例を示す概念図、第２回は従来
例を示す継断面である。
例を示す継断面である。
Claims (1)
- 溶融焼入塩を冷却剤とする焼入槽と、洗浄槽を配し且つ
、焼入槽から、洗浄槽に焼入金属部品を移送する移送手
段を配した焼入装置の洗浄槽にはられた洗浄水に混入し
た、焼入塩を回収する装置において、洗浄槽と焼入槽と
の間に洗浄槽から焼入塩含有の洗浄水を汲み出す手段と
、この手段によって汲み出された洗浄水に含まれる焼入
塩を濃縮する濃縮手段と、この濃縮手段によって、濃縮
された洗浄水を焼入槽に返戻機構を備えたことを特徴と
する焼入装置の洗浄槽から焼入塩を回収する装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28368489A JPH03146614A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 焼入装置の洗浄槽から焼入塩を回収する装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28368489A JPH03146614A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 焼入装置の洗浄槽から焼入塩を回収する装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03146614A true JPH03146614A (ja) | 1991-06-21 |
Family
ID=17668737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28368489A Pending JPH03146614A (ja) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | 焼入装置の洗浄槽から焼入塩を回収する装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03146614A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS603124A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 化合物半導体のアニ−ル法 |
| JPS6130060U (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-22 | 高周波熱錬株式会社 | 誘導加熱装置における位置決め装置 |
-
1989
- 1989-10-31 JP JP28368489A patent/JPH03146614A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS603124A (ja) * | 1983-06-20 | 1985-01-09 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 化合物半導体のアニ−ル法 |
| JPS6130060U (ja) * | 1984-07-25 | 1986-02-22 | 高周波熱錬株式会社 | 誘導加熱装置における位置決め装置 |
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