JPH03147540A - 光記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は光記録媒体用基板の製造方法に関し、詳しくは
光学的に情報の記録・再生を行なう光記録媒体用基板の
製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来、各種情報の記録には磁気テープ、磁気ディスク等
の磁気材料、各種半導体メモリー等が主として用いられ
てきた。この様な磁気メモリー半導体メモリーは情報の
書き込みおよび読みだしを容易に行うことかてきるとい
う利点はあるか。

反面、情報の内容を容易に改ざんされたり、また高密度
記録ができないという問題点があった。かかる問題点を
解決するために、多種多様の情報を効率良く取り扱う手
段として、光記録媒体による光学的情報記録方法か提案
され、その為の光学的情報記録担体、記録再生方法、記
録再生装置等が提案されている。

かかる情報記録担体としての光記録媒体は、般にレーザ
ー光を用いて光記録媒体上の光記録層の一部を揮散させ
るか、反射率の変化を生じさせるか、あるいは変形を生
じさせて、光学的な反射率や透過率の差によって情報を
記録し、あるいは再生を行なっている。この場合、光記
録層は情報の書き込み後、現像処理などの必要かなく、
「書いた後に直読する」ことのできる、いわゆるＤＲＡ
Ｗ　（ダイレクト　リート　アフター　ライト；ｄｉｒ
ｅｃｔ　ｒｅａｄ　ａｆＬｅｒ　ｗｒｉｔｅ）媒体であ
り、高密度記録が可能であり、また追加書き込みも可能
であることから、情報の記録・保存媒体として有効であ
る。

第２図は、従来の光記録媒体の模式的断面図である。同
第２図において、　１１は透明樹脂基板、１２はトラッ
ク溝部、１３は光記録層、　１４はスペーサー・接着層
、１５は保護層である。同第２図において、情報の記録
・再生は透明樹脂基板ｌｌおよびトラック溝部１２を通
して光学的に書き込みと読み出しを行なう、この際、ト
ラック溝部１２の微細な凹凸を利用してレーザー光の位
相差によりトラッキングを行うことかできる様に構成さ
れている。

［発明が解決しようとする課８］ 従来の第２図に示した光記録媒体の透明樹脂基板１１の
製造方法としては、一般には射出成形法が用いられてい
るか、成形時間か長く１、かつ−枚ずつしか製造できな
いという問題点がある。

一方、本発明者は、第１図に示した押し出し成形法によ
り透明樹脂基板を製造する方法か好ましいことを見出し
た。この方法は連続製法であり、生産性の高い方法であ
る。この方法では透明樹脂基板の材料としては、透明性
や成形性が良いポリカーボネートが多く用いられている
。

しかしなから、上記の成形法においては、成形時の樹脂
の冷却および流動過程において生じた熱応力、分子配向
、ガラス転移点付近の容積変化による残留応力等が主た
る原因となり、複屈折か生しる問題点がある。複屈折は
残留応力と光弾性定数の桔として表すことかできるので
、これらの複屈折などの光学的な歪みの小さい成形物を
得るためには、成形時の樹脂の流動性を良くして溶融樹
脂の流れによる光学的な不均一を避けるという方法があ
る。

この問題点を解決するために、従来の射出成形では、樹
脂の流動性を良くする方法の一つとして射出時の樹脂温
度を高く選ぶ方法が用いられているが、樹脂温度を高く
すると樹脂の分解によって黄変などの着色を生じ、得ら
れる成形物の透明性を損なう問題点かある。また、他の
方法として、成形に用いるポリカーボネート樹脂として
数平均分子量か低い樹脂を用いて、樹脂の流動性を良く
することも行なわれている。例えば、数モ均分子量か１
００００〜２００００のポリカーボネート樹脂を用いて
射出成形を行なっている。しかしなから、特開昭５５−
８１８９３号、特開昭５８−１２６１１９号て用いられ
ているような数平均分子量が１２０００〜１ａｏｏｏの
ポリカーボネート樹脂は、押し出し成形ては機械的な強
度か不足して成形時に割れか生じたり、凹凸パターンの
転写性か良くないという問題点も生じている。

その他の方法としては、溶融時の粘度か低く、流動性の
良いポリカーボネートを用いること（特開昭６１−４７
２６号、特開昭６１−１６９６２号）、または樹脂を成
形した後に熱処理（アニール）して複屈折を小さくする
こと（特開昭６２−１４０３１７号）などが提案されて
いる。しかしながら、これらの先の提案で用いられてい
る方法は、射出成形で樹脂を成形する時には効果がある
か、押し出し成形ては高い圧力・温度を加えて高速に成
形するために、押し出し成形に用いると、機械的な強度
や樹脂の流動性の点から、樹脂シート端面がヒビ割れた
り、流動性か悪くて複屈折か残ったりする問題点かある
。また、熱処理（アニール）によって複屈折を削減する
方法ては生産性か悪いという問題点、および複雑な形状
の物を成形する時には形状か熱て変化してしまうという
問題点もある。

本発明は、上記の問題を解決するためになされたもので
あり、複屈折が小さく、成形性の良い光記録媒体用基板
を押し出し成形によって容易に連続的に製造する方法を
提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］ すなわち、本発明は、レーザービーム等の光ビームの照
射によって、反射率、屈折率などの光学特性を変化させ
て情報の記録・再生を行なう光記録媒体用の基板を製造
する方法おいて、数平均分子量が１８０００〜５０００
０のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポリカーボ
ネート樹脂を押し出し成形して基板を連続的に製造する
ことを特徴とする光記録媒体用基板の製造方法である。

以下、本発明の詳細な説明する。

本発明は、レーザービーム等の光ビームの照射によって
、反射率、透過率などの光学特性を変化させて記録・再
生を行なう光記録媒体において、数平均分子量か１８０
００〜５００００のビス（ヒドロキシフェニル）アルカ
ン系ポリカーボネート樹脂を用いて、樹脂温度か２００
〜４００℃、ロール温度か１００〜２００℃の条件下で
、記録・再生光か通る有効部分の複屈折が記録・再生光
に対して、ダブルパスで１００ｎｓ以下である基板を押
し出し成形で連続的に製造することを特徴とする光記録
媒体用基板の製造方法である。

本発明において、好ましい実施形態においては、前記ビ
ス（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポリカーボネート
樹脂として、二価フェノール系化合物及び末端停止剤と
して下記一般式（１）又は（２）で表される化合物を用
いて得られる末端長鎖アルキルポリカーボネート樹脂か
らなるポリカーボネートを用いる光記録媒体用基板の製
造方法か挙げられる。

一般式（１）　：　　　ＣｏＨ２ｎ−Ｉ　　Ｘ（式中、
Ｘは−ＣＯＣＩ又は−Ｇ　００１１、Ｙは単なる結合又
は−Ｃ００−を表し、ｎは８〜３０の整数を表す。）ま
た、前記ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポリカ
ーボネート樹脂として、二価フェノール系化合物及び分
岐化剤としてフェノール性水酸基を有する三官能以上の
多官能性有機化合物を前記二価フェノール系化合物に対
して０．０１〜３モル％用いて得られる分岐化ポリカー
ボネート樹脂と、二価フェノール系化合物及び末端停止
剤として前記一般式（１）又は（２）て表される化合物
を用いて得られる末端長鎖アルキルポリカーボネート樹
脂との混合物からなるポリカーボネートを用いる方法が
挙げられる。

まず、本発明の分岐化ポリカーボネート樹脂は、二価フ
ェノール系化合物として、好ましくは下記一般式（３）
で表される化合物を主成分として、これに少量の分岐化
剤を使用し、ホスゲン又は炭酸のジエステルと反応させ
ることによって得られる芳香族ポリカーボネート樹脂の
ホモもしくはコーポリマーである。

また、本発明の末端長鎖アルキルポリカーボネート樹脂
は、二価フェノール系化合物として、好ましくは下記一
般式（３）で表される化合物を主成分として、これに少
量の前記の一般式（１）又は（２）で表される末端停止
剤の一官能性化合物を使用し、ホスゲン又は炭酸のジエ
ステルと反応させることによって作られる芳香族ポリカ
ーボネート樹脂のホモもしくはコーポリマーである。

一般式（３）： （式中、Ｒは炭素原子数ｌ〜１５の二価の脂肪族。

脂環族もしくはフェニル置換アルキル基、または−ｏ−
、−ｓ−、−５ｏ−、−３Ｏ２−、−ＣＯ−テある。ｘ
はアルキル基、アリール基もしくはハロゲン原子であり
、ｐ、ｑはＯ６ｌまたは２の整数である。）上記一般式
（１）で示される末端停止剤として用いる一官能性有機
化合物としては、カプリン酸クロライド、ラウリン酸ク
ロライド、ミリスチン酸クロライド、パルミチン厳クロ
ライド、スデアリン酸クロライド、セロチン酸クロライ
ド、カプリン酸、ラウリル酸、ミリスチン酸、パルミチ
ン酸、ステアリン醸、セロチン酸などの脂肪族化合物が
例示される。

また、一般式（２）で示される末端停止剤として用いる
一官能性有機化合物としては、オクチルフェノール、ノ
リルフェノール、ラウリルフェノール、パルミチルフェ
ノール、ステアリルフェノール等の長鎖アルキル置換フ
ェノール；ヒドロキシ安息香酸オクチル、ヒドロキシ安
息香酸ラウリル、ヒドロキシ安息香酸ノリル、ヒドロキ
シ安息香酸ステアリル等のヒドロキシ安息香酸長鎖アル
キルエステル等が例示される。

また、一般式（３）で示される二価フェノール系化合物
としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、　
１．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２．
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１．１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２．２
−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）
プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ジブロ
モフェニル）プロパン、２．２−ビス（４−ヒドロキシ
−３−ジクロロフェニル）プロパン、　２．２−ビス（
４−ヒトロキシーコ、５−ジメチルフェニル）プロパン
、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４
−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）スルホキシド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケ
トン、１．ｌ−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−
フェニルエタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフ
ェニルメタン等が例示される。

また、分岐化剤としては、フェノール性水酸基を有する
三官能以上の多官能性有機化合物か用いられ１例えばフ
ロログリシン、２，６−シメチルー２，４．６−トリ（
４−ヒドロキシフェニル）ヘプテン、１、：ｌ、５−ト
リ（２−ヒドロキシフェニル）ペンゾール１．１．１−
トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタン。

２．６−ビス（２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）
−４−メチルフェノール、α、α′、αζトリ（４−ヒ
ドロキシフェニル）　−１，３，５−トリイソプロピル
ベンゼンなどで例示されるポリヒドロキシ化合物、およ
び３，３−ビス（４−ヒドロキシアリール）オキシイン
ドール（＝イサチンビスフェノール）、５−クロルイサ
チン、５，７−ジクロルイサチン、５−ブロムイサチン
等が挙げられる。

本発明において、末端長鎖アルキルポリカーボネート樹
脂の製造における上記一般式（３）で表される二価フェ
ノール系化合物に対する上記一般式（１）または（２）
て示される一官能性化合物の使用量は１通常は３〜ＩＯ
モル％、好ましくは４．４〜７モル％の範囲であり、３
モル％未満では流動性の改良が不十分であり、１０モル
％を越えると分子量が低くなり、樹脂組成物としてより
も可塑剤としての使用の傾向が大きく物性の劣化か生じ
かちとなるので好ましくない。

また、分岐化ポリカーボネート樹脂の製造において、一
般式（３）の二価フェノール系化合物に対する分岐化剤
である多官能性フェノールの使用量は１通常０．Ｏ１〜
３モル％、好ましくは０．１〜１．０モル％の範囲が好
ましい。０，０１モル％未満ては十分な分岐構造か生成
されず、また３モル％を越えると一部に高分子量物が生
成し、このため成形品の透明性か劣化するなどの不都合
が生しるのて好ましくない。

本発明において、分岐化ポリカーボネート樹脂Ａと末端
長鎖アルキルポリカーボネート樹脂Ｂとの組成比は、Ａ
：Ｂ＝１：９９〜９９：１の範囲から通常選択されるも
のであり、流動性の改良、糸ひきの障害を除く面からは
、Ａ：Ｂ＝３：９７〜９７：３、特に５：９５〜９５：
５の範囲の組成物とするのか良い。

本発明に使用する末端長鎖アルキルポリカーボネート樹
脂は分子末端に長鎖のアルキル基を有するのて、大幅に
その流動性「Ｑ値」か改善される。たたし、「Ｑ値」と
は、高架式フローテスターて測定した溶融粘度で、２８
０℃，１６０ｋｇ／ｃｍ２の圧力下に、１ｍｍ＋φｘ　
１０ｍ５Ｌのノズルより流出する溶融樹脂量をｃｃ／ｓ
ｅｃの単位で表したものであり、溶融粘度の低下と共に
流れ値「Ｑ値」は増加する。

また、分岐化ポリカーボネート樹脂は分岐化により、そ
の流動特性「Ｑ値」が改善されている。

すなわち、分岐化された通常の末端（例えば、末端ｐ−
ターシャリ−ブチルフェノール）を有するポリカーボネ
ート樹脂は、非分岐化ポリカーボネート樹脂に比べて優
れた流動性を示すものである。このため、通常のポリカ
ーボネート樹脂に分岐化ポリカーボネート樹脂を混合し
てなる樹脂組成物の流動性は、通常のポリカーボネート
に比べ、やや上昇する。

本発明において用いられるポリカーボネート樹脂組成物
においては１組成物の「Ｑ値」と成形品の複屈折とか相
関関係にある。すなわち、組成物の「Ｑ値」が２０ｘ　
ｔｏ’　ｃｃ／ｓｅｅ以上、好ましくは３０ｘ　ｔｏ’
　ｃｃ／ｓｅｃ以上であれば、従来、光学用材料として
用いられてきたポリカーボネート樹脂と末端長鎖アルキ
ルポリカーボネートとの組成物の平均分子量および組成
比は、流動性を示す「Ｑ偵」が２０ｘ　１０’ｃｃ／ｓ
ｅｃ以上、好ましくは：ｌＯｘ　ｌＯ’ｃｃ／ｓｅｃ以
上となるように設定すれば良い。このためには、押し出
し成形を用いた光記録媒体用基板の製造において用いる
ポリカーボネート樹脂の数平均分子量はｔａｏｏｏ〜５
００００が適当であり、より好ましくは２５０００〜５
００００である。数平均分子量が５００００なこえて高
いと、樹脂の溶融粘度が高いために溶融・成形の温度か
高くなってしまい、樹脂の熱分解による黄変を生じ易く
なり、その上凹凸パターンの転写性が悪くなる。その反
対に樹脂の数平均分子量が１８０００未満て小さいと１
機械的な強度か低くなってしまい成形時に割れなどが生
じ易くなり、また樹脂の耐久性・耐溶剤性などが悪くな
ってしまう。

また、押し出し成形では、樹脂温度が２００〜４００℃
の高い温度に加熱して成形するために、樹脂のガラス転
移点は１２５℃以上が望ましい。

本発明において用いられる押し出し成形法では、従来の
射出成形法に比べて溶融した樹脂の成形時の流動速度が
小さいために、平均分子量が高い樹脂でも複屈折が小さ
い透明樹脂基板を製造することができるが、その反面、
押し出した樹脂を巻き取るために張力がかかるために、
ａ械的な強度は必要である。そのために用いる最適なポ
リカーボネート樹脂の平均分子量は同じ樹脂を用いてい
ても少し高い樹脂の方か好ましい。

また、前記ポリカーボネート樹脂には、必要に応じて、
亜リン酸とアルコール類またはフェノール類とのジエス
テルまたはトリエステルなどの亜リン酸エステルを加え
ても良い、その他、必要に応じて、耐久性、耐光性の向
上のために、必要量の紫外線吸収剤をポリカーボネート
樹脂に混合することができる。紫外線吸収剤としてはサ
リチル酸系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系
、シアノアクツレート系等を用いることができる。樹脂
への混入方法は溶融法等を用いることができる。

本発明においては、上記のようにして調製したポリカー
ボネート樹脂を、押し出し成形を行なって光記録媒体用
基板を作製する。第１図は本発明の光記録媒体用基板の
製造方法の一例を示す説明図である。同第１図において
、ｌは樹脂基板、２は成形ロール、３は加圧ロール、４
はＴダイ、５はルーダ−１６はホッパー、７は引き取り
ロールである。成形ロール２と加圧ロール３のロールの
間隔は、樹脂基板ｌの表面に成形ロール２に設けられス
タンパの凹凸が充分に転写し得る様に調整することが可
能に構成されている。

第１図において、ルーダ−５のＴダイ４から押し出しさ
れたポリカーボネート樹脂シートは、軟化した状態で成
形ロール２と加圧ロール３のロール間に挿入され、成形
ロール２の凹凸面と加圧ロール３の鏡面により押圧され
て、樹脂基板ｌの表面にスタンパの凹凸状の信号が逐次
転写される。

好ましい押し出し成形の条件は、ルーダ−温度が２５０
〜３５Ｇ　”Ｃ１Ｔダイ温度が２５０〜３５０　’Ｃ１
成形ロールの温度が１００〜２００℃である。この成形
において、ルーダ−またはＴダイの温度を３５０”Ｃ以
上に高くすると樹脂が熱分解して黒くコゲたり、または
黄変したりするので好ましくない、また。

その逆にルーダ−またはＴダイの温度を２５０℃よりも
低くすると、溶融した樹脂の流動性が悪くなり、基板の
厚さが不均一になったり複屈折が生じたりする。使用す
る樹脂によって上記の問題が生じなければ、ルーダ−ま
たはＴダイの温度が２００〜４００℃の範囲でも溶融す
ることかできる。

押し出し速度は２１１分以上、好ましくは１０１／分以
上である。成形ロールの好ましい温度は、成形ロール、
加圧ロールともに１００〜２００℃である。

このロール温度が２００℃を超えて高くなると成形する
樹脂がロールに貼り付いてしまって剥がれに〈〈なった
り、ＪＩ型時に樹脂の端面か割れたりする。また、その
逆にロール温度が１００未満で低いとロールに形成しで
ある凹凸パターンを転写することができなくなる。

本発明の光記録媒体用基板の製造方法により製造された
基板には、光記録層または反射層、その他必要に応じて
保護層などを設けて光記録媒体を作成する。これらの方
法または材料は一般に光記録媒体に用いられているもの
を自由に選択して用いることができる。

本発明の光記録媒体用基板は、例えば、光ディスク、光
カード、光テープ、光コイン等のあらゆる光記録媒体に
用いることができる。

［実施例］ 以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的に説明する
。

実施例１ 水酸化ナトリウム３．７ｋｇを水４２Ｊｌに溶解し、２
０℃に保ちながら２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（ＢＰＡ）　７．３ｋｇ　、ハイドロサル
ファイド８ｇを溶解した。これにメチレンクロライド２
８文を加えて攪拌しつつヒドロキシ安息香醜ステアリル
７４５ｇを加え、ホスゲン：１．５ｋｇを６０分間で吹
き込んだ、ホスゲンを吹き込み後、激しく攪拌して反応
液を乳化させ、乳化後、８ｇのトリエチルアミンを加え
約１時間攪拌を続は重合させた。重合液を水層と有機層
に分離し、有機層をリン酸で中和した後、洗液のｐＨが
中性となるまで水洗を繰り返した後、イソプロパツール
を３５文加えて、重合物を沈殿させた。沈殿物を濾過し
、その後乾燥することにより、白色粉末状のポリカーボ
ネート樹脂を得た。この生成物を塩化メチレン中で数平
均分子量を測定すると３００００であった。「Ｑ値」は
７２ｘ　１０’　ｃｃノｓｅｃ、光弾性定数を測定する
と７８ブリユスターズ（ＢｒｅｗｓＬｅｒｓ、　１０−
”ｔａ２／Ｎ）であった、　ＯＳＣの測定から、ガラス
転符点は７ｇ＝　１：１０℃であった。

この樹脂を１．６１Ｌｍピッチ、０．６μ−幅、深さ７
００人の連続溝が形成されたφ８６ｍ５＋のニッケル製
スタンパ−が接着剤（Ｗ−ボンド；Ａ【１日化精工）に
より接着されたロール径３００Ｉの鉄製ロールが取り付
けられた押出成形ａ（日立造船、　５ＩＩＴ９０−３２
ＤＶＧ）に投入しテ、ルーダー温度２７０℃、Ｔダイ温
度２６５℃、成形・加圧ロール温度がそれぞれ１２０℃
の条件て、上記ポリカーボネート樹脂を成形して、２．
：１ｍ７分の速度で、１．２ｍ■の厚さに押し出した。

押し出された基板を測定したところ、複屈折はダブルパ
スて１０ｎｍ以下てあった（日本電子光学社、複屈折測
定機、入＝　８３０ｎｍで測定）。

また、光透過率は８９％で十分に透明であった（日立Ｕ
−：１４００、入＝　８３０ｎｍで測定）。　面振れ量
はｐ−ｐで５０μ−以下で十分小さかった（カールツア
イス社、三次元測定機で測定）。また、糸引きなどは見
られなかった。

次に、この基板を８６層−φに切断して、下記構造式（
４）で示される、光記録材料を溶剤塗布した。

（Ｃ山）２Ｎイγ　　　　蚤Ｎ（Ｃ山）２ｃｐｏ、’　
　　　　　　（４） 保護基板には０．３１厚のポリカーボネート（音大化成
、パンライト２５１）を８６ｍｍφに切断して、０、：
１ｍｍのエアーギャップを持つように接着した。

記録・再生したところ、ディスクの回転数１８００ｒｐ
ｍ　、書き込み周波数３ＭＨｚ、書き込みパワー６１ｗ
、読み出しハｒ７−０．５＋ａＷ　テ、Ｃ／Ｎ比４；ｔ
５７ｄＢ、ピットエラーレイトはＩ　Ｘ　１０−’てあ
った。この値は６０℃１９０％旧１の条件て１０００時
間保存しても、読み取り特性、書き込み特性ともに変化
がなかった。

実施例２ 実施例１と同様に、水酸化ナトリウム３．７ｋｇを水４
２ｆＬに溶解し、２０℃に保ちながら２．２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＡ）　７１ｋｇ
、２．６−シメチルー２．４．６−　）−リ（４−ヒド
ロキシフェニル）ヘプテン３２５ｇ　、ハイドロサルフ
ァイド８ｇを溶解した。これにメチレンクロライド２８
見を加えて攪拌しつつラウリン酸クロライド４５５ｇを
加え、ホスゲン３．５ｋｇを６０分間て吹き込んだ。ホ
スゲンを吹き込み後、激しく攪拌して反応液を乳化させ
、乳化後、８ｇのトリエチルアミンを加え約１時間攪拌
を続は重合させた。重合液を水層と有機層に分離し、有
機層をリン酸て中和した後、洗液のｐ＋＋が中性となる
まで水洗を繰り返した後、イソプロパツールを３５文加
えて、重合物を沈殿させた。沈殿物を濾過し、その後乾
燥することにより、白色粉末状のポリカーボネート樹脂
を得た。

この生成物を塩化メチレン中で数平均分子量を測定する
と３００００であった。「Ｑ値」は７６Ｘ　１０’ｃｃ
／ｓｅｃてあった。光弾性定数を測定すると７９ブリユ
スターズ（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、　ｌロー１２．２／Ｎ
）であった。

ＤＳＣの測定から、ガラス転移点は７ｇ＝　ｔ：＋ｏ℃
てあった。

次に、実施例１と同様の方法で光記録媒体用基板を作製
した。作製した基板を実施例１と同様に測定すると、複
屈折はｌｏｔ＋＋ｓ以下で十分小さかった。また、光透
過率は９１％で十分に透明であった。面振れ量はｐ−ｐ
て３０ル璽と十分に小さかった。また、糸引きなどは見
られなかった。

この基板を実施例１と同様に光記録層を形成して記録・
再生を行なったところ、Ｃ／Ｎ比て５５ｄＢ、ピットエ
ラーレートは１　ｘ　１０−６てあった。実施例１と同
様に保存したところ、　ＣＡＭ　、ピットエラーレート
ともに変化しなかった。

実施例３ 実施例１と同様に、水酸化ナトリウム３．７ｋｇを水４
２見に溶解し、２０℃に保ちながら２．２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン（ＢＰＡ）　７１ｋｇ、
２．６−シメチルー２，４．６−　トリ（４−ヒドロキ
シフェニル）ヘプテン３２５ｇ　、ハイドロサルファイ
ド８ｇを溶解した。これにメチレンクロライド２８文を
加えて攪拌しつつステアリン酸クロライド５０４ｇを加
え、ホスゲン３．５ｋｇを６０分間て吹き込んだ。ホス
ゲンを吹き込み後、激しく攪拌して反応液を乳化させ、
乳化後、８ｇのトリエチルアミンを加え約１時間攪拌を
続は重合させた０重合液を水層と有機層に分離し、有機
層をリン酸で中和した後、洗液のｐＨか中性となるまで
水洗を繰り返した後、インプロパツールを３５文加えて
、重合物を沈殿させた。沈殿物を７濾過し、その後乾燥
することにより、白色粉末状のポリカーボネート樹脂を
得た。

この生成物を塩化メチレン中て数平均分子量な測定する
と３００００　テあった。「Ｑ値」は５１Ｘ　１０’ｃ
ｃ／ｓｅｅでありた。光弾性定数を測定すると８９ブリ
ユスターズ（Ｂｒｅｗｓｔｅｒｓ、　１０−”ｍ２／Ｎ
）てあった。

ＤＳＣの測定から、ガラス転移点はＴｇ＝　１２８℃て
あった。

次に、実施例１と同様の方法で光記録媒体用基板を作製
した０作製した基板を実施例１と同様に測定すると、複
屈折は１０ｎｍ以下で十分小さかった。また、光透過率
は９０％て十分に透明てあった。面振れ量はｐ−ｐで３
０ル■と十分に小さかった。また、糸引きなどは見られ
なかった。

この基板を実施例１と同様に光記録層を形成して記録・
再生を行なったところ、　Ｃ／Ｎ比で５５ｄＢ。

ピットエラーレートはｔ　ｘ　ｔｏ−’てあった。実施
例１と同様に保存したところ、Ｃ／Ｎ　、ピットエラー
レートともに変化しなかった。

比較例１ 市販のポリカーボネート（音大化成、八Ｄ５５０３）を
用いて、実施例１と同じ方法で光記録媒体用基板を作製
した０作製した基板を実施例１と同じように測定すると
、複屈折はｌＯｎｍ以下で十分小さかった。また、光透
過率は９０％で十分に透明であったものの、基板の端面
かひび割れていて実用に耐えない基板であった。基板の
強度が不足しているために基板は１層−以上湾曲してう
ねっている。そのために光記録媒体を製造するのは不可
能であった。

［発明の効果］ 以上説明した様に、本発明によれば、特定のビス（ヒド
ロキシフェニル）アルカン系ポリカーボネート樹脂を押
し出し成形により成形することにより、複屈折が小さく
、成形性の良い光記録媒体用基板を容易に連続的に製造
できる効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光記録媒体用基板の製造方法の一例を
示す説明図および第２図は従来の光記録媒体を示す断面
図である。 ｌ・・・樹脂基板 ２・・・成形ロール ３・・・加圧ロール ４・・・Ｔタイ ５・軸Ｊレーダー ６・・・ホッパー ７・・・引き取りロール １１・・・透明樹脂基板 １２・・・トラック溝部 １３・・・光記録層 １４−・・スペーサー・接着層 １５・・・保護層 第１図 第２図

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）レーザービーム等の光ビームの照射によって、反
   射率、屈折率などの光学特性を変化させて情報の記録・
   再生を行なう光記録媒体用の基板を製造する方法おいて
   、数平均分子量が１８０００〜５００００のビス（ヒド
   ロキシフェニル）アルカン系ポリカーボネート樹脂を押
   し出し成形して基板を連続的に製造することを特徴とす
   る光記録媒体用基板の製造方法。
2. （２）樹脂温度２００〜４００℃、ロール温度１００〜
   ２００℃の条件下で押し出し成形する請求項１記載の光
   記録媒体用基板の製造方法。
3. （３）前記押し出し成形によって成形された基板の記録
   ・再生光が通る有効部分の複屈折が記録・再生光に対し
   て、ダブルパスで１００ｎｍ以下である請求項１記載の
   光記録媒体用基板の製造方法。
4. （４）前記ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポリ
   カーボネート樹脂として、二価フェノール系化合物及び
   末端停止剤として下記一般式（１）又は（２）で表され
   る化合物を用いて得られる末端長鎖アルキルポリカーボ
   ネート樹脂からなるポリカーボネートを用いる請求項１
   記載の光記録媒体用基板の製造方法。 一般式（１）：Ｃ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１−Ｘ一般式（
   ２）：▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘは−ＣＯＣＩ又は−ＣＯＯＨ、Ｙは単なる結
   合又は−ＣＯＯ−を表し、ｎは８〜３０の整数を表す。 ）（５）前記ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系ポ
   リカーボネート樹脂として、二価フェノール系化合物及
   び分岐化剤としてフェノール性水酸基を有する三官能以
   上の多官能性有機化合物を前記二価フェノール系化合物
   に対して０．０１〜３モル％用いて得られる分岐化ポリ
   カーボネート樹脂と、二価フェノール系化合物及び末端
   停止剤として下記一般式（１）又は（２）で表される化
   合物を用いて得られる末端長鎖アルキルポリカーボネー
   ト樹脂との混合物からなるポリカーボネートを用いる請
   求項１記載の光記録媒体用基板の製造方法。 一般式（１）：Ｃ＿ｎＨ＿２＿ｎ＿＋＿１−Ｘ一般式（
   ２）：▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｘは−ＣＯＣｌ又は−ＣＯＯＨ、Ｙは単なる結
   合又は−ＣＯＯ−を表し、ｎは８〜３０の整数を表す。 ）