JPH03147543A - 光磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
光磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH03147543A JPH03147543A JP28670389A JP28670389A JPH03147543A JP H03147543 A JPH03147543 A JP H03147543A JP 28670389 A JP28670389 A JP 28670389A JP 28670389 A JP28670389 A JP 28670389A JP H03147543 A JPH03147543 A JP H03147543A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 22
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 11
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 11
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 11
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 6
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 5
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 3
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUOWVWOFTGRKMY-UHFFFAOYSA-N [Ti].[Fe].[Tb] Chemical compound [Ti].[Fe].[Tb] YUOWVWOFTGRKMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNSIWZRTNZEWMS-UHFFFAOYSA-N cobalt titanium Chemical compound [Ti].[Co] NNSIWZRTNZEWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012792 core layer Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光磁気記録媒体の製造方法、特に、磁気光学
効果を利用してレーザ光により情報の記録・再生を行な
う光磁気記録媒体の製造方法に関する。
効果を利用してレーザ光により情報の記録・再生を行な
う光磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の光磁気記録媒体は記録特性、再生特性の向上を目
的として、光磁気記録層として複数の心性層を用いたも
のが提案されており、本発明者らもガドリニウム・鉄・
コバルト・チタン合金からなる垂直磁化可能で高い耐酸
化性を有しかつ高いキュリー温度を示す再生特性のよい
読出層となる低保磁力層と、テルビウム・鉄・チタン合
金からなる垂直磁化可能で高い耐酸化性を有しかつ低い
キュリー温度を示す記な特性のよい書込層となる高保磁
力層とを順次積層し、少ないエネルギーで書込層に書き
込んだビットを磁気光学効果の大きい続出層に交換結合
により転写し、続出層側から読出すものを既に提案して
いる。
的として、光磁気記録層として複数の心性層を用いたも
のが提案されており、本発明者らもガドリニウム・鉄・
コバルト・チタン合金からなる垂直磁化可能で高い耐酸
化性を有しかつ高いキュリー温度を示す再生特性のよい
読出層となる低保磁力層と、テルビウム・鉄・チタン合
金からなる垂直磁化可能で高い耐酸化性を有しかつ低い
キュリー温度を示す記な特性のよい書込層となる高保磁
力層とを順次積層し、少ないエネルギーで書込層に書き
込んだビットを磁気光学効果の大きい続出層に交換結合
により転写し、続出層側から読出すものを既に提案して
いる。
本発明者らが提案している磁性層材料は、従来の材料に
比べれば耐酸化性が高いが、非常に長い期間高温高湿度
環境下に保存した場合には酸化劣化が発生し問題となる
。
比べれば耐酸化性が高いが、非常に長い期間高温高湿度
環境下に保存した場合には酸化劣化が発生し問題となる
。
すなわち、合成樹脂基板の上に低保持力層および高保持
力層を一対の保護層によってはさむことにより、合成樹
脂基板を通して低保持力層にくる水分や酸素ならびに高
保持力層の上方からくる水分や酸素を遮断し、低保持力
層や高保持力層が酸化されないようにしている。
力層を一対の保護層によってはさむことにより、合成樹
脂基板を通して低保持力層にくる水分や酸素ならびに高
保持力層の上方からくる水分や酸素を遮断し、低保持力
層や高保持力層が酸化されないようにしている。
なお、合成樹脂基板と低保持力層との間に設けらｈる付
着強化層は必らずしも設ける必要はない。
着強化層は必らずしも設ける必要はない。
すなわち、従来の光磁気記録媒体の製造方法は、合成樹
脂基板をスパッタ装置に装着し真空排気した後、保護層
、低保持力層、高保持力層をスパッタ装置内で順次積層
するものである。
脂基板をスパッタ装置に装着し真空排気した後、保護層
、低保持力層、高保持力層をスパッタ装置内で順次積層
するものである。
このようにして製造した従来の光磁気記録媒体は記録・
再生してみると、正しく記録再生できない部分が存在す
る場合があった。
再生してみると、正しく記録再生できない部分が存在す
る場合があった。
本発明者らは、この問題の原因を検討した結果、読出層
の磁化と書込層の磁化との磁気カップリングが部分的に
弱くなっているためとわかった。
の磁化と書込層の磁化との磁気カップリングが部分的に
弱くなっているためとわかった。
しかしながら、このような上述した従来の光磁気記録媒
体の製造方法は、基板がエポキシ樹脂等の合成樹脂の場
合には、低保持力層の磁化と高保持力層の磁化との交換
結合がディスクの外周部側で一部分不良になるという欠
点があった。
体の製造方法は、基板がエポキシ樹脂等の合成樹脂の場
合には、低保持力層の磁化と高保持力層の磁化との交換
結合がディスクの外周部側で一部分不良になるという欠
点があった。
本発明者らは、この交換結合不良の問題を解決するため
種々の製造方法を検討した結果、読出層を形成する前に
真空中において合成樹脂基板を加熱することにより解決
できることがわかった。
種々の製造方法を検討した結果、読出層を形成する前に
真空中において合成樹脂基板を加熱することにより解決
できることがわかった。
真空中ではなく、大気中で加熱したのでは、交換結合不
良の問題は解決できなかった。
良の問題は解決できなかった。
以上のことから、この交換結合不良の原因は、合成樹脂
基板中の不純物が磁性膜をスパッタしている間にガス化
してスパッタチャンバー中に出てきて、低保持力層と高
保持力層との界面を変質させるためと思われ、大気中加
熱では効果なく、真空中でなければいけない理由はこの
不純物がガス化する温度が減圧下ではかなり下がるため
と思われる。
基板中の不純物が磁性膜をスパッタしている間にガス化
してスパッタチャンバー中に出てきて、低保持力層と高
保持力層との界面を変質させるためと思われ、大気中加
熱では効果なく、真空中でなければいけない理由はこの
不純物がガス化する温度が減圧下ではかなり下がるため
と思われる。
すなわち、本発明の光磁気記録媒体の製造方法は、合成
樹脂基板上に垂直磁化可能で高キュｙ−点を有する低保
磁力層と垂直磁化可能で低キュリー点を有し前記低保磁
力層との間で交換結合する高保磁力層とを順次積層し、
前記低保磁力層を成膜する前に真空中において前記合成
樹脂基板を加熱し不純物を放出せしめる工程を有して構
成される。
樹脂基板上に垂直磁化可能で高キュｙ−点を有する低保
磁力層と垂直磁化可能で低キュリー点を有し前記低保磁
力層との間で交換結合する高保磁力層とを順次積層し、
前記低保磁力層を成膜する前に真空中において前記合成
樹脂基板を加熱し不純物を放出せしめる工程を有して構
成される。
次に、本発明の実施例について、図面を用いて説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例を示す工程図、第２図は第１
図に示す実施例を用いて製造した光磁気記録媒体の一例
を示す概略断面図である。
図に示す実施例を用いて製造した光磁気記録媒体の一例
を示す概略断面図である。
アクリル系樹脂によるトラック案内溝が決定されている
直径２００ｍｍ、厚さ１．２ ｍｍのエポキシ樹脂製デ
ィスク基板をスパッタ装置内に装着した。
直径２００ｍｍ、厚さ１．２ ｍｍのエポキシ樹脂製デ
ィスク基板をスパッタ装置内に装着した。
１、 ＯＸ １０ ””Ｔｏｒｒ以下に真空υト気後、
この真空中において合成樹脂基板１を１００℃に加熱す
る真空加熱工程Ｓ１で３時間保持した。その後、合成樹
脂基板ｌを６０℃以下になるまで冷却した。このときの
真空度は１． ＯＸ １０ ”Ｔｏｒｒ以下であった。
この真空中において合成樹脂基板１を１００℃に加熱す
る真空加熱工程Ｓ１で３時間保持した。その後、合成樹
脂基板ｌを６０℃以下になるまで冷却した。このときの
真空度は１． ＯＸ １０ ”Ｔｏｒｒ以下であった。
次に、アルゴンガスを導入して合成樹脂基板ｌを逆スパ
ツタした後、アルゴンと酸素との混合ガスを導入して反
応性スパッタリングすることにより３００人厚０酸化タ
ンタルの付着強化層６を形成した。
ツタした後、アルゴンと酸素との混合ガスを導入して反
応性スパッタリングすることにより３００人厚０酸化タ
ンタルの付着強化層６を形成した。
次に、アルゴンと窒素との混合ガスを導入して反応性ス
パッタリングすることにより５００人厚０窒化シリコン
の保護層４を形成した。
パッタリングすることにより５００人厚０窒化シリコン
の保護層４を形成した。
次に、アルゴンガスを導入して、低保持六層積層工程＄
２で原子％で２３．０対５８，４対１４．６対。
２で原子％で２３．０対５８，４対１４．６対。
４．０のガドリニウム・鉄・コバルト・チタン膜の２０
０人の続出層となる低保持力層２を積層し、さらに高保
持力層工程Ｓ３で原子％で２０．２対７５．８対４．０
のテルビウム・鉄・チタン膜の１０００人厚の書込層と
なる高保持力層３をスパッタリンクにより順次積層する
ことにより、交換結合二層記録層Ａを形成した。
０人の続出層となる低保持力層２を積層し、さらに高保
持力層工程Ｓ３で原子％で２０．２対７５．８対４．０
のテルビウム・鉄・チタン膜の１０００人厚の書込層と
なる高保持力層３をスパッタリンクにより順次積層する
ことにより、交換結合二層記録層Ａを形成した。
最後に、アルゴンと窒素との混合ガスを導入して反応性
スパッタリングすることにより８００人厚０窒化シリコ
ンの保護層５を形成し、第１図に示す光磁気記録媒体を
製造した。
スパッタリングすることにより８００人厚０窒化シリコ
ンの保護層５を形成し、第１図に示す光磁気記録媒体を
製造した。
以上のように製造したディスク２枚を膜が内側になるよ
うにしてホットメルトで貼合せて光磁気記録媒体を製造
した。
うにしてホットメルトで貼合せて光磁気記録媒体を製造
した。
この光磁気記録媒体を３６０Ｏｒｐｍで回転し、波長８
３０ｎｍの半導体レーザを基板を通して照射し、記録周
波数１０ＭＨｚの信号を１２ｍＷの記録パワーで記録し
、３．９ｍＷの再生パワーで再生したところ、バンド幅
６０ｋＨｚでのＣ／Ｎ比は６０ｄＢが得られ、高感度で
高Ｃ／Ｎの光磁気記録媒体であることが確認された。
３０ｎｍの半導体レーザを基板を通して照射し、記録周
波数１０ＭＨｚの信号を１２ｍＷの記録パワーで記録し
、３．９ｍＷの再生パワーで再生したところ、バンド幅
６０ｋＨｚでのＣ／Ｎ比は６０ｄＢが得られ、高感度で
高Ｃ／Ｎの光磁気記録媒体であることが確認された。
次に、この光磁気記録媒体をビット・パイ・ヒツトで記
録・再生検査を行なっても、そのエラー率は１０−６台
以下であった。
録・再生検査を行なっても、そのエラー率は１０−６台
以下であった。
比較例として、真空中加熱を行なわないで製造した光磁
気記録媒体のビット・パイ・ビットのエラー率を測定し
たところ、多数のディスクを測定すると、中にはエラー
率が１０−４台以上と悪いディスクもあった。この悪い
ディスクでも、再生パワーを２ｎ＋Ｗとさげ、記り膜面
での外部浮遊磁界がほとんど零であるような特殊な記録
再生系を用いて再生すれば、エラー率は１０−６台以下
になることから、通常の記録再生系でエラー率が悪い原
因は、続出層と書込層との磁化の磁気カップリングが不
良のためと判明した。
気記録媒体のビット・パイ・ビットのエラー率を測定し
たところ、多数のディスクを測定すると、中にはエラー
率が１０−４台以上と悪いディスクもあった。この悪い
ディスクでも、再生パワーを２ｎ＋Ｗとさげ、記り膜面
での外部浮遊磁界がほとんど零であるような特殊な記録
再生系を用いて再生すれば、エラー率は１０−６台以下
になることから、通常の記録再生系でエラー率が悪い原
因は、続出層と書込層との磁化の磁気カップリングが不
良のためと判明した。
なお、真空中加熱温度が６０℃以下では、加熱なしのと
きと同じ結果であり、真空中加熱温度が８０℃では、交
換結合不良の発生頻度が低くなったが、まだ問題であっ
た。
きと同じ結果であり、真空中加熱温度が８０℃では、交
換結合不良の発生頻度が低くなったが、まだ問題であっ
た。
また、大気中加熱では、１００℃、１１０℃では交換結
合不良を解決できず、１１５℃以上の大気中加熱では基
板の機械的特性（面振れ加速速度等）が劣化するので光
磁気記録媒体として使用することはできなかった。
合不良を解決できず、１１５℃以上の大気中加熱では基
板の機械的特性（面振れ加速速度等）が劣化するので光
磁気記録媒体として使用することはできなかった。
本発明の光磁気記録媒体の製造方法は、真空加熱された
合成樹脂基板に記録層を積層することにより高感度で高
Ｃ／Ｎな光磁気記録媒体を歩留りよく製造することがで
きるという効果がある。
合成樹脂基板に記録層を積層することにより高感度で高
Ｃ／Ｎな光磁気記録媒体を歩留りよく製造することがで
きるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す工程図、第２図は第１
図に示す実施例にもとづいて製造された一光磁気記録媒
体の例を示す概略断面図である。 Ｓｌ・・・・・・真空加熱工程、Ｓ２・・・・・低保持
六層積層工程、Ｓ３・・・・・高保持力層積層工程、■
・・・・・・合成樹脂基板、Ａ・・・・・・記Ｂ層、２
・・・・・低保磁力層、３・・・・・・高保持力層、４
，５・・・・・・保護層、６・・・・・・付着強化層。
図に示す実施例にもとづいて製造された一光磁気記録媒
体の例を示す概略断面図である。 Ｓｌ・・・・・・真空加熱工程、Ｓ２・・・・・低保持
六層積層工程、Ｓ３・・・・・高保持力層積層工程、■
・・・・・・合成樹脂基板、Ａ・・・・・・記Ｂ層、２
・・・・・低保磁力層、３・・・・・・高保持力層、４
，５・・・・・・保護層、６・・・・・・付着強化層。
Claims (3)
- （１）合成樹脂基板を真空中で加熱する真空加熱工程と
、前記合成樹脂基板と交換結構二層記録層を積層する記
録層積層工程とを含むことを特徴とする光磁気記録媒体
の製造方法。 - （２）合成樹脂基板を真空中で加熱する真空加熱工程と
、前記合成樹脂基板の上に垂直磁化可能で高キュリー点
を有する低保磁力層を積層する低保持力層工程と、前記
低保磁力層の上に垂直磁化可能で低キュリー点を有し前
記低保磁力層との間で交換結合を行なう高保持力層を積
層する高保持力層積層工程とを含むことを特徴とする光
磁気記録媒体の製造方法。 - （３）真空中において合成樹脂基板を加熱し基板中の不
純物を放出せしめる真空加熱工程と、前記合成樹脂基板
の上に高保持力層を積層する高保持力層積層工程と、前
記高保持力層の上に低保持力層を積層する低保持力層積
層工程とを含むことを特徴とする光磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1286703A JP2907896B2 (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1286703A JP2907896B2 (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03147543A true JPH03147543A (ja) | 1991-06-24 |
| JP2907896B2 JP2907896B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=17707898
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1286703A Expired - Lifetime JP2907896B2 (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2907896B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778652A (en) * | 1980-11-01 | 1982-05-17 | Daido Steel Co Ltd | Thermal magnetic recording carrier and thermal magnetic recording system |
| JPS59129956A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH01213848A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-28 | Canon Inc | 光磁気記録媒体の製造方法 |
-
1989
- 1989-11-01 JP JP1286703A patent/JP2907896B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5778652A (en) * | 1980-11-01 | 1982-05-17 | Daido Steel Co Ltd | Thermal magnetic recording carrier and thermal magnetic recording system |
| JPS59129956A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
| JPH01213848A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-28 | Canon Inc | 光磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2907896B2 (ja) | 1999-06-21 |
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