JPH03149730A - カラーブラウン管の蛍光体パターン形成方法および露光装置 - Google Patents

カラーブラウン管の蛍光体パターン形成方法および露光装置

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JPH03149730A
JPH03149730A JP12997990A JP12997990A JPH03149730A JP H03149730 A JPH03149730 A JP H03149730A JP 12997990 A JP12997990 A JP 12997990A JP 12997990 A JP12997990 A JP 12997990A JP H03149730 A JPH03149730 A JP H03149730A
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JP
Japan
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phosphor
electron beam
ray tube
cathode ray
color cathode
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JP12997990A
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English (en)
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Akinobu Kawatsu
川津 昭信
Susumu Hoshinouchi
星之内 進
Akio Yoshida
章男 吉田
Hiroaki Tobuse
戸伏 広明
Tatsunori Hibara
火原 辰則
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、カラーブラウン管の蛍光体パターンの形成
方法および露光装置に関するものである。
〔従来の技術〕
カラーブラウン管の蛍光面は、ガラスパネル部の内面に
光の3原色である赤、緑、青の各色に発光するストライ
プ状またはドツト状の蛍光体を配置し、それらの蛍光体
の相互の間隙が光吸収性の馬体物質からなるブラフクマ
トリックスで埋められた構造を有している。
従来、この種の蛍光面は、たとえば第7図に示すように
特開昭60−9030号公報で開示された露光装置を用
いて第8図(a)〜U)に示すような工程で形成されて
いた。第7図において、lはガラスパネル、6はシャド
ウマスク、6aは開口部、7は筐体、8はプレート、9
は光源、lOは補正レンズ、11はフィルタ、21は補
正レンズlOの中心線、22は光源9の中心線である。
次に第8図を用いてカラーブラウン管の蛍光体パターン
の形成方法について説明する。まず、第8図(a)に示
すように、ガラスパネル1の内面に、公知の方法でブラ
ックマトリックス2を形成した後、第8図(ロ)に示す
ように、赤、緑、青いずれか1つの蛍光体3を含む感光
性樹脂4からなるスラリー5aを塗布して乾燥する。そ
の後、第8図(6)に示すように、ガラスパネルlにシ
ャドウマスク6を装着し、第7図に示すように露光装置
のプレート8に乗せ、カラーブラウン管を構成した時の
電子ビームの偏向中心に相当する位置に高圧水銀灯であ
る光源9を設置して露光を行なっている。
この際、光源9より出射される光の光路を、カラーブラ
ウン管として組立てられた後画像を生み出すための電子
ビームの軌道に一致または近似させることを目的として
、補正レンズlOが光源9の前部に設置されている。さ
らに、光源9より出射された光は、その光量を調整する
フィルタ11を経て、シャドウマスク6に照射され、そ
の開口部6aに位置するスラリー5aが露光される。つ
いで、シャドウマスク6が取り除かれ、上記ガラスパネ
ルlを現像装置に移動して温水スプレーにより非露光部
を脱落させることにより第8図(6)に示すように露光
された部分のみが蛍光体パターンとして形成される。
以上のような方法で111W4の蛍光体パターンを形成
した後、第8図(e)に示すように、もう1種類の蛍光
体を含むスラリー5bを塗布し、上記と同様に第8図(
f)で示す露光および第8図(6)で示す現像工程を経
てもう1種類の蛍光体パターンを形成する。さらに第8
図(ハ)で示すように残りlli類の蛍光体を含むスラ
リー50を塗布し、上記と同様に第8図(へ)で示す露
光および第8図(i)で示す現像工程を経て最後の11
1類の蛍光体パターンを形成して、蛍光面形成工程が完
了する。
以上述べた従来の方法で作成した蛍光面付与ガラスパネ
ルの断面構造を第9図に、また、蛍光面の表面構造を第
1θ図に示す、図中、Rは赤色すなわち第1蛍光体パタ
ーン、Gは緑色すなわち第2蛍光体パターン、Bは青色
すなわち第3蛍光体パターンをそれぞれ示す。
【発明が解決しようとする課題〕
従来のカラーブラウン管の蛍光体パターンは以上の方法
で形成されているが、以下のような問題があった。
111111の蛍光体を形成させるたびにシャドウマス
クをガラスパネルに着脱させる必要があり、その煩雑さ
が生産合理化の阻害要因になるばかりでなく、シャドウ
マスクの装着位置の誤差およびシャドウマスク開口部で
の光の回折現象が隣接蛍光体パターンへのかぶりを発生
させたり、シャドウマスクに付着したごみが投影されて
欠陥パターンを発生させたりしてカラーブラウン管の鮮
明化に悪影響を与えていた。また、ブラウン管の種類に
よりシャドウマスクと電子ビームの軌道の相対関係が異
なるため−、ブラウン管の種類に対応した補正レンズが
必要となり、その費用がブラウン管のコストアップにつ
ながるばかりでなく、補正レンズに付着したごみが投影
されて欠陥パターンを形成し、カラーブラウン管の鮮明
化に悪影響をもたらしていた。さらに、管種の変更ごと
に補正レンズの交換作業や調整作業が必要になるため、
多品種少量生産への移行という生産方式の趨勢への対応
を太きく阻害していた。
この発明は、上記のような問題を解消するためになされ
たもので、シャドウマスクをガラスパネルに装着しな(
でも、また補正レンズを用いな(ても、鮮明な蛍光特性
を有し、各種ブラウン管の混流生産を可能にするカラー
ブラウン管の蛍光体パターン形成方法および露光装置を
提供することを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
発明に係るカラーブラウン管の蛍光体パターン形成方法
は、電子ビーム照射時に上記電子ビームにより励起され
た蛍光体より発生する蛍光量を検出することによりブラ
ックマトリックスの位置を測定し、この位置に応じて上
記電子ビーム照射位置を補正するものである。
また、この発明に係るカラーブラウン管の蛍光体パター
ン露光装置は、蛍光体パターンの設計データに基づいた
所定の位置に弱い強度の電子ビームを照射する手段と、
上記電子ビームの照射によって上記蛍光体より発生する
光の量を測定する手段と、上記光の量の測定値から求め
た上記光の量が量大になる位置に上記電子ビームより強
い強度の電子ビームを照射して上記蛍光体を露光する手
段とを備えたものである。
〔作用〕
この発明においては、電子ビームにより励起された蛍光
体より発生する蛍光量がブラックマトリックスの有無に
よって極端に異なることを利用してブラックマトリック
スの位置を検出することにより、電子ビームの照射位置
を制御しながらシャドウマスクや補正レンズを用いない
で蛍光体パターンを直接露光できる。
また、この発明においては、蛍光体パターンの露光に先
立って、弱い強度の電子ビームで電子ビーム照射位置の
補正を行なうので、補正操作中に蛍光体の不要な部分を
露光してしまうというおそれがなくなる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第1図は本発明の一実施例によるカラーブラウン管の蛍
光体パターン形成方法を用いて露光を行なう装置を示し
、図において、15は電子ビーム、16は蛍光体パター
ンの設計データに基づいて電子ビームの照射位置を制御
するための、例えばスーパーミニコンピユータなどの制
御装置、17は電子ビームの偏向電源、18は例えばフ
ォトマルやフォトダイオードやテレビカメラなどからな
り、蛍光体から発生する蛍光を計測するための検出器、
19は計測回路、20は照射位置誤差を補正するための
補正回路である。
また、第2図は検出器18の検出信号から照射位置l誤
差を求める方法を説明する説明図である。
次に具体的な蛍光体パターン形成方法を図を参照しなが
ら説明する。まず、露光すべきスラリー5を塗布したガ
ラスパネルIを精度良く位置決めし、電子ビーム15を
発生する。電子ビーム15は露光するスラリー5に含ま
れる蛍光体3の色に応じて予め与えられた設計データに
基づき制御装置16によって位置決め制御する。電子ビ
ーム15の照射位置の制御は、電子ビームの偏向電源1
7から発生させ偏向コイルに印加する電流値で行なう、
電子ビーム15はスラリー5の塗布位置に応じて例えば
第2図(a)のように走査する。第2図(a)の矢印で
示すように、電子ビーム15の走査信号は、スラリー5
の中心すなわちブラックマトリックス2の中間を走査す
るように設計データから作成し、電子ビームの偏向コイ
ルの電流値として与えられる。スラリー5に電子ビーム
15が照射されると、電子ビーム15のあたっているス
ラリー5中の蛍光体3の面積からブラックマトリックス
2で遮られる量に応じた蛍光が発生し、これを電子とー
ム15と反対側に設置した蛍光器18で受光する。この
蛍光は電子ビーム15の位置により第2図(ロ)のよう
に変化する。第2図(ハ)は透過してきた蛍光の変化を
示したもので、第2図(a)の実線で示すように、電子
ビーム15Mがブラックマトリックス2の中央にある場
合、および破線で示すように電子ビーム15Lが左にず
れた場合の透過蛍光量をそれぞれBM、およびBLで示
している。この蛍光の変化を蛍光検出器18で検出し、
蛍光が減少すると増加する方向に電子ビーム15の位置
を制御する。
第3図は蛍光検出器18からの光量の変化を処理する計
測回路19の一実施例を示す、図において、21はアン
プ、22A、22Bはサンプルホールド回路、23は減
算器、24はタイミング発生回路てあり、タイミング発
生回路24はサンプルホールドするタイミンhaするパ
ルスを発生する。このパルスは電子ビーム15の位置を
制御するタイミン塙グに合わせる。
次に、第4図によって第3図の計測回路の動作を説明す
る、(a)は蛍光検出器からの出力、(ロ)はサンプル
ホールド回路Aのタイミングパルス、(ロ)はサンプル
ホールド回路Bのタイミングパルス、鴎はサンプルホー
ルド回路Aの出力、(→はサンプルホールド回路Bの出
力、(f)は減算器の出力を示す。
第4図(ハ)、(C)に示すようにサンプルホールド回
路A22Aとサンプルホールド回路822Bは異なるタ
イミング蛍光検出器18の出力を保持する。
この両者の出力の差を減算器23で求めることにより、
電子ビーム15のずれ方向とずれ量を計測する。この場
合のずれ方向は、中心側か周辺側かしか判らず第2図(
ハ)の出力の曲線をはさんでどちらか側にあるかを知る
ことはできないが、制御装!f16で意図的に電子ビー
ムの位置をずらすことでずれの方向を計測することがで
きる。このように、蛍光検出器18からの出力で電子ビ
ーム150位置の補正信号を得ることができ、補正回路
20を介してブラックマトリックス2に沿って精度の高
い露光を行うことができる。
なお、上記実施例では第2図(a)に示すように、スポ
ット径の大きな電子ビーム15をブラックマトリックス
2に沿って直線的に走査する場合について説明したが、
第5図に示すように、スポット径の小さな電子ビーム1
5を波形状に走査する場合に適用しても上記実施例と同
様の効果が得られるのは言うまでもない。
次に第2の発明の実施例を、第1の発明の説明に用いた
のと同じ第1図及びドツト状の蛍光体を形成する場合の
電子ビーム照射位置を求める方法を説明するための第6
図に基づいて説明する。第6図において、5は蛍光体を
含むスラリー、25は蛍光体の露光体の露光領域、26
は電子ビーム15の設計上照射領域、27は電子ビーふ
15の補正後照射領域である。
次に動作について説明する。スラリー5を塗布したガラ
スパネル1を精度良く位置決めした後、スラリー5に含
まれる蛍光体の色に応じて予め設計データから決められ
る設計上照射領域26に電子ビーム15を照射する。電
子ビーム15と反対側に設置した蛍光検出器18で受光
する。この時、蛍光体の露光領域25はブラックマトリ
ックスのドツト状穴に対応しているので、設計上照射領
域26と蛍光体の露光領域25の重なり部分に存在する
蛍光体の発光のみが蛍光検出器18に検出される。次に
第1図の装置を操作して電子ビーム15を前後左右に走
査する。ここでスラリー5を照射した電子ビーム15の
強度は、スラリー5を短時間では露光しない弱いもので
あるので、上記の操作中にスラリー5の不要な部分を露
光していまう心配はない、蛍光検出器1Bで検出した蛍
光量が減少すると増加する方向に電子ビーム15の位置
を制御して、補正後照射領域27を見出し、電子ビーム
15の強度を増して短時間で蛍光体の露光を完了する。
この動作を繰り返して1つの色の蛍光体すべてを描画し
、この色の蛍光体の描画が完了する。次に描画が完了し
たガラスパネルlは現像によって電子ビーム15が照射
されなかった部分のスラリー5が除去され、その色の蛍
光体の露光が完了する。以上のスラリー5の塗布から、
電子ビーム15による描画及び現像までの一連の工程を
残りの2色の蛍光体に対して行って、3色の蛍光体Φ露
光が完了する。
【発明の効果〕
以上のように、これらの発明によれば、電子ビーム照射
時に上記電子ビームを吸収した蛍光体より発生する蛍光
量を検出することによりブラックマトリックスの位置を
測定し、この位置に応じて上記電子ビーム照射位置を補
正するので、蛍光体パターン形成時にシャドウマスクや
補正レンズを用いないで精度よく直接露光することがで
き、シャドウマスクの使用に起因する蛍光体のかぶり、
欠陥パターンの発生等の品質上の問題を解消することが
できるばかりでなく、補正レンズの使用に起因する生産
コストの増大も抑制でき、さらに交換作業や調整作業の
削減の結果多品種少量生産への移行が容易になるという
多大な効果がある。
また、電子ビーム照射位置の補正に弱い強度の電子ビー
ムを用いるので、上記補正操作中に蛍光体の不要な部分
を露光していまうという危険性も解消することができる
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1及び第2の発明の一実施例による
カラーブラウン管の蛍光体パターン形成方法を説明する
ための露光装置の構成図、第2図(a)、(ロ)はそれ
ぞれ第1の発明における電子ビームの照射位置および各
照射位置における蛍光検出器の出力を示す説明図、第3
図は第1図の計測回路の一実施例を示す回路図、第4図
(a)〜(f)はそれぞれ計測回路の動作を説明するタ
イミングチャート図、第5図は第1の発明の他の実施例
に係わる電子ビーム走査方法を示す説明図、第6図は本
発明の第2の発明における、電子ビームの照射位置を示
す説明図、第7図は従来のカラーブラウン管の露光装置
を示す断面図、第8図(a)〜U)は従来のカラ   
ーブラウン管の蛍光体パターン形成方法を行程順に示す
断面図、第9図は従来の方法で作成した蛍光面付与ガラ
スパネルの構造を示す断面図、第1θ図は蛍光面の表面
構造を示す正面図である。 図において、lはガラスパネル、2はブラックマトリッ
クス、3は蛍光体、4は感光性樹脂、15は電子ビーム
、18は蛍光検出器である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数のブラックマトリックスが配置されたカラー
    ブラウン管のパネルに感光性樹脂と共に塗布された蛍光
    体の所定位置に電子ビームを照射し露光することにより
    蛍光体をパターン形成する方法において、 上記電子ビーム照射時に上記電子ビームにより励起され
    た上記蛍光体より発生する蛍光量を検出することにより
    上記ブラックマトリックスの位置を測定し、 この位置に応じて上記電子ビーム照射位置を補正するこ
    とを特徴とするカラーブラウン管の蛍光体パターン形成
    方法。
  2. (2)複数のブラックマトリックスが配置されたカラー
    ブラウン管のパネルに感光性樹脂と共に塗布された蛍光
    体の所定位置に電子ビームを照射し露光することにより
    蛍光体をパターン形成する装置において、 所定のパターンを有するブラックマトリックスを備えた
    カラーブラウン管のパネル内側に塗布された蛍光体の上
    記パターンの設計データに基づいた所定の位置に弱い強
    度の電子ビームを照射する手段と、 上記電子ビームの照射によって上記蛍光体より発生する
    光の量を測定する手段と、 上記光の量の測定値から求めた上記光の量が最大になる
    位置に上記電子ビームより強い強度の電子ビームを照射
    して上記蛍光体を露光する手段とを備えたことを特徴と
    するカラーブラウン管の蛍光体パターン露光装置。
JP12997990A 1989-07-13 1990-05-18 カラーブラウン管の蛍光体パターン形成方法および露光装置 Pending JPH03149730A (ja)

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US07/549,930 US5071380A (en) 1989-07-13 1990-07-09 Method and apparatus for forming patterns of fluorescence on a color crt
GB9015362A GB2236201B (en) 1989-07-13 1990-07-12 Method of and apparatus for forming a pattern of fluorescent material on a colour cathode ray tube
NL9001595A NL191865C (nl) 1989-07-13 1990-07-13 Werkwijze en inrichting voor het vormen van fluorescentiepatronen op een kleuren kathodestraalbuis.

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JP18096489 1989-07-13

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