JPH03150283A - 陶磁器素地の施釉方法 - Google Patents
陶磁器素地の施釉方法Info
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- JPH03150283A JPH03150283A JP28964089A JP28964089A JPH03150283A JP H03150283 A JPH03150283 A JP H03150283A JP 28964089 A JP28964089 A JP 28964089A JP 28964089 A JP28964089 A JP 28964089A JP H03150283 A JPH03150283 A JP H03150283A
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Landscapes
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【産業上の１１用分野】
本発明は、陶磁器素地に塗布形成した施釉層の表面を平
ｍ画に仕上る陶磁器素地の施釉方法に関する。
ｍ画に仕上る陶磁器素地の施釉方法に関する。
従来、施釉面が施された陶磁器品の製造は、一般に次の
如き手順で行なわれていた。先ず、成形素地を泥ａ鋳込
み成形法等の湿式法又は乾式プレス成形法等の乾式法で
得る。次に、得た成形素地の表面に、膜掛は又ｔ；ｌａ
掛けによる施釉方法で釉薬を施釉して施釉層を形成する
。続けて、施釉層の水分を乾燥した後、陶磁器素地を焼
成して陶磁器品を得る。 ところで、第３図の拡大図に示す如く、成形素地２１の
表面２１ａに膜掛けで施釉した場合には、施釉層２２の
表面２２ａに微細な凹凸ができる。この微細な凹凸が焼
成後にそのまま残らないようにするために、従来は、溶
融粘性の低い釉薬を用いて施釉していた。溶融粘性の低
い釉薬を用いる理由は、焼成時に釉薬が自然８１動して
凹凸のない平滑な施識面を形成するからである。Ｉ！！
方、霧掛けで施釉する場合にも、第４図の拡大図に示す
如く、施釉層２２の表面２２ａに微細な凹凸ができるた
め、前記ＦＲｓ＆：ＷＩＩｌ粘性の低い釉薬を用いて施
釉していた。
如き手順で行なわれていた。先ず、成形素地を泥ａ鋳込
み成形法等の湿式法又は乾式プレス成形法等の乾式法で
得る。次に、得た成形素地の表面に、膜掛は又ｔ；ｌａ
掛けによる施釉方法で釉薬を施釉して施釉層を形成する
。続けて、施釉層の水分を乾燥した後、陶磁器素地を焼
成して陶磁器品を得る。 ところで、第３図の拡大図に示す如く、成形素地２１の
表面２１ａに膜掛けで施釉した場合には、施釉層２２の
表面２２ａに微細な凹凸ができる。この微細な凹凸が焼
成後にそのまま残らないようにするために、従来は、溶
融粘性の低い釉薬を用いて施釉していた。溶融粘性の低
い釉薬を用いる理由は、焼成時に釉薬が自然８１動して
凹凸のない平滑な施識面を形成するからである。Ｉ！！
方、霧掛けで施釉する場合にも、第４図の拡大図に示す
如く、施釉層２２の表面２２ａに微細な凹凸ができるた
め、前記ＦＲｓ＆：ＷＩＩｌ粘性の低い釉薬を用いて施
釉していた。
【発明が解決しようと１る課題ｌ
しかし、溶融粘性の低い釉薬を用いなければならない従
来の施釉方法では、次の如き問題点があった。 ａ）衛生陶器の如く焼成の際に立面状態となる施釉層の
表面を有するものについては、溶融粘性の低い釉薬が垂
れ流れた垂れ筋が施釉層の表面に形成されることがある
。 （ｂ） 平タイルの如く０−ラーハースキルン等で水
平状態で焼成する場合であっても、溶融粘性の低い釉薬
が平タイル素地の周縁から流れ落ちてキルンの０−ラー
等に付着し、平タイル素地の円滑な搬送を阻害して平タ
イル素地にｆｆｌ（！を与える等の弊害を生じることが
ある。 本発明は、上記問題点を解決するために、溶融粘性の高
い釉薬を用いても凹凸のない平滑な施釉面を陶磁器に形
成させることができる陶磁器素地の施釉方法の提供を目
的とする。 【課題を解決するための手段］ 本発明が採用した手段は、陶！ｆｌ！！！素地の表面に
釉薬を塗布して施釉層を形成し、施釉層は塑性変形する
が転移付着しない程度にその含水率を調整し、施釉層の
表面を平滑なプレス面で押圧して施釉層の表面を平滑に
したことである。 【作 用】 施釉層の表面は、平滑なプレス面で押圧された釉薬層が
塑性変形して凹凸の無い平滑な面となる。 従って、溶融粘性の高い釉薬を用いても、焼成後の施釉
面は、平滑な面となる。
来の施釉方法では、次の如き問題点があった。 ａ）衛生陶器の如く焼成の際に立面状態となる施釉層の
表面を有するものについては、溶融粘性の低い釉薬が垂
れ流れた垂れ筋が施釉層の表面に形成されることがある
。 （ｂ） 平タイルの如く０−ラーハースキルン等で水
平状態で焼成する場合であっても、溶融粘性の低い釉薬
が平タイル素地の周縁から流れ落ちてキルンの０−ラー
等に付着し、平タイル素地の円滑な搬送を阻害して平タ
イル素地にｆｆｌ（！を与える等の弊害を生じることが
ある。 本発明は、上記問題点を解決するために、溶融粘性の高
い釉薬を用いても凹凸のない平滑な施釉面を陶磁器に形
成させることができる陶磁器素地の施釉方法の提供を目
的とする。 【課題を解決するための手段］ 本発明が採用した手段は、陶！ｆｌ！！！素地の表面に
釉薬を塗布して施釉層を形成し、施釉層は塑性変形する
が転移付着しない程度にその含水率を調整し、施釉層の
表面を平滑なプレス面で押圧して施釉層の表面を平滑に
したことである。 【作 用】 施釉層の表面は、平滑なプレス面で押圧された釉薬層が
塑性変形して凹凸の無い平滑な面となる。 従って、溶融粘性の高い釉薬を用いても、焼成後の施釉
面は、平滑な面となる。
以下、本発明に係るｌｉ５ＪＩａ器素地の施釉方法（以
下、、、［本発明方法」という）を図面に示す実施例に
Ｕづいて説明する。 （第１実施例） 第１図＾〜Ｃ）は、本発明方法を平タイル素地に適用し
た第１実施例の各工程を承りものである。 第１工程は、第１図（Ａｌ（Ｂ）に示す如く、湿式法又
は乾式法で得た平タイル素地１の表面１ａに、ＷＪｒｍ
粘性の高い釉薬を膜掛け（同図八参照）又は霧■トけ（
同図■参照）等の適官施釉方法で施釉して施釉層２を形
成することである。 第２工程は、図示は省略したが、ｔｓｍ層２中の水分を
所定含水率まで減水させることである。所定含水率とは
、次の第３工程において、同図Ｃ】に示す如く、施釉層
２の表面２ａを平滑なプレス面３ａで揮圧した際に、施
釉ＦＡ２を形成する釉薬をプレス面３ａに転移付着させ
ることなく且つ表面２ａが平滑となるように塑性変形す
る含水率をいう。減水の方法としては、自然乾燥又は温
風による強＆ｌＩ乾燥方法等が採用される。なお、施釉
層２中の水分が平タイル素地１に吸収されて施釉層２の
含水率が上記適宜含水率となる場合には、上記乾燥は省
略される。 本発明方法の最終工程である第３工程は、施釉Ｗ−２の
表面２ａを平滑なプレス向３ａで押圧して平滑面とする
ことである。プレス装置４は、前記第２工程から搬入さ
れた平タイル素地１を受載して支持１る支持ａ５と、支
￥ｉ！１１５に向って上下移動するプレスＷ３とからな
り、支持Ｗ５で支持された平タイル素地１の施釉ａ２の
表面２ａをプレス１１３の平滑なプレス面３ａで揮圧し
て施釉層２の表面２ａを平坦な平滑面とするものである
。施釉Ｉｉ２の表面２ａに対するプレス面３ａの押圧力
は、施釉ｗＩ２の厚み、釉薬層２が塑性変形を生じさせ
る圧縮応力等により異なるが、一般的には５〜２５ＨＣ
９ｆ ／Ｃすの範囲で選択される。プレス面３ａは、金
属素材、合成樹脂素材又は硬質ゴム素材等で形成され、
必要に応じて弗素樹脂層又はシリコン樹脂層等で被覆し
た剥離の良好な面とする。 前記第３工程で得た施ｉ済みの平タイル素地１は、図示
は省略したが、乾燥■程を経てローラーハースキルン等
で焼成され施釉表面が平滑な平タイルとなる。 （第２実施例》 第２図八〇は、便器又は便器洗浄水川タンク等の如く空
腔を形成した衛生す！！ｉｉ素地に本発明方法を適用し
た第２実施例の各工程を示すものである。 第１工程は、泥漿鋳込み成形法等の湿式法で成形した後
に乾燥して臀た衛生陶器素地１１の外表面１１ａに、溶
融粘性の高い釉薬をｊｌｌ）け施釉（図示は省略）して
施釉層１２を形成１ることである。必要に応じて衛生陶
器素地１１の内表面１１ｂに、溶融粘性の高い釉薬を霧
掛り法等で施釉して施釉層１２を形成することもある。 第２工程は、施釉層１２を所定含水率まで減水させるこ
とである。所定含水率の意義及び減水の方法は、前記第
１実施例の第２工程で説明した通りである。 本発明方法の＠終工程である第３工程は、施釉層１２の
表面１２８を平滑なプレス面１３−１ａ （１３−２ａ
。 １３−３ａ 、 １３−４ａ ） ｔ押圧して表面１２
ａを平ＦｎＷＡとすることである。なお、衛生陶器素地
１１の空腔内表面１１ｂ ｋ：ｌｉｌｌｉｌ！を形成し
である場合には、この施釉層の表面を平滑なプレス面１
９ａで揮圧して平Ｗ１自とする。プレス装置１４は、前
記第２工程から搬入された衛生陶器素地１１を受収して
支持する支持！ｉｔｓと、支Ｎ５１１５上の衛生陶器素
地１１に向って前進して衛生陶器素地１１を囲繞する複
数の分割プレス具１４−１、１４−２．１４−３．１４
−４と、衛生陶器素地１１の空腔１１ｃに向って３１退
し且つ−空腔１１ｃで膨張収縮するゴム袋１９を備えた
バックアップ具１８とからなる。各分割プレス具１４−
１ （１４−２・・・）は、剛体の基部１フー１ （１
フー２−）と、基部１フー１ （１フー２・・・）の内
側に配設した弾性のプレスＷ１３−１ （１３−２・・
・）とからなり、ＩａｌｌＦ−ｌ （１フー２−） ト
アＬ／ス！１１３−１（１３−２−）との門に空気又は
水を給徘できるように配管２Ｇ−１（２Ｇ−２−・・）
しである。プレス１１１３−１（１３−２・・・）は、
金属素材、合成樹脂素材又は硬質ゴム素材等で形成され
、必要に応じて弗素樹脂層又はシリコン樹脂層等で被覆
した剥離の良好なプレス面１３−１ａ （１３−２ａ
・・・）としである。バックアップ具１８は、ゴム袋１
８内に空気又は水を給徘できるように配管２１シである
。なお、前記バックアップｎ１８は、ゴム袋１９に限定
するものではなく、図示は省略したが、衛生陶器素地の
空腔の開口部が大径の場合には、剛体の基部と、基部の
外側に配設した弾性のプレス盤とからなり、基部とプレ
ス盤との間に空気又は水を給徘できるようにすることも
ある。６１記プレス！Ａｌ１１４を用いて施釉１１１２
の表面１２ａを平滑にする手順は次の通りである。先ず
、後退待機中の分割プレス具１４−１、１４−２・・・
を支＄８９１１５で支持した衛生１６Ｊ器索地１１の直
近まで前進させて衛生陶器素地１１を囲繞すると共に、
衛生陶器素地１１の内部空間１１ｃ内にバックアップ具
１８のゴム袋１９を挿入する。次に、ゴム袋１８ａ内に
供給した空気又は水等の流体でゴム袋１９を徐々に膨張
させて衛生陶器素地１１の内壁面１１ｂを押圧するのと
並行して各分割プレス具１４−１ （１４−２・・・）
の基部１フー１ （１フー２−）とプレス盤１３−１
（１３−２−）との間に供給した空気又は水でプレス１
１１３−１ （１３−２・・・）を徐々＆−膨張させて
施釉１１１２の表面１２ａを均一に押圧することにより
、衛生陶器素地１１を変形させることなくｍ職層１２の
外表面１２ａをプレス１１１３−１（１３−２−）の平
滑なプレス向１３−ａ （１３−２ａ−・・）で均一に
押圧して平ｍ画とする。なお、衛生陶器素地１１の空腔
内表面１１ｂに施釉１１１２を形成しである鳴合には、
施識＠１２の表面１２ｂ ｆｉ：膨張したゴム袋１９の
平滑なプレスｌｉ１９ａで押圧して平滑面とする。 前記第３工程で得た論釉演みの衛生陶器素地１１は、図
示は省略したが、乾燥工程を経てトンネル窯等で焼成さ
れ衡生陶器となる。 （その鉋の実施例》 ａ磁器素地が柱状の如く中実の成形ｊｌｌｌｌである場
合には、図示は省略くしたが、成形素地の外表面に溶融
粘性の高い釉薬で塗布形成された施釉層の表面を、−１
２第２実施例で説明した分割プレス具１４−１、１４−
２−・・に相当する分割プレス具の平滑なプレス面で押
圧して平滑面とする。 【発明の効果１ 以上詳述した如く、本発明方法は、施釉層の表面を平滑
なプレス面で押圧して凹凸の無い平滑な画とすることが
できるため、溶融粘性の高い釉薬を用いることが可能と
なり次の如く優れた効果を賽する。 ０ 焼成の際に立面状態となる施釉層の表面であっても
垂れ筋のない平滑な面とすることができ、歩留の向上が
図れる。 ０ 平タイルの如くｏ−ラーハースキルン等で水平状態
で焼成する場合であっても、釉薬がキルンのローラー等
に付着することがなく、平タイル素地の円滑な搬送が確
保でき、歩留の向上が図れる。
下、、、［本発明方法」という）を図面に示す実施例に
Ｕづいて説明する。 （第１実施例） 第１図＾〜Ｃ）は、本発明方法を平タイル素地に適用し
た第１実施例の各工程を承りものである。 第１工程は、第１図（Ａｌ（Ｂ）に示す如く、湿式法又
は乾式法で得た平タイル素地１の表面１ａに、ＷＪｒｍ
粘性の高い釉薬を膜掛け（同図八参照）又は霧■トけ（
同図■参照）等の適官施釉方法で施釉して施釉層２を形
成することである。 第２工程は、図示は省略したが、ｔｓｍ層２中の水分を
所定含水率まで減水させることである。所定含水率とは
、次の第３工程において、同図Ｃ】に示す如く、施釉層
２の表面２ａを平滑なプレス面３ａで揮圧した際に、施
釉ＦＡ２を形成する釉薬をプレス面３ａに転移付着させ
ることなく且つ表面２ａが平滑となるように塑性変形す
る含水率をいう。減水の方法としては、自然乾燥又は温
風による強＆ｌＩ乾燥方法等が採用される。なお、施釉
層２中の水分が平タイル素地１に吸収されて施釉層２の
含水率が上記適宜含水率となる場合には、上記乾燥は省
略される。 本発明方法の最終工程である第３工程は、施釉Ｗ−２の
表面２ａを平滑なプレス向３ａで押圧して平滑面とする
ことである。プレス装置４は、前記第２工程から搬入さ
れた平タイル素地１を受載して支持１る支持ａ５と、支
￥ｉ！１１５に向って上下移動するプレスＷ３とからな
り、支持Ｗ５で支持された平タイル素地１の施釉ａ２の
表面２ａをプレス１１３の平滑なプレス面３ａで揮圧し
て施釉層２の表面２ａを平坦な平滑面とするものである
。施釉Ｉｉ２の表面２ａに対するプレス面３ａの押圧力
は、施釉ｗＩ２の厚み、釉薬層２が塑性変形を生じさせ
る圧縮応力等により異なるが、一般的には５〜２５ＨＣ
９ｆ ／Ｃすの範囲で選択される。プレス面３ａは、金
属素材、合成樹脂素材又は硬質ゴム素材等で形成され、
必要に応じて弗素樹脂層又はシリコン樹脂層等で被覆し
た剥離の良好な面とする。 前記第３工程で得た施ｉ済みの平タイル素地１は、図示
は省略したが、乾燥■程を経てローラーハースキルン等
で焼成され施釉表面が平滑な平タイルとなる。 （第２実施例》 第２図八〇は、便器又は便器洗浄水川タンク等の如く空
腔を形成した衛生す！！ｉｉ素地に本発明方法を適用し
た第２実施例の各工程を示すものである。 第１工程は、泥漿鋳込み成形法等の湿式法で成形した後
に乾燥して臀た衛生陶器素地１１の外表面１１ａに、溶
融粘性の高い釉薬をｊｌｌ）け施釉（図示は省略）して
施釉層１２を形成１ることである。必要に応じて衛生陶
器素地１１の内表面１１ｂに、溶融粘性の高い釉薬を霧
掛り法等で施釉して施釉層１２を形成することもある。 第２工程は、施釉層１２を所定含水率まで減水させるこ
とである。所定含水率の意義及び減水の方法は、前記第
１実施例の第２工程で説明した通りである。 本発明方法の＠終工程である第３工程は、施釉層１２の
表面１２８を平滑なプレス面１３−１ａ （１３−２ａ
。 １３−３ａ 、 １３−４ａ ） ｔ押圧して表面１２
ａを平ＦｎＷＡとすることである。なお、衛生陶器素地
１１の空腔内表面１１ｂ ｋ：ｌｉｌｌｉｌ！を形成し
である場合には、この施釉層の表面を平滑なプレス面１
９ａで揮圧して平Ｗ１自とする。プレス装置１４は、前
記第２工程から搬入された衛生陶器素地１１を受収して
支持する支持！ｉｔｓと、支Ｎ５１１５上の衛生陶器素
地１１に向って前進して衛生陶器素地１１を囲繞する複
数の分割プレス具１４−１、１４−２．１４−３．１４
−４と、衛生陶器素地１１の空腔１１ｃに向って３１退
し且つ−空腔１１ｃで膨張収縮するゴム袋１９を備えた
バックアップ具１８とからなる。各分割プレス具１４−
１ （１４−２・・・）は、剛体の基部１フー１ （１
フー２−）と、基部１フー１ （１フー２・・・）の内
側に配設した弾性のプレスＷ１３−１ （１３−２・・
・）とからなり、ＩａｌｌＦ−ｌ （１フー２−） ト
アＬ／ス！１１３−１（１３−２−）との門に空気又は
水を給徘できるように配管２Ｇ−１（２Ｇ−２−・・）
しである。プレス１１１３−１（１３−２・・・）は、
金属素材、合成樹脂素材又は硬質ゴム素材等で形成され
、必要に応じて弗素樹脂層又はシリコン樹脂層等で被覆
した剥離の良好なプレス面１３−１ａ （１３−２ａ
・・・）としである。バックアップ具１８は、ゴム袋１
８内に空気又は水を給徘できるように配管２１シである
。なお、前記バックアップｎ１８は、ゴム袋１９に限定
するものではなく、図示は省略したが、衛生陶器素地の
空腔の開口部が大径の場合には、剛体の基部と、基部の
外側に配設した弾性のプレス盤とからなり、基部とプレ
ス盤との間に空気又は水を給徘できるようにすることも
ある。６１記プレス！Ａｌ１１４を用いて施釉１１１２
の表面１２ａを平滑にする手順は次の通りである。先ず
、後退待機中の分割プレス具１４−１、１４−２・・・
を支＄８９１１５で支持した衛生１６Ｊ器索地１１の直
近まで前進させて衛生陶器素地１１を囲繞すると共に、
衛生陶器素地１１の内部空間１１ｃ内にバックアップ具
１８のゴム袋１９を挿入する。次に、ゴム袋１８ａ内に
供給した空気又は水等の流体でゴム袋１９を徐々に膨張
させて衛生陶器素地１１の内壁面１１ｂを押圧するのと
並行して各分割プレス具１４−１ （１４−２・・・）
の基部１フー１ （１フー２−）とプレス盤１３−１
（１３−２−）との間に供給した空気又は水でプレス１
１１３−１ （１３−２・・・）を徐々＆−膨張させて
施釉１１１２の表面１２ａを均一に押圧することにより
、衛生陶器素地１１を変形させることなくｍ職層１２の
外表面１２ａをプレス１１１３−１（１３−２−）の平
滑なプレス向１３−ａ （１３−２ａ−・・）で均一に
押圧して平ｍ画とする。なお、衛生陶器素地１１の空腔
内表面１１ｂに施釉１１１２を形成しである鳴合には、
施識＠１２の表面１２ｂ ｆｉ：膨張したゴム袋１９の
平滑なプレスｌｉ１９ａで押圧して平滑面とする。 前記第３工程で得た論釉演みの衛生陶器素地１１は、図
示は省略したが、乾燥工程を経てトンネル窯等で焼成さ
れ衡生陶器となる。 （その鉋の実施例》 ａ磁器素地が柱状の如く中実の成形ｊｌｌｌｌである場
合には、図示は省略くしたが、成形素地の外表面に溶融
粘性の高い釉薬で塗布形成された施釉層の表面を、−１
２第２実施例で説明した分割プレス具１４−１、１４−
２−・・に相当する分割プレス具の平滑なプレス面で押
圧して平滑面とする。 【発明の効果１ 以上詳述した如く、本発明方法は、施釉層の表面を平滑
なプレス面で押圧して凹凸の無い平滑な画とすることが
できるため、溶融粘性の高い釉薬を用いることが可能と
なり次の如く優れた効果を賽する。 ０ 焼成の際に立面状態となる施釉層の表面であっても
垂れ筋のない平滑な面とすることができ、歩留の向上が
図れる。 ０ 平タイルの如くｏ−ラーハースキルン等で水平状態
で焼成する場合であっても、釉薬がキルンのローラー等
に付着することがなく、平タイル素地の円滑な搬送が確
保でき、歩留の向上が図れる。
第１ＷＪ（Ａ）−（Ｃ）は本発明方法の第１実施例を示
すものであって、同図（Ａ）１Ｂ）は施釉状態を示す正
面図であり、同図Ｃ）はプレス状態を示す正面図である
。 第２図（Ａ）■は本発明方法の第２実施例を示すもので
あって、同図囚はプレス前の状態を示す正面断面図であ
り、Ｗ４図０はプレス状態を示す正面断面図である。 第３図は従来の膜掛は施釉方法で施釉した施釉層の拡大
図であり、第４図は従来の霧掛は施釉方法で施釉した施
釉層の拡大図である。 １ （１１）・・・陶磁器素地 ２ （１２）・・
・施釉層３ａ （１３−１ａ 、 １３−２ａ 、 １
３−３ａ 、 １３〜３ａ ） −・・プレス特許出願
人 株式会社イナックス 代 理 人 弁埋士 内円 敏彦 （Ａ） （Ｂ）第１図
すものであって、同図（Ａ）１Ｂ）は施釉状態を示す正
面図であり、同図Ｃ）はプレス状態を示す正面図である
。 第２図（Ａ）■は本発明方法の第２実施例を示すもので
あって、同図囚はプレス前の状態を示す正面断面図であ
り、Ｗ４図０はプレス状態を示す正面断面図である。 第３図は従来の膜掛は施釉方法で施釉した施釉層の拡大
図であり、第４図は従来の霧掛は施釉方法で施釉した施
釉層の拡大図である。 １ （１１）・・・陶磁器素地 ２ （１２）・・
・施釉層３ａ （１３−１ａ 、 １３−２ａ 、 １
３−３ａ 、 １３〜３ａ ） −・・プレス特許出願
人 株式会社イナックス 代 理 人 弁埋士 内円 敏彦 （Ａ） （Ｂ）第１図
Claims (1)
- １、陶磁器素地の表面に釉薬を塗布して施釉層を形成し
、施釉層は塑性変形するが転移付着しない程度にその含
水率を調整し、施釉層の表面を平滑なプレス面で押圧し
て施釉層の表面を平滑にしたことを特徴とする陶磁器素
地の施釉方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28964089A JPH0669913B2 (ja) | 1989-11-07 | 1989-11-07 | 陶磁器素地の施釉方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28964089A JPH0669913B2 (ja) | 1989-11-07 | 1989-11-07 | 陶磁器素地の施釉方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03150283A true JPH03150283A (ja) | 1991-06-26 |
| JPH0669913B2 JPH0669913B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=17745855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28964089A Expired - Lifetime JPH0669913B2 (ja) | 1989-11-07 | 1989-11-07 | 陶磁器素地の施釉方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JPH0669913B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103011904A (zh) * | 2012-12-27 | 2013-04-03 | 东陶机器（北京）有限公司 | 一种分体式座便器主体的施釉系统 |
| WO2015092745A1 (en) | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Flooring Industries Limited, Sarl | Ceramic tile and method for manufacturing ceramic tiles |
| CN108437172A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-08-24 | 郑州科技学院 | 雾化施釉装置及施釉方法 |
-
1989
- 1989-11-07 JP JP28964089A patent/JPH0669913B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (15)
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| CN103011904B (zh) * | 2012-12-27 | 2014-05-21 | 东陶机器（北京）有限公司 | 一种分体式座便器主体的施釉系统 |
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| US10450761B2 (en) | 2013-12-20 | 2019-10-22 | Flooring Industries Limited, Sarl | Ceramic tile and method for manufacturing ceramic tiles |
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| US12173514B2 (en) | 2013-12-20 | 2024-12-24 | Unilin, Bv | Ceramic tile |
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