JPH03152105A - ポリオレフインの製造法 - Google Patents
ポリオレフインの製造法Info
- Publication number
- JPH03152105A JPH03152105A JP29030889A JP29030889A JPH03152105A JP H03152105 A JPH03152105 A JP H03152105A JP 29030889 A JP29030889 A JP 29030889A JP 29030889 A JP29030889 A JP 29030889A JP H03152105 A JPH03152105 A JP H03152105A
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- component
- catalyst
- substituent
- cyclopentadienyl
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、新規なオレフィン重合触媒を用いるポリオレ
フィンの製造法に関するものである。本発明の方法によ
れば、高活性、活性持続良く、分子量分布の比較的狭い
ポリオレフィンを製造できる。
フィンの製造法に関するものである。本発明の方法によ
れば、高活性、活性持続良く、分子量分布の比較的狭い
ポリオレフィンを製造できる。
先丘弦生
従来、オレフィン重合触媒として、Zlegler−N
鳳tta 触媒が、一般に広く知られている。また中
心金属を希土類元素とする触媒を用いるオレフィンの重
合反応も古くから研究がなされて来たが、活性は低かっ
た(英国特許率865.248号明細書、仏国特許第1
,323.O(1号明細書。
鳳tta 触媒が、一般に広く知られている。また中
心金属を希土類元素とする触媒を用いるオレフィンの重
合反応も古くから研究がなされて来たが、活性は低かっ
た(英国特許率865.248号明細書、仏国特許第1
,323.O(1号明細書。
米国特許率3.111,511号明細書等)。
近年、ペンタメチルシクロペンタジェンを配位子とする
希土類金属錯体が、オレフィンO重合触媒として高活性
を有することが報告されている(J、Amer、Che
m、Soc、10)、8(11(198B)Ace、
Chem、 Res、 18.51 (198B)、C
hem。
希土類金属錯体が、オレフィンO重合触媒として高活性
を有することが報告されている(J、Amer、Che
m、Soc、10)、8(11(198B)Ace、
Chem、 Res、 18.51 (198B)、C
hem。
Lett、 1963 (198g)等)。しかしなが
ら、活性持続性や分子量制御性に関して、工業的用途K
Fiまだ不十分である。
ら、活性持続性や分子量制御性に関して、工業的用途K
Fiまだ不十分である。
」じ■医11
本発明は、上記問題点の解消を図るべく、希土類金属に
配位及び/又は結合する置換基(配位子)について検討
を行った結果、高活性に活性持続性良くポリオレフィン
を製造できることを見い出し、本発明を完成した。
配位及び/又は結合する置換基(配位子)について検討
を行った結果、高活性に活性持続性良くポリオレフィン
を製造できることを見い出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、下記A%B及びCの構成要素、A:炭
化水素若しくはケイ素原子を介して結合した、少なくと
も一方が縮環シクロペンタジェニル基であり、他方がシ
クロペンタジェニル系の置換基を有する置環基であるこ
と、 B:水素原子、アルキル基及びアリール基から選ばれる
置換基を有すること、 C:周期律表の原子番号57〜71のランタニド系列の
金属から選ばれる3価の金属原子を有すること、 を有する化合物からなる希土類触媒の存在下、−般式口
1.= CI−R(ここでkは水素原子若しくは炭素数
1〜50炭化水素残基を示す)で表わされるオレフィン
を重合することを特徴とするポリオレフィンの製造法を
提供するものである。
化水素若しくはケイ素原子を介して結合した、少なくと
も一方が縮環シクロペンタジェニル基であり、他方がシ
クロペンタジェニル系の置換基を有する置環基であるこ
と、 B:水素原子、アルキル基及びアリール基から選ばれる
置換基を有すること、 C:周期律表の原子番号57〜71のランタニド系列の
金属から選ばれる3価の金属原子を有すること、 を有する化合物からなる希土類触媒の存在下、−般式口
1.= CI−R(ここでkは水素原子若しくは炭素数
1〜50炭化水素残基を示す)で表わされるオレフィン
を重合することを特徴とするポリオレフィンの製造法を
提供するものである。
更に本発明は、下記成分aと成分Cとの接触生成物に下
記成分すを接触させて得られた反応生成物の存在下、一
般式CM、 = CH−R(とこで罠は水素原子若しく
は炭素数1〜50炭化水素残基を示す)で表わされるオ
レフィンを重合することを特徴とするポリオレフィンの
製造法を提供することにある。
記成分すを接触させて得られた反応生成物の存在下、一
般式CM、 = CH−R(とこで罠は水素原子若しく
は炭素数1〜50炭化水素残基を示す)で表わされるオ
レフィンを重合することを特徴とするポリオレフィンの
製造法を提供することにある。
成分a:炭化水素もしくはケイ素原子を介して結合した
、少愈くとも一方が縮環シクロペンタジェニル系であり
、他方がシクロペンタジェニル系の置換基である2価の
置換基を有する化合物のアルカリ金属塩若しくはアルカ
リ土類金属塩、成分b:アルキル基及びアリール基から
選ばれる置換基を有するアルカリ金属又はアルカリ土類
金属化合物、 成分C:周期律表の原子番号57〜71のランタニド系
列の金属から選ばれる3価の金属のハロゲン化物。
、少愈くとも一方が縮環シクロペンタジェニル系であり
、他方がシクロペンタジェニル系の置換基である2価の
置換基を有する化合物のアルカリ金属塩若しくはアルカ
リ土類金属塩、成分b:アルキル基及びアリール基から
選ばれる置換基を有するアルカリ金属又はアルカリ土類
金属化合物、 成分C:周期律表の原子番号57〜71のランタニド系
列の金属から選ばれる3価の金属のハロゲン化物。
mと臥!
本発明の方法によれば、特定の置換基(配位子)を有す
る新規な希土類金触媒を用いることによシ、高活性かつ
活性持続性に優れる重合ができ、分子量分布の狭いポリ
オレフィンを製造できる。
る新規な希土類金触媒を用いることによシ、高活性かつ
活性持続性に優れる重合ができ、分子量分布の狭いポリ
オレフィンを製造できる。
また、重合に際し脂肪族炭化水素を溶媒として用いるこ
とができるので、易溶性低分子量ポリオレフィンO副生
を減少させて製造するととができる。
とができるので、易溶性低分子量ポリオレフィンO副生
を減少させて製造するととができる。
j墨p五盗刀亘皿
〔触媒〕
本発明の方法に用いる触媒は、人、B及びCの構成要素
を有する化合物からなる希土類触媒であゐ。
を有する化合物からなる希土類触媒であゐ。
構成要素人は、炭化水素もしくはケイ素原子を介して結
合した、生金くとも一方が縮環シクロペンタジェニル系
でibシ、他方がシクロペンタジェニル系の置換基を有
する置換基であるが、ここで、縮環シクロペンタジェニ
ル系は、νクロペンタジエニル基の一方の環の隣接する
置換基が互いに結合して環構造を形成した基(配位子)
を意味する。
合した、生金くとも一方が縮環シクロペンタジェニル系
でibシ、他方がシクロペンタジェニル系の置換基を有
する置換基であるが、ここで、縮環シクロペンタジェニ
ル系は、νクロペンタジエニル基の一方の環の隣接する
置換基が互いに結合して環構造を形成した基(配位子)
を意味する。
具体的には、インデニル、フェナンスリル基、フルオレ
ニル基、ビシクロ(3,3,0)オクタ−1,3−!>
エニル墓、4.5.6.7−チトラヒドロインデニル基
、ビシクロ(S、S、O)デカ−8゜11−ジェニル基
、トリシクロ(s、 t、 t、a駐〕デカ−2,5−
ジェニル基及びそれらのアルキル、アルキルシリルもし
くはアルキルゲルミル置換体等を例示することができる
。なかでも好ましくはインデニル基、フルオレニル基、
4,5.6.7−チトラヒドロインデニル骨格を有す
る基である。
ニル基、ビシクロ(3,3,0)オクタ−1,3−!>
エニル墓、4.5.6.7−チトラヒドロインデニル基
、ビシクロ(S、S、O)デカ−8゜11−ジェニル基
、トリシクロ(s、 t、 t、a駐〕デカ−2,5−
ジェニル基及びそれらのアルキル、アルキルシリルもし
くはアルキルゲルミル置換体等を例示することができる
。なかでも好ましくはインデニル基、フルオレニル基、
4,5.6.7−チトラヒドロインデニル骨格を有す
る基である。
他方がシクロペンタジェニル系の置換基を有する置換基
は、シクロペンタジェニル基、インデニル基、フェナン
スリル基、フルオレニル基、ビシクロ(3,3,0)オ
クタ−1,3−ジェニル基、4、5.6.7−チトラヒ
ドロインデニル基、ビシクロ(5,3,0)デカ−8,
11−tフェニル基、トリシクロ(s、 2.1.6’
°6〕デカ−L5−yエニル基、及び、それらのアルキ
A/4シ<はアルキルシリルもしくはアルキルゲルミル
置換体を例示することができる。
は、シクロペンタジェニル基、インデニル基、フェナン
スリル基、フルオレニル基、ビシクロ(3,3,0)オ
クタ−1,3−ジェニル基、4、5.6.7−チトラヒ
ドロインデニル基、ビシクロ(5,3,0)デカ−8,
11−tフェニル基、トリシクロ(s、 2.1.6’
°6〕デカ−L5−yエニル基、及び、それらのアルキ
A/4シ<はアルキルシリルもしくはアルキルゲルミル
置換体を例示することができる。
なかでも好ましくは、シクロペンタジェニル基、インデ
ニル基、フルオレニル基、4.5. ei、? −テF
ラヒドロインデニル基の骨格を有する墓である。
ニル基、フルオレニル基、4.5. ei、? −テF
ラヒドロインデニル基の骨格を有する墓である。
上述の少なくとも一方が縮環シクロペンタジェニル基と
他方のシクロペンタジェニル系の置換基を有する置換基
を結合するKは、炭化水素もしくはケイ素原子が用いら
れる。具体的には、主鎖の炭素数が1〜4のアルキレン
基、主鎖の炭素数が1〜4のアルキルもしくはアリール
置換アルキレン基、ジアルキル置換ケイ素基等が例示で
龜る。
他方のシクロペンタジェニル系の置換基を有する置換基
を結合するKは、炭化水素もしくはケイ素原子が用いら
れる。具体的には、主鎖の炭素数が1〜4のアルキレン
基、主鎖の炭素数が1〜4のアルキルもしくはアリール
置換アルキレン基、ジアルキル置換ケイ素基等が例示で
龜る。
この中で好ましくは、メチレン基、エチレン基、プロピ
レン基、ジメチルVリル基である。
レン基、ジメチルVリル基である。
構成要素Bは、水素原子、アルキル基及びアリール基か
ら選ばれる置換基を有するヒと、である。
ら選ばれる置換基を有するヒと、である。
アルキル基としては、炭素数1〜12、好ましくは炭素
数1〜50アルキル基、若しくはアルキル(炭素数1〜
8)置換ケイ素基を有するアルキル基が、アリール基と
しては炭素数6〜18、好ましく社炭素数6〜12のア
リール基、若しくはアルキル(炭素数1〜8)置換ケイ
素を有するアリール基が例示される。
数1〜50アルキル基、若しくはアルキル(炭素数1〜
8)置換ケイ素基を有するアルキル基が、アリール基と
しては炭素数6〜18、好ましく社炭素数6〜12のア
リール基、若しくはアルキル(炭素数1〜8)置換ケイ
素を有するアリール基が例示される。
これらの中でも立体的に嵩高い置換基、例えばぽ位に炭
素数1〜50アルキル若しくは炭素数1〜50アルキル
置換v9ル基を好しくけ複数個有するアルキル基又はオ
ルソ置換アリール基等をもち、更に一水素又はアルキル
脱離の起シにくい構造のもの、例えばトリアルキルVヲ
ル置換メチル基、オルソ置換アリール基等が好ましい。
素数1〜50アルキル若しくは炭素数1〜50アルキル
置換v9ル基を好しくけ複数個有するアルキル基又はオ
ルソ置換アリール基等をもち、更に一水素又はアルキル
脱離の起シにくい構造のもの、例えばトリアルキルVヲ
ル置換メチル基、オルソ置換アリール基等が好ましい。
このような好ましい具体例としては、ビストリメデルシ
リルメチル基、メシチル基などである。
リルメチル基、メシチル基などである。
構成要素Cは、周期律表の原子番号57〜710ランタ
ニド系列の金属から選ばれる3価の金属原子を有するこ
と、である。これらの中でもランタン、ネオジム、ガド
リウム、ジスプロVウム、ルテチウムが好ましい。
ニド系列の金属から選ばれる3価の金属原子を有するこ
と、である。これらの中でもランタン、ネオジム、ガド
リウム、ジスプロVウム、ルテチウムが好ましい。
上述の構成要素A、B及びCを有する触媒は、それぞれ
の構成要素をもつ下記成分a、b及びCを用いて間装す
ることができる。
の構成要素をもつ下記成分a、b及びCを用いて間装す
ることができる。
構成要素人をもつ成分龜は、炭化水素もしくはケイ素原
子を介して結合した、少なくとも一方が縮環シクロペン
タジェニル基であり、他方がシクロペンタジェニル系の
置換基である2価の置換基を有する化合物のアルカす金
属塩若しくはアルカリ土類金属塩である。アルカリ金属
の中でもツテクム、ナトリウムなどが、アルカリ土類金
属の中でもマグネνクムなどが好ましく用いられる。
子を介して結合した、少なくとも一方が縮環シクロペン
タジェニル基であり、他方がシクロペンタジェニル系の
置換基である2価の置換基を有する化合物のアルカす金
属塩若しくはアルカリ土類金属塩である。アルカリ金属
の中でもツテクム、ナトリウムなどが、アルカリ土類金
属の中でもマグネνクムなどが好ましく用いられる。
更に成分aを具体的に示すと、一般式
%式%:
で表わされる化合物である。ここでQは主鎖の炭素数が
1〜4のアルキレン墓、主鎮の炭素数1〜4のアルキル
もしくはアリール置換アルキレン基、又はジアルキルも
しくはアリール置換ケイ素基で6D、CpViシクロペ
ンタジェニル系の置換基な1Cp d縮環ジクロペンタ
ジェニルAt−1M1及びM、は独立してアルカル金属
%L<はアルカリ土類金属をそれぞれ示す。尚、鳩又は
鴇がアルカツ土類金属の場合はハロゲン又はアルキル基
がそれぞれ1個結合していることが必要である。
1〜4のアルキレン墓、主鎮の炭素数1〜4のアルキル
もしくはアリール置換アルキレン基、又はジアルキルも
しくはアリール置換ケイ素基で6D、CpViシクロペ
ンタジェニル系の置換基な1Cp d縮環ジクロペンタ
ジェニルAt−1M1及びM、は独立してアルカル金属
%L<はアルカリ土類金属をそれぞれ示す。尚、鳩又は
鴇がアルカツ土類金属の場合はハロゲン又はアルキル基
がそれぞれ1個結合していることが必要である。
具体例としては、エチレンビス(インデニル)ジリチウ
ム、エチレンビス(インデニル)ジナトリウム、エチレ
ンビス(インデニル>pカリウム、エチレンビス(イン
デニル)ジマグネVクムクロリド、エチレンビス(イン
デニル)ジマグネVクムプロミド、メチレンビス(イン
デニル)シリチクA、1.s−プロピレンビス(インデ
ニル)シリ?りA、L 2−jロビレンビス(インデニ
ル)ジリチウム、エチレンビス(4,S、 6.7−チ
トラヒドロインデニル)ジリチウム、エチレンビス(フ
ルオレニル)ジリチウム、2,2−プロピレン(シクロ
ペンタジェニル、フルオレニル)ジリチウム、等を例示
できる。
ム、エチレンビス(インデニル)ジナトリウム、エチレ
ンビス(インデニル>pカリウム、エチレンビス(イン
デニル)ジマグネVクムクロリド、エチレンビス(イン
デニル)ジマグネVクムプロミド、メチレンビス(イン
デニル)シリチクA、1.s−プロピレンビス(インデ
ニル)シリ?りA、L 2−jロビレンビス(インデニ
ル)ジリチウム、エチレンビス(4,S、 6.7−チ
トラヒドロインデニル)ジリチウム、エチレンビス(フ
ルオレニル)ジリチウム、2,2−プロピレン(シクロ
ペンタジェニル、フルオレニル)ジリチウム、等を例示
できる。
構成要素Bをもつ成分すは、アルキル基及びアリール基
から選ばれる置換基を有するアルカリ金属又はアルカリ
土類金属化合物である。
から選ばれる置換基を有するアルカリ金属又はアルカリ
土類金属化合物である。
成分すの具体例としては、メチルリチウム、メチルカリ
ウム、メチルナトリウム、メチルマグネシウムプロミド
、メチルマグネシウムプロミド、メチルマグネVクムイ
オジシ、エチルリチウム、ジエテルマグネレウム、n−
ブチルリチウム、蹴−ブチルリチウム、t@rt−ブチ
ルリチウム、イソプレニルリチウム、ネオペンチルリチ
ウム、ジーtart−プtルメチル9?ウム、フェニル
9fクム、0−>リルフエ二ルリテクム、2.6−ジメ
チルフェニルリチウム、メチルカリウム、O−エチルフ
ェニルリチウム、O″″tart″tartブチルフエ
ニルリチウムテルνツルフェニルリチウム、ペンジルリ
チウム、ネオフイルリチウム、トツメチルνラルメチル
ツテクム、ビストリメチルシリルメ?A/9fクム等を
例示することができる。
ウム、メチルナトリウム、メチルマグネシウムプロミド
、メチルマグネシウムプロミド、メチルマグネVクムイ
オジシ、エチルリチウム、ジエテルマグネレウム、n−
ブチルリチウム、蹴−ブチルリチウム、t@rt−ブチ
ルリチウム、イソプレニルリチウム、ネオペンチルリチ
ウム、ジーtart−プtルメチル9?ウム、フェニル
9fクム、0−>リルフエ二ルリテクム、2.6−ジメ
チルフェニルリチウム、メチルカリウム、O−エチルフ
ェニルリチウム、O″″tart″tartブチルフエ
ニルリチウムテルνツルフェニルリチウム、ペンジルリ
チウム、ネオフイルリチウム、トツメチルνラルメチル
ツテクム、ビストリメチルシリルメ?A/9fクム等を
例示することができる。
中でも好ましくは、ビストリメチルシリルメチルリチウ
ムのような)リアルキルシヲル置換メチル基や、メチル
カリウムのような、オルソ置換アリール基のアルカリ金
属もしくはアルカリ土類金属塩である。
ムのような)リアルキルシヲル置換メチル基や、メチル
カリウムのような、オルソ置換アリール基のアルカリ金
属もしくはアルカリ土類金属塩である。
構成要素Cをもつ成分Cは、周期律表の原子番号57〜
710ランクニド系列の金属から遥ばれる3価の金属〇
ハロゲン化物、である。
710ランクニド系列の金属から遥ばれる3価の金属〇
ハロゲン化物、である。
成分Cの好ましい具体例としては、三塩化ランタン、三
塩化ネオジム、三塩化ガドリクム、三塩化ジスプロシウ
ム、三塩化ルテチウム、等を例示できる。
塩化ネオジム、三塩化ガドリクム、三塩化ジスプロシウ
ム、三塩化ルテチウム、等を例示できる。
本発明に使用する触媒は公知の手法を応用して合成でき
る。例えば、好ましくは、上記成分aの化合物を、テト
ラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタン等のエーテル系有機溶媒(成分CK対し重量
比で5〜1600倍有機溶媒)の存在下、成分Cの化合
物を、−***−200℃の温度範囲で、成分i:酸成
分:O,S:1〜x、zs : 1の割合(モル比)で
接触させ、得られた接触生成物に更に成分すを反応させ
て得る。この反応に使用する溶媒は例えばペンタン、ヘ
キサノ、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロへキチン
等の脂環族炭化水素ベン(ン、トルエン等の芳香族炭化
水素溶媒若しくは前記エーテル系有機溶媒(成分すに対
し重量比で5〜xeoo倍の有機溶媒)を用い、使用す
る成分すの量は、初めに使用した成分Cに対し、O,S
〜2の割合であシ1反応温度は、−■O〜200cであ
る。
る。例えば、好ましくは、上記成分aの化合物を、テト
ラヒドロフラン(THF)、ジエチルエーテル、ジメト
キシエタン等のエーテル系有機溶媒(成分CK対し重量
比で5〜1600倍有機溶媒)の存在下、成分Cの化合
物を、−***−200℃の温度範囲で、成分i:酸成
分:O,S:1〜x、zs : 1の割合(モル比)で
接触させ、得られた接触生成物に更に成分すを反応させ
て得る。この反応に使用する溶媒は例えばペンタン、ヘ
キサノ、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、シクロへキチン
等の脂環族炭化水素ベン(ン、トルエン等の芳香族炭化
水素溶媒若しくは前記エーテル系有機溶媒(成分すに対
し重量比で5〜xeoo倍の有機溶媒)を用い、使用す
る成分すの量は、初めに使用した成分Cに対し、O,S
〜2の割合であシ1反応温度は、−■O〜200cであ
る。
上記触媒の製造においては、成分すとしてアルキル基又
はアリール基を有するアルカリ金属又はアルカリ土類金
属化合物を使用する場合には、成分すの反応時に同時に
又は後で水素ガスを使用することができる。
はアリール基を有するアルカリ金属又はアルカリ土類金
属化合物を使用する場合には、成分すの反応時に同時に
又は後で水素ガスを使用することができる。
上述の本発明に用いられる触媒は、反応生成物ott単
味で重合に用いることができるが、適当な支持体に担持
しても用いることができる。この際に用い為支持体とし
ては、シリカゲル、アルミナ、ゼオライト、塩化マグネ
シウム、酸化マグネシウム等の無機担体、及びポリエチ
レン粒子、ポリプロピレン粒子等の無機担体を用いるこ
とができる。
味で重合に用いることができるが、適当な支持体に担持
しても用いることができる。この際に用い為支持体とし
ては、シリカゲル、アルミナ、ゼオライト、塩化マグネ
シウム、酸化マグネシウム等の無機担体、及びポリエチ
レン粒子、ポリプロピレン粒子等の無機担体を用いるこ
とができる。
本発明の希土類触媒を使用して重合するオレフィン化合
物は、一般式 CB、=α−にで表わされる末端に3重
粘合を有するオレフィン化合物である。ここで、又は水
素原子もしくは炭素数1〜50炭化水素残基を示す、異
体的には、エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メ
チルブテン−1゜1−ヘキセン、4−メチルペンテン−
1,1−オクテン、1−デセン、スチレン、ブタジェン
、イソプtzy、1 、 !i−ヘキf t7:cV、
’l−1fAI4.’1−オクタジエン等を例示できる
。これら七ツマ−は単独重合だけでなく共重合に4使用
できる。
物は、一般式 CB、=α−にで表わされる末端に3重
粘合を有するオレフィン化合物である。ここで、又は水
素原子もしくは炭素数1〜50炭化水素残基を示す、異
体的には、エチレン、プロピレン、1−ブテン、3−メ
チルブテン−1゜1−ヘキセン、4−メチルペンテン−
1,1−オクテン、1−デセン、スチレン、ブタジェン
、イソプtzy、1 、 !i−ヘキf t7:cV、
’l−1fAI4.’1−オクタジエン等を例示できる
。これら七ツマ−は単独重合だけでなく共重合に4使用
できる。
重合は、気相、液相、他の公知のいずれの方法も採用し
得る。溶媒を用いる場合は、不活性の有機溶媒の使用が
好ましく、例えば、ペン(ン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素溶媒、a−ペンタン、n−へキチン、n
−へブタン、n−パラフィン等の脂肪族炭化水素溶媒、
νクロヘキチン、メチルシクロペンタン等の肪環式炭化
水素溶媒を用いうる0本発明では、脂肪族炭化水素溶媒
でも有効であることが、特徴の一つである。
得る。溶媒を用いる場合は、不活性の有機溶媒の使用が
好ましく、例えば、ペン(ン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素溶媒、a−ペンタン、n−へキチン、n
−へブタン、n−パラフィン等の脂肪族炭化水素溶媒、
νクロヘキチン、メチルシクロペンタン等の肪環式炭化
水素溶媒を用いうる0本発明では、脂肪族炭化水素溶媒
でも有効であることが、特徴の一つである。
重合温度は、−20−260℃ 好ましくは、40〜2
00℃で行なわれる。
00℃で行なわれる。
重合に際し、分子量調節剤を用いることができる。分子
量調節剤としては水素が有効である。tた、水素は触媒
活性向上効果をもたらすので、重合系に存在tせること
が好ましい。
量調節剤としては水素が有効である。tた、水素は触媒
活性向上効果をもたらすので、重合系に存在tせること
が好ましい。
重合圧力は、常圧〜30 (10kl/al Gの範囲
で公知のプロ(スにより適宜選択される。
で公知のプロ(スにより適宜選択される。
u11
実施例−1
(触媒の製造)
十分に窒素置換した攪拌翼材の300sIjのフラスコ
Fcl、意−ジインデニルエタン8mmolと精製TH
FI!O+dを入れ、−18℃に冷却して、−一プチル
リデウム1.6Mヘキナン溶液1G、S鯛1を滴下した
。室温まで温度を上昇させ、8時間反応させた。
Fcl、意−ジインデニルエタン8mmolと精製TH
FI!O+dを入れ、−18℃に冷却して、−一プチル
リデウム1.6Mヘキナン溶液1G、S鯛1を滴下した
。室温まで温度を上昇させ、8時間反応させた。
これに、2,251の無水塩化ルテチウムを0℃で徐々
に加え、8時間還流した。
に加え、8時間還流した。
反応終了後、l0CK冷却して溶媒を減圧下に留去した
。これに精製ジエチルエーテル1001114mを加え
、攪拌した後KIO℃に冷却して溶媒を減圧下に留去し
た。この操作を2度繰り返した。
。これに精製ジエチルエーテル1001114mを加え
、攪拌した後KIO℃に冷却して溶媒を減圧下に留去し
た。この操作を2度繰り返した。
得られた生成物に精製トルエン10講1を加え0℃にて
、ビストリメチルシリルメチルリチウムo、55mMジ
エチルエーテル溶液14.3飼りを加え、8時間反応さ
せた。
、ビストリメチルシリルメチルリチウムo、55mMジ
エチルエーテル溶液14.3飼りを加え、8時間反応さ
せた。
反応生成物を窒素雰囲気K濾過し、P液を10℃にて減
圧下に溶媒を留去し丸。
圧下に溶媒を留去し丸。
当該生成物の再結晶を行なった。
当該希土類触媒を、精製トルエンにて希釈して0 、0
6 ’ff1m0j −Lm/sd −) Atエン0
触媒溶液として重合に供した。
6 ’ff1m0j −Lm/sd −) Atエン0
触媒溶液として重合に供した。
(重合)
充分に窒素置換した攪拌翼付1羞オートクレーブに精製
へブタン300 wanを導入し、次いで、窒素雰囲気
下に上記触媒溶液z、smBo、xsmmol )を添
加し、これに水素をgooW@羞、さらにエチレンを導
入し、重合槽圧をs#/ajGK保ち、SOcで3時間
重合させた。
へブタン300 wanを導入し、次いで、窒素雰囲気
下に上記触媒溶液z、smBo、xsmmol )を添
加し、これに水素をgooW@羞、さらにエチレンを導
入し、重合槽圧をs#/ajGK保ち、SOcで3時間
重合させた。
その結果、51.igのポリエチレンが得られた。生成
物の分子量はMa 14sX10 、hMw5゜14X
10’、Q値は2.09であ)、IRからこのポリエチ
レンは、末端二重結合のないポリエチレンであった。
物の分子量はMa 14sX10 、hMw5゜14X
10’、Q値は2.09であ)、IRからこのポリエチ
レンは、末端二重結合のないポリエチレンであった。
また、重合時のエチレン吸収速度は、1時間目が、0,
2111/脅、2時間目が0.311/分、3時間目が
OJS 17分と良い活性持続性を示した。
2111/脅、2時間目が0.311/分、3時間目が
OJS 17分と良い活性持続性を示した。
実施例−2
(重合)
充分に窒素置換した、実施例−1と同様のオー)クレー
プに、精製トルエン30081を導入し、次いで実施例
−1で用いた触媒溶液5−(0,1Bmm5A)を添加
し、水素を@ OO+d、プロピレン7 、Sg 、さ
らに、エチレンを導入し、重合槽圧を611/al G
に保ち、60℃で6時間重合させた。
プに、精製トルエン30081を導入し、次いで実施例
−1で用いた触媒溶液5−(0,1Bmm5A)を添加
し、水素を@ OO+d、プロピレン7 、Sg 、さ
らに、エチレンを導入し、重合槽圧を611/al G
に保ち、60℃で6時間重合させた。
その結果、7B、Ofのポリマーが得られた。生成ポリ
マーの嵩密度は、0.49であり九。生成物の分子量は
、Ma3.13X10’、Mwll、44X10’、Q
値は8.07であった。
マーの嵩密度は、0.49であり九。生成物の分子量は
、Ma3.13X10’、Mwll、44X10’、Q
値は8.07であった。
また、重合時のエチレン吸収速度は、2時間目が、(1
,161/分、4時間目が0.!?fi/分、6時間目
が0.321/分と良い活性持続性を示し九。
,161/分、4時間目が0.!?fi/分、6時間目
が0.321/分と良い活性持続性を示し九。
実施例−3
(重合)
実施例−2において、プロピレンを1−ヘキセンxsv
ml、重合時間を3時間と震災した以外は実施例−2と
同様に重合を行なり九。
ml、重合時間を3時間と震災した以外は実施例−2と
同様に重合を行なり九。
そO結果、!8.92のポリマーが得られた。生成物の
分子量はMgI2 、88 X 10 ’、Mn9.8
1X10’、Q値は!、Ofであつ九。
分子量はMgI2 、88 X 10 ’、Mn9.8
1X10’、Q値は!、Ofであつ九。
また、重合時のエチレン吸収進度は、1時間目が、0.
15ji/分、2jM目が、0.221/fl、3時間
目が0 、2817分で良い活性持続性を示し丸。
15ji/分、2jM目が、0.221/fl、3時間
目が0 、2817分で良い活性持続性を示し丸。
実施例−4
(重合)
実施例−3において、1−ヘキセンを、イソプレンIQ
mAと変災し九以外は実施例−3と同様に重合を行なつ
九。
mAと変災し九以外は実施例−3と同様に重合を行なつ
九。
その結果、24.210ポリマーが得られた。生成物の
分子量は、Mn 、3.50 X 1G %Mu 8
,3SX10’、Q値は2.39で6つ九。
分子量は、Mn 、3.50 X 1G %Mu 8
,3SX10’、Q値は2.39で6つ九。
ま九、重合時のエチレン吸収進度は、1時間目が、0.
1814/’に、2特間目が、0.19ル彊、1時間目
が0.2!A/*で良い活性持続性を示しえ。
1814/’に、2特間目が、0.19ル彊、1時間目
が0.2!A/*で良い活性持続性を示しえ。
実施例−5
(重合)
アンカー型攪拌翼Oついた、1羞のオートクレーブを十
分に乾燥、窒素置換し良。十分に乾燥し、トリメチルア
ルミニウム処理を施した後にヘプタン洗浄し、さらに%
減圧乾燥を行つ九、ヰ均粒径840μのポリエチレンパ
ウダー70tを充填し、次いで、実施例−1で調製した
触媒溶液2.51(0,16mmojL)を添加し、こ
れに水素18001−人を導入し、さらにエチレンを導
入して、重合槽圧を8敵−GK保ち、60℃で3時間重
合させた。
分に乾燥、窒素置換し良。十分に乾燥し、トリメチルア
ルミニウム処理を施した後にヘプタン洗浄し、さらに%
減圧乾燥を行つ九、ヰ均粒径840μのポリエチレンパ
ウダー70tを充填し、次いで、実施例−1で調製した
触媒溶液2.51(0,16mmojL)を添加し、こ
れに水素18001−人を導入し、さらにエチレンを導
入して、重合槽圧を8敵−GK保ち、60℃で3時間重
合させた。
その結果、ポリマーの重量増加が14.Of″′cT。
つ九。分子量は、GPCより初めに使用し九ペットのポ
リエチレンをさしひいて、M!13.lX10’程度と
推定された。
リエチレンをさしひいて、M!13.lX10’程度と
推定された。
実施例−6
(重合)
充分IC1i集置換し九冥施例−1で使用し九オートク
レーブに精製トルエン5oosnを導入し、実施例−1
で用いた触媒溶液sm (0,32mmoj )を添加
し、これに水素600m1、プロピレンを導入し、圧力
61Gで60℃で3時間重合させ九。
レーブに精製トルエン5oosnを導入し、実施例−1
で用いた触媒溶液sm (0,32mmoj )を添加
し、これに水素600m1、プロピレンを導入し、圧力
61Gで60℃で3時間重合させ九。
重合終了後、溶媒を留去して、1.Ofの重合体を得た
。IR,GPCよシ、分子量toes程度のアタクテイ
クポツプロピレンであつ九。
。IR,GPCよシ、分子量toes程度のアタクテイ
クポツプロピレンであつ九。
実施例−7
(触媒の製造)
十分く窒素置換した攪拌翼材のs o o sz、iの
フラスコに2−(シクロペンタジェニル)−2−フルオ
レニルプロパン、s 、Os l1ld と精製TI(
F100密羞を入れ、−78℃に冷却して、n−ブチル
9?ウム1.6Mヘチナン溶液 6.S輌1を滴下し良
。室温まで温度を上昇させ、6時間反応させ九。
フラスコに2−(シクロペンタジェニル)−2−フルオ
レニルプロパン、s 、Os l1ld と精製TI(
F100密羞を入れ、−78℃に冷却して、n−ブチル
9?ウム1.6Mヘチナン溶液 6.S輌1を滴下し良
。室温まで温度を上昇させ、6時間反応させ九。
これに、1.40[)無水塩化ルテチウムを0℃で徐々
に加え、8時間還流した。
に加え、8時間還流した。
反応終了後、10℃以下の温度で溶媒を減圧留去し九。
これに精製ジエチルエーテル100鯛1を加え攪拌し死
後に、再び10℃以下の温度で溶媒を減圧留去した。こ
れを2度繰シ返した。
後に、再び10℃以下の温度で溶媒を減圧留去した。こ
れを2度繰シ返した。
得られた生成物に精製トルエン100講1を加え0’C
Kて、ビスFリメチルνツルメチルリチウム・、11m
Mジエチルエーテル溶液5%、9mlを加え8時間反応
させた。
Kて、ビスFリメチルνツルメチルリチウム・、11m
Mジエチルエーテル溶液5%、9mlを加え8時間反応
させた。
反応生成物の溶媒を10℃以下の温度で減圧留去した後
に、残漬をトルエンで抽出し、窒素雰囲気KF遇した。
に、残漬をトルエンで抽出し、窒素雰囲気KF遇した。
得られた生成物は、O、OX 1mmoA−Lm/mA
−トルエンの触媒溶液であった。
−トルエンの触媒溶液であった。
(重合)
実施例−1で用いたのと同じIAオートクレーブを十分
に窒素置換した後に、精製シクロヘキチンs o 01
111を導入し1次いで、窒素雰囲気下に上記テ得た触
媒溶液、5sd(0,0!S5mmo羞)を添加し、水
素1800s+s、i、エチレンを導入して、重合槽圧
をII klAd Gに保ち、60℃にて3時間重合さ
せ九。
に窒素置換した後に、精製シクロヘキチンs o 01
111を導入し1次いで、窒素雰囲気下に上記テ得た触
媒溶液、5sd(0,0!S5mmo羞)を添加し、水
素1800s+s、i、エチレンを導入して、重合槽圧
をII klAd Gに保ち、60℃にて3時間重合さ
せ九。
その結果、4,5t1りボッエチレンが得られた、生成
物の分子量はMmLIIX10’、Mn4.i!X10
’、9価は2.07であった。
物の分子量はMmLIIX10’、Mn4.i!X10
’、9価は2.07であった。
実施例−8
(触媒の製造)
実施例−7と同様にして、十分窒素置換した攪11付3
0omAのフラスコに、ビス(インデニル)ジメチルシ
ラン、4.9mm−と精製THF 100mAを入れ、
−78℃に冷却して、n−°ブチルリチウム1.6Mへ
キチン溶液、6.21慣1を滴下した。
0omAのフラスコに、ビス(インデニル)ジメチルシ
ラン、4.9mm−と精製THF 100mAを入れ、
−78℃に冷却して、n−°ブチルリチウム1.6Mへ
キチン溶液、6.21慣1を滴下した。
室温まで温度を上昇させ、4時間反応させた。
これに、1.23fO無水塩化ネオジムを室温で徐々に
加え、6時間還流させた。
加え、6時間還流させた。
反応終了後、10℃以下の温度で溶媒を減圧留去した。
これに精製ジエチルエーテル100鋼1を加え攪拌し丸
後に、再び10℃以下の温度で溶媒を減圧留去した。と
れを2度繰υ返した。
後に、再び10℃以下の温度で溶媒を減圧留去した。と
れを2度繰υ返した。
得られた生成物に精製トルエン80finを加え、0℃
にてビストリメチルシワルメチルリチウム0.56mM
ジエチルエーテル溶液11.lls+sfiを加え6時
間反応させた。
にてビストリメチルシワルメチルリチウム0.56mM
ジエチルエーテル溶液11.lls+sfiを加え6時
間反応させた。
反応生成物の溶媒を10℃以下の温度で減圧留去した後
に、残渣をトルエンで抽出、窒素雰囲気にV過した。
に、残渣をトルエンで抽出、窒素雰囲気にV過した。
得られた溶液を、水素雰囲気下、1#/jG で20℃
、2時間攪拌した。
、2時間攪拌した。
得られた触媒溶液の濃度は、0.017mmoj −N
d/電−トルエンであった。
d/電−トルエンであった。
(重合)
実施例−7と同様にして、十分に窒素置換したILのオ
ートクレーブに精製トルエン300−を導入し、次いで
窒素雰囲気下に上記実施例−7で調製した触媒溶液5m
jL(0,085mmojりを添加し、エチレンを導入
して、重合槽圧を6 kl/d Gに保ち、40℃にて
2時間重合させた。
ートクレーブに精製トルエン300−を導入し、次いで
窒素雰囲気下に上記実施例−7で調製した触媒溶液5m
jL(0,085mmojりを添加し、エチレンを導入
して、重合槽圧を6 kl/d Gに保ち、40℃にて
2時間重合させた。
その結果、0.5ftのポリエチレンが得られた。
得られたポリマーは、M!11.98X10’、Mn4
.89X1G、Q値が2.47であった。
.89X1G、Q値が2.47であった。
実施例−9
(触媒の製造)
実施例−8において5 m moj!のビスインデニル
ジメチルシランを同量の1.2ビスインデニルエタンと
変更して使用した以外は、実施例−8と同様に触媒を調
製した。
ジメチルシランを同量の1.2ビスインデニルエタンと
変更して使用した以外は、実施例−8と同様に触媒を調
製した。
得られた触媒溶液の濃度は0.036mmon −Nd
Z網羞−トルエンであった。
Z網羞−トルエンであった。
(重合)
実施例−8において、使用した触媒を上記で調製した触
媒溶液をS−用い、重合時間を1時間とした以外は実施
例−7と同様に行なった。
媒溶液をS−用い、重合時間を1時間とした以外は実施
例−7と同様に行なった。
その結果、8.8tのポリエチレンが得られた。
得られたポリマーは、Mn1.76X1G’、Mn8.
0OXIO、Q値は3.40であっ九。
0OXIO、Q値は3.40であっ九。
実施例−10
(重合)
十分に乾燥した攪拌翼材1.51オートクレーブの系内
雰囲気をエチレンで置換した0次いで、精製)ルzy5
G+)ffilを導入し1.温度を150 ’CG’C
昇湿した。エチレンをl! Mal G tで導入し、
さらに実施例−8で製造した触媒を20−を添加し11
50℃でエチレン圧1 絡−Gのちとに20分間重合を
行なった。
雰囲気をエチレンで置換した0次いで、精製)ルzy5
G+)ffilを導入し1.温度を150 ’CG’C
昇湿した。エチレンをl! Mal G tで導入し、
さらに実施例−8で製造した触媒を20−を添加し11
50℃でエチレン圧1 絡−Gのちとに20分間重合を
行なった。
結果、5.6fのポリエチレンが得られた。生成物の分
子量は、Mfi!、71X1G”、Mn4jSXIO”
、Q値は1.57であった。
子量は、Mfi!、71X1G”、Mn4jSXIO”
、Q値は1.57であった。
Claims (2)
- (1)下記A、B及びCの構成要素、 A:炭化水素もしくはケイ素原子を介して結合した、少
なくとも一方が縮環シクロペンタジエニル基であり、他
方がシクロペンタジエニル系の置換基を有する置換基で
あること、B:水素原子、アルキル基及びアリール基か
ら選ばれる置換基を有すること、 C:周期律表の原子番号57〜71のランタニド系列の
金属から選ばれる3価の金属原 子を有すること、 を有する化合物からなる希土類触媒の存在下、一般式C
H_2=CH−R(ここでRは水素原子若しくは炭素数
1〜8の炭化水素残基を示す)で表わされるオレフィン
を重合することを特徴とするポリオレフィンの製造法。 - (2)下記成分aと成分cとの接触生成物に下記成分b
を接触させて得られた反応生成物の存在下、一般式CH
_2=CH−R(ここでRは水素原子若しくは炭素数1
〜50炭化水素残基を示す)で表わされるオレフィンを
重合することを特徴とするポリオレフィンの製造法。 成分a:炭化水素もしくはケイ素原子を介して結合した
、少なくとも一方が縮環シクロペンタジエニル基であり
、他方がシクロペンタジエニル系の置換基である2価の
置換基を有する化合物のアルカリ金属塩若しくはアルカ
リ土類金属塩、 成分b:アルキル基及びアリール基から選ばれる置換基
を有するアルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物、 成分c:周期律表の原子番号57〜71のランタニド系
列の金属から選ばれる3価の金属のハロゲン化物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29030889A JP2817274B2 (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | ポリオレフインの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29030889A JP2817274B2 (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | ポリオレフインの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03152105A true JPH03152105A (ja) | 1991-06-28 |
| JP2817274B2 JP2817274B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=17754426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29030889A Expired - Fee Related JP2817274B2 (ja) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | ポリオレフインの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2817274B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8673435B2 (en) | 2010-07-06 | 2014-03-18 | Tungaloy Corporation | Coated cBN sintered body tool |
| US8765272B2 (en) | 2009-03-10 | 2014-07-01 | Tungaloy Corporation | Cermet and coated cermet |
| US8784977B2 (en) | 2009-06-22 | 2014-07-22 | Tungaloy Corporation | Coated cubic boron nitride sintered body tool |
| US8999531B2 (en) | 2010-04-16 | 2015-04-07 | Tungaloy Corporation | Coated CBN sintered body |
-
1989
- 1989-11-08 JP JP29030889A patent/JP2817274B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8765272B2 (en) | 2009-03-10 | 2014-07-01 | Tungaloy Corporation | Cermet and coated cermet |
| US8784977B2 (en) | 2009-06-22 | 2014-07-22 | Tungaloy Corporation | Coated cubic boron nitride sintered body tool |
| US8999531B2 (en) | 2010-04-16 | 2015-04-07 | Tungaloy Corporation | Coated CBN sintered body |
| US8673435B2 (en) | 2010-07-06 | 2014-03-18 | Tungaloy Corporation | Coated cBN sintered body tool |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2817274B2 (ja) | 1998-10-30 |
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