JPH03153544A - 希土類元素ドープガラスの製造方法 - Google Patents

希土類元素ドープガラスの製造方法

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JPH03153544A
JPH03153544A JP29425989A JP29425989A JPH03153544A JP H03153544 A JPH03153544 A JP H03153544A JP 29425989 A JP29425989 A JP 29425989A JP 29425989 A JP29425989 A JP 29425989A JP H03153544 A JPH03153544 A JP H03153544A
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哲弥 酒井
Tetsuo Nozawa
哲郎 野澤
Akira Wada
朗 和田
Ryozo Yamauchi
良三 山内
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    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01413Reactant delivery systems
    • C03B37/01433Reactant delivery systems for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the porous glass preform
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/30Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
    • C03B2201/34Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、希土類元素ドープガラスの製造方法に関し
、特に希土類元素が均一にドープされたガラスを提供可
能としたものである。
[従来の技術] 従来、希土類元素ドープガラスの製造方法として以下の
ような方法が用いられていた。
まずVAD法等によりガラス微粒子が心棒の先端部に堆
積されてなるスート体を作成し、このスー4体を、希土
類元素が溶媒中に溶解されてなる溶液中に浸漬し、スー
ト体中に希土類元素を充分に含浸させる。ついで第2図
に示したような均熱炉2内で上記処理が施されたスート
体lに加熱乾燥処理を行う。さらにこの後に焼結処理を
施してスート体lを透明ガラス化し、かくして希土類元
素ドープガラスとすることができる。
[発明が解決しようとする課題] ところが上記従来方法においては、第2図に示したよう
に、希土類元素が含浸されたスート体■を鉛直方向に配
置して加熱乾燥処理を施すので、スート体1に含浸され
た希土類元素溶液か自重でスート体1の下部に集中する
。よってスート体lの下部の希土類元素の含浸濃度が高
くなり、希土類元素が長尺方向で均一濃度でドープされ
たガラスを得ることは困難であった。
この発明は上記課題を解決するためになされたものであ
って、希土類元素が均一濃度でドープされたガラスが得
られる製造方法を提供することを目的としている。
[課題を解決するだめの手段] この発明の希土類元素添加ガラスの製造方法は、ガラス
微粒子を心棒の先端もしくは外周に堆積させてなるスー
ト体を、希土類元素を溶解してなる希土類元素溶液中に
浸漬して、上記スート体中に希土類元素溶液を含浸せし
めた後、加熱乾燥させ、ついで焼結処理を施して希土類
元素ドープガラスを製造する方法において、希土類元素
溶液が含浸されたスート体の心棒を水平に保ち、かつ上
記心棒を中心軸として回転さけつつ加熱乾燥処理を施す
ことを解決手段とした。
[作用] 希土類元素溶液が含浸されたスート体の心棒を平行に保
ち、かつその℃・棒を中心軸として回転させつつ加熱乾
燥処理を施すようにし、スート体の特定部分が下方を向
かないようにした。
よって加熱乾燥処理工程中に希土類元素溶液が自重で特
定部分に集中することがなくなり、均一に含浸された状
態で乾燥させることができる。
以下、この発明の詳細な説明する。
まず通常のVAD法等により、スート体Iを作成する。
すなわち酸水素火炎中に四塩化ケイ素等の原料ガスを供
給し、火炎加水分解反応および熱酸化反応によりガラス
微粒子を発生させ、このガラス微粒子を心棒4の軸方向
に沿って付着させることによりスート体1を得る。ここ
でスート体1とは、心棒4の先端部もしくは外周にガラ
ス微粒子が堆積された多孔質母材を指呼している。また
上記原料ガスとして、四塩化ケイ素とともに、四塩化ゲ
ルマニウム、ふっ素等の屈折率調整用の各種ドーパント
ガスを適宜供給してもよい。
次に必要に応じて上記スート体lに加熱処理を施して、
スート体lの嵩密度を増加せしめても良い。加熱処理の
方法は特に限定されないが、たとえば均熱炉内にスート
体lを入れ、これを不活性ガス雰囲気中で回転させつつ
加熱する方法等を用いることができる。この加熱条件は
所望の嵩密度等に応じて適宜選択されるが、通常温度I
280〜1320℃、時間2〜6時間程度の条件で行い
、嵩密度0.4〜1.6 g/cm’程度のスート体1
が得られる条件を選択することが好ましい。ここでスー
ト体Iの嵩密度を上記範囲に限定したのは、0 、4 
g/co+’未満であると、スート体Iのクラックの発
生率が非常に高く、製品歩溜が低くなる不都合あり、ま
た1 、 6 g/cm’を越えるとスート体1への希
土類元素溶液の含浸が困難あるいは不可能となる欠点が
あるためである。
このようにスート体lの嵩密度を増加せしめると、希土
類元素溶液をスート体lに含浸させた後の乾燥工程にお
いて、クラック等の発生を減少させることができ、製品
歩溜を向上させることができる。
次に希土類元素溶液を用意する。希土類元素には、エル
ビウムの塩化物やネオジムの塩化物等を好適に用いるこ
とができるが、得られるガラスの目的、用途等に応じて
適宜選択される。溶媒としては水に塩酸を添加してなる
塩酸水溶液を好適に用いることができる。塩酸濃度は上
記希土類元素塩化物を完全に溶解可能であればよく、た
とえば水300cIIlffに35wL%塩酸を1〜5
C113程度添加してなる濃度である。またこの溶液中
の希土類元素塩化物の濃度は、ガラスへの高濃度ドープ
を可能とするように希土類元素塩化物が完全に溶解し得
る濃度であれば高い程良く、2〜10wt%程度が好ま
しい。
この希土類元素溶液中に上記スート体Iを浸漬し、スー
ト体l中に希土類元素溶液を含浸させる。
含浸は、温度20〜25℃で10〜100時間程度行い
、スート体1に溶液としてlO〜200 cra3程度
含浸させる。ここで含浸された希土類元素は、塩化物あ
るいはイオンの形態をとっているものと考えられる。
次にこの含浸後のスート体lを乾燥させる。この乾燥工
程は第1図に示したような横型均熱炉3内で行なわれる
ことが好ましい。この横型均熱炉3は、加熱乾燥処理を
施すスート体1の心棒4を水・Lに収容し、かつスート
体1の心棒4を中心軸として回転させつつ加熱乾燥を行
うものである。
この横型均熱炉3内は、窒素またはアルゴン等の不活性
ガスにより満たされている。この加熱乾燥処理の条件は
特に限定されるものではないが、たとえば均熱炉3内へ
の乾燥窒素ガス流量20Q/分、温度100℃、スート
体1の回転6 Q rpm、処理時間72時間などとす
ることができる。
またスート体1の回転速度は10〜I OOrpm程度
が好ましい。IOrpm未満であると、含浸された希土
類元素溶液が偏り、またI OOrpmより大きいと遠
心力により希土類元素溶液がスート体1の外周部分に偏
るためである。
上記加熱乾燥処理の後、ゾーン焼結炉内にてスート体1
の脱水および焼結を行い、スート体1を透明ガラス化す
る。まず脱水工程においては、ゾーン焼結炉内を0.2
%程度の濃度で塩素ガスを添加した不活性ガス雰囲気と
し、温度1000℃程度で2〜3時間の処理とする。
また焼結工程においては、上記脱水の後、ゾーン焼結炉
内への塩素ガスの供給を中止し、不活性ガス雰囲気中で
引き続き加熱を行う。炉内の温度は1500〜1550
℃程度であり、スート体!が完全に透明ガラス化するま
で行う。
このような製造方法によれば、加熱乾燥処理工程におい
て希土類元素溶液が含浸されたスート体1の心棒4が水
平に保たれ、かつ心棒4を中心軸として回転されている
ので、スート体1の一定箇所が下方に固定されることが
なくなり、含浸された希土類元素溶液が自重で一箇所に
集中することがなくなる。よってガラス中に均一・濃度
で希土類元素をドープすることかできる。
[実施例] (実施例) 通常のVAD法により、純粋石英からなるスート体を作
成した。
ヘリウムガス雰囲気とされた均熱炉内に上記スート体を
入れ、1000℃にて3時間の加熱処理を施した。この
加熱処理後のスート体の嵩密度は0 、45 g/cm
’であった。
4.5gのE rC(!z ” 0.5 Htoと1 
、8 am’のHC(とを純水300 c+a’中に溶
解せしめ、Erを含存した希土類元素溶液とした。この
希土類元素溶液中にL記スート体を18時間浸漬させて
スート体中に希土類元素を充分に含浸させた。
ついで上記スート体を第1図に示したと同様の均熱炉内
に入れ、加熱乾燥処理を施した。この加熱乾燥処理条件
は温度100℃、窒素供給1i20Q/分、スート体の
回転速度60 rpm、処理時間72時間とした。
以上のような加熱乾燥処理が施されたスート体に、VA
D法で通常用いられる脱水、焼結処理を施して透明ガラ
ス化を行い、希土類元素ドープガラスとした。
このようにして得られた希土類元素ドープガラスのhm
および下部からそれぞれサンプルを採取し、S I M
 Sにより各サンプルのE「のドープ量を調べたところ
、両者とらにl OOppmであり、均一濃度でErが
ドープされていることが確認できた。
(比較例) 加熱乾燥処理工程にて第2図に示したような均熱炉を用
いた以外は、上記実施例と全く同様にして希土類元素ド
ープガラスを製造した。
上記のようにして得られた希土類元素ドープガラスの上
部および下部からそれぞれサンプルを採取し、SIMS
により各サンプルのErのドープ量を調べたところ、上
部のサンプルでは80ppm、下部のサンプルでは12
0 ppmとなっており・Erのドープ濃度に分布が生
じた。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明の希土類元素添加ガラス
の製造方法は、希土類元素溶液が含浸されたスート体の
心棒を水平に保ち、かつ上記心棒を中心軸として回転さ
せつつ加熱乾燥処理を施すものであるので、スート体に
含浸された希土類元素溶液が加熱乾燥処理時に、自重に
より特定の一箇所に集中することがなくなり、希土類元
素のドープ濃度が均一なガラスを得ることができる。
またこの発明の製造方法によって得られた希土類元素ド
ープガラスを光ファイバのコアとすれば、光ファイバの
長尺方向に沿って希土類元素が均一にドープされた希」
−類元素ドープ光ファイバを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の製造方法において実施されるスート
体の加熱乾燥処理方法の一例を示す概略構成図であり、
第2図は従来のVAD法による製造方法において実施さ
れる加熱乾燥処理方法の例を示した概略構成図である。 l・・スート体、 3 横型均熱炉、 4・・・心棒。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ガラス微粒子を心棒の先端もしくは外周に堆積させてな
    るスート体を、希土類元素を溶解してなる希土類元素溶
    液中に浸漬して、上記スート体中に希土類元素溶液を含
    浸せしめた後、加熱乾燥させ、ついで焼結処理を施して
    希土類元素ドープガラスを製造する方法において、 希土類元素溶液が含浸されたスート体の心棒を水平に保
    ち、かつ上記心棒を中心軸として回転させつつ加熱乾燥
    処理を施すことを特徴とする希土類元素ドープガラスの
    製造方法
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US8783906B2 (en) 2010-04-16 2014-07-22 Evolucia, Inc. Solid state outdoor overhead lamp assembly

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