JPH03153664A - 芳香族ジチオールの製造方法 - Google Patents
芳香族ジチオールの製造方法Info
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- JPH03153664A JPH03153664A JP29268989A JP29268989A JPH03153664A JP H03153664 A JPH03153664 A JP H03153664A JP 29268989 A JP29268989 A JP 29268989A JP 29268989 A JP29268989 A JP 29268989A JP H03153664 A JPH03153664 A JP H03153664A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、芳香族ジチオールのVJ造法、さらに詳しく
は、有機溶媒の存在下に、芳香族ジスルホニルクロリド
を還元して芳香族ジチオールを得る方法に関する。
は、有機溶媒の存在下に、芳香族ジスルホニルクロリド
を還元して芳香族ジチオールを得る方法に関する。
(従来の技術)
芳香族ジチオールは、工業薬品、染料の中間体や高分子
材料の原料として広範な用途を有する非常に有用な化合
物であり、以下のような、芳香族ジスルホニルクロリド
の金属/鉱酸還元による製造法か知られている。
材料の原料として広範な用途を有する非常に有用な化合
物であり、以下のような、芳香族ジスルホニルクロリド
の金属/鉱酸還元による製造法か知られている。
亜鉛を用いる例として
■ソ連特許第499261号
■J、 Aaler、 Chew、 Soc、 、73
.I 097(1951) 錫を用いる例として ■J 、 I ndian、 Chew、 Soc、
、33.812(+956) ■J、 Pharm、 Soc、 Japan、
、69.403(+949) しかし、これらの方法は、いずれも収率や転化率が低い
、過剰の還元剤を必要とする、高純度の製品が得られな
い、容積効率が悪いなどの欠点を有しているため工業的
規模で実施するのに適当な方法とはいい難い。先に本出
願人は、芳香族ジスルホニルクロリドから芳香族ジチオ
ールを得るに際し、−旦ジスルフィン酸にし、これを亜
鉛/塩酸還元することにより収率よく製造する方法を特
許出願した(特願平1−147513号)。この方法は
生成物の収率の点で優れたものであるが、芳香族スルフ
ィン酸を反応液から分離しなければならず、操作の繁雑
性分離の際の生成物の損失の点で未だ改良の余地がある
。
.I 097(1951) 錫を用いる例として ■J 、 I ndian、 Chew、 Soc、
、33.812(+956) ■J、 Pharm、 Soc、 Japan、
、69.403(+949) しかし、これらの方法は、いずれも収率や転化率が低い
、過剰の還元剤を必要とする、高純度の製品が得られな
い、容積効率が悪いなどの欠点を有しているため工業的
規模で実施するのに適当な方法とはいい難い。先に本出
願人は、芳香族ジスルホニルクロリドから芳香族ジチオ
ールを得るに際し、−旦ジスルフィン酸にし、これを亜
鉛/塩酸還元することにより収率よく製造する方法を特
許出願した(特願平1−147513号)。この方法は
生成物の収率の点で優れたものであるが、芳香族スルフ
ィン酸を反応液から分離しなければならず、操作の繁雑
性分離の際の生成物の損失の点で未だ改良の余地がある
。
また、一般に、芳香族ジスルホニルクロリドは、還元さ
れる際、分子間で結合した中間体を生じ、オリゴマーま
たは高分子となり溶媒に解は難いエマルジョンを形成す
る。そのため亜鉛が有効に使われず、鉱酸と反応して無
駄に消費されるばかりでなく、高度に高分子化した中間
体が析出した場合には撹拌が困難となり大量の溶媒の添
加が必要となって、蕃しく容積効率を減じ、工業的生産
に不利となる。
れる際、分子間で結合した中間体を生じ、オリゴマーま
たは高分子となり溶媒に解は難いエマルジョンを形成す
る。そのため亜鉛が有効に使われず、鉱酸と反応して無
駄に消費されるばかりでなく、高度に高分子化した中間
体が析出した場合には撹拌が困難となり大量の溶媒の添
加が必要となって、蕃しく容積効率を減じ、工業的生産
に不利となる。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の第一の目的は、収率の高い芳香族ジチオール類
の製造法を提供することであり、第二の目的は、還元剤
の使用量を削減し、容積効率の良い芳香族ジチオール類
の製造法を提供することであり、第三の目的は、純度の
高い、着色の少ない高品質の芳香族ジチオールの製造法
を提供することである。
の製造法を提供することであり、第二の目的は、還元剤
の使用量を削減し、容積効率の良い芳香族ジチオール類
の製造法を提供することであり、第三の目的は、純度の
高い、着色の少ない高品質の芳香族ジチオールの製造法
を提供することである。
(課題を解決するための手段)
本発明者らは、前記した目的を達成するため鋭意検討を
重ねた結果、@量の鉛および/または鉛化合物の存在下
に亜鉛または錫と鉱酸を用いて芳香族ジスルホニルクロ
リドを還元すれば、前記従来技術の欠点を排除できるこ
とを見出し本発明に到達した。本発明の方法を実施する
ことにより反応液中には高分子化した中間体が生成せず
、また比較的低分子量の化合物を溶解した有機層と金属
が溶解した水層が分離して撹拌抵抗の非常に少ない反応
経路をたどる。その結果、還元反応が大きく促進され還
元効率が著しく向上し、高品質の芳香族ジチオールが得
られる等数々の浸れた効果がみられた。
重ねた結果、@量の鉛および/または鉛化合物の存在下
に亜鉛または錫と鉱酸を用いて芳香族ジスルホニルクロ
リドを還元すれば、前記従来技術の欠点を排除できるこ
とを見出し本発明に到達した。本発明の方法を実施する
ことにより反応液中には高分子化した中間体が生成せず
、また比較的低分子量の化合物を溶解した有機層と金属
が溶解した水層が分離して撹拌抵抗の非常に少ない反応
経路をたどる。その結果、還元反応が大きく促進され還
元効率が著しく向上し、高品質の芳香族ジチオールが得
られる等数々の浸れた効果がみられた。
すなわち本発明は、有機溶媒の存在下に、芳香族ジスル
ホニルクロリドを還元して芳香族ジチオールを得るに際
し、鉛および/または鉛化合物の存在下に亜鉛または錫
と鉱酸を用いて還元することを特徴とする芳香族ジチオ
ールの製造方法を提供するものである。
ホニルクロリドを還元して芳香族ジチオールを得るに際
し、鉛および/または鉛化合物の存在下に亜鉛または錫
と鉱酸を用いて還元することを特徴とする芳香族ジチオ
ールの製造方法を提供するものである。
本発明で用いられる芳香族ジスルホニルクロリドとして
は、例えば一般式(I)または(II):(式中、Rは
CI−Csのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子
または水素原子を、Xは0゜S、SCh、Stを、nは
1〜3の整数を示す)で表わされる化合物が挙げられる
。
は、例えば一般式(I)または(II):(式中、Rは
CI−Csのアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子
または水素原子を、Xは0゜S、SCh、Stを、nは
1〜3の整数を示す)で表わされる化合物が挙げられる
。
これらの具体ρjとしては、4,4°−ビスベンゼンス
ルホニルクロリド、4.4’−ビス(3−メチルベンゼ
ンスルホニルクロリド)、3.3″−ビス(4−メトキ
シベンゼンスルホニルクロリド)、4.4゛−オキシビ
スベンゼンスルホニルクロリド、4.4゛−オキシビス
(3−クロロベンゼンスルホニルクロリド)、4.4’
−チオビスベンゼンスルホニルクロリド、2,2°−オ
キシビス(5−tert−ブチルベンゼンスルボニルク
ロリド)、4,4−チオビス(3−ブロモベンゼンスル
ホニルクロリド)、4.4゛−スルボニルビスベンゼン
スルホニルクロリド、4.4−ジチオビスベンゼンスル
ホニルクロリド、4.4’−ジチオビス(3−メトキシ
ベンゼンスルホニルクロリド)、2.2°−ジチオビス
(5−tert−ブチルベンゼンスルホニルクロリド)
などが挙げられ、単離精製したものはもちろん、単離す
ることなく該芳香族ジスルホニルクロリドを含んだ塩素
化反応液をそのまま使用することらできる。例えば、公
知のスルホニルクロリド合成法(特公昭51−1502
9号、特公平1−28742号等)による反応液が使用
できる。
ルホニルクロリド、4.4’−ビス(3−メチルベンゼ
ンスルホニルクロリド)、3.3″−ビス(4−メトキ
シベンゼンスルホニルクロリド)、4.4゛−オキシビ
スベンゼンスルホニルクロリド、4.4゛−オキシビス
(3−クロロベンゼンスルホニルクロリド)、4.4’
−チオビスベンゼンスルホニルクロリド、2,2°−オ
キシビス(5−tert−ブチルベンゼンスルボニルク
ロリド)、4,4−チオビス(3−ブロモベンゼンスル
ホニルクロリド)、4.4゛−スルボニルビスベンゼン
スルホニルクロリド、4.4−ジチオビスベンゼンスル
ホニルクロリド、4.4’−ジチオビス(3−メトキシ
ベンゼンスルホニルクロリド)、2.2°−ジチオビス
(5−tert−ブチルベンゼンスルホニルクロリド)
などが挙げられ、単離精製したものはもちろん、単離す
ることなく該芳香族ジスルホニルクロリドを含んだ塩素
化反応液をそのまま使用することらできる。例えば、公
知のスルホニルクロリド合成法(特公昭51−1502
9号、特公平1−28742号等)による反応液が使用
できる。
本発明の金属/鉱酸による還元では、微mの鉛および/
または鉛化合物の存在下に亜鉛または錫と鉱酸により実
施することを特徴とするが、微量の鉛および/または鉛
化合物は、反応液にあらかじめ添加しておいて、その後
、亜鉛または錫を添加しても良いし、亜鉛または錫に混
入して添加してもよい。また不純物として鉛および/ま
たは鉛化合物を含有する亜鉛または錫を用いてもよい。
または鉛化合物の存在下に亜鉛または錫と鉱酸により実
施することを特徴とするが、微量の鉛および/または鉛
化合物は、反応液にあらかじめ添加しておいて、その後
、亜鉛または錫を添加しても良いし、亜鉛または錫に混
入して添加してもよい。また不純物として鉛および/ま
たは鉛化合物を含有する亜鉛または錫を用いてもよい。
鉛および/または鉛化合物の亜鉛または錫に対する割合
は、200=10000ppm、好ましくは500−5
000ppm、さらに好ましくは1000〜3000
ppmである。200 ppa+より少ない場合には鉛
および/または鉛化合物添加の効果が見られず、また1
10000ppより多くてもそれに見合う効果はみられ
ない。かえって反応液の毒性を増すこととなり後処理が
困難となるので好ましくない。
は、200=10000ppm、好ましくは500−5
000ppm、さらに好ましくは1000〜3000
ppmである。200 ppa+より少ない場合には鉛
および/または鉛化合物添加の効果が見られず、また1
10000ppより多くてもそれに見合う効果はみられ
ない。かえって反応液の毒性を増すこととなり後処理が
困難となるので好ましくない。
鉛化合物としては、塩化鉛、臭化鉛、硝酸鉛、硫酸鉛、
酢酸鉛のような鉛塩や酸化鉛などが用いられる。かかる
鉛および/または鉛化合物の添加により、これらの不存
在下に還元を行った場合に比べて使用される亜鉛または
錫の量を1/2〜1/4に削減できるばかりでなく、鉱
酸の使用量の削減、反応時間の実質的短縮、目的物であ
るノチオールの収量の実質的増加をらたらすことができ
る。本反応に使用する鉱酸としては、塩酸、硫酸などが
あるが塩酸が好ましく用いられる。その使用量は理論値
の1.0〜1.8倍、好ましくは1.2〜1.5倍量の
fll囲である。
酢酸鉛のような鉛塩や酸化鉛などが用いられる。かかる
鉛および/または鉛化合物の添加により、これらの不存
在下に還元を行った場合に比べて使用される亜鉛または
錫の量を1/2〜1/4に削減できるばかりでなく、鉱
酸の使用量の削減、反応時間の実質的短縮、目的物であ
るノチオールの収量の実質的増加をらたらすことができ
る。本反応に使用する鉱酸としては、塩酸、硫酸などが
あるが塩酸が好ましく用いられる。その使用量は理論値
の1.0〜1.8倍、好ましくは1.2〜1.5倍量の
fll囲である。
本発明の還元反応の溶媒としては、ベンゼン、トルエン
、キシレン、モノクaロベンゼン、ジクロロベンゼン、
トリクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、二塩化エヂ
レン、りσロホルム、テトラクロロエチレン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素など公知の一般的に用いられ
る溶媒が使用できるが、還元反応の中間体である高分子
エマルジョンを可溶化させるためには芳香族炭化水素、
なかでもクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼンなどの芳香族ハロゲン化炭化水素が好適に用
いられる。
、キシレン、モノクaロベンゼン、ジクロロベンゼン、
トリクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素、二塩化エヂ
レン、りσロホルム、テトラクロロエチレン、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素など公知の一般的に用いられ
る溶媒が使用できるが、還元反応の中間体である高分子
エマルジョンを可溶化させるためには芳香族炭化水素、
なかでもクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロ
ロベンゼンなどの芳香族ハロゲン化炭化水素が好適に用
いられる。
本発明の方法で製造できる芳香族ジヂオールとしては、
先の芳香族ジスルホニルクロリドを原料としたもの、即
ち4.4°−ビスベンゼンチオール、4.4°−ビス(
3−メチルベンゼンチオール)、3.3°−ビス(4−
メトキンベンゼンチオール)、4.4°−オキシビスベ
ンゼンチオール、4.4′オキシビス(3−クロロベン
ゼンチオール)、4゜4°−チオビスベンゼンチオール
、2,2°−オキシビス(5−tert−ブチルベンゼ
ンチオール)、44°−チオビス(3−ブロモベンゼン
チオール)、4.4°−スルホニルビスベンゼンヂオー
ル、1゜4−ベンゼンジチオール、2−メトキシ−1,
4−ベンゼンジチオ−ル、4−tertブヂルー12−
ベンゼンジチオールなどが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。
先の芳香族ジスルホニルクロリドを原料としたもの、即
ち4.4°−ビスベンゼンチオール、4.4°−ビス(
3−メチルベンゼンチオール)、3.3°−ビス(4−
メトキンベンゼンチオール)、4.4°−オキシビスベ
ンゼンチオール、4.4′オキシビス(3−クロロベン
ゼンチオール)、4゜4°−チオビスベンゼンチオール
、2,2°−オキシビス(5−tert−ブチルベンゼ
ンチオール)、44°−チオビス(3−ブロモベンゼン
チオール)、4.4°−スルホニルビスベンゼンヂオー
ル、1゜4−ベンゼンジチオール、2−メトキシ−1,
4−ベンゼンジチオ−ル、4−tertブヂルー12−
ベンゼンジチオールなどが挙げられるが、これらに限定
されるものではない。
(実施例)
つぎに実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明する。
実施例1
4.4°−チオビスベンゼンスルホニルクロリド76.
79(0,2モル)を35%塩&24409およびモノ
クロルベンゼン609中に加えた。撹拌しながら金属鉛
0.249を添加し、40〜80℃で実質的に鉛を含ま
ない亜鉛末125.29C1,92モル)を4時間かけ
て添加した。次に80〜90℃で2時間熟成した後、熱
時分液した。モノクロルベンゼン層を7%の塩酸409
で洗浄した後、減圧蒸留し、純度99.5%の4.4°
−チオビスベンゼンチオール48.69<収率97.2
%)を得た。
79(0,2モル)を35%塩&24409およびモノ
クロルベンゼン609中に加えた。撹拌しながら金属鉛
0.249を添加し、40〜80℃で実質的に鉛を含ま
ない亜鉛末125.29C1,92モル)を4時間かけ
て添加した。次に80〜90℃で2時間熟成した後、熱
時分液した。モノクロルベンゼン層を7%の塩酸409
で洗浄した後、減圧蒸留し、純度99.5%の4.4°
−チオビスベンゼンチオール48.69<収率97.2
%)を得た。
実施例2〜5
種々の芳香族ジスルホニルクロリドを、表−1記載の条
件で実施例1と同様に還元反応、後処理を行って相当す
る芳香族ジチオールを得た。結果を併せて表−1に示す
。
件で実施例1と同様に還元反応、後処理を行って相当す
る芳香族ジチオールを得た。結果を併せて表−1に示す
。
実施例6
4.4′−チオビスベンゼンスルホニルクロリド76.
79(0,2モル)を35%塩酸559g、テトラクロ
ロエチレン1009中に加えた。撹拌しながら硫酸鉛0
.94gを添加し、40〜80℃で粉末錫256.49
(2,16モル)を4時間かけて添加した。その後、8
0〜90℃で2時間熟成した。
79(0,2モル)を35%塩酸559g、テトラクロ
ロエチレン1009中に加えた。撹拌しながら硫酸鉛0
.94gを添加し、40〜80℃で粉末錫256.49
(2,16モル)を4時間かけて添加した。その後、8
0〜90℃で2時間熟成した。
実施例1と同様に後処理を行って4.4゛−チオビスベ
ンゼンチオールを47.29(収率94.4%)を得た
。
ンゼンチオールを47.29(収率94.4%)を得た
。
比較例1
44°−チオビスベンゼンスルホニルクロリド76.7
9(0,2モル)に二塩化エチレン1OO9と35%塩
酸14009と実質的に鉛を含まない亜鉛末353.2
9(5,4モル)を添加し、25〜75℃で4時間還元
反応を行った。その後2時間熟成し、反応を終了した。
9(0,2モル)に二塩化エチレン1OO9と35%塩
酸14009と実質的に鉛を含まない亜鉛末353.2
9(5,4モル)を添加し、25〜75℃で4時間還元
反応を行った。その後2時間熟成し、反応を終了した。
反応液を実施例1と同様にして洗浄し、不溶性のタール
分を除いた後濃縮した。黄橙色に着色した純度87.3
%の・14°−チオビスベンゼンチオールを37.19
を収率74.1%で得た。
分を除いた後濃縮した。黄橙色に着色した純度87.3
%の・14°−チオビスベンゼンチオールを37.19
を収率74.1%で得た。
(発明の効果)
以上のごとく本発明によれば芳香族ジスルホニルクロリ
ドを微量の鉛および/または鉛化合物の存在下に亜鉛ま
たは錫を用いて還元するというきわめて簡単な操作によ
り、これまでにない高収率、高純度で効率よく芳香族ジ
チオールを得ることができる。
ドを微量の鉛および/または鉛化合物の存在下に亜鉛ま
たは錫を用いて還元するというきわめて簡単な操作によ
り、これまでにない高収率、高純度で効率よく芳香族ジ
チオールを得ることができる。
また、従来の還元法に比べ、金属、鉱酸の使用量を削減
でき金属塩を含む廃水処理量が大幅に低下するほか容積
効率が向上するなどの利点を有する。
でき金属塩を含む廃水処理量が大幅に低下するほか容積
効率が向上するなどの利点を有する。
Claims (9)
- (1)有機溶媒の存在下に、芳香族ジスルホニルクロリ
ドを還元して芳香族ジチオールを得るに際し、鉛および
/または鉛化合物の存在下に亜鉛または錫と鉱酸を用い
て還元することを特徴とする芳香族ジチオールの製造方
法。 - (2)鉛化合物が、塩化鉛、臭化鉛、硝酸鉛、硫酸鉛、
酢酸鉛、酸化鉛から選ばれた少なくとも1種である請求
項(1)記載の方法。 - (3)鉛および/または鉛化合物の亜鉛または錫に対す
る割合が200〜10000ppmである請求項(1)
記載の方法。 - (4)鉱酸が塩酸である請求項(1)記載の方法。
- (5)有機溶媒が芳香族炭化水素である請求項(1)記
載の方法。 - (6)芳香族炭化水素がモノクロロベンゼン、ジクロロ
ベンゼン、トリクロロベンゼン、ベンゼン、トルエン、
キシレンから選ばれた少なくとも1種である請求項(5
)記載の方法。 - (7)有機溶媒がハロゲン化炭化水素である請求項(1
)記載の方法。 - (8)ハロゲン化炭化水素が、二塩化エチレン、クロロ
ホルム、テトラクロロエチレン、四塩化炭素から選ばれ
た少なくとも1種である請求項(7)記載の方法。 - (9)芳香族ジスルホニルクロリドが下記一般式( I
)または(II): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、RはC_1〜C_5のアルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子または水素原子を、XはO、S、SO
_2、S_2を、nは1〜3の整数を示す)で表わされ
る化合物である請求項(1)記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29268989A JP2785876B2 (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 芳香族ジチオールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29268989A JP2785876B2 (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 芳香族ジチオールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03153664A true JPH03153664A (ja) | 1991-07-01 |
| JP2785876B2 JP2785876B2 (ja) | 1998-08-13 |
Family
ID=17785028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29268989A Expired - Fee Related JP2785876B2 (ja) | 1989-11-10 | 1989-11-10 | 芳香族ジチオールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2785876B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002085846A1 (fr) * | 2001-04-17 | 2002-10-31 | Japan Science And Technology Corporation | Polymercaptopolyphenyles et procede de synthese associe |
| WO2011114955A1 (ja) * | 2010-03-18 | 2011-09-22 | 住友精化株式会社 | 新規ジアリールスルホン化合物、及びその製造方法 |
| JP2011213711A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-27 | Sumitomo Seika Chem Co Ltd | ジメルカプトジアリールスルホン化合物の製造方法 |
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| WO2023176299A1 (ja) * | 2022-03-14 | 2023-09-21 | スガイ化学工業株式会社 | 1,6-ナフタレンジチオール及びその製造方法 |
-
1989
- 1989-11-10 JP JP29268989A patent/JP2785876B2/ja not_active Expired - Fee Related
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