JPH03153704A - 流動層型気相重合装置のガス分散板 - Google Patents

流動層型気相重合装置のガス分散板

Info

Publication number
JPH03153704A
JPH03153704A JP1294455A JP29445589A JPH03153704A JP H03153704 A JPH03153704 A JP H03153704A JP 1294455 A JP1294455 A JP 1294455A JP 29445589 A JP29445589 A JP 29445589A JP H03153704 A JPH03153704 A JP H03153704A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
distribution plate
gas distribution
fluidized bed
flow passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1294455A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2703813B2 (ja
Inventor
Toru Masaki
徹 正木
Setsuo Kono
節男 河野
Yuzo Saito
斎藤 悠三
Hirozo Ijiri
井尻 博三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Holdings Corp
Original Assignee
Showa Denko KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Showa Denko KK filed Critical Showa Denko KK
Priority to JP1294455A priority Critical patent/JP2703813B2/ja
Priority to US07/696,800 priority patent/US5599513A/en
Priority to EP91107631A priority patent/EP0512147B1/en
Priority to DE69106496T priority patent/DE69106496T2/de
Publication of JPH03153704A publication Critical patent/JPH03153704A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2703813B2 publication Critical patent/JP2703813B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/38Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with fluidised bed containing a rotatable device or being subject to rotation or to a circulatory movement, i.e. leaving a vessel and subsequently re-entering it
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/44Fluidisation grids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は流動層型気相重合装置に係り、特にオレフィン
類の流動層型気相重合に適切なガス分散板に関するもの
である。
〔従来の技術〕
高活性触媒を用いるオレフィン類の重合分野においては
重合後の触媒除去操作及び低分子量重合体除去操作の省
略できる気相重合法特に流動層型重合装置による気相重
合法が近年、広く利用されている。
図4は流動層型反応装置によってオレフィン類の重合反
応を行う場合の代表的な例である。反応器3にはオレフ
ィンガスまたはオレフィンを含むガスを均一に流動層部
9に供給するガス分散板4が取り付けである。反応器下
部のガス吸込部5より導入されたガスは、ガス分散板4
により均一に分散されて上昇し、流動層部9内の重合体
粒子を流動化させ、ここで重合反応が進行する。流動層
部9より上昇した未反応ガスは反応器上部のガス吐出部
6より取出され、冷却された後、再びガス吸込部5に送
られ循環使用される。
ガス分散板4により、ガスが均一に分散されないと、流
動層部9の撹拌、混合が不均一となり、流動層部、特に
反応器側壁とガス分散板4で形成される流動層のコーナ
ー部分10において、重合熱の除去が不十分となり、重
合体の塊りや反応器内面への重合体の付着等のトラブル
が発生し、運転停止や製品品質悪化に到る危険性が高い
ガス分散板の構造としては、従来公知の多孔板の他、上
記問題点改善のために多孔板の上に各種キャップを取付
けたものが提案されている。例えば、特開昭58−15
4702号公報では三角錐形キャップ、特開昭58−1
98205号公報では仕切壁を利用したキャップ、特開
昭58−201802号公報ではバブルキャップ、特開
昭et −106808号公報ではアングルキャップが
それぞれ提案又は例示されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ガス分散板として孔径の小さなものを用いると、重合体
粒子のわずかな付着により、孔を通過するガス流量が大
きく低下し、目詰りを発生しやすい。
また、反応器上部のガス吐出部6より取出された重合体
微粉を含む未反応ガスが循環使用される際、重合体微粉
がガス分散板を通過できずガス分散板を下から詰らせる
ことがある。ガス分散板の目詰りが発生すれば、重合装
置の長期運転継続が不可能となる。
ガス分散板として孔径の大きなものを用いると、上記、
目詰りの問題は、ある程度解消できるが下記に示す、2
つの別の問題が生じる。
第1の問題は、重合体粒子がガス分散板下部に落下し、
ガス分散板下部での壁への付着や塊りが発生することで
ある。
第2の問題は、孔と孔の間の距離即ちピッチが長くなり
孔と孔の間の部分に流動の悪い部分が生じることである
。目詰り及びガス分散板下部への落下を防止するために
は、孔1個当りのガス流量を一定量以上に保つ必要があ
るが、重合器に供給する全ガス量を一定として、孔径を
大きくした場合、孔1個当りのガス流量を多くすると、
ガス分散板の総孔数は少なくなり、その結果としてピッ
チが長くなる。ピッチが長くなるとガスを垂直上向きに
吹出す単純な多孔板では、ガス分散板直上の孔と孔の中
間部分にある重合体粒子をガスによって吹飛ばすことが
できず、該箇所で重合体のガス分散板への付着や塊りが
発生する。
上記の2つの問題を解決する手段として従来技術の項で
述べたように名札の上にキャップを設けたものが多(提
案されているが、これらの方法では、ギヤ110体がガ
ス分散板直上に於ける流動阻害物となり、付着・塊り発
生等のトラブルが生じ易い。
孔径の大小にかかわらず、反応器側壁とガス分散板で形
成される流動層のコーナー部分は、流動に対する摩擦の
大きい箇所であり、流動不良となり易い。上記と同様の
トラブル発生を防11.するためには、該箇所の流動を
良好に保つ必要がある。
本発明が解決しようとする課題は、上記のような重合体
粒子の付着・塊り発生などのトラブルを防止し、良好な
流動を保つためのガス分散板を提供することである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係るガス分散板は前記課題を解決するものであ
って、次のようなものである。
図1に示す円筒形または円すい台形のピース1は、円筒
形または円すい台形の棒の外側にらせん状の溝をつけた
ものである。ピースを隙間なくはめ込むことのできる孔
をガス分散板に開け、その孔にピースをはめ込むことに
より、ガス分散板にはらせん状のガス流路が形成される
このガス流路の大きさとして、相当直径は重合体粒子平
均径の5倍以上が必要で、5倍未満では、ガス分散板上
面及び下部の目詰りが発生し易い。
また、ガス流路の断面形状としては図2(b)に示す如
く角ばった部分のない形状とすると目詰りが生じにくい
ガス流路をらせん状にすると図1に示す水平方向と流路
のなす角θが小さくなり、がっ流路が曲がっているため
孔径が大きく、ガス流量が少ない場合でも重合体粒子は
ガス分散板下部へ落下しない。角度θとしては10〜4
0″が適切である。
らせん状の流路を通過したガスは分散板から斜め上方に
吹出し、しかも水平方向にも扇状に広がるため、ガスを
垂直上方に吹出す単純な多孔板と比較すると、分散板直
上の重合体粒子を吹飛ばす能力が高く、吹飛ばす範囲も
広いので、孔のピッチが長い場合でも、分散板直上の孔
と孔の中間部分に、重合体の付着・塊りが発生しない。
この効果を大きく発現させるためには、角度θとしてl
O〜40@特に10〜20@が好ましい。
ピースとガス分散板の厚さを同じにし、段差が生じない
ように製作すれば、完成したガス分散板は、−見、平板
にらせん状の孔を開けたような形となり、分散板上面、
下面ともに、平らなガス分散板となる。これにより、8
孔の上にキャップを設けた場合等に発生する、分散板直
上の流動阻害に起因する付着・塊り発生等のトラブルを
防止できる。
ピースはあらゆる向きに取付は可能であるため、ガスの
吹出し方向を、分散板の各箇所で様々に変化させること
ができる。
ガス分散板上の全体的なガスの流れとして、ガス分散板
上で旋回流を発生させるような方向に、ピースを取付け
ることが特に望ましい。旋回流を発生させることにより
、流動層全体の流動が均一なものとなる。また多少の塊
が発生したとしても、遠心力により、塊りを外周部にす
みやかに移動・旋回させ、塊りが大きく成長しないうち
に、排出管より糸外に排出することができる。
ガス分散板上の局所的なガスの流れとしては、孔と孔の
中間部分にその上流の孔がら出たガスが吹出し、該部分
に重合体粒子が滞留しないようにすると付着・塊り発生
等のトラブルの発生を防止できる。
反応器側壁とガス分散板で形成される流動層のコーナー
部分では、流動不良を生じ易いが、反応器側壁に近い箇
所のピースのガス吹出方向を、外向き即ち重合器の側壁
に向がう方向に近づけることにより、該コーナー部分の
流動が良好となり、付着・塊り発生等のトラブルを防止
できる。
また、ピース及びガス分散板をパフ仕上、電解研磨等に
より、その表面を平滑にすると、目詰り及び付着等のト
ラブル防止にH効である。
本発明のガス分散板は以上の如く、ガス吹出し孔の形状
及び取付方法に工夫を施し、孔の目詰り、ガス分散板下
部への重合体粒子の落下、重合体の反応器側面及びガス
分散板への付着・塊りの発生等を防止できるようにした
ものである。
〔作  用〕
粒子が孔を通過する場合、孔径が粒子径の一定倍数以上
の大きさでないと目詰りを生ずるのが通常である。ガス
分散板に生ずる目詰りに於いても同様の考え方が適用さ
れ、本発明の分散板についても、ガス流路の相当直径と
して、重合体粒子平均径の一定倍数以上が必要となる。
さらにピース及び分散板の表面仕上により、粒子が付着
しにくくなる。
本発明のガス分散板のらせん状流路と水平方向のなす角
度θが小さくかつ流路が曲がっているため、重合体粒子
がガス分散板下部方向に落下する妨げとなり、落下は起
こらない。
らせん状流路を通過して、分散板上面へ吹出し噂ガスは
角度θが小さいことに起因して分散仮置1・上を這うよ
うに流れた後上昇し、かつ、流路の出口形状により、水
平方向にも扇状に幅広く拡がる。
この作用により、分散板直上、特に、孔と孔の中間部分
の重合体が滞留しゃすい箇所の正合体粒子を、完全に吹
飛ばすため、分散板直上に於いて重合体の付着・塊り発
生等のトラブルを防止できる。
ピースとガス分散板の厚みを同じにして、段差が生じな
いようにしたガス分散板では、分散板上面及び下面の四
部に重合体粒子が滞留することを防ぎ、分散板上面に於
いては、表面の凹凸が重合体粒子のスムーズな流れの抵
抗となることを防いでいる。さらにピース及び分散板の
表面仕上により、重合体粒子の流れに対する抵抗を低く
抑えることができる。
ピースの取付は方向を変えて、孔と孔の中間部分や反応
器側壁とガス分散板で形成されるコーナー部分等の流動
不良の生じゃすい箇所に、ガスを吹付けることにより、
該箇所の重合体粒子を吹飛ばし、付着・塊り発生等のト
ラブルを回避できる。
ガス分散板上で旋回流を発生させる方向に、ピースを取
付けることにより、流動層全体として良好な流動を発現
することができる。また、重合体の塊りが発生した場合
、その塊りは、分散板の直上を、ガスの旋回流の遠心力
により、すみやかに外周方向へ移動し、反応器の側壁に
到達した後、側壁に沿って旋回する。反応器の側壁に到
達した塊りを側壁に設けられた排出管より、抜出すこと
により、塊りが重合器内に滞留することに起因する、運
転停止、製品品質悪化等のトラブル発生を防止できる。
〔実 施 例〕
表1に内径480φの流動層型気相重合装置を用いたプ
ロピレンの重合に於ける本発明の実施例を示す。
例1〜8は、ガス吹出し方向を旋回流を発生する方向と
、最外周と、その1列内側の列のピースのガス吹出し方
向を側壁寄り(反応器中心から放射状に外周へ向かう線
とガス吹出し方向のなす角(図3のφ)が105〜15
0度)に向けたものである。例1〜8については、塊り
の発生等の問題はなかった。
例9及び10は上記角度φを90度にしたもので、反応
器側壁とガス分散板で形成されるコーナー部分に塊りが
発生した。
例11及び12は、旋回流とせず、すべてのピースのガ
ス吹出し、方向を一定としたものである。上記コーナー
部分で、ガスの当たらない箇所に大きな塊りが発生した
例13及び14は、流路の相当径が小さいため、反応開
始直後にガス分散板に目詰りが発生し、運転停止した。
例15〜17はピースの厚さをガス分散板の厚さを小さ
くしピース部分を凹として行った例であるが、長時間の
運転後、反応器側壁近くに目詰りが起こり、塊りが発生
した。
〔効  果〕
本発明に係るガス分散板を使用することにより、流動層
型気相重合装置において、良好な流動が得られ、重合体
の付着や塊り発生のトラブルを防市することができる。
【図面の簡単な説明】
図1は円筒形(図1 (a))及び円すい台形(図1(
b))のピースをガス分散板の1つの孔にはめ込んだ断
面、図2(a)は円筒形ピースの正面図及び側面図、図
2 (b) 、 (c)は図2(a)のA−A’の流路
断面図の例、図3は旋回流を発生するガス分散板の平面
図、図4は流動層によって重合反応を行う場合の代表的
な例を示す。 1・・・ピース       2・・・ガス分散板3・
・・反応器       4・・・ガス分散板5・・・
ガス吸込部     6・・・ガス吐出部7・・・触媒
又はポリマー導入管 8・・・排出管       9・・・流動層部10・
・・反応器側壁とガス分散板で形成されるコーナー部分 図1 ((1)

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)外側にらせん状の溝を切った円筒形または円すい
    台形のピース1を平板2の多数の孔部にはめ込んだ構造
    からなる流動層型気相重合装置のガス分散板。
  2. (2)ピース1と平板2の厚さを同じにし、段差が生じ
    ないようにした請求項(1)記載のガス分散板。
  3. (3)ピース1の取付け方向を変えることにより、ガス
    の吹出し方向を自在に変えられるようにした請求項(1
    )記載のガス分散板。
  4. (4)ピース1をガス分散板上で旋回流を発生させる方
    向に配列した請求項(1)記載のガス分散板。
  5. (5)重合装置側壁とガス分散板で形成される流動層の
    コーナー部分にガスを吹き付けるような方向にピース1
    を取り付け、該部分での流動を良好なものとする請求項
    (1)記載のガス分散板。
JP1294455A 1989-11-13 1989-11-13 流動層型気相重合装置のガス分散板 Expired - Fee Related JP2703813B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1294455A JP2703813B2 (ja) 1989-11-13 1989-11-13 流動層型気相重合装置のガス分散板
US07/696,800 US5599513A (en) 1989-11-13 1991-05-07 Gas distribution plate for use with fluidized-bed gas-phase polymerizer
EP91107631A EP0512147B1 (en) 1989-11-13 1991-05-10 Gas distribution plate for use with fluidized-bed gas-phase polymerizer
DE69106496T DE69106496T2 (de) 1989-11-13 1991-05-10 Wirbelbettgasverteilerplatte zur Anwendung in einem Gasphasenpolymerisationsapparat.

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1294455A JP2703813B2 (ja) 1989-11-13 1989-11-13 流動層型気相重合装置のガス分散板
US07/696,800 US5599513A (en) 1989-11-13 1991-05-07 Gas distribution plate for use with fluidized-bed gas-phase polymerizer
EP91107631A EP0512147B1 (en) 1989-11-13 1991-05-10 Gas distribution plate for use with fluidized-bed gas-phase polymerizer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03153704A true JPH03153704A (ja) 1991-07-01
JP2703813B2 JP2703813B2 (ja) 1998-01-26

Family

ID=40227874

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1294455A Expired - Fee Related JP2703813B2 (ja) 1989-11-13 1989-11-13 流動層型気相重合装置のガス分散板

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5599513A (ja)
EP (1) EP0512147B1 (ja)
JP (1) JP2703813B2 (ja)
DE (1) DE69106496T2 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008044978A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Sumitomo Chemical Co Ltd オレフィン重合体の製造方法
WO2009103158A1 (en) * 2008-02-21 2009-08-27 Blue Planet Environmental Inc. Device for improved delivery of gas to fluid
US8967597B2 (en) 2008-05-08 2015-03-03 Blue Planet Environmental Inc. Device for mixing gas into a flowing liquid
WO2018174075A1 (ja) * 2017-03-24 2018-09-27 株式会社カネカ 流動層反応装置及び塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法

Families Citing this family (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5381827A (en) * 1992-11-30 1995-01-17 Sumitomo Chemical Company, Limited Gas distributor for use in gas phase polymerization apparatus
FR2759304B1 (fr) * 1997-02-11 1999-04-02 Pierre Jules Hinderer Procede de traitement en continu de matieres pulverulentes en vrac et installation permettant sa mise en oeuvre
DE19825589A1 (de) 1998-06-09 1999-12-16 Elenac Gmbh Gasphasenwirbelschichtreaktor
DE10015597A1 (de) * 2000-03-29 2001-12-20 Huettlin Gmbh Bodenelement für eine Vorrichtung zum Behandeln von partikelförmigem Gut
US20040129218A1 (en) * 2001-12-07 2004-07-08 Toshiki Takahashi Exhaust ring mechanism and plasma processing apparatus using the same
US6670071B2 (en) * 2002-01-15 2003-12-30 Quallion Llc Electric storage battery construction and method of manufacture
US6861094B2 (en) * 2002-04-25 2005-03-01 Micron Technology, Inc. Methods for forming thin layers of materials on micro-device workpieces
US6838114B2 (en) 2002-05-24 2005-01-04 Micron Technology, Inc. Methods for controlling gas pulsing in processes for depositing materials onto micro-device workpieces
US7118783B2 (en) * 2002-06-26 2006-10-10 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for vapor processing of micro-device workpieces
US6821347B2 (en) * 2002-07-08 2004-11-23 Micron Technology, Inc. Apparatus and method for depositing materials onto microelectronic workpieces
US6955725B2 (en) * 2002-08-15 2005-10-18 Micron Technology, Inc. Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces
US7335396B2 (en) * 2003-04-24 2008-02-26 Micron Technology, Inc. Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers
US20040261712A1 (en) * 2003-04-25 2004-12-30 Daisuke Hayashi Plasma processing apparatus
US7235138B2 (en) * 2003-08-21 2007-06-26 Micron Technology, Inc. Microfeature workpiece processing apparatus and methods for batch deposition of materials on microfeature workpieces
US7344755B2 (en) * 2003-08-21 2008-03-18 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for processing microfeature workpieces; methods for conditioning ALD reaction chambers
US7422635B2 (en) 2003-08-28 2008-09-09 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for processing microfeature workpieces, e.g., for depositing materials on microfeature workpieces
US7056806B2 (en) 2003-09-17 2006-06-06 Micron Technology, Inc. Microfeature workpiece processing apparatus and methods for controlling deposition of materials on microfeature workpieces
US7282239B2 (en) * 2003-09-18 2007-10-16 Micron Technology, Inc. Systems and methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers
US7323231B2 (en) * 2003-10-09 2008-01-29 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for plasma vapor deposition processes
US7581511B2 (en) * 2003-10-10 2009-09-01 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods for manufacturing microfeatures on workpieces using plasma vapor processes
US7647886B2 (en) * 2003-10-15 2010-01-19 Micron Technology, Inc. Systems for depositing material onto workpieces in reaction chambers and methods for removing byproducts from reaction chambers
US7258892B2 (en) * 2003-12-10 2007-08-21 Micron Technology, Inc. Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition
US7906393B2 (en) * 2004-01-28 2011-03-15 Micron Technology, Inc. Methods for forming small-scale capacitor structures
US7584942B2 (en) * 2004-03-31 2009-09-08 Micron Technology, Inc. Ampoules for producing a reaction gas and systems for depositing materials onto microfeature workpieces in reaction chambers
US20050249873A1 (en) * 2004-05-05 2005-11-10 Demetrius Sarigiannis Apparatuses and methods for producing chemically reactive vapors used in manufacturing microelectronic devices
US8133554B2 (en) * 2004-05-06 2012-03-13 Micron Technology, Inc. Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces
US7699932B2 (en) 2004-06-02 2010-04-20 Micron Technology, Inc. Reactors, systems and methods for depositing thin films onto microfeature workpieces
US20060165873A1 (en) * 2005-01-25 2006-07-27 Micron Technology, Inc. Plasma detection and associated systems and methods for controlling microfeature workpiece deposition processes
US20060237138A1 (en) * 2005-04-26 2006-10-26 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for supporting microelectronic devices during plasma-based fabrication processes
EP3362151B1 (en) 2015-10-15 2020-08-05 Cargill, Incorporated Composition containing oleosomes of different size distribution

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3089251A (en) * 1959-06-04 1963-05-14 Dorr Oliver Inc Treatment chamber for material in a fluidized state
DE1802550A1 (de) * 1967-11-30 1969-05-29 Fahlberg List Veb Vorrichtung zur Behandlung und Umhuellung von Schuettguetern gleichmaessiger Koernung in der Wirbelschicht
US3508341A (en) * 1968-05-29 1970-04-28 Franklin Carr Price Fluidized bed hearth construction
US3672577A (en) * 1970-10-15 1972-06-27 Fuller Co Fluid bed grid plate assembly
DE2819704C2 (de) * 1978-05-05 1985-10-10 Bergwerksverband Gmbh, 4300 Essen Anströmboden für Wirbelrinnen
DE3128596A1 (de) * 1981-07-20 1983-01-27 Heinz 2050 Hamburg Schumacher Vorrichtung zur behandlung von flockigem oder gekoerntem material mit gasen oder daempfen im kontinuierlichen betrieb im gegenstrom
US4475467A (en) * 1982-02-12 1984-10-09 York-Shipley, Inc. Fluidized bed reactor utilizing a plate support and method of operating the reactor
JPS58154702A (ja) * 1982-03-09 1983-09-14 Mitsui Petrochem Ind Ltd 撹拌流動層型気相重合装置のガス分散板
DZ520A1 (fr) * 1982-03-24 2004-09-13 Union Carbide Corp Procédé perfectionné pour accroitre le rendement espace temps d'une réaction de polymérisation exothermique en lit fluidisé.
DE3425519C2 (de) * 1984-07-11 1986-08-21 Heinrich Grünewald oHG, Inkrom Werk, 5912 Hilchenbach Düse für ein Wirbelbett
CA1241525A (en) * 1984-08-24 1988-09-06 Larry L. Simpson Fluidized bed polymerization reactors
JPS62168501A (ja) * 1986-01-20 1987-07-24 Seiji Michimae 湿式ガス処理装置
DE3613362A1 (de) * 1986-04-19 1987-10-29 Orth Gmbh H Flugschichttrockner
US5014632A (en) * 1988-08-16 1991-05-14 A. Ahlstrom Corporation Distributor plate in a fluidized bed reactor

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008044978A (ja) * 2006-08-11 2008-02-28 Sumitomo Chemical Co Ltd オレフィン重合体の製造方法
WO2009103158A1 (en) * 2008-02-21 2009-08-27 Blue Planet Environmental Inc. Device for improved delivery of gas to fluid
AU2009217186B2 (en) * 2008-02-21 2014-08-28 Blue Planet Environmental Inc. Device for improved delivery of gas to liquid
US8905385B2 (en) 2008-02-21 2014-12-09 Blue Planet Environmental Inc. Device for improved delivery of gas to fluid
US8967597B2 (en) 2008-05-08 2015-03-03 Blue Planet Environmental Inc. Device for mixing gas into a flowing liquid
WO2018174075A1 (ja) * 2017-03-24 2018-09-27 株式会社カネカ 流動層反応装置及び塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法
JPWO2018174075A1 (ja) * 2017-03-24 2020-01-23 株式会社カネカ 流動層反応装置及び塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0512147A1 (en) 1992-11-11
EP0512147B1 (en) 1995-01-04
US5599513A (en) 1997-02-04
DE69106496D1 (de) 1995-02-16
JP2703813B2 (ja) 1998-01-26
DE69106496T2 (de) 1995-06-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03153704A (ja) 流動層型気相重合装置のガス分散板
US5660466A (en) Apparatus and method for uniformly wetting hard-to-wet powders
US8058368B1 (en) Gas-phase polymerization of alpha-olefin
EP0600414B1 (en) Gas distributor for use in gas phase polymerization apparatus
EP2429790B1 (en) Process for the anti-sticking treatment of polymer pellets
US4354450A (en) Jet layer granulator
JPH0442403B2 (ja)
JP2722969B2 (ja) 流動層型反応器のガス分散板
KR20090101186A (ko) 중합 장치용 가스 분배 그리드
CN113634218A (zh) 烯烃气相聚合的装置及其方法
US6723291B1 (en) Fluidized bed polymerization reactor
JPH07265683A (ja) 流動層装置および粉粒体の造粒、コーティング、乾燥方法
JPH03153703A (ja) 流動層型気相重合装置のガス分散板
KR20180048752A (ko) 반응기 내 올레핀 단량체의 연속 중합 방법
US20180326392A1 (en) Device for producing poly(meth)acrylate in powder form
JPH01284509A (ja) 気相重合装置におけるガス分散板
US11471847B2 (en) Process for providing a homogenous slurry containing particles
US20250296064A1 (en) Fluidized bed polymerization reactor
CN106574010A (zh) 生产粉状聚(甲基)丙烯酸酯的设备
JPH03284343A (ja) 流動層処理装置
JP3951629B2 (ja) 気相重合装置におけるガス分散板
JPH02135163A (ja) 噴霧用ノズル集合ユニット
EP4139033A1 (en) Apparatus for producing a pulverulent product and use thereof
BR102025004568A2 (pt) Reator de polimerização em leito fluidizado
JP2002058982A (ja) ボルテックスオリフィス型空気分散器付円錐流動層造粒方法およびその装置

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees