JPH03155029A - Ｘ線銃 - Google Patents
Ｘ線銃Info
- Publication number
- JPH03155029A JPH03155029A JP29554889A JP29554889A JPH03155029A JP H03155029 A JPH03155029 A JP H03155029A JP 29554889 A JP29554889 A JP 29554889A JP 29554889 A JP29554889 A JP 29554889A JP H03155029 A JPH03155029 A JP H03155029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- filament
- electrode
- electron beam
- repeller electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は試料面にＸ１ｓを照射して試料から放射される
二次放射線を検出する型の分析装置に用いられるＸ線銃
に関する。
二次放射線を検出する型の分析装置に用いられるＸ線銃
に関する。
（従来の技術）
Ｘｎ銃にはフィラメントとアノードとを対向させた通常
のＸｎ銃とアノードの横にフィラメントを配置し、アノ
ードとフィラメントとの間にウェネルト電極を配置した
ヘンヶ型とかコニカル型のＸ線銃がある。前者はアノー
ドの電子ビーム照射領域を小さく紋ることができるので
、微小Ｘ線源を得るのに遺しているが、アノードとフィ
ラメントとが対向しているため、アノードにフィラメン
トからの蒸発物質が付着してアノード物質の特性Ｘ線以
外の不要なＸ線が発生して分析の妨げととなる。他方ヘ
ンヶ型とかコニカル型のＸ線銃はフィラメントがアノー
ドの側方にあり、電子はフィラメントよりアノードの正
電位に引かれてウェネルト電極を越えてアノードに入射
できるが、フィラメントからの蒸発物質は直進するため
アノードに入射することなく、アノードの汚染は起らな
い。しかしこの型では電子ビームをアノード表面に小さ
く絞り込むことができないため、微小Ｘ線源を得ること
ができない。
のＸｎ銃とアノードの横にフィラメントを配置し、アノ
ードとフィラメントとの間にウェネルト電極を配置した
ヘンヶ型とかコニカル型のＸ線銃がある。前者はアノー
ドの電子ビーム照射領域を小さく紋ることができるので
、微小Ｘ線源を得るのに遺しているが、アノードとフィ
ラメントとが対向しているため、アノードにフィラメン
トからの蒸発物質が付着してアノード物質の特性Ｘ線以
外の不要なＸ線が発生して分析の妨げととなる。他方ヘ
ンヶ型とかコニカル型のＸ線銃はフィラメントがアノー
ドの側方にあり、電子はフィラメントよりアノードの正
電位に引かれてウェネルト電極を越えてアノードに入射
できるが、フィラメントからの蒸発物質は直進するため
アノードに入射することなく、アノードの汚染は起らな
い。しかしこの型では電子ビームをアノード表面に小さ
く絞り込むことができないため、微小Ｘ線源を得ること
ができない。
（発明が解決しようとする課題）
本発明は電子ビームをアノード表面に充分小さく絞るこ
とが可能でしかもフィラメントからの蒸発物質によるア
ノードの汚染の起らないＸ線銃を提供しようとするもの
である。
とが可能でしかもフィラメントからの蒸発物質によるア
ノードの汚染の起らないＸ線銃を提供しようとするもの
である。
（課題を解決するための手段）
フィラメントから放出される電子をアノード表面に集中
させる電子光学系内に電子ビームを屈曲させるりペラ電
極を配置した。
させる電子光学系内に電子ビームを屈曲させるりペラ電
極を配置した。
（作用）
リペラ電極がなければ全体はフィラメントとアノードと
を対向させた型のＸ線源となっており、電子ビームはア
ノード表面の微小領域に絞り込まれる。この電子光学系
にリベラ電極が挿入されているので、電子ビームは屈曲
してアノード表面に入射する。これに対してフィラメン
トからの蒸発物質は直進するので、アノードに入射する
ことができず、汚染が防止される。
を対向させた型のＸ線源となっており、電子ビームはア
ノード表面の微小領域に絞り込まれる。この電子光学系
にリベラ電極が挿入されているので、電子ビームは屈曲
してアノード表面に入射する。これに対してフィラメン
トからの蒸発物質は直進するので、アノードに入射する
ことができず、汚染が防止される。
（実施例）
第１図に本発明の一実施例を示す。１はフィラメントで
０電位である。２はウェネルト電極でＯ或は稍々負電位
に設定されている。３は電子引出し電極で数十乃至数百
ポルト、この実施例では＋７００Ｖが印加されている。
０電位である。２はウェネルト電極でＯ或は稍々負電位
に設定されている。３は電子引出し電極で数十乃至数百
ポルト、この実施例では＋７００Ｖが印加されている。
４は引出し電極の後方に配置された第２接地電極で０電
位に設定されている。ウェネルト２．引出し電極３．第
２．接地電極４は共通軸上に開口を有し、＋１０ＫＶ程
度に設定されているアノード５に向って電子ビームを集
束させる静電レンズ系となっている。６は第２接地電極
４の後方に置かれたリヘラ電極で、カップ状をなし、そ
の底面の偏心した位置に電子出射開口６１が穿たれてお
り、その開口の後方にアノード５が配置されていて、こ
の開口軸とウェネルト、引出し電極、第２接地電極の開
口軸とはずれており、リペラ電極６は負の数百ボルト、
この実施例では一４００ｖが印加されている。このため
フィラメント１からウェネルト２．引出し電極３．第２
接地電極４を通った電子ビームｅはリベラ電極６に反撥
されて軌道が曲がり、リペラ電極の偏心した電子出射開
口６１よりアノード５表面に収束せられる。フィラメン
ト１から出ている点線の矢印Ｃはフィラメント蒸発物質
を示し、これは直進するためリベラ電極６の底面に当り
、アノード５には入射できない。
位に設定されている。ウェネルト２．引出し電極３．第
２．接地電極４は共通軸上に開口を有し、＋１０ＫＶ程
度に設定されているアノード５に向って電子ビームを集
束させる静電レンズ系となっている。６は第２接地電極
４の後方に置かれたリヘラ電極で、カップ状をなし、そ
の底面の偏心した位置に電子出射開口６１が穿たれてお
り、その開口の後方にアノード５が配置されていて、こ
の開口軸とウェネルト、引出し電極、第２接地電極の開
口軸とはずれており、リペラ電極６は負の数百ボルト、
この実施例では一４００ｖが印加されている。このため
フィラメント１からウェネルト２．引出し電極３．第２
接地電極４を通った電子ビームｅはリベラ電極６に反撥
されて軌道が曲がり、リペラ電極の偏心した電子出射開
口６１よりアノード５表面に収束せられる。フィラメン
ト１から出ている点線の矢印Ｃはフィラメント蒸発物質
を示し、これは直進するためリベラ電極６の底面に当り
、アノード５には入射できない。
第２図は上述実施例における電子光学系内の電界分布を
示し、第３図は同じ（電子軌道のシミュレーション結果
を示し、アノード表面に電子が良好に収束していること
が分る。
示し、第３図は同じ（電子軌道のシミュレーション結果
を示し、アノード表面に電子が良好に収束していること
が分る。
（発明の効果）
本発明Ｘ線銃は構造的にはフィラメントとアノードとを
対向させた型と同じであって微小Ｘ線源を得ることがで
き、他方リベラ電極を設けることによって、アノードか
ら見てフィラメントが直接見えないようになっているた
め、直進するフィラメント蒸発物質によるアノード汚染
が起らない。
対向させた型と同じであって微小Ｘ線源を得ることがで
き、他方リベラ電極を設けることによって、アノードか
ら見てフィラメントが直接見えないようになっているた
め、直進するフィラメント蒸発物質によるアノード汚染
が起らない。
第１図は本発明の一実施例Ｘ線銃の縦断側面図、第２図
は同実施例の電子光学系内の電界分布を示す図、第３図
は同じく電子軌道の図である。 １・・・フィラメント、２・・・ウェネルト電極、３・
・・電子引出し電極、４・・・第２接地電極、５・・・
アノード、６・・・リベラ電極、ｅ・・・電子ビーム、
Ｃ・・・フィラメント蒸発物質。 ｅ・・・電子 Ｃ・・・フィラメーＦ蔗全１勿質
は同実施例の電子光学系内の電界分布を示す図、第３図
は同じく電子軌道の図である。 １・・・フィラメント、２・・・ウェネルト電極、３・
・・電子引出し電極、４・・・第２接地電極、５・・・
アノード、６・・・リベラ電極、ｅ・・・電子ビーム、
Ｃ・・・フィラメント蒸発物質。 ｅ・・・電子 Ｃ・・・フィラメーＦ蔗全１勿質
Claims (1)
- フィラメントから放出される電子をアノード表面に集中
させる電子光学系内に電子ビームを屈曲させるリペラ電
極を配置したことを特徴とするＸ線銃。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29554889A JP2817277B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Ｘ線銃 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29554889A JP2817277B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Ｘ線銃 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03155029A true JPH03155029A (ja) | 1991-07-03 |
| JP2817277B2 JP2817277B2 (ja) | 1998-10-30 |
Family
ID=17822074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29554889A Expired - Lifetime JP2817277B2 (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | Ｘ線銃 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2817277B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007103318A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線管 |
| WO2008120541A1 (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管 |
| EP3901981A1 (en) * | 2020-04-24 | 2021-10-27 | IMS Nanofabrication GmbH | Charged-particle source |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6138575B2 (ja) | 2013-05-16 | 2017-05-31 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 軸流ターボ機械の動翼 |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29554889A patent/JP2817277B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007103318A (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線管 |
| WO2007043391A1 (ja) * | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管及びそれを含むｘ線源 |
| US7831020B2 (en) | 2005-10-07 | 2010-11-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | X-ray tube and X-ray source including it |
| TWI427664B (zh) * | 2005-10-07 | 2014-02-21 | Hamamatsu Photonics Kk | X-ray tube and X-ray source containing it |
| WO2008120541A1 (ja) * | 2007-04-03 | 2008-10-09 | Hamamatsu Photonics K.K. | Ｘ線管 |
| EP3901981A1 (en) * | 2020-04-24 | 2021-10-27 | IMS Nanofabrication GmbH | Charged-particle source |
| JP2021174772A (ja) * | 2020-04-24 | 2021-11-01 | アイエムエス ナノファブリケーション ゲーエムベーハー | 荷電粒子源 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2817277B2 (ja) | 1998-10-30 |
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