JPH03156833A - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
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- JPH03156833A JPH03156833A JP29803189A JP29803189A JPH03156833A JP H03156833 A JPH03156833 A JP H03156833A JP 29803189 A JP29803189 A JP 29803189A JP 29803189 A JP29803189 A JP 29803189A JP H03156833 A JPH03156833 A JP H03156833A
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Landscapes
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は陰極線管に関し、特にカラー蛍光膜を有する陰
極線管に関する。
極線管に関する。
カラー陰極線管の蛍光膜は、内面に緑、青、赤の各蛍光
膜パターンが所定の位置関係をもって形成されており、
この蛍光膜の電子銃側に所定の間隔を保持して、シャド
ウマスク、アパーチャーグリル等の色選択用電極が取り
つけられ、これによって、緑、青、赤に対応する電子ビ
ームをそれぞれ蛍光膜上の対応する色の蛍光膜パターン
に照射し、発光するようにしている。
膜パターンが所定の位置関係をもって形成されており、
この蛍光膜の電子銃側に所定の間隔を保持して、シャド
ウマスク、アパーチャーグリル等の色選択用電極が取り
つけられ、これによって、緑、青、赤に対応する電子ビ
ームをそれぞれ蛍光膜上の対応する色の蛍光膜パターン
に照射し、発光するようにしている。
このように蛍光膜パターンは、一般に、第４図（Ａ）に
示す如く、まず、パネル１にマスクを組み込んだ加エバ
ネルを分離し、パネル１のみを洗浄する。
示す如く、まず、パネル１にマスクを組み込んだ加エバ
ネルを分離し、パネル１のみを洗浄する。
次に、第４図（Ｂ）に示す如く、このパネル１の内面に
レジスト３を塗布、乾燥する。
レジスト３を塗布、乾燥する。
次に、第４図（Ｃ）に示す如く、マスク２を取りつけて
蛍光膜縁、青、赤が充填される位置を順次露光する。
蛍光膜縁、青、赤が充填される位置を順次露光する。
次に、第４図（Ｄ＞に示す如く、露光の終ったパネル１
を現像して、未露光部分を取除き、乾燥する。
を現像して、未露光部分を取除き、乾燥する。
次に、第４図（Ｅ）に示す如く、黒鉛４をパネル１の内
面全域に塗布する。
面全域に塗布する。
次に、第４図（Ｆ）に示す如く、この黒鉛４を乾燥した
のち、エツチング、現像を順次行ない、ブラックマトリ
ックス膜（以下８Ｍ膜と記す）うを形成する。
のち、エツチング、現像を順次行ない、ブラックマトリ
ックス膜（以下８Ｍ膜と記す）うを形成する。
次に、第４図（Ｇ）に示す如く、順次、緑。
青、赤の蛍光体を塗布、露光、現像を行い、蛍光膜縁（
６）、青く７）、赤（８）を形成する。
６）、青く７）、赤（８）を形成する。
次に、第４図（Ｈ）に示す如く、フィルミング塗布を行
い、蛍光膜６，７．８とＢＭ膜膜上上高分子物質から成
るフィルミングを形成する。
い、蛍光膜６，７．８とＢＭ膜膜上上高分子物質から成
るフィルミングを形成する。
最後に、第４図（Ｉ）に示す如く、フィルミング上に／
Ｍｌ蒸着膜１０を被覆して形成されていた。
Ｍｌ蒸着膜１０を被覆して形成されていた。
この様にして作成された８Ｍ膜５は、−ａに、第５図に
示す様な塗布方法をとっている。従ってパネル１内面の
全域に塗布されるため本来不要となる部分、即ち、スタ
ッドビン１１よりシール面１２迄は、後にファンネル（
図示しない）と封着する際に障害となる為、完全に除去
する必要がある。パネル１のシール面１２に黒鉛４やそ
の他の異物が存在すると、封着部リークや高真享時爆縮
等を生じ、カラー陰極線として供しないものとなるから
である。
示す様な塗布方法をとっている。従ってパネル１内面の
全域に塗布されるため本来不要となる部分、即ち、スタ
ッドビン１１よりシール面１２迄は、後にファンネル（
図示しない）と封着する際に障害となる為、完全に除去
する必要がある。パネル１のシール面１２に黒鉛４やそ
の他の異物が存在すると、封着部リークや高真享時爆縮
等を生じ、カラー陰極線として供しないものとなるから
である。
その為、蛍光膜縁６．青７．赤８を塗布する前に、第６
図に示す如く、黒鉛除去装置を使用し、スタッドピン１
１よりシール面１２側に残った黒鉛４を弗酸や弗化アン
モニウム等の除去剤を使い除去することが行われている
。
図に示す如く、黒鉛除去装置を使用し、スタッドピン１
１よりシール面１２側に残った黒鉛４を弗酸や弗化アン
モニウム等の除去剤を使い除去することが行われている
。
しかしながら、除去剤の濃度を高くすると、黒鉛４の落
ちは良くなるが、フェース側の８Ｍ膜５に液がはねて、
せっかく加工した８Ｍ膜５を不良しにしてしまい、又、
除去剤の濃度を低くすると、第３図に示す如く、黒鉛４
が残ってしまい、人手を介して除去しなければならない
。黒鉛４が点在してのこると、後工程に於いて行われる
へβ蒸着膜１０が、スタッドビン１１よりフェース面側
に加工される為、第３図の如く、Ｌ、＞Ｌ２の関係とな
る。これは、スタッドピン１１にＡｌ蒸着膜１０がつく
と、マスク２の脱着や振動でＡρ蒸着膜１０が剥れ、目
詰りの発生や耐電圧不良を誘発することを防止する為、
Ｌ １＞ Ｌ ２としなければならなかった。
ちは良くなるが、フェース側の８Ｍ膜５に液がはねて、
せっかく加工した８Ｍ膜５を不良しにしてしまい、又、
除去剤の濃度を低くすると、第３図に示す如く、黒鉛４
が残ってしまい、人手を介して除去しなければならない
。黒鉛４が点在してのこると、後工程に於いて行われる
へβ蒸着膜１０が、スタッドビン１１よりフェース面側
に加工される為、第３図の如く、Ｌ、＞Ｌ２の関係とな
る。これは、スタッドピン１１にＡｌ蒸着膜１０がつく
と、マスク２の脱着や振動でＡρ蒸着膜１０が剥れ、目
詰りの発生や耐電圧不良を誘発することを防止する為、
Ｌ １＞ Ｌ ２としなければならなかった。
この様に、黒鉛４とＡ、＆蒸着膜１０の関係、即ち、ｔ
、、、＞Ｌ２の状態で陰極線管として動作させると、５
ＷＯＮ１０ＦＦ時に、点在する黒鉛４とＡ１蒸着膜１０
とが°導通状態となっていない為（蛍光膜とマスクには
２０数ＫＶの電圧が印加され導通状態にある）、両者間
に電位差が出来、これによって電界が生じ電子ビームの
軌道が乱されて周辺部で（本来５ＷＯＮ１０ＦＦ時に輝
ってはいけない）不要の蛍光体励起を生じ、みる人にと
って不快感や不具合を生じていた。
、、、＞Ｌ２の状態で陰極線管として動作させると、５
ＷＯＮ１０ＦＦ時に、点在する黒鉛４とＡ１蒸着膜１０
とが°導通状態となっていない為（蛍光膜とマスクには
２０数ＫＶの電圧が印加され導通状態にある）、両者間
に電位差が出来、これによって電界が生じ電子ビームの
軌道が乱されて周辺部で（本来５ＷＯＮ１０ＦＦ時に輝
ってはいけない）不要の蛍光体励起を生じ、みる人にと
って不快感や不具合を生じていた。
従って、上記蛍光膜形成に於いては、パネル内側壁に点
在する残留黒鉛を完全に除去しなければならず、その為
には、歩留の低下や過大な設備投資を必要とし、製品コ
ストの上昇や非常に厳しい工程管理が必要となるという
問題点があった。
在する残留黒鉛を完全に除去しなければならず、その為
には、歩留の低下や過大な設備投資を必要とし、製品コ
ストの上昇や非常に厳しい工程管理が必要となるという
問題点があった。
又、Ｌｌ＞Ｌ２とするとスタッドビンにＡβ蒸着膜が形
成される為、マスクの着脱時に、スタッドピンに形成さ
れたＡＪ蒸着膜がこすれてはがれが発生し、目詰りの発
生や耐電圧不良の原因となっていた。これを解決するた
め、人手を介し黒鉛を除去しなければならないという問
題点もあった。
成される為、マスクの着脱時に、スタッドピンに形成さ
れたＡＪ蒸着膜がこすれてはがれが発生し、目詰りの発
生や耐電圧不良の原因となっていた。これを解決するた
め、人手を介し黒鉛を除去しなければならないという問
題点もあった。
本発明の目的は、設備投資を必要とすることなく、残留
黒鉛を完全になくし、マスクの目詰りや耐電圧不良がな
く、不要の蛍光体励起のない陰極線管を提供することに
ある。
黒鉛を完全になくし、マスクの目詰りや耐電圧不良がな
く、不要の蛍光体励起のない陰極線管を提供することに
ある。
本発明の陰極線管は、パネルと、該パネル内面にモザイ
ク状に形成されたブラックマトリックスホールと、該ブ
ラックマトリックスホールに充填された蛍光膜と、該蛍
光膜を含む前記パネル内面全面を被覆する高分子膜と、
該高分子股上に形成されたＡ、Ｒ蒸着膜とを有する陰極
線管に於いて、前記パネル内面に残留するブラックマト
リックスの黒鉛の垂直方向の寸法（Ｌ１）よりも常に前
記ＡＪ蒸着膜の垂直方向の寸法（Ｌ２）が長くなってい
る。
ク状に形成されたブラックマトリックスホールと、該ブ
ラックマトリックスホールに充填された蛍光膜と、該蛍
光膜を含む前記パネル内面全面を被覆する高分子膜と、
該高分子股上に形成されたＡ、Ｒ蒸着膜とを有する陰極
線管に於いて、前記パネル内面に残留するブラックマト
リックスの黒鉛の垂直方向の寸法（Ｌ１）よりも常に前
記ＡＪ蒸着膜の垂直方向の寸法（Ｌ２）が長くなってい
る。
次に３、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
る。
第１図（Ａ）、（Ｂ）は本発明の一実施例の蒸着装置と
パネルの要部断面図及びＡ−Ａ’線断面図、第２図は第
１図の蒸着装置に使用する遮蔽板の斜視図である。
パネルの要部断面図及びＡ−Ａ’線断面図、第２図は第
１図の蒸着装置に使用する遮蔽板の斜視図である。
まず、第４図にて説明した従来例と同じ工程によって８
Ｍ膜５及び蛍光膜縁６．青７．赤８が形成されることは
本実施例も同じである。
Ｍ膜５及び蛍光膜縁６．青７．赤８が形成されることは
本実施例も同じである。
しかしながら、従来例では、第６図に示す如く、黒鉛４
の洗浄除去に於いて、スタッドビン１１付近に残留する
黒鉛４がまだら状に残り、第３図に示す如く、後に形成
されるＡＪ蒸着膜１０よりもシール面１２側にくる事が
異常発光現象の原因であり、常に、ＡＪ蒸着膜１０のパ
ネル１の垂直方向の長さが黒鉛４の長さよりも長く、全
ての残留黒鉛を覆うことが出来れば、ＡｆＩ蒸着膜１０
と、黒鉛４即ち、８Ｍ膜５とが常に同電位になる為、５
ＷＯＮ１０ＦＦ時の電位差がなくなるわけであり、従っ
て、その様な位置関係にＡＪ蒸着膜１０を形成すればよ
い訳である。
の洗浄除去に於いて、スタッドビン１１付近に残留する
黒鉛４がまだら状に残り、第３図に示す如く、後に形成
されるＡＪ蒸着膜１０よりもシール面１２側にくる事が
異常発光現象の原因であり、常に、ＡＪ蒸着膜１０のパ
ネル１の垂直方向の長さが黒鉛４の長さよりも長く、全
ての残留黒鉛を覆うことが出来れば、ＡｆＩ蒸着膜１０
と、黒鉛４即ち、８Ｍ膜５とが常に同電位になる為、５
ＷＯＮ１０ＦＦ時の電位差がなくなるわけであり、従っ
て、その様な位置関係にＡＪ蒸着膜１０を形成すればよ
い訳である。
そこで、第２図に示す様な遮蔽板１５を、第１図（Ａ）
に示す公知の蒸着装置内に設けてやればよい。その際、
従来例で述べた様にスタッドビン１１には、ＡｆＩ蒸着
膜１０は形成されないので、その為、スタッドビン１１
には、Ａ、ｌｌ蒸着膜１０が飛散しない様な加工を施し
てやればよい。
に示す公知の蒸着装置内に設けてやればよい。その際、
従来例で述べた様にスタッドビン１１には、ＡｆＩ蒸着
膜１０は形成されないので、その為、スタッドビン１１
には、Ａ、ｌｌ蒸着膜１０が飛散しない様な加工を施し
てやればよい。
実験結果では、スタッドビン１１の外径の約１．２〜１
．５倍の同形状の半円の突起を遮蔽板１５の各スタッド
ビン１１に相対する位置に設ければよい事がわかった。
．５倍の同形状の半円の突起を遮蔽板１５の各スタッド
ビン１１に相対する位置に設ければよい事がわかった。
この様な遮蔽板１５を使用して形成したＡｆＩ蒸着膜１
０は、第１図（Ｂ）に示す如く、黒鉛４を覆い、かつ、
スタッドビン１１をさけた膜が形成出来る０本実施例は
４つのスタッドビン１１がパネル１側壁に形成された場
合であるが、３つのスタッドビン１１のパネル１の場合
も同様に遮蔽板１５に３つの相対するスタッドビン１１
の位置に半円の突起を形成すれば同じである。
０は、第１図（Ｂ）に示す如く、黒鉛４を覆い、かつ、
スタッドビン１１をさけた膜が形成出来る０本実施例は
４つのスタッドビン１１がパネル１側壁に形成された場
合であるが、３つのスタッドビン１１のパネル１の場合
も同様に遮蔽板１５に３つの相対するスタッドビン１１
の位置に半円の突起を形成すれば同じである。
本発明は前述したように、パネルの内面に残留するブラ
ックマトリックスの黒鉛の垂直方向の寸法（Ｌ１）より
も常にＡｆ蒸着膜の垂直方向の寸法（Ｌ２）を長くする
ことにより、下記に列挙する効果がある。
ックマトリックスの黒鉛の垂直方向の寸法（Ｌ１）より
も常にＡｆ蒸着膜の垂直方向の寸法（Ｌ２）を長くする
ことにより、下記に列挙する効果がある。
（１）蒸着用遮蔽板にスタッドビンの個数分のみ半円の
突起を設けるのみで、従来の製造方法をそのまま利用出
来る。
突起を設けるのみで、従来の製造方法をそのまま利用出
来る。
（２）過大な設備投資やメンテナンス及び工程管理等が
簡略化出来、生産効率の向上、コスト低減に大きく貢献
出来る。
簡略化出来、生産効率の向上、コスト低減に大きく貢献
出来る。
（３）Ａρ蒸着膜で黒鉛を覆う為、信頼性は高く、かつ
、安価で再現性１寸法制度が高い為、マスクの目詰りや
耐電圧不良がなく、異常発光現象が皆無となる。
、安価で再現性１寸法制度が高い為、マスクの目詰りや
耐電圧不良がなく、異常発光現象が皆無となる。
第１図（Ａ）、（Ｂ）は本発明の一実施例の蒸着装置と
パネルの要部断面図及びＡ−Ａ’線断面図、第２図は第
１図の蒸着装置に使用する遮蔽板の斜視図、第３図は従
来の陰極線管のパネルの一例の断面図、第４図（Ａ）〜
（１）は従来の陰極線管の蛍光膜形成方法を説明する工
程順に示した断面図、第５図は従来の陰極線管の黒鉛塗
布装置の一例の概略構成図、第６図は従来の陰極線管の
黒鉛除去装置の一例の概略構成図である。 １・・・パネル、２・・・マスク、３・・・レジスト、
４・・・黒鉛、５・・・８Ｍ膜、６・・・線蛍光膜、７
・・・青蛍光膜、８・・・赤蛍光膜、９・・・フィルミ
ング、１０・・・Ａ１蒸着膜、１１・・・スタッドビン
、１２・・・シール面、１３・・・ノズル、１４・・・
ヘッド、１５・・・遮蔽板。
パネルの要部断面図及びＡ−Ａ’線断面図、第２図は第
１図の蒸着装置に使用する遮蔽板の斜視図、第３図は従
来の陰極線管のパネルの一例の断面図、第４図（Ａ）〜
（１）は従来の陰極線管の蛍光膜形成方法を説明する工
程順に示した断面図、第５図は従来の陰極線管の黒鉛塗
布装置の一例の概略構成図、第６図は従来の陰極線管の
黒鉛除去装置の一例の概略構成図である。 １・・・パネル、２・・・マスク、３・・・レジスト、
４・・・黒鉛、５・・・８Ｍ膜、６・・・線蛍光膜、７
・・・青蛍光膜、８・・・赤蛍光膜、９・・・フィルミ
ング、１０・・・Ａ１蒸着膜、１１・・・スタッドビン
、１２・・・シール面、１３・・・ノズル、１４・・・
ヘッド、１５・・・遮蔽板。
Claims (1)
- パネルと、該パネル内面にモザイク状に形成されたブラ
ックマトリックスホールと、該ブラックマトリックスホ
ールに充填された蛍光膜と、該蛍光膜を含む前記パネル
内面全面を被覆する高分子膜と、該高分子膜上に形成さ
れたＡｌ蒸着膜とを有する陰極線管に於いて、前記パネ
ル内面に残留するブラックマトリックスの黒鉛の垂直方
向の寸法（Ｌ＿１）よりも常に前記Ａｌ蒸着膜の垂直方
向の寸法（Ｌ＿２）を長くすることを特徴とする陰極線
管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29803189A JPH03156833A (ja) | 1989-11-15 | 1989-11-15 | 陰極線管 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29803189A JPH03156833A (ja) | 1989-11-15 | 1989-11-15 | 陰極線管 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03156833A true JPH03156833A (ja) | 1991-07-04 |
Family
ID=17854225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29803189A Pending JPH03156833A (ja) | 1989-11-15 | 1989-11-15 | 陰極線管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03156833A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100759542B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2007-09-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극선관용 형광면과 이의 제조방법 |
-
1989
- 1989-11-15 JP JP29803189A patent/JPH03156833A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100759542B1 (ko) * | 2001-07-06 | 2007-09-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 음극선관용 형광면과 이의 제조방법 |
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