JPH03157193A - 高度浄水処理方法および装置 - Google Patents
高度浄水処理方法および装置Info
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- JPH03157193A JPH03157193A JP29686389A JP29686389A JPH03157193A JP H03157193 A JPH03157193 A JP H03157193A JP 29686389 A JP29686389 A JP 29686389A JP 29686389 A JP29686389 A JP 29686389A JP H03157193 A JPH03157193 A JP H03157193A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 239000008213 purified water Substances 0.000 title abstract 3
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 85
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 72
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000000746 purification Methods 0.000 claims description 25
- OKTJSMMVPCPJKN-YPZZEJLDSA-N carbon-10 atom Chemical compound [10C] OKTJSMMVPCPJKN-YPZZEJLDSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract 6
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 5
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 5
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Landscapes
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Water Treatment By Sorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
この発明は、上水において、脱臭、脱色および有機塩素
化合物の除去等を目的として、上水をオゾン処理および
活性炭処理する高度浄水処理方法および装置に関する。
化合物の除去等を目的として、上水をオゾン処理および
活性炭処理する高度浄水処理方法および装置に関する。
［従来の技術］
上水の脱臭、脱色および有機塩素化合物の除去にば、高
度浄水処理と呼ばれる方法が用いられる。
度浄水処理と呼ばれる方法が用いられる。
この高度浄水処理を行なう方法として、上水をオゾン処
理した後に、活性炭処理する方法が一般的である。
理した後に、活性炭処理する方法が一般的である。
第３図に、上述した高度浄水処理方法において、従来よ
り用いられている方法の一例を示す。
り用いられている方法の一例を示す。
受水槽３０に貯留された上水は、ポンプ３１によってオ
ゾン接触槽３２に送られる。オゾン接触槽３２の底部か
ら、別途オゾン発生機で生成されたオゾンを含む空気が
配管３３を通して圧入される。圧入された空気は、デフ
ユーザ３４で極めて小さな気泡とされ、オゾン接触槽３
２内の水に接触する。このようにして、オゾン処理が行
なわれる。反応後、空気は、オゾン接触槽３２の上部大
気面から放散される。一方、このようにしてオゾン処理
された水は、中間槽３５に貯留される。中間槽３５の水
はポンプ３６で、活性炭１６３７に送られる。活性炭槽
３７では、粒状活性炭３８により活性炭処理が行なわれ
る。活性炭処理が済んだ水は浄水用貯水槽３９に貯留さ
れ、飲料に供される。
ゾン接触槽３２に送られる。オゾン接触槽３２の底部か
ら、別途オゾン発生機で生成されたオゾンを含む空気が
配管３３を通して圧入される。圧入された空気は、デフ
ユーザ３４で極めて小さな気泡とされ、オゾン接触槽３
２内の水に接触する。このようにして、オゾン処理が行
なわれる。反応後、空気は、オゾン接触槽３２の上部大
気面から放散される。一方、このようにしてオゾン処理
された水は、中間槽３５に貯留される。中間槽３５の水
はポンプ３６で、活性炭１６３７に送られる。活性炭槽
３７では、粒状活性炭３８により活性炭処理が行なわれ
る。活性炭処理が済んだ水は浄水用貯水槽３９に貯留さ
れ、飲料に供される。
［発明が解決しようとする課題］
前述した従来の高度浄水処理方法において、高度浄水処
理を行なう装置の主要部分は、オゾン接触槽、オゾン発
生機、中間槽、ポンプおよび活性炭槽である。これらの
うち、中間槽は比較的場所をとり、しかも、オゾン接触
槽と中間槽との間には落差を設けなければならない。し
たがって、装置の規模がある程度大きなものとなるため
、高度浄水処理を行なうにあたって、大きなスペースが
要求されるといった問題点があった。
理を行なう装置の主要部分は、オゾン接触槽、オゾン発
生機、中間槽、ポンプおよび活性炭槽である。これらの
うち、中間槽は比較的場所をとり、しかも、オゾン接触
槽と中間槽との間には落差を設けなければならない。し
たがって、装置の規模がある程度大きなものとなるため
、高度浄水処理を行なうにあたって、大きなスペースが
要求されるといった問題点があった。
この発明の目的は、上述したような問題点を解決し、オ
ゾン処理および活性炭処理を連続して行なう高度浄水処
理において、狭いスペースでモ処理が行なえる高度浄水
処理方法および装置を提供することにある。
ゾン処理および活性炭処理を連続して行なう高度浄水処
理において、狭いスペースでモ処理が行なえる高度浄水
処理方法および装置を提供することにある。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するため、第１の発明の高度浄水処理方
法は、上水供給手段により上水をオゾン接触槽に供給し
、オゾン発生手段により発生したオゾンを含む気体を接
触させた後、活性炭槽に供給して活性炭処理を行なう高
度浄水処理方法であって、オゾン接触槽内は、オゾン発
生手段によるオゾンを含む気体の供給圧力以下に調整し
、オゾン接触槽から活性炭槽への水の供給は、前記上水
供給手段の圧力によっている。
法は、上水供給手段により上水をオゾン接触槽に供給し
、オゾン発生手段により発生したオゾンを含む気体を接
触させた後、活性炭槽に供給して活性炭処理を行なう高
度浄水処理方法であって、オゾン接触槽内は、オゾン発
生手段によるオゾンを含む気体の供給圧力以下に調整し
、オゾン接触槽から活性炭槽への水の供給は、前記上水
供給手段の圧力によっている。
第２の発明の高度浄水処理装置は、前記第１の発明の方
法を実施するための装置であり、オゾン接触槽内の圧力
を、オゾン発生手段によるオゾンを含む気体の供給圧力
以下に調整するため、オゾン接触槽が圧力調整弁を有す
るものである。
法を実施するための装置であり、オゾン接触槽内の圧力
を、オゾン発生手段によるオゾンを含む気体の供給圧力
以下に調整するため、オゾン接触槽が圧力調整弁を有す
るものである。
［作用コ
上記のように構成された高度浄水処理方法において、上
水はまず上水供給手段により、オゾン接触槽に供給され
る。このとき、オゾン接触槽内には、上水供給圧がかか
ってくる。一方、オゾン接触槽には、オゾン発生手段に
より発生したオゾンを含む気体が所定の供給圧で圧入さ
れるようになっている。
水はまず上水供給手段により、オゾン接触槽に供給され
る。このとき、オゾン接触槽内には、上水供給圧がかか
ってくる。一方、オゾン接触槽には、オゾン発生手段に
より発生したオゾンを含む気体が所定の供給圧で圧入さ
れるようになっている。
上記上水供給圧は、オゾン接触槽内の圧力を上昇させ、
オゾンを含む気体の圧入を妨げるようになる。
オゾンを含む気体の圧入を妨げるようになる。
そこで、第１の発明および第２の発明は、オゾン接触槽
内の圧力がオゾンを含む気体の供給圧以下になるよう２
整し、オゾンを含む気体の圧入を妨げないようにしてい
る。また、オゾン処理された水は、上水供給手段の圧力
によって圧送されることにより、活性炭槽内を通過する
。
内の圧力がオゾンを含む気体の供給圧以下になるよう２
整し、オゾンを含む気体の圧入を妨げないようにしてい
る。また、オゾン処理された水は、上水供給手段の圧力
によって圧送されることにより、活性炭槽内を通過する
。
［実施例］
第１図は、この発明に従う一実施例の特徴を示す模式図
である。
である。
まず、受水槽１に貯留された上水は、ポンプ２によっ、
て、オゾン接触＃ｆ１３に送られる。オゾン接触槽３の
上端には、配管６が取付けられ、配管６は圧力調整弁７
に接続されている。
て、オゾン接触＃ｆ１３に送られる。オゾン接触槽３の
上端には、配管６が取付けられ、配管６は圧力調整弁７
に接続されている。
第２図は、圧力調整弁の一例を示す断面図である。第２
図を参照して、圧力調整弁について以下に説明する。
図を参照して、圧力調整弁について以下に説明する。
ダイヤフラム２５が本体２２とダイヤフラム支持体２３
により挾まれて保持されている。ダイヤフラム支持体２
３は、ボルト２４により本体２２に取付けられている。
により挾まれて保持されている。ダイヤフラム支持体２
３は、ボルト２４により本体２２に取付けられている。
ダイヤフラム２５の中央には、ダイヤフラム突出部２５
ａが形成されている。
ａが形成されている。
配管６からダイヤフラム２５が設けられている空間まで
は、流入口２０が形成されている。ダイヤフラム突出部
２５ａの上部には、外部に通じる排気口２１が形成され
ている。
は、流入口２０が形成されている。ダイヤフラム突出部
２５ａの上部には、外部に通じる排気口２１が形成され
ている。
ダイヤフラム突出部２５ａの反Ｒ，ｌ側には、スブリン
グ２６が設けられている。スプリング２６は圧力調整ね
じ２７によりダイヤフラム２５側に圧縮されている。
グ２６が設けられている。スプリング２６は圧力調整ね
じ２７によりダイヤフラム２５側に圧縮されている。
第２図に示す状態では、スプリング２６の付勢力により
、ダイヤフラム突出部２５ａが、矢印Ａ方向に、排気口
２１の端部に押しつけられ、排気口２１が閉じた状態に
なっている。オゾン処理槽３内の圧力が、所定圧以上に
なると、配管６から流入口２０を通り、その圧力が伝達
され、ダイヤフラム２５がスプリング２６の付勢力に抗
するように、矢印Ｂ方向に押圧される。これによって、
ダイヤフラム突出部２５ａが、排気口２１の端から離れ
、排気口２１が開いた状態になり、オゾン接触槽３内の
気体は排出される。
、ダイヤフラム突出部２５ａが、矢印Ａ方向に、排気口
２１の端部に押しつけられ、排気口２１が閉じた状態に
なっている。オゾン処理槽３内の圧力が、所定圧以上に
なると、配管６から流入口２０を通り、その圧力が伝達
され、ダイヤフラム２５がスプリング２６の付勢力に抗
するように、矢印Ｂ方向に押圧される。これによって、
ダイヤフラム突出部２５ａが、排気口２１の端から離れ
、排気口２１が開いた状態になり、オゾン接触槽３内の
気体は排出される。
以上のようにして、オゾン接触槽３内の気体の圧力が所
定圧以下にＺ’ｌＥされる。
定圧以下にＺ’ｌＥされる。
圧力の設定は、圧力調整ねじ２７でスプリング２６の付
勢力を調整することにより行なうことができる。
勢力を調整することにより行なうことができる。
オゾン発生手段としては、空気供給機としてのコンプレ
ッサにオゾナイザを組合わせたものを用いることができ
る。このオゾン発生機を用いた場合、オゾンを含む気体
の供給圧は、たとえば０゜３５ｋｇ／ｃｍ２程度になる
。
ッサにオゾナイザを組合わせたものを用いることができ
る。このオゾン発生機を用いた場合、オゾンを含む気体
の供給圧は、たとえば０゜３５ｋｇ／ｃｍ２程度になる
。
オゾン接触槽３内が、これ以上の圧力になると、オゾン
を含む気体を供給することができなくなるので、圧力調
整弁を用いて、これ以下の圧力にする必要がある。この
実施例では、圧力調整弁は１ｆＬ／ｍｉｎの空気を０．
１７ｋｇ／ｃｍ２１次圧で全量放出する設計としている
。
を含む気体を供給することができなくなるので、圧力調
整弁を用いて、これ以下の圧力にする必要がある。この
実施例では、圧力調整弁は１ｆＬ／ｍｉｎの空気を０．
１７ｋｇ／ｃｍ２１次圧で全量放出する設計としている
。
上述したような圧力調整弁７が接続されたオゾン接触槽
３の底部からは、上述したようなオゾン発生機（図示省
略）より生成されたオゾンを含む空気が配管４を通して
圧入される。圧入された空気は、デフユーザ５で極めて
小さな気泡とされ、オゾン接触槽３内の水に接触する。
３の底部からは、上述したようなオゾン発生機（図示省
略）より生成されたオゾンを含む空気が配管４を通して
圧入される。圧入された空気は、デフユーザ５で極めて
小さな気泡とされ、オゾン接触槽３内の水に接触する。
このようにして、オゾン処理が行なわれる。
オゾン処理された水は、オゾン接触槽３内の圧力により
、そのまま配管８を通り、活性炭槽９に送られる。活性
炭槽９に供給された水は、粒状活性炭１０により活性炭
処理された後、活性炭槽９を通過して、浄水用貯水槽１
１に貯留される。
、そのまま配管８を通り、活性炭槽９に送られる。活性
炭槽９に供給された水は、粒状活性炭１０により活性炭
処理された後、活性炭槽９を通過して、浄水用貯水槽１
１に貯留される。
以上のように構成された高度浄水処理装置では、従来の
装置のように、オゾン接触槽と活性炭槽の間に、中間槽
を設ける必要はない。また、中間槽から活性炭槽へ上水
を供給するポンプなどの手段も不必要である。したがっ
て、オゾン接触槽と活性炭槽がコンパクトに配置された
高度浄水処理装置とすることができる。
装置のように、オゾン接触槽と活性炭槽の間に、中間槽
を設ける必要はない。また、中間槽から活性炭槽へ上水
を供給するポンプなどの手段も不必要である。したがっ
て、オゾン接触槽と活性炭槽がコンパクトに配置された
高度浄水処理装置とすることができる。
なお、この実施例において、オゾン接触槽および活性炭
槽が、それぞれ１ｍずつ設けられた装置を詳述したが、
オゾン接触槽および活性炭槽を複数設け、それぞれを並
列あるいは直列に接続させてもよい。
槽が、それぞれ１ｍずつ設けられた装置を詳述したが、
オゾン接触槽および活性炭槽を複数設け、それぞれを並
列あるいは直列に接続させてもよい。
また、実施例ではオゾン接触槽および活性炭槽の下部か
ら上部に向かって水を流す例を示したが、上部から下部
に水を流すような方法または装置であってもよい。
ら上部に向かって水を流す例を示したが、上部から下部
に水を流すような方法または装置であってもよい。
また、実施例では圧力調整弁としてダイヤフラム式の：
Ａ！ｌ弁を示したが、その他の形式でもよい。
Ａ！ｌ弁を示したが、その他の形式でもよい。
また、第１および第２の発明において、上水１」（給手
段は実施例において示したポンプに限定されるものでは
ない。
段は実施例において示したポンプに限定されるものでは
ない。
［発明の効果］
第１および第２の発明の高度浄水処理方法および装置は
、以上説明したように、より狭いスペースでも処理を行
なうことができる方法および装置である。さらに、オゾ
ン接触槽と活性炭槽の間に従来必要であった中間槽およ
びポンプが不必要であるため、設備費用の低減も図るこ
とができる。
、以上説明したように、より狭いスペースでも処理を行
なうことができる方法および装置である。さらに、オゾ
ン接触槽と活性炭槽の間に従来必要であった中間槽およ
びポンプが不必要であるため、設備費用の低減も図るこ
とができる。
したがって、上水の脱臭、脱色および何機塩素化合物の
除去を目的とする高度浄水処理の分野において、マンシ
ョンやオフィスビルなど設置場所が狭く制約されている
建造物において使用でき、より安い設備費用でユーザに
おいしい水を提供できるものである。
除去を目的とする高度浄水処理の分野において、マンシ
ョンやオフィスビルなど設置場所が狭く制約されている
建造物において使用でき、より安い設備費用でユーザに
おいしい水を提供できるものである。
第１図は、この発明に従う一実施例の特徴を示す嘆弐図
である。 第２図は、この発明に従う一実施例に用いられた圧力調
整弁を示す断面図である。 第３図は、従来の高度浄水処理装置の特徴を示す模式図
である。 図において、１および３０は受水槽、２．３１および３
６はポンプ、３および３２はオゾン接触槽、４．６．８
および３３は配管、５および３４はデフユーザ、７は圧
力調整弁、９および３７は活性炭槽、１０および３８は
粒状活性炭、１１および３９は浄水用貯水槽、２０は流
入口、２１は排気口、２２は本体、２３はダイヤフラム
支持体、２４はボルト、２５はダイヤフラム、２５ａは
ダイヤフラム突出部、２６はスプリング、２７は圧カニ
Ｊ！Ｊ整ねじ、３５は中間槽を示す。
である。 第２図は、この発明に従う一実施例に用いられた圧力調
整弁を示す断面図である。 第３図は、従来の高度浄水処理装置の特徴を示す模式図
である。 図において、１および３０は受水槽、２．３１および３
６はポンプ、３および３２はオゾン接触槽、４．６．８
および３３は配管、５および３４はデフユーザ、７は圧
力調整弁、９および３７は活性炭槽、１０および３８は
粒状活性炭、１１および３９は浄水用貯水槽、２０は流
入口、２１は排気口、２２は本体、２３はダイヤフラム
支持体、２４はボルト、２５はダイヤフラム、２５ａは
ダイヤフラム突出部、２６はスプリング、２７は圧カニ
Ｊ！Ｊ整ねじ、３５は中間槽を示す。
Claims (2)
- （１）上水供給手段により上水をオゾン接触槽に供給し
、オゾン発生手段により発生したオゾンを含む気体を接
触させた後、活性炭槽に供給して活性炭処理を行なう高
度浄水処理方法において、前記オゾン接触槽内の圧力を
、前記オゾン発生手段によるオゾンを含む気体の供給圧
力以下に調整し、 前記上水供給手段の圧力により前記オゾン接触槽から前
記活性炭槽へオゾン処理後の水を供給することを特徴と
する高度浄水処理方法。 - （２）上水供給手段により上水をオゾン接触槽に供給し
、オゾン発生手段により発生したオゾンを含む気体を接
触させた後、活性炭槽に供給して活性炭処理を行なう高
度浄水処理装置において、前記オゾン接触槽は、前記オ
ゾン発生手段によるオゾンを含む気体の供給圧力以下に
前記オゾン接触槽内の圧力を調整する圧力調整弁を有し
、前記上水供給手段の圧力により前記オゾン接触槽から
前記活性炭槽へオゾン処理後の水を供給することを特徴
とする高度浄水処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29686389A JPH03157193A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 高度浄水処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29686389A JPH03157193A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 高度浄水処理方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03157193A true JPH03157193A (ja) | 1991-07-05 |
Family
ID=17839140
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29686389A Pending JPH03157193A (ja) | 1989-11-14 | 1989-11-14 | 高度浄水処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03157193A (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5939386A (ja) * | 1982-08-27 | 1984-03-03 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 水道水中の有機ハロゲン化合物除去方法 |
| JPS6025587A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-02-08 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 水の高度処理法 |
| JPS61185388A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | 飲料水精製装置 |
| JPS61291097A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Fuji Electric Co Ltd | オゾン処理装置 |
-
1989
- 1989-11-14 JP JP29686389A patent/JPH03157193A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5939386A (ja) * | 1982-08-27 | 1984-03-03 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 水道水中の有機ハロゲン化合物除去方法 |
| JPS6025587A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-02-08 | Fuji Electric Corp Res & Dev Ltd | 水の高度処理法 |
| JPS61185388A (ja) * | 1985-02-13 | 1986-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | 飲料水精製装置 |
| JPS61291097A (ja) * | 1985-06-19 | 1986-12-20 | Fuji Electric Co Ltd | オゾン処理装置 |
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