JPH0315719A - 放射応答方法及びセンサ - Google Patents
放射応答方法及びセンサInfo
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- JPH0315719A JPH0315719A JP2028645A JP2864590A JPH0315719A JP H0315719 A JPH0315719 A JP H0315719A JP 2028645 A JP2028645 A JP 2028645A JP 2864590 A JP2864590 A JP 2864590A JP H0315719 A JPH0315719 A JP H0315719A
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- Japan
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- grating
- radiation
- diffracted
- diffraction grating
- wavelength
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Transform (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は物理的パラメータを検出監視するための電磁放
射センサおよびシステムに関する。より特定すれば、本
発明は変位、応力、圧力および温度のような各種物理パ
ラメータを、そこで反射された光が平面に対し鋭角をな
すように移動する回析格子の線間隔が不均一である可動
型格子から回析された狭帯域の光を検出することによっ
て検知するセンサ、変換器、システムに関する。
射センサおよびシステムに関する。より特定すれば、本
発明は変位、応力、圧力および温度のような各種物理パ
ラメータを、そこで反射された光が平面に対し鋭角をな
すように移動する回析格子の線間隔が不均一である可動
型格子から回析された狭帯域の光を検出することによっ
て検知するセンサ、変換器、システムに関する。
回折格子は平らな基板の表面に平行な刻みを引き、その
各刻みを発散光にさらすことにより典型的には形戊され
る。光が格子を通して伝達されると、出力光は出力波面
において周期的な変動を含む。対照的に光がそのような
表面から反射されると、発欣光は強さと波長に依存して
変化する干渉縞を生ずる位相関係をもってある目標物に
到達する。
各刻みを発散光にさらすことにより典型的には形戊され
る。光が格子を通して伝達されると、出力光は出力波面
において周期的な変動を含む。対照的に光がそのような
表面から反射されると、発欣光は強さと波長に依存して
変化する干渉縞を生ずる位相関係をもってある目標物に
到達する。
回折格子は種々の応用分野で目的とする機能に応じて光
エネルギを解析する一助として使用されてきた。たとえ
ば合衆国特許3, 818. 498 }ムリンソン(
Tom 1 i nson)の特許は多重波長光を或分
に分解し、そのために光チャンネルドロッパ、波長選択
ビームスプリツタ、反射板、フィルタを有するくさび形
の線周期の回折格子の使用を開示している。これらの機
器は光通信の分野で特に有用である。同様に合衆国特許
4, 408. 884のタレインネク} (Kle
inknecht)の特許は、シリコンウェハー上に形
戊されたパターンを品質管理の目的で検出するために回
折格子を使用することを開示している。
エネルギを解析する一助として使用されてきた。たとえ
ば合衆国特許3, 818. 498 }ムリンソン(
Tom 1 i nson)の特許は多重波長光を或分
に分解し、そのために光チャンネルドロッパ、波長選択
ビームスプリツタ、反射板、フィルタを有するくさび形
の線周期の回折格子の使用を開示している。これらの機
器は光通信の分野で特に有用である。同様に合衆国特許
4, 408. 884のタレインネク} (Kle
inknecht)の特許は、シリコンウェハー上に形
戊されたパターンを品質管理の目的で検出するために回
折格子を使用することを開示している。
大気温、圧力、応力部材の相対的変位を決定するために
部材上に設置又は形或された不均一な回析格子により鋭
角的に回折された広帯域スベクトラムの光を使用する光
変換器を供給することが本発明の目的である。
部材上に設置又は形或された不均一な回析格子により鋭
角的に回折された広帯域スベクトラムの光を使用する光
変換器を供給することが本発明の目的である。
温度又は他の物理量の変化に応じた変位に応答して状態
を変化させる光スイッチとして機能する本質的に2状態
を有する光変換器を供給することが本発明の目的である
。
を変化させる光スイッチとして機能する本質的に2状態
を有する光変換器を供給することが本発明の目的である
。
選択された部材の変位に応答して温度補償情報を供給す
る合或回折格子を使用した光変換器を供給することが本
発明の目的である。
る合或回折格子を使用した光変換器を供給することが本
発明の目的である。
本発明は物理的パラメータに関し有意義な情報を供給す
る変換器の分野に回折された光を使用する変換器システ
ムを供給する。光エネルギは波長に関し解析された回折
エネルギの一部を回折格子に直接照射される。格子の回
折特性に影響を与える変位又は温度のような他の変化は
解析された波長の関数として決定される。
る変換器の分野に回折された光を使用する変換器システ
ムを供給する。光エネルギは波長に関し解析された回折
エネルギの一部を回折格子に直接照射される。格子の回
折特性に影響を与える変位又は温度のような他の変化は
解析された波長の関数として決定される。
本発明の1つの具体例において回折格子は中央の回折境
界で回折周期が階段状に変化する第1と第2の格子から
構戒されている。格子は格子上の照射部の関数として回
折される広帯域光によって照射される。少くとも回折さ
れた光の1つの次数は第1の格子が照射された時は第1
の波長であり、第2の格子が照射された時は第2の波長
であり、回折格子の変位に応じて発散光の下を第1と第
2の格子の境界が通過する時に第1の波長と第2の波長
の間が切り換わる。
界で回折周期が階段状に変化する第1と第2の格子から
構戒されている。格子は格子上の照射部の関数として回
折される広帯域光によって照射される。少くとも回折さ
れた光の1つの次数は第1の格子が照射された時は第1
の波長であり、第2の格子が照射された時は第2の波長
であり、回折格子の変位に応じて発散光の下を第1と第
2の格子の境界が通過する時に第1の波長と第2の波長
の間が切り換わる。
本発明の他の具体例においては、回折格子はリニアに又
は指数的に又は他の関数に従って変化する可変格子周期
を有している。回折格子は変位部材の上に設置され、光
源により照射され、反射光は変位の関数として変化する
。
は指数的に又は他の関数に従って変化する可変格子周期
を有している。回折格子は変位部材の上に設置され、光
源により照射され、反射光は変位の関数として変化する
。
さらに本発明の別の具体例において、合或回折格子は一
定の線周期を有する第1の回折格子と可変格子周期を有
する第2の回折格子により定義される。第1の格子は第
2の格子の側面に近づけて設置されるため、第1の格子
と第2の格子の線は平行である。第2の格子の格子周期
はリニアに、又は指数的に又は他の予め定められた関数
に従って変化する。合戊回折格子により回折された光は
第1の格子の一定周期に対応した波長と第2の格子の可
変周期に対応した波長を含む。格子が変位すると、回折
された光の波長或分は第1の格子による反射と回折によ
り生じた一定波長或分と第2の格子による回折と反射に
より生ずる可変波長或分を有する。システムの温度が変
化したとすると、第1の格子および第2の格子から反射
された光の波長が、第1の回折格子からの波長を第2の
回折格子の温度の変動に対する補償として反映できるよ
うに温度に依存して変化する。格子は温度圧力そして変
位センサとして使用されるであろう。温度又は圧カセン
サとして印加された温度又は圧力に対応して膨張収縮す
る。変位センサとしては変位力に応答して格子が変位さ
れる。
定の線周期を有する第1の回折格子と可変格子周期を有
する第2の回折格子により定義される。第1の格子は第
2の格子の側面に近づけて設置されるため、第1の格子
と第2の格子の線は平行である。第2の格子の格子周期
はリニアに、又は指数的に又は他の予め定められた関数
に従って変化する。合戊回折格子により回折された光は
第1の格子の一定周期に対応した波長と第2の格子の可
変周期に対応した波長を含む。格子が変位すると、回折
された光の波長或分は第1の格子による反射と回折によ
り生じた一定波長或分と第2の格子による回折と反射に
より生ずる可変波長或分を有する。システムの温度が変
化したとすると、第1の格子および第2の格子から反射
された光の波長が、第1の回折格子からの波長を第2の
回折格子の温度の変動に対する補償として反映できるよ
うに温度に依存して変化する。格子は温度圧力そして変
位センサとして使用されるであろう。温度又は圧カセン
サとして印加された温度又は圧力に対応して膨張収縮す
る。変位センサとしては変位力に応答して格子が変位さ
れる。
本発明は正確な変位又は他の物理的パラメータの測定を
達或することができる装置を利点をもって供給する。本
発明によれば光変位センサは第1の格子周期を有する回
折格子と、異なる第2の格子周期を有する回折格子と、
予め定められた角度で広帯域の光放射を有する該回折格
子を照射する手段と、該回折格子により回折された光の
性質の変化を境界が照射光に対して変位した時、第1と
第2の格子の間の境界の照射の結果として検出する手段
からなる。
達或することができる装置を利点をもって供給する。本
発明によれば光変位センサは第1の格子周期を有する回
折格子と、異なる第2の格子周期を有する回折格子と、
予め定められた角度で広帯域の光放射を有する該回折格
子を照射する手段と、該回折格子により回折された光の
性質の変化を境界が照射光に対して変位した時、第1と
第2の格子の間の境界の照射の結果として検出する手段
からなる。
本発明の他の目的と応用可能な他の分野は以下の同一部
分は同一の参照番号を付した添付図を考慮した詳細な説
明から明らかとなるであろう。
分は同一の参照番号を付した添付図を考慮した詳細な説
明から明らかとなるであろう。
本発明による光変換システムの好ましい具体例は第1図
に描かれており、ここでは一般に参照番号10で示され
る。図示のように、広帯域の光源l2は変換器の測定法
に影響を与える赤外線可視光線紫外線といった望ましい
スペクトラム帯の光を発光する。広帯域の光源12から
放射された光は光ファイバ14を通過し、光ファイバ1
4の端からレンズ18に向う。光はレンズ18により反
射形回折格子20の表面上に角度h.で息点を結び、回
折格子20で反射され、以下に述べるように解析される
。
に描かれており、ここでは一般に参照番号10で示され
る。図示のように、広帯域の光源l2は変換器の測定法
に影響を与える赤外線可視光線紫外線といった望ましい
スペクトラム帯の光を発光する。広帯域の光源12から
放射された光は光ファイバ14を通過し、光ファイバ1
4の端からレンズ18に向う。光はレンズ18により反
射形回折格子20の表面上に角度h.で息点を結び、回
折格子20で反射され、以下に述べるように解析される
。
反射形回折格子20は線周期Aの第1の格子22と間隔
八とは異なる線周期Bを有する第2の格子から形或され
ている。第1図において線とその周期は近接した平行線
で図形化して示されている。2枚の格子22と24は第
1と第2の格子22と24の格子線が26で定義される
結合部又はインターフェイス部で相互に本質的に平行と
なるように結合される。
八とは異なる線周期Bを有する第2の格子から形或され
ている。第1図において線とその周期は近接した平行線
で図形化して示されている。2枚の格子22と24は第
1と第2の格子22と24の格子線が26で定義される
結合部又はインターフェイス部で相互に本質的に平行と
なるように結合される。
回折格子20は各格子22と24(又はレプリカ)を中
央線で切断し、境界26を定義するために相互に近接し
た関係で規定された端を有する共通の基板(第l図には
図示せず)上に格子を設置することにより、組み立て可
能である。
央線で切断し、境界26を定義するために相互に近接し
た関係で規定された端を有する共通の基板(第l図には
図示せず)上に格子を設置することにより、組み立て可
能である。
一般的に周期AとBとの差は以下に述べるように相違が
大きければ大きいほど、出力信号の信号対雑音比が高く
なるので、望ましい結果を達或するよう十分な大きさと
されるべきである。第1の回折格子22が1センチメー
トル当り数千本の線の密度であれば、第2の回折格子2
4の線密度は半分ないしは2倍であれば満足である。第
1と第2の回折格子を共通基礎上に設置して合戊する回
折格子20の組み立てのほかに、回折格子は基板(即ち
アルミをコーティングしたガラス)の一部に第1の周期
で線を引き、基板の第2の連続した部分に、周期がステ
ップ状に変化する遷移境界26を定義するために第2の
周期で線を引くことによっても組み立てることができる
。
大きければ大きいほど、出力信号の信号対雑音比が高く
なるので、望ましい結果を達或するよう十分な大きさと
されるべきである。第1の回折格子22が1センチメー
トル当り数千本の線の密度であれば、第2の回折格子2
4の線密度は半分ないしは2倍であれば満足である。第
1と第2の回折格子を共通基礎上に設置して合戊する回
折格子20の組み立てのほかに、回折格子は基板(即ち
アルミをコーティングしたガラス)の一部に第1の周期
で線を引き、基板の第2の連続した部分に、周期がステ
ップ状に変化する遷移境界26を定義するために第2の
周期で線を引くことによっても組み立てることができる
。
レンズ18により集光された光は回折格子20を格子2
0の法線から角度hOで横切り、レンズ28の方向に格
子20の法線から角度h,で反射され、光ファイバー3
2の端でき点を結ぶ。反射光は光ファイバ32により搬
送され、その端34から検出器36へ供給される。検出
器36は光ファイバ32から供給された光に対応した電
気出力を出力するように設計され、伝達回折格子40上
に反射光がき,点を結ぶようにレンズ38を含んでいる
。光は回折格子により種々の次数(即ちM=0,−1,
+1・・・)で回折され、CCD(i荷結合素子)アレ
−42で検出される。CCDアレイ42は典型的には、
線チャネルに組み立てられたセルのグループを有する光
応答セルの2次元配列によって定義される。選択された
図形にさらされると、照射された光は電荷を形戊し、解
析のために出力にシフトされる。このようにCCDアレ
イ42は選択された照射に対応した部分だけでなく照射
の強さの出力も具備することができる。伝達回折格子4
0は光ファイバー32からの光をCCDアレイ42の選
択された部分上に波長の関数として解析するために、ア
レイ42の出力もまた回折格子20から供給される光の
波長ないしは波長の変化を決定するための関数である。
0の法線から角度hOで横切り、レンズ28の方向に格
子20の法線から角度h,で反射され、光ファイバー3
2の端でき点を結ぶ。反射光は光ファイバ32により搬
送され、その端34から検出器36へ供給される。検出
器36は光ファイバ32から供給された光に対応した電
気出力を出力するように設計され、伝達回折格子40上
に反射光がき,点を結ぶようにレンズ38を含んでいる
。光は回折格子により種々の次数(即ちM=0,−1,
+1・・・)で回折され、CCD(i荷結合素子)アレ
−42で検出される。CCDアレイ42は典型的には、
線チャネルに組み立てられたセルのグループを有する光
応答セルの2次元配列によって定義される。選択された
図形にさらされると、照射された光は電荷を形戊し、解
析のために出力にシフトされる。このようにCCDアレ
イ42は選択された照射に対応した部分だけでなく照射
の強さの出力も具備することができる。伝達回折格子4
0は光ファイバー32からの光をCCDアレイ42の選
択された部分上に波長の関数として解析するために、ア
レイ42の出力もまた回折格子20から供給される光の
波長ないしは波長の変化を決定するための関数である。
CCDアレイ42で検出された光は信号処理器46で処
理するための電気信号に変換される。
理するための電気信号に変換される。
第1図に示す要素の構或において、回折格子20は方向
矢印×によって示されるように水平方向に左側に可動で
きるように設置されている。第1図に示した位置におい
て、レンズ18により集光された光は第lの格子22の
表面のみを照射し、文献から明らかなように、格子周期
Aに対応した波長の光を比較的一定の強度で反射する。
矢印×によって示されるように水平方向に左側に可動で
きるように設置されている。第1図に示した位置におい
て、レンズ18により集光された光は第lの格子22の
表面のみを照射し、文献から明らかなように、格子周期
Aに対応した波長の光を比較的一定の強度で反射する。
検出器36中に導びかれた光はCCDアレイ42の対応
部分を照射する回折格子40によって解析され、結局格
子22の線周期八の関数である出力を出力する。同様に
レンズl8により集光された光が第2の格子の表面のみ
を照射した場合には、反射光は第2の格子24の間隔B
に対応した第2の異なった波長を有する。
部分を照射する回折格子40によって解析され、結局格
子22の線周期八の関数である出力を出力する。同様に
レンズl8により集光された光が第2の格子の表面のみ
を照射した場合には、反射光は第2の格子24の間隔B
に対応した第2の異なった波長を有する。
この光はまた44に格子22の線周期Bの関数である他
の信号出力を出力することとなるCCDアレイ42の相
違した対応部を照射する回折格子40によって回折され
る。認識されるように、異なった波長の出力信号は信号
処理器46の中で判別されることが可能である。
の信号出力を出力することとなるCCDアレイ42の相
違した対応部を照射する回折格子40によって回折され
る。認識されるように、異なった波長の出力信号は信号
処理器46の中で判別されることが可能である。
第1図において回折格子が左へ移動すると、第一の格子
22から反射された光は第1の信号を生或するためにC
CDアレイ42の第1の対応部分を照射し、そしてレン
ズ18からの入力光が境界26を照射したとき、反射光
は第1の周期Aに対応した第1の波長の光と第2の周期
Bに対応しCCDアレイ42の他の部分を照射する第2
の波長の光を含む。
22から反射された光は第1の信号を生或するためにC
CDアレイ42の第1の対応部分を照射し、そしてレン
ズ18からの入力光が境界26を照射したとき、反射光
は第1の周期Aに対応した第1の波長の光と第2の周期
Bに対応しCCDアレイ42の他の部分を照射する第2
の波長の光を含む。
回折格子20が左方に移動を続けると、境界線26の反
対側の第1と第2の格子22と24の部分が均等にレン
ズl8からの光によって照射され、両方の波長を本質的
に同じ照射強さで含み、CCDアレイ42に対応した信
号を供給する。この分野の文献からわかるように、検出
器36の出力は同様に照射部分を通過する境界26の相
対的な変位により過渡応答を通過する。回折格子20の
最終的な分解能はレンズ18から供給される光のスポッ
トの大きさの関数であり、検出器36の出力は本質的に
2状態であり、そのため光変位システム10はスイッチ
と相似の機能をはたす。
対側の第1と第2の格子22と24の部分が均等にレン
ズl8からの光によって照射され、両方の波長を本質的
に同じ照射強さで含み、CCDアレイ42に対応した信
号を供給する。この分野の文献からわかるように、検出
器36の出力は同様に照射部分を通過する境界26の相
対的な変位により過渡応答を通過する。回折格子20の
最終的な分解能はレンズ18から供給される光のスポッ
トの大きさの関数であり、検出器36の出力は本質的に
2状態であり、そのため光変位システム10はスイッチ
と相似の機能をはたす。
回折格子20の表面から角度h1で反射された光の波長
は格子の式Iを使って以下のように決定できる、 sin h,=mL/S +sin ho・(J)但し
、 L・・・波長 m・・・最大回折次数 S・・・格子周期 h0・・・格子への入射角 h1・・・格子からの反射角 レンズ18と28及び光ファイバ14と32を回折格子
20に対して固定した支持〈図示せず)に取り付けるこ
とで角度hoとh1は一定になる。第1と第2の格子の
各格子周期Sは周期AとBに固定され、したがって検出
する回折次数をあらかじめ決めれば、レンズ28に反射
される光の波長とその強度はCCDアレイ42で検出し
て決定できる。回折格子20の回折光にある欲しい情報
は効果的に波長変調されるから、第1図のシステムは重
要な広波長域の背景光が存在する場合の応用にも適して
いる。
は格子の式Iを使って以下のように決定できる、 sin h,=mL/S +sin ho・(J)但し
、 L・・・波長 m・・・最大回折次数 S・・・格子周期 h0・・・格子への入射角 h1・・・格子からの反射角 レンズ18と28及び光ファイバ14と32を回折格子
20に対して固定した支持〈図示せず)に取り付けるこ
とで角度hoとh1は一定になる。第1と第2の格子の
各格子周期Sは周期AとBに固定され、したがって検出
する回折次数をあらかじめ決めれば、レンズ28に反射
される光の波長とその強度はCCDアレイ42で検出し
て決定できる。回折格子20の回折光にある欲しい情報
は効果的に波長変調されるから、第1図のシステムは重
要な広波長域の背景光が存在する場合の応用にも適して
いる。
第1図の実施例はレンズ18からの供給光を受ける平面
回折格子を示し、直線変位関連での使用に適している。
回折格子を示し、直線変位関連での使用に適している。
加えて回折格子20の形は角変位を含む応用のため変更
できる。たとえば第2図に示すように回折格子20′は
曲線の部分として形或され、軸Axの回りを回転するよ
うに取り付けられた円柱状シャフトの周辺部分に取り付
けられる。第1の格子22′ と第2の格子24′ は
、回折格子20′の動きが検出器(第2図には示さない
)によって検出される強度と波長の変化を生じるように
配置され、よって回転動作を感知する2状態スイッチと
して動作する。第2A図に示すように、第2図に示した
構造の回転動作を検出する他の方法は円柱状シャフト4
8の軸端面に取り付けられた回折格子20″を有する。
できる。たとえば第2図に示すように回折格子20′は
曲線の部分として形或され、軸Axの回りを回転するよ
うに取り付けられた円柱状シャフトの周辺部分に取り付
けられる。第1の格子22′ と第2の格子24′ は
、回折格子20′の動きが検出器(第2図には示さない
)によって検出される強度と波長の変化を生じるように
配置され、よって回転動作を感知する2状態スイッチと
して動作する。第2A図に示すように、第2図に示した
構造の回転動作を検出する他の方法は円柱状シャフト4
8の軸端面に取り付けられた回折格子20″を有する。
回折格子20″′は線が放射状に並べられる。当然有効
部分は回転軸Axからの半径の関数で変わる。すなわち
回折格子20″は軸Aχに同心状に取り付けることが望
ましい。
部分は回転軸Axからの半径の関数で変わる。すなわち
回折格子20″は軸Aχに同心状に取り付けることが望
ましい。
格子変化は第1A図に示すように検出される。
ヘリウムーネオンレーザIOAは光ビーム12Aを出し
、この光ビームはベース16Aで支持される格子14A
から角度a.で反射される。回折光ビーム18Aはスク
リーン2OAで観測される。
、この光ビームはベース16Aで支持される格子14A
から角度a.で反射される。回折光ビーム18Aはスク
リーン2OAで観測される。
第IA図では反射格子14Aは反射か吸収のどちらかの
縞で構或される。反射格子14Aの格子周期Sは反射縞
の中心間の距離である。反射格子14Aが広波長域光に
よって一定角度a0で照明されると、光の回折は格子周
期Sと受光角a1に依存し、格子の式(rA)により、 S(sin ao−sin a,) =mL, −(
LA)但し、L+ は波長、角度a。とa1は入射光と
格子に垂直な面で測定される。値mは回折の次数で整数
である。式(IA)は前述の式(I)に近似している。
縞で構或される。反射格子14Aの格子周期Sは反射縞
の中心間の距離である。反射格子14Aが広波長域光に
よって一定角度a0で照明されると、光の回折は格子周
期Sと受光角a1に依存し、格子の式(rA)により、 S(sin ao−sin a,) =mL, −(
LA)但し、L+ は波長、角度a。とa1は入射光と
格子に垂直な面で測定される。値mは回折の次数で整数
である。式(IA)は前述の式(I)に近似している。
格子の縞はこの人射光平面に直角である。参照軸は入射
光が格子平面に入射する点から格子平面に垂直な方向に
延びるものとして定義される。入射角a0は参照軸に対
し正として定義され、回折角a,は負として定義される
。格子の式(rA)は格子周期が格子に沿って線型な位
置の関数である回折格子に適用でき、s =so+s,
x,そして照明される格子の部分は式(IB)から推
論できる。
光が格子平面に入射する点から格子平面に垂直な方向に
延びるものとして定義される。入射角a0は参照軸に対
し正として定義され、回折角a,は負として定義される
。格子の式(rA)は格子周期が格子に沿って線型な位
置の関数である回折格子に適用でき、s =so+s,
x,そして照明される格子の部分は式(IB)から推
論できる。
但し、mは1とし、x1は格子の変位、Soと31は変
位の前後でそれぞれ照明される位置での格子周期。
位の前後でそれぞれ照明される位置での格子周期。
ヘリウムーネオンレーザIOAからの光は格子14Aに
垂直に入射する。レーザは線型移動台1fliAに取り
付けられた格子からD1nれている。格子14Aからの
回折第1次光はスクリーン2OAに投射され距離D1が
決められる。数量Z1とD,(第IBで示した結果はこ
れを1mにした)は角度a1を決める。実際の変位(X
+)に対する測定から推定される変位(X,)は式(I
B)より得られる。
垂直に入射する。レーザは線型移動台1fliAに取り
付けられた格子からD1nれている。格子14Aからの
回折第1次光はスクリーン2OAに投射され距離D1が
決められる。数量Z1とD,(第IBで示した結果はこ
れを1mにした)は角度a1を決める。実際の変位(X
+)に対する測定から推定される変位(X,)は式(I
B)より得られる。
これらの測定結果は第IB図に示される。見ての通り変
位(X,)の測定値と実際の値は良く一致している。
位(X,)の測定値と実際の値は良く一致している。
本発明の第2の実施例は第3図に示され、この図では同
じ部分は同じ参照番号で示され、全体は参照番号50で
示される。平行な間隔を持った線で象徴して示されるよ
うに、反射回折格子52は線型的、指数関数的又は他の
関数に従って変化する変動格子周期を有している。格子
周期は一様でな《、周期的又は変動して良い。回折格子
52はCm当り数千本の初期線周期で基板に線を引き、
連続して刻まれた線を少しずつ周期を減し、連続して線
密度が増加するようにして作ることができる。
じ部分は同じ参照番号で示され、全体は参照番号50で
示される。平行な間隔を持った線で象徴して示されるよ
うに、反射回折格子52は線型的、指数関数的又は他の
関数に従って変化する変動格子周期を有している。格子
周期は一様でな《、周期的又は変動して良い。回折格子
52はCm当り数千本の初期線周期で基板に線を引き、
連続して刻まれた線を少しずつ周期を減し、連続して線
密度が増加するようにして作ることができる。
X方向の格子52の変位は、レンズ18から供給される
光によって照らされる格子周期のため、反射され回折さ
れる光の波長を変ることになる。波長変化は検出器36
によって検出され、検出器は波長の変化の関数である対
応する電気出力を次々に出し、これは第1図の実施例に
よる2状態の出力に比べて相対変位を正確に示す。第3
C図において、第3図での格子の変位(cm)は検出さ
れた回折光の波長(nm )の関数として示される。波
長は変位に対してほぼ200nm/cmの率で実質的に
線型に変化する。
光によって照らされる格子周期のため、反射され回折さ
れる光の波長を変ることになる。波長変化は検出器36
によって検出され、検出器は波長の変化の関数である対
応する電気出力を次々に出し、これは第1図の実施例に
よる2状態の出力に比べて相対変位を正確に示す。第3
C図において、第3図での格子の変位(cm)は検出さ
れた回折光の波長(nm )の関数として示される。波
長は変位に対してほぼ200nm/cmの率で実質的に
線型に変化する。
第3図の実施例に関連して、回折格子52の相対運動は
、格子52が取り付けられた移動部材によるか又は温度
、圧力又は応力/変形の変化による小さな変位など回折
格子52に働く物理的力によって生じる。後者に関連し
て第3A図に示され・るように、チャンバーに取り付け
られ押し棒56によって回折格子52継ながれたダイア
フラムのような圧力変換器54は、格子52の物理的圧
縮作用する圧力Pに応答し、対応する電気信号出力する
ように、圧力Pを回折格子52に適合させるのに使用で
きる。
、格子52が取り付けられた移動部材によるか又は温度
、圧力又は応力/変形の変化による小さな変位など回折
格子52に働く物理的力によって生じる。後者に関連し
て第3A図に示され・るように、チャンバーに取り付け
られ押し棒56によって回折格子52継ながれたダイア
フラムのような圧力変換器54は、格子52の物理的圧
縮作用する圧力Pに応答し、対応する電気信号出力する
ように、圧力Pを回折格子52に適合させるのに使用で
きる。
第3B図において、たとえば銅、アルミニウムで作られ
温度Qに応じて伸縮する温度アクチュエータ58が、温
度で変わる出力信号を出すように圧力を回折格子52′
に適合させるため取り付けられている。第3B図の実
施例で回折格子52′は第■図の回折格子の変動周期線
間隔と第3図の回折格子の隣接した固定周期線間隔の両
方を備えており、この形は固定波長出力に切り換える変
動波長出力を出す機能の併合を実現する。
温度Qに応じて伸縮する温度アクチュエータ58が、温
度で変わる出力信号を出すように圧力を回折格子52′
に適合させるため取り付けられている。第3B図の実
施例で回折格子52′は第■図の回折格子の変動周期線
間隔と第3図の回折格子の隣接した固定周期線間隔の両
方を備えており、この形は固定波長出力に切り換える変
動波長出力を出す機能の併合を実現する。
本発明の第3の実施例の複合回折格子は第4図で表わさ
れ参照番号62で示される。複合回折格子62は固定線
周期の第1の格子64と第3図の反射回析格子52とし
て前述した変動線周期の第2の格子66で定義される。
れ参照番号62で示される。複合回折格子62は固定線
周期の第1の格子64と第3図の反射回析格子52とし
て前述した変動線周期の第2の格子66で定義される。
見ての通り、第1の格子64は第2の格子66の隣接す
る側に合せて取り付けられ、第1と第2の格子64と6
6の線は大体平行である。
る側に合せて取り付けられ、第1と第2の格子64と6
6の線は大体平行である。
第2の格子66の格子周期は線型的、指数的又は他のあ
らかじめ定めた関数に対応して変動できる。
らかじめ定めた関数に対応して変動できる。
複合格子64は第1図の光回路で使われたもので、たと
えばレンズl8を通って供給される光は第1の格子64
と第2の格子66を一緒に照明する。レンズ28に反射
される光は第1の格子64の固定格子周期と第2の格子
66の変動格子周期に対応する波長を含む。回折格子6
2が変位した時、レンズ28に反射される光の波長要素
は第1の格子64の固定周期からの反射と回折による一
定の波長要素と第2の格子66の変動周期からの回折と
反射による変動波長要素を有する。
えばレンズl8を通って供給される光は第1の格子64
と第2の格子66を一緒に照明する。レンズ28に反射
される光は第1の格子64の固定格子周期と第2の格子
66の変動格子周期に対応する波長を含む。回折格子6
2が変位した時、レンズ28に反射される光の波長要素
は第1の格子64の固定周期からの反射と回折による一
定の波長要素と第2の格子66の変動周期からの回折と
反射による変動波長要素を有する。
第1と第2の格子64と66による波長出力WVlとW
V2の理想的な図的再現は第5図に示され、図で縦座標
は信号の振幅又は強度を表わし、横座標は波長を表わす
。見ての通り、ビークWv1は複合回折格子62のどん
な変位にも相対的に固定した波長を有し、ピークWV2
は復合回折格子62の物理的変位の関数で波長が変化
する。このように第1の回折格子64は変位に応じて第
2の格子66により出る波長の変動する光に対する参照
基準線として機能する。どのような一定温度の応用でも
第5図に示されるピークWV,の波長は相対的に固定さ
れる。システムの温度が変わると第1の格子64からの
反射光の波長は、第2の格子66からの波長と同様に、
温度に依存して変わる。温度の関数としての第1の格子
64からの回折波長における変動はこのように温度での
変動を補正する値として、回折格子66の出力の相対変
位として有用である。
V2の理想的な図的再現は第5図に示され、図で縦座標
は信号の振幅又は強度を表わし、横座標は波長を表わす
。見ての通り、ビークWv1は複合回折格子62のどん
な変位にも相対的に固定した波長を有し、ピークWV2
は復合回折格子62の物理的変位の関数で波長が変化
する。このように第1の回折格子64は変位に応じて第
2の格子66により出る波長の変動する光に対する参照
基準線として機能する。どのような一定温度の応用でも
第5図に示されるピークWV,の波長は相対的に固定さ
れる。システムの温度が変わると第1の格子64からの
反射光の波長は、第2の格子66からの波長と同様に、
温度に依存して変わる。温度の関数としての第1の格子
64からの回折波長における変動はこのように温度での
変動を補正する値として、回折格子66の出力の相対変
位として有用である。
補正は、第1の温度T,と第2の温度T2の温度差ΔT
における変化に対する第1の波長ビークWVlの波長変
化(wv. [’r,) −tIv. [:T2]
) ヲ、温度差ΔTにおける変化に対する第2の波長ピ
ークWV2の波長変化から引くことで行なえる。
における変化に対する第1の波長ビークWVlの波長変
化(wv. [’r,) −tIv. [:T2]
) ヲ、温度差ΔTにおける変化に対する第2の波長ピ
ークWV2の波長変化から引くことで行なえる。
温度変化に対する補正に加えて、第4図と第5図を関連
ずけて上に述べたように信号出力は、システムに誤差を
生じる広波長域光源12のスペクトルの時間変化も補正
できる。第6図に示すように光源12からの光の一部分
はファイバ70を通して検出器72に供給され、検出器
はレンズ74、回折格子76、及びCCDアレイ78を
有する。検出器72は上述のように検出器36と類似し
た方法で機能する。
ずけて上に述べたように信号出力は、システムに誤差を
生じる広波長域光源12のスペクトルの時間変化も補正
できる。第6図に示すように光源12からの光の一部分
はファイバ70を通して検出器72に供給され、検出器
はレンズ74、回折格子76、及びCCDアレイ78を
有する。検出器72は上述のように検出器36と類似し
た方法で機能する。
光源光72は検出器72で分解され、ノーマライザ(規
格化装置)80に送られる。ノルマライブは検出器36
から出力44を受け、CCDアレイ78の出力に対して
出力44を規格化し信号処理装置46に送る。
格化装置)80に送られる。ノルマライブは検出器36
から出力44を受け、CCDアレイ78の出力に対して
出力44を規格化し信号処理装置46に送る。
本発明の望ましい実施例では格子が温度センサとして機
能する。格子は既知の熱膨張係数を有する材料で作られ
ている。温度が変化するにしたがって格子周期が比例的
に変化する。格子よりの反射光はピークエネルギ波長(
Lp)を有する。ピークエネルギ波長Lpは以下の式■
で示されるように入射角(h1〉のsin と回折角(
ha)のsinの差を周期Sに乗じたものに等しい。
能する。格子は既知の熱膨張係数を有する材料で作られ
ている。温度が変化するにしたがって格子周期が比例的
に変化する。格子よりの反射光はピークエネルギ波長(
Lp)を有する。ピークエネルギ波長Lpは以下の式■
で示されるように入射角(h1〉のsin と回折角(
ha)のsinの差を周期Sに乗じたものに等しい。
Lp=S(sin h, −sin ho) −
(II)格子周期の変化Sdeltaは以下のように式
■で示される格子材料の熱膨張α係数を温度変化’f’
delta に乗じたものに等しい。
(II)格子周期の変化Sdeltaは以下のように式
■で示される格子材料の熱膨張α係数を温度変化’f’
delta に乗じたものに等しい。
Sdelta =a (Tdelta) − (II
I)格子周期の変化S+jeltaは式Iの格子周期S
に代用するから、波長変化Ldeltaは以下の弐■に
示されるように温度変化Tdeltaに関係付けられる
。
I)格子周期の変化S+jeltaは式Iの格子周期S
に代用するから、波長変化Ldeltaは以下の弐■に
示されるように温度変化Tdeltaに関係付けられる
。
Ldelta= 〔α(sin h+ −sin ho
)) Tdelta ・・・(rV)低い熱膨張性を有
する容易に圧縮できる弾性材料でできた回折格子とする
ことで、圧カセンサが第7A図に示すように光センサで
できる。圧力がダイアフラム110に加えられたとき、
ダイアフラムはアクチュエータ111に継ながれており
、格子基板112を押し、格子の周期を短くする。
)) Tdelta ・・・(rV)低い熱膨張性を有
する容易に圧縮できる弾性材料でできた回折格子とする
ことで、圧カセンサが第7A図に示すように光センサで
できる。圧力がダイアフラム110に加えられたとき、
ダイアフラムはアクチュエータ111に継ながれており
、格子基板112を押し、格子の周期を短くする。
光のような電磁放射は光源120から光ファイバ122
とレンズ124を通して鋭角で格子112の上表面の平
面に当たる。格子112で回折された放射はレンズl2
6、光ファイバl28、レンズ130そして格子132
を通って検出器134に伝わる。検出器134はライン
136を通してマイクロプロセッサ138に継ながれ、
マイクロプロセッサはライン140でメモリ142にラ
イン144で表示装置146に継ながれる。
とレンズ124を通して鋭角で格子112の上表面の平
面に当たる。格子112で回折された放射はレンズl2
6、光ファイバl28、レンズ130そして格子132
を通って検出器134に伝わる。検出器134はライン
136を通してマイクロプロセッサ138に継ながれ、
マイクロプロセッサはライン140でメモリ142にラ
イン144で表示装置146に継ながれる。
温度スイッチは基板212の格子の長さが周囲温度の変
化に良く応じる第7B図のシステムで実現される。たと
えばアルミニウム、鋼鉄又は銅のような金属が基板11
2を作る材料として使われる。
化に良く応じる第7B図のシステムで実現される。たと
えばアルミニウム、鋼鉄又は銅のような金属が基板11
2を作る材料として使われる。
光のような電磁放射は光源224から光ファイバ222
とレンズ224を通して鋭角で格子212の上表面の平
面に当たる。格子212で回折された放射はレンズ22
6、光ファイバ228、レンズ230 そして格子23
2を通って検出器234に伝わる。検出器234はライ
ン236でマイクロプロセッサ238に継ながり、マイ
クロプロセッサはライン240でメモリ242にライン
244でスイッチ246に継ながれる。
とレンズ224を通して鋭角で格子212の上表面の平
面に当たる。格子212で回折された放射はレンズ22
6、光ファイバ228、レンズ230 そして格子23
2を通って検出器234に伝わる。検出器234はライ
ン236でマイクロプロセッサ238に継ながり、マイ
クロプロセッサはライン240でメモリ242にライン
244でスイッチ246に継ながれる。
第7C図に示すようにダイアフラム313に継ながれた
圧カアクチュエーク312に格子基板310を付けるこ
とで、アクチュエータ312の位置は格子314からの
回折光により容易に決められる。検出器からの出力をス
イッチが働く位置にあらかじめセットすることで、ダイ
アフラム313上のブリセット圧力スイッチができる。
圧カアクチュエーク312に格子基板310を付けるこ
とで、アクチュエータ312の位置は格子314からの
回折光により容易に決められる。検出器からの出力をス
イッチが働く位置にあらかじめセットすることで、ダイ
アフラム313上のブリセット圧力スイッチができる。
光のような電磁放射は光源320から光ファイバ322
とレンズ324を通して鋭角で格子310の上表面の
平面に当る。格子310によって回折された放射はレン
ズ326、光ファイバ328、レンズ330及び格子3
32を通って検出器334に伝わる。検出器334はラ
イン336でマイクロプロセッサ338 に縦なかれ、
マイクロプロセッサはライン380でメモリ342にラ
イン344でスイッチ346 に継ながれている。
とレンズ324を通して鋭角で格子310の上表面の
平面に当る。格子310によって回折された放射はレン
ズ326、光ファイバ328、レンズ330及び格子3
32を通って検出器334に伝わる。検出器334はラ
イン336でマイクロプロセッサ338 に縦なかれ、
マイクロプロセッサはライン380でメモリ342にラ
イン344でスイッチ346 に継ながれている。
第7D図に示すように、格子基板410にアクチュエー
タ412を付けることによりアクチュエータ412の位
置は、検出器416によって検出される格子414から
の回折光から容易に決定される。検出器からの出力をあ
らかじめスイッチが働く位置にセットすることで、アク
チュエータ412の位置スインチができる。
タ412を付けることによりアクチュエータ412の位
置は、検出器416によって検出される格子414から
の回折光から容易に決定される。検出器からの出力をあ
らかじめスイッチが働く位置にセットすることで、アク
チュエータ412の位置スインチができる。
光のような電磁放射は光源410から光ファイバ422
とレンズ424を通して鋭角で格子410の上表面の平
面に当る。格子410によって回折された放射はレンズ
426、光ファイバ428、レンズ430及び格子43
2を通って検出器434に伝わる。検出器434 はラ
イン436でマイクロプロセッサ438 に継ながれ、
マイクロプロセッサはライン440でメモリ442 に
ライン444でスイッチ446 に継ながれている。
とレンズ424を通して鋭角で格子410の上表面の平
面に当る。格子410によって回折された放射はレンズ
426、光ファイバ428、レンズ430及び格子43
2を通って検出器434に伝わる。検出器434 はラ
イン436でマイクロプロセッサ438 に継ながれ、
マイクロプロセッサはライン440でメモリ442 に
ライン444でスイッチ446 に継ながれている。
第8A図、第8B図及び第8C図は2つの周期を有する
格子のそれぞれ短かい周期、境界、及び長い周期の部分
で回折された光の強度と波長分布を示し、それぞれ基板
がアクチュエー夕に対し、近ずいた位置、中央、離れた
位置で測定されたものに対応する。中央位置では格子に
伝えられる光は、格子の短い周期と長い周期の部分から
等しく回折される。このように短かい周期を有する格子
部分に光ビームが入射するなら、基板は中央の位置から
アクチュエー夕の方へ変位しており、より短かい波長の
みが検出される。基板が中央(スイッチ)位置へ向って
動くと、光ビームは短い周期と長い周期の部分の境界付
近に入射し、長い波長L1の要素が少し検出される。更
に基板が変位すると、基板がスイッチ位置になるまで長
い波長要素が増加し、2つの要素が等しくなる。更にア
クチュエー夕から離れる方向に中央位置から変位すると
、短い波長要素が最初的に消えるまで減少し、長い波長
の要素の強度が増加し、最大値になって一定になる。
格子のそれぞれ短かい周期、境界、及び長い周期の部分
で回折された光の強度と波長分布を示し、それぞれ基板
がアクチュエー夕に対し、近ずいた位置、中央、離れた
位置で測定されたものに対応する。中央位置では格子に
伝えられる光は、格子の短い周期と長い周期の部分から
等しく回折される。このように短かい周期を有する格子
部分に光ビームが入射するなら、基板は中央の位置から
アクチュエー夕の方へ変位しており、より短かい波長の
みが検出される。基板が中央(スイッチ)位置へ向って
動くと、光ビームは短い周期と長い周期の部分の境界付
近に入射し、長い波長L1の要素が少し検出される。更
に基板が変位すると、基板がスイッチ位置になるまで長
い波長要素が増加し、2つの要素が等しくなる。更にア
クチュエー夕から離れる方向に中央位置から変位すると
、短い波長要素が最初的に消えるまで減少し、長い波長
の要素の強度が増加し、最大値になって一定になる。
第9図に示すように、光のような電磁放射は源520か
ら光ファイバ522 とレンズ524を通して、鋭角で
温度検出格子512の上表面の平面に当る。
ら光ファイバ522 とレンズ524を通して、鋭角で
温度検出格子512の上表面の平面に当る。
透過格子512で回折された放射は、レンズ526、光
ファイバ528、レンズ530 と格子532を通って
検出器534 に伝わる。検出器534 はライン53
6でマイクロプロセッサ538に継ながれ、マイクロプ
ロセッサはライン540でメモリ542 にライン54
4でスイッチ546 に継げられる。
ファイバ528、レンズ530 と格子532を通って
検出器534 に伝わる。検出器534 はライン53
6でマイクロプロセッサ538に継ながれ、マイクロプ
ロセッサはライン540でメモリ542 にライン54
4でスイッチ546 に継げられる。
上述の実施例において、反射格子が良く使われたが、当
然透過格子も同様に使える。
然透過格子も同様に使える。
本発明により正確な変位又は他の物理パラメータの測定
ができる。
ができる。
第1図は本発明の第1の具体例を示した図、第1A図は
格子変位を検出するためのシステムのブロックダイヤグ
ラム、 第IB図は推定した格子変位と実際の格子変位の関係を
示すグラフ、 第2図は第1図に示す具体例の第1の変更例を示した図
、 第2A図は第1図に示す具体例の第2の変更例を示した
図、 第3図は本発明の第2の具体例を示した図、第3A図は
第3図に示す具体例の第1の変更例を示した図、 第3B図は第3図に示す具体例の第2の変更例を示した
図、 第3C図は第3図の具体例にたいする回折された波長と
相対変位の間の関係を示すグラフで、縦軸は波長をナノ
メートルで、横軸は絶対変位をセンナメートルで表す。 第4図は本発明の第3の具体例のための合或回析格子2
0を示す図、 第5図は第4図の合成回折から得られる出力信号の理想
化されたグラフで、縦軸は信号の大きさないし強度を、
横軸は波表を表す。 第6図は光源スベクトラムの時間的温度的変化に対する
信号出力を補正するためのシステムのブロックダイヤグ
ラム 第7A図は本発明による光圧カセンサのブロックダイヤ
グラム 第7B図は本発明による光温度センサのブロックダイヤ
グラム、 第7C図は本発明による光圧力スイッチのブロックダイ
ヤグラム、 第7D図は本発明による光位置スイッチのブロックダイ
ヤグラム、 第8A図は反射光の強さと、2つの周期格子の短い格子
周期を有する格子部分から反射された光の波長との関係
を示したグラフ、 第8B図は反射光の強さと、2つの周期格子の境界で反
射された光の波長との関係を示したグラフ、 第8C図は反射光の強さと2つの周期格子の長周期部分
で反射された光の波長との関係を示したグラフ、 第9図は本発明による光温度センサのブロックダイヤグ
ラムである。 図において 10・・・光変換システム 12・・・光源14・
・・光ファイバ 18・・・レンズ20・・・
回折格子 28・・・レンズ32・・・光フ
ァイバ 36・・・検出器46・・・信号処理
器 光釉 図面の浄書(内容に変更なし) 〜・l 〜.3A・ r 〜・3B. Fig.3C 回折された光のi5 手 続 補 正 書 (方式) 平或2年6月 /と日
格子変位を検出するためのシステムのブロックダイヤグ
ラム、 第IB図は推定した格子変位と実際の格子変位の関係を
示すグラフ、 第2図は第1図に示す具体例の第1の変更例を示した図
、 第2A図は第1図に示す具体例の第2の変更例を示した
図、 第3図は本発明の第2の具体例を示した図、第3A図は
第3図に示す具体例の第1の変更例を示した図、 第3B図は第3図に示す具体例の第2の変更例を示した
図、 第3C図は第3図の具体例にたいする回折された波長と
相対変位の間の関係を示すグラフで、縦軸は波長をナノ
メートルで、横軸は絶対変位をセンナメートルで表す。 第4図は本発明の第3の具体例のための合或回析格子2
0を示す図、 第5図は第4図の合成回折から得られる出力信号の理想
化されたグラフで、縦軸は信号の大きさないし強度を、
横軸は波表を表す。 第6図は光源スベクトラムの時間的温度的変化に対する
信号出力を補正するためのシステムのブロックダイヤグ
ラム 第7A図は本発明による光圧カセンサのブロックダイヤ
グラム 第7B図は本発明による光温度センサのブロックダイヤ
グラム、 第7C図は本発明による光圧力スイッチのブロックダイ
ヤグラム、 第7D図は本発明による光位置スイッチのブロックダイ
ヤグラム、 第8A図は反射光の強さと、2つの周期格子の短い格子
周期を有する格子部分から反射された光の波長との関係
を示したグラフ、 第8B図は反射光の強さと、2つの周期格子の境界で反
射された光の波長との関係を示したグラフ、 第8C図は反射光の強さと2つの周期格子の長周期部分
で反射された光の波長との関係を示したグラフ、 第9図は本発明による光温度センサのブロックダイヤグ
ラムである。 図において 10・・・光変換システム 12・・・光源14・
・・光ファイバ 18・・・レンズ20・・・
回折格子 28・・・レンズ32・・・光フ
ァイバ 36・・・検出器46・・・信号処理
器 光釉 図面の浄書(内容に変更なし) 〜・l 〜.3A・ r 〜・3B. Fig.3C 回折された光のi5 手 続 補 正 書 (方式) 平或2年6月 /と日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、放射源(12、120、220、320、420、
520)と回折格子素子(14A、20、20′、20
″、52、52′、62、112、212、310、4
10、512)の間の変位を検出する方法であって、該
回折格子(14A、20、20′、20″、52、52
′、62、112、212、310、410、512)
が少くとも一部に不均一な格子周期を有し、該回折格子
(14A、20、20′、20″、52、52′、62
、112、212、310、410、512)を該源(
12、120、220、320、420、520)で照
射する段階と、該回折格子素子(14A、20、20′
、20″、52、52′、62、112、212、31
0、410、512)から回折された放射の性質の、該
回折格子素子と該源(12、120、220、320、
420、520)が相対的に移動した時の変化を検出す
ることを特徴とする変位検出方法。 2、該照射段階が光ファイバ(14)によって該格子素
子(14A、20、20′、20″、52、52′、6
2、112、212、310、410、512)を照射
する段階よりなることを特徴とする請求項1記載の方法
。 3、該検出段階が、回折された放射が光ファイバ(32
)の中に焦点を結ぶことよりなることを特徴とする請求
項1又は2記載の方法。 4、該照射段階が該回折格子(14A、20、20′、
20″、52、52′、62、112、212、310
、410、512)を予め定められた角度で照射するこ
とを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の
方法。 5、該検出段階が少くとも回折された放射の波長を検出
する段階よりなることを特徴とする請求項1から4のい
ずれか1項に記載の方法。 6、該検出段階が該回折された放射を伝達回折格子素子
(40)上に直接照射し、放射応答素子のアレイ(42
)により、結果としての放射を検出し、該アレイ素子の
応答の関数として該波長を検出することよりなることを
特徴とする請求項5記載の方法。 7、回折格子(20、20′、20″、112、212
、310、410、512)が、相互に異なった格子周
期を有する2組に配列された格子と、それらの間に境界
(26)を有することを特徴とする請求項1から6のい
ずれか1項に記載の方法。 8、回折格子(52、52′、62)の少くとも1部が
順次変動する格子周期を有することを特徴とする請求項
1から6のいずれか1項に記載の方法。 9、該回折格子が一定格子周期の他の格子(64)を含
むことを特徴とする請求項7又は8記載の方法。 10、該他の格子(64)により回折された放射を検出
することにより、該回折された放射の性質の変動を検知
し、その変動によって、格子素子(62)のもう一方の
格子(即ち66)により回折された放射の対応した変動
を補償することを特徴とした請求項9記載の方法。 11、物理的パラメータの変動が、それに対応した前記
相対変位を引き起こし、回折された放射の該性質の変化
が物理的パラメータの変動に依存することを特徴とする
請求項1から10のいずれか1項に記載の方法。 12、該物理的パラメータが回折格子素子(14A、2
0、20′、20”、52、52′、62、112、2
12、310、410、512)に印加される機械的力
又は温度であることを特徴とする請求項11記載の方法
。 13、源(12)より発した放射の一部を、回折格子素
子(14A、20、20′、20″、52、52′、6
2、112、212、310、410、512)により
回折される前に検出し、回折格子(14A、20、20
′、20″、52、52′、62、112、212、3
10、410、512)により回折された放射の該性質
を規準化することにより、該性質の何らかの変動に応答
することを特徴とした請求項1から12のいずれか1項
に記載の方法。 14、放射源(12、120、220、320、420
、520)と該源(12、120、220、320、4
20、520)からの放射を受ける回折格子素子(14
A、20、20′、20”、52、52′、62、11
2、212、310、410、512)からなる電磁放
射センサであって、該回折格子(14A、20、20′
、20″、52、52′、62、112、212、31
0、410、512)が、不均一な格子周期を配列され
た格子からなり、検出装置(36、134、234、3
34、434、534)によって、該回折格子(14A
、20、20′、20″、52、52′、62、112
、212、310、410、512)により回折され、
不均一な格子周期によって引き起こされる、放射の予め
定められた性質の変化を検出することを特徴とする電磁
放射センサ。 15、回折格子素子が反射回折格子であることを特徴と
する請求項の14に記載のセンサ。 16、格子素子(14A、20、20′、20″、52
、52′、62、112、212、310、410、5
12)に照明放射を供給するのに光ファイバ(14)に
よることを特徴とする請求項の14又は15のいずれか
に記載のセンサ。 17、検出装置が回折放射を光ファイバ(32)の中へ
集光するレンズ(28)を有することを特徴とする請求
項14から16のいずれか1項に記載のセンサ。 18、検出装置が、少なくとも回折された放射の波長を
決定できる装置(36、134、234、334、43
4、534)を有することを特徴とする請求項の14か
ら17のいずれか1項に記載のセンサ。 19、検出装置が、回折放射を透過回折格子素子(40
)に向ける素子(38)と、それにより出る放射を検出
するための放射に感応する素子のアレイ(42)とを有
し、該波長をアレイ(42)素子の出力関数として検出
することを特徴とする請求項の18に記載のセンサ。 20、格子素子(14A、20、20′、20″、52
、52′、62、112、212、310、410、5
12)が、それぞれ異なる格子周期とその間の境界を有
する2つのグループが配列された格子を有することを特
徴とする請求項の14から19のいずれか1項に記載の
センサ。 21、少なくとも回折格子素子(52、52′、62)
の一部分は段々に変化する格子周期を有することを特徴
とする請求項の14から20のいずれか1項に記載のセ
ンサ。 22、回折格子素子が一定の格子周期を有する格子(6
4)を更に有することを特徴とする請求項の20又は2
1のいずれか1項に記載のセンサ。 23、機械力又は温度のような変動する物理パラメータ
を格子素子(14A、20、20′、20″、52、5
2′、62、112、212、310、410、512
)に加え、その上にこれに応じた該相対運動を生じさせ
る装置(54、58など)で、回折された放射の該特性
における変化が物理パラメータの変化に依存するもので
あることにより特徴ずけられる請求項の14から22の
いずれか1項に記載のセンサ。 24、該更なる格子(64)により回折される放射を検
出する装置と、回折された放射の特性の変化を検出する
装置と、格子素子(62)のもう一つの格子(66など
)により回折された放射の放射で補正することによりこ
のような変化に応答する装置で特徴ずけられる請求項の
22に記載のセンサ。 25、格子素子(14A、20、20′、20″、52
、52′、62、112、212、310、410、5
12)により回折される前に源(12)によって生じる
放射のある部分を検出する装置(70)と、格子素子(
14A、20、20′、20″、52、52′、62、
112、212、310、410、512)により回折
される放射の該特性を正規化することで該特性の変動に
応答する装置(80)で特徴ずけられる請求項の14か
ら24のいずれか1項に記載のセンサ。 26、回折格子素子(20、52、52′、62、11
2、212、310、410、512)は平面の放射受
け表面を有し、源(12、120、220、320、4
20、520)はその表面に鋭角(h_0)で放射を向
けることを特徴とする請求項14から25のいずれか1
項に記載のセンサ。 27、該特性が波長又は放射強度であることを特徴とす
る請求項の1から26のいずれか1項に記載の方法又は
センサ。 28、放射が光放射であることを特徴とする請求項の1
から27のいずれか1項に記載の方法又はセンサ。 29、該源(12、120、220、320、420、
520)からの放射は、実質的に回折された放射におけ
る波長域より広い波長域を有することを特徴とする請求
項の1から28のいずれか1項に記載の方法又はセンサ
。
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|---|---|---|---|
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Family Applications (1)
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07318373A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-08 | Ricoh Co Ltd | エンコーダ装置 |
| JP2006180931A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Kao Corp | 清掃具 |
| JP2020159771A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | 国立大学法人東北大学 | 絶対位置測定装置および絶対位置測定方法 |
| JP2021004861A (ja) * | 2019-06-27 | 2021-01-14 | Dmg森精機株式会社 | 検出装置 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2073409A1 (en) * | 1991-10-15 | 1993-04-16 | Paul F. Sullivan | Light beam position detection and control apparatus employing diffraction patterns |
| US5401956A (en) * | 1993-09-29 | 1995-03-28 | United Technologies Corporation | Diagnostic system for fiber grating sensors |
| US20050225861A1 (en) * | 1995-03-13 | 2005-10-13 | Thomas Mossberg | Segmented complex diffraction gratings |
| US5760391A (en) * | 1996-07-17 | 1998-06-02 | Mechanical Technology, Inc. | Passive optical wavelength analyzer with a passive nonuniform optical grating |
| US6336362B1 (en) | 1998-01-22 | 2002-01-08 | Roy A. Duenas | Method and system for measuring and remotely reporting the liquid level of tanks and the usage thereof |
| US6858834B2 (en) * | 2000-10-18 | 2005-02-22 | Fibera, Inc. | Light wavelength meter |
| US6812452B2 (en) * | 2000-10-18 | 2004-11-02 | Fibera, Inc. | Apparatus and method for measuring the wavelength of light present in a light beam |
| US20040135076A1 (en) * | 2003-01-15 | 2004-07-15 | Xerox Corporation | Method and apparatus for obtaining a high quality sine wave from an analog quadrature encoder |
| US7580323B2 (en) * | 2005-10-21 | 2009-08-25 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Adninistration | Tunable optical assembly with vibration dampening |
| US7636165B2 (en) * | 2006-03-21 | 2009-12-22 | Asml Netherlands B.V. | Displacement measurement systems lithographic apparatus and device manufacturing method |
| US8537377B2 (en) | 2011-04-27 | 2013-09-17 | Raytheon Company | Absolute position encoder |
| CN109827657B (zh) * | 2019-03-12 | 2024-03-01 | 深圳劲嘉集团股份有限公司 | 一种测量素面镭射材料光栅常数的方法和装置 |
| CN118857114B (zh) * | 2024-07-29 | 2025-03-18 | 沈阳工业大学 | 一种光栅位移超精密测量的误差修正方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3836257A (en) * | 1971-01-05 | 1974-09-17 | Canon Kk | Method for optical detection and/or measurement of movement of diffraction grating |
| NL7111227A (ja) * | 1971-08-14 | 1973-02-16 | ||
| US4528448A (en) * | 1982-05-13 | 1985-07-09 | Benson, Inc. | Plane linear grating for optically encoding information |
| DE3416864C2 (de) * | 1984-05-08 | 1986-04-10 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Photoelektrische Meßeinrichtung |
| DE3700777C2 (de) * | 1986-01-14 | 1994-05-05 | Canon Kk | Vorrichtung zur Erfassung der Position eines Objektes |
| US4806034A (en) * | 1988-02-10 | 1989-02-21 | Polaroid Corporation | Write head controller with grid synchronization |
| US4874941A (en) * | 1988-05-11 | 1989-10-17 | Simmonds Precision Products, Inc. | Optical displacement sensor with a multi-period grating |
-
1989
- 1989-02-09 US US07/308,239 patent/US4985624A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
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- 1990-02-09 EP EP19900301400 patent/EP0389093A3/en not_active Withdrawn
- 1990-02-09 JP JP2028645A patent/JPH0315719A/ja active Pending
- 1990-02-09 CA CA002009692A patent/CA2009692A1/en not_active Abandoned
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07318373A (ja) * | 1994-05-23 | 1995-12-08 | Ricoh Co Ltd | エンコーダ装置 |
| JP2006180931A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-13 | Kao Corp | 清掃具 |
| JP2020159771A (ja) * | 2019-03-25 | 2020-10-01 | 国立大学法人東北大学 | 絶対位置測定装置および絶対位置測定方法 |
| JP2021004861A (ja) * | 2019-06-27 | 2021-01-14 | Dmg森精機株式会社 | 検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IL93316A0 (en) | 1990-11-29 |
| EP0389093A2 (en) | 1990-09-26 |
| US4985624A (en) | 1991-01-15 |
| CA2009692A1 (en) | 1990-08-09 |
| EP0389093A3 (en) | 1990-12-19 |
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