JPH0316324U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0316324U JPH0316324U JP7647289U JP7647289U JPH0316324U JP H0316324 U JPH0316324 U JP H0316324U JP 7647289 U JP7647289 U JP 7647289U JP 7647289 U JP7647289 U JP 7647289U JP H0316324 U JPH0316324 U JP H0316324U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nozzle
- gas
- holes
- ejection holes
- diameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 4
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims 1
Description
第１図は本考案ＣＶＤ用ガスノズルを適用でき
るＣＶＤ装置の一例を示す簡略縦断面図、第２図
ａ，ｂはそれぞれ本考案ＣＶＤ用ガスノズルの一
実施例を示す縦断面図及びその−線断面図、
第３図ａ，ｂはそれぞれ他の実施例を示す縦断面
図及びその−線断面図、第４図は従来のＣＶ
Ｄ用ガスノズルの一例を示す縦断面図である。 ３……ガスノズル、４……ガス噴出孔、４ａ…
…等径孔部分、４ｂ……（テーパ状またはラツパ
状）異径孔部分、５……反応室。
るＣＶＤ装置の一例を示す簡略縦断面図、第２図
ａ，ｂはそれぞれ本考案ＣＶＤ用ガスノズルの一
実施例を示す縦断面図及びその−線断面図、
第３図ａ，ｂはそれぞれ他の実施例を示す縦断面
図及びその−線断面図、第４図は従来のＣＶ
Ｄ用ガスノズルの一例を示す縦断面図である。 ３……ガスノズル、４……ガス噴出孔、４ａ…
…等径孔部分、４ｂ……（テーパ状またはラツパ
状）異径孔部分、５……反応室。
Claims (1)
- 反応室５内に反応ガス及びキヤリアガスを供給
するための、複数のガス噴出孔４を有するガスノ
ズル３において、ガス噴出孔４が、ノズル内側の
等径孔部分４ａと、ノズル外側の孔径がノズル外
面に向つて徐々に大きくなる異径孔部分４ｂとか
らなるＣＶＤ用ガスノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7647289U JPH0316324U (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7647289U JPH0316324U (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0316324U true JPH0316324U (ja) | 1991-02-19 |
Family
ID=31617974
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7647289U Pending JPH0316324U (ja) | 1989-06-28 | 1989-06-28 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0316324U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017056155A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置および記録媒体 |
-
1989
- 1989-06-28 JP JP7647289U patent/JPH0316324U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017056155A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2017-04-06 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置および記録媒体 |
| JPWO2017056155A1 (ja) * | 2015-09-28 | 2018-06-28 | 株式会社日立国際電気 | 半導体装置の製造方法、基板処理装置および記録媒体 |
| US10287680B2 (en) | 2015-09-28 | 2019-05-14 | Kokusai Electric Corporation | Method of manufacturing semiconductor device, substrate processing apparatus, and recording medium |