JPH03165711A - 美容脱毛装置 - Google Patents
美容脱毛装置Info
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- JPH03165711A JPH03165711A JP30587989A JP30587989A JPH03165711A JP H03165711 A JPH03165711 A JP H03165711A JP 30587989 A JP30587989 A JP 30587989A JP 30587989 A JP30587989 A JP 30587989A JP H03165711 A JPH03165711 A JP H03165711A
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- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 title claims description 20
- 210000004209 hair Anatomy 0.000 claims description 174
- 210000003780 hair follicle Anatomy 0.000 claims description 34
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 9
- 238000011282 treatment Methods 0.000 abstract description 96
- 230000015654 memory Effects 0.000 abstract description 55
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 11
- 230000003648 hair appearance Effects 0.000 abstract description 7
- 230000035617 depilation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 20
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 12
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 8
- 210000003491 skin Anatomy 0.000 description 8
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 5
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000011369 optimal treatment Methods 0.000 description 2
- 230000036555 skin type Effects 0.000 description 2
- LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 1-(1,2-Diphosphanylethyl)pyrrolidin-2-one Chemical compound PCC(P)N1CCCC1=O LQIAZOCLNBBZQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 230000001914 calming effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000036632 reaction speed Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000000638 stimulation Effects 0.000 description 1
- 238000001356 surgical procedure Methods 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000004018 waxing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は美容脱毛装置に関し、特にむだ毛を永久脱毛す
る場合に適用して好適なものである。
る場合に適用して好適なものである。
本発明は、美容脱毛装置において、脱毛出力のエンベロ
ープ波形についてのプログラム設定情報を発生するよう
にしたことにより、被施術者の体調、体質などや、施術
する部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質などの
脱毛施術の条件に適合するような美容脱毛施術をするこ
とができる。
ープ波形についてのプログラム設定情報を発生するよう
にしたことにより、被施術者の体調、体質などや、施術
する部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質などの
脱毛施術の条件に適合するような美容脱毛施術をするこ
とができる。
従来むだ毛を脱毛する方法として、シェービング、カッ
ティング、ツイージング、除毛剤、ワックス等の一時的
脱毛法と、高周波電流又は直流電流を用いて毛根組織を
破壊する永久脱毛法とがあり、永久脱毛法は美容効果を
長期に亘って維持できる利点がある。
ティング、ツイージング、除毛剤、ワックス等の一時的
脱毛法と、高周波電流又は直流電流を用いて毛根組織を
破壊する永久脱毛法とがあり、永久脱毛法は美容効果を
長期に亘って維持できる利点がある。
ここで直流電流及び高周波電流を用いて永久脱毛をする
方法は、電気的エネルギーを用いて毛包内の毛根組織を
破壊しようとするもので、直流電流を用いる方法(電気
分解脱毛法と呼ばれている)においては毛包内に挿入し
た陰極を介して直流電流を流すことにより、毛包内のN
aC1を電気分解することによりNaOHを生成し、当
該N、aOHの強アルカリ作用により毛根組織を化学的
に破壊することを原理とする。
方法は、電気的エネルギーを用いて毛包内の毛根組織を
破壊しようとするもので、直流電流を用いる方法(電気
分解脱毛法と呼ばれている)においては毛包内に挿入し
た陰極を介して直流電流を流すことにより、毛包内のN
aC1を電気分解することによりNaOHを生成し、当
該N、aOHの強アルカリ作用により毛根組織を化学的
に破壊することを原理とする。
これに対して高周波電流を流す方法(高周波脱毛法と呼
ばれている)は、毛包内に高周波電流を流して毛根組織
の内部において熱エネルギーに変換することにより、毛
根組織に蛋白質の凝固を生じさせることを原理とする。
ばれている)は、毛包内に高周波電流を流して毛根組織
の内部において熱エネルギーに変換することにより、毛
根組織に蛋白質の凝固を生じさせることを原理とする。
ところが当該電気分解脱毛法又は高周波脱毛法によって
比較的短い時間の間に脱毛施術をしようとすれば、毛包
内に流す電流をかなり大きくする必要があるため、美容
脱毛に適用した場合不適切になるおそれがある。
比較的短い時間の間に脱毛施術をしようとすれば、毛包
内に流す電流をかなり大きくする必要があるため、美容
脱毛に適用した場合不適切になるおそれがある。
因に毛包内に流す電流を大きくすると、脱毛施術を受け
ている被施術者に痛みなどの不快感を与えるおそれがあ
り、人の生活に不可欠な医療のための脱毛施術とは異な
り、美容脱毛においては被施術者に生理的ないし心理的
に悪影響を与えるような脱毛方法は回避することが望ま
しい。
ている被施術者に痛みなどの不快感を与えるおそれがあ
り、人の生活に不可欠な医療のための脱毛施術とは異な
り、美容脱毛においては被施術者に生理的ないし心理的
に悪影響を与えるような脱毛方法は回避することが望ま
しい。
そこで、毛包内に流す高周波電流値又は直流電流値を低
減させて美容脱毛に適用することも考えられるが、この
ようにすると美容脱毛施術時間が長大になる問題がある
。
減させて美容脱毛に適用することも考えられるが、この
ようにすると美容脱毛施術時間が長大になる問題がある
。
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、施術する
部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質等の脱毛施
術条件に最適な施術条件パターンを選択できるようにす
ることにより、実用上被施術者に生理的ないし心理的な
悪影響を生じさせるおそれを有効に回避しながら効率良
く永久脱毛の施術をし得るようにした美容脱毛装置を提
案しようとするものである。
部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質等の脱毛施
術条件に最適な施術条件パターンを選択できるようにす
ることにより、実用上被施術者に生理的ないし心理的な
悪影響を生じさせるおそれを有効に回避しながら効率良
く永久脱毛の施術をし得るようにした美容脱毛装置を提
案しようとするものである。
かかる問題点を解決するため本発明においては、毛包に
差し込んだ針状導子4Aに脱毛出力S5を供給して電流
を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする美容
脱毛装置において、 脱毛出力S5にエンベロープ波形
を付与するエンベロープ付与手段51〜54.61〜6
4と、エンベロープ波形が付与された脱毛出力S5に所
定の変化を生じさせるための条件を表すパターン設定情
報5PI11iを発生するパターン設定手段15とを設
けるようにする。
差し込んだ針状導子4Aに脱毛出力S5を供給して電流
を流すことにより当該毛包について永久脱毛をする美容
脱毛装置において、 脱毛出力S5にエンベロープ波形
を付与するエンベロープ付与手段51〜54.61〜6
4と、エンベロープ波形が付与された脱毛出力S5に所
定の変化を生じさせるための条件を表すパターン設定情
報5PI11iを発生するパターン設定手段15とを設
けるようにする。
針状導子4Aに供給する脱毛出力S5にエンベロープ波
形を付与すると、実質上十分な脱毛出力レベルを供給す
るにつき、被施術者に不快感を与えることなく効率良く
美容脱毛施術をすることができる。
形を付与すると、実質上十分な脱毛出力レベルを供給す
るにつき、被施術者に不快感を与えることなく効率良く
美容脱毛施術をすることができる。
かくするにつき、エンベロープ波形に変化を生じさせる
ための条件をパターン設定情報として用いるようにした
ことにより、多様な脱毛施術条件に対して容易に適応で
きる美容脱毛装置を実現し得る。
ための条件をパターン設定情報として用いるようにした
ことにより、多様な脱毛施術条件に対して容易に適応で
きる美容脱毛装置を実現し得る。
以下図面について、本発明の一実施例を詳述する。
(1)全体の構成
第1図において、1は全体として美容脱毛装置を示し、
脱毛器本体2からの脱毛出力をケーブル3を介してプロ
ーブ4に供給する。
脱毛器本体2からの脱毛出力をケーブル3を介してプロ
ーブ4に供給する。
脱毛器本体2は高周波脱毛出力S1を発生する高周波脱
毛出力形成部11と、直流脱毛出力S2を送出する直流
脱毛出力形成部12と、光脱毛出力S3を送出する光脱
毛出力形成部13と、冷却風出力S4を送出する冷却風
形成部14と、脱毛施術条件設定信号S□6を脱毛器本
体2に供給するパターン設定装置部15とを有する。
毛出力形成部11と、直流脱毛出力S2を送出する直流
脱毛出力形成部12と、光脱毛出力S3を送出する光脱
毛出力形成部13と、冷却風出力S4を送出する冷却風
形成部14と、脱毛施術条件設定信号S□6を脱毛器本
体2に供給するパターン設定装置部15とを有する。
直流脱毛出力形成部12は、直流発生回路21において
例えば商用電源から発生させた直流電流SOIを直流出
力回路22において例えば0〜−15(V)程度の直流
電流でなる直流脱毛出力S2に変換する。
例えば商用電源から発生させた直流電流SOIを直流出
力回路22において例えば0〜−15(V)程度の直流
電流でなる直流脱毛出力S2に変換する。
この実施例の場合直流出力回路22は脱毛施術者が直流
用フットスイッチ23をオンオフ操作したとき生ずるオ
ンオフ出力Sllを時間制御回路24に与え、この時間
制御回路24に予め設定された所定の遅延時間だけ遅延
して得られる遅延オンオフ信号S12を直流出力回路2
2に与えることによりそのタイミングで直流脱毛出力S
2を出力できるようになされている。
用フットスイッチ23をオンオフ操作したとき生ずるオ
ンオフ出力Sllを時間制御回路24に与え、この時間
制御回路24に予め設定された所定の遅延時間だけ遅延
して得られる遅延オンオフ信号S12を直流出力回路2
2に与えることによりそのタイミングで直流脱毛出力S
2を出力できるようになされている。
また高周波脱毛出力形成部11は例えば27〔Mセ〕の
高周波信号SO2を高周波発生回路25において商用電
源から発生して高周波出力回路26に供給し、当該高周
波出力回路26において施術者が高周波用フットスイッ
チ27を操作したときそのタイミングで高周波脱毛出力
Slに変換するようになされている。
高周波信号SO2を高周波発生回路25において商用電
源から発生して高周波出力回路26に供給し、当該高周
波出力回路26において施術者が高周波用フットスイッ
チ27を操作したときそのタイミングで高周波脱毛出力
Slに変換するようになされている。
ここで直流脱毛出力S2は、電気分解脱毛法に基づいて
毛包内に電気分解を生じさせるにつき、被施術者に不快
感を与えない程度に比較的小さい値に選定され、また高
周波脱毛出力Stは、直流脱毛出力S2によって毛包内
に生じたアルカリ液(すなわち電気分解によって生じた
NaOH液)を加熱することより反応速度を高めること
ができる程度の熱を、高周波加熱法によって発生させる
に適した周波数(例えば27 (MHz) )及び強さ
を選定するようになされている。
毛包内に電気分解を生じさせるにつき、被施術者に不快
感を与えない程度に比較的小さい値に選定され、また高
周波脱毛出力Stは、直流脱毛出力S2によって毛包内
に生じたアルカリ液(すなわち電気分解によって生じた
NaOH液)を加熱することより反応速度を高めること
ができる程度の熱を、高周波加熱法によって発生させる
に適した周波数(例えば27 (MHz) )及び強さ
を選定するようになされている。
直流脱毛出力S2はブレンド出力回路28において高周
波脱毛出力S1と合成されてブレンド脱毛出力S5とし
てケーブル3のブレンド脱毛出力ライン3Aに送出され
、かくしてプローブ4の針状導子4Aに供給される。
波脱毛出力S1と合成されてブレンド脱毛出力S5とし
てケーブル3のブレンド脱毛出力ライン3Aに送出され
、かくしてプローブ4の針状導子4Aに供給される。
ブレンド出力回路2Bのアース側出力端はアースケーブ
ル31を通じて握り導子32に接続され、被施術者が握
り導子32を手で握った状態で施術者が針状導子4Aを
脱毛しようとする毛の毛包内に挿入したとき、当該針状
導子4Aを陰極とし、かつ握り導子32を陽極として毛
包内に電気分解の反応を発生させるようになされている
。
ル31を通じて握り導子32に接続され、被施術者が握
り導子32を手で握った状態で施術者が針状導子4Aを
脱毛しようとする毛の毛包内に挿入したとき、当該針状
導子4Aを陰極とし、かつ握り導子32を陽極として毛
包内に電気分解の反応を発生させるようになされている
。
また光脱毛出力形成部13はレーザ、キセノンランプ等
の高輝度発光源を有する光源部35によって発生した施
術光束SO3を集光光学系36において光脱毛出力S3
として集光してケーブル3の光ファイバ3Bに射出する
。
の高輝度発光源を有する光源部35によって発生した施
術光束SO3を集光光学系36において光脱毛出力S3
として集光してケーブル3の光ファイバ3Bに射出する
。
かくして光ファイバ3Bを通ってプローブ4に到達した
光脱毛出力S3は、プローブ本体4Cの先端部に突出す
るように取り付けられた光プローブ子4Bに供給される
。
光脱毛出力S3は、プローブ本体4Cの先端部に突出す
るように取り付けられた光プローブ子4Bに供給される
。
この実施例の場合、光プローブ子4Bは針状導子4Aに
沿うように延長し、当該針状導子4Aが被施術者の毛包
内に挿入されたとき、当該毛包を光脱毛出力S3によっ
て照射することによりその内部を加熱できるようになさ
れている。
沿うように延長し、当該針状導子4Aが被施術者の毛包
内に挿入されたとき、当該毛包を光脱毛出力S3によっ
て照射することによりその内部を加熱できるようになさ
れている。
冷却風形成部14は、コンプレッサ41を有し、殺菌器
42を介して外部から吸入した空気流SO4をコンプレ
ッサ41において圧縮して冷却風出力S4に変換し、当
該冷却風出力S4をケーブル3のパイプ3Cを通じてプ
ローブ4に供給するようになされている。
42を介して外部から吸入した空気流SO4をコンプレ
ッサ41において圧縮して冷却風出力S4に変換し、当
該冷却風出力S4をケーブル3のパイプ3Cを通じてプ
ローブ4に供給するようになされている。
この実施例の場合プローブ4は先端面に設けられた吹き
出し口から冷却風出力S4でなる冷却風WNDを吹き出
させることにより、針状導子4Aが挿入された毛包の周
囲の皮膚を冷却風WNDによって冷却し、これにより施
術により生ずる腫れを鎮静させるようになされている。
出し口から冷却風出力S4でなる冷却風WNDを吹き出
させることにより、針状導子4Aが挿入された毛包の周
囲の皮膚を冷却風WNDによって冷却し、これにより施
術により生ずる腫れを鎮静させるようになされている。
またこの実施例の場合、陽極すなわちアースラインに円
柱状カーボンローラでなるアフタケア用ローラ45がケ
ーブル44を介して接続され、施術後節術部に対してア
フタケア用ローラ45を転接させることにより、興奮状
態にある施術部の皮膚を鎮静化させるようになされてい
る。
柱状カーボンローラでなるアフタケア用ローラ45がケ
ーブル44を介して接続され、施術後節術部に対してア
フタケア用ローラ45を転接させることにより、興奮状
態にある施術部の皮膚を鎮静化させるようになされてい
る。
第1図の構成において、脱毛施術をする際には、被施術
者に握り導子32を握らせた状態において施術者はプロ
ーブ4を把持して針状導子4Aを毛包内に挿入させた後
、高周波用フットスイッチ27及び直流用フットスイッ
チ23を操作することによりブレンド出力回路28から
ブレンド脱毛出力S5を送出させて針状導子4Aに供給
する。
者に握り導子32を握らせた状態において施術者はプロ
ーブ4を把持して針状導子4Aを毛包内に挿入させた後
、高周波用フットスイッチ27及び直流用フットスイッ
チ23を操作することによりブレンド出力回路28から
ブレンド脱毛出力S5を送出させて針状導子4Aに供給
する。
これにより針状導子4Aが挿入された毛包において、ブ
レンド脱毛出力S5のうち直流脱毛出力S2によって電
気分解を生じさせると共に、高周波脱毛出力S1によっ
て毛包内を加熱することにより当該電気分解の反応を活
発化させることができ、かくして直流脱毛出力S2とし
て、医療脱毛の場合と比較して格段的に弱い直流脱毛出
力S2によってかなり速い反応速度で電気分解による永
久脱毛効果を得ることができる。
レンド脱毛出力S5のうち直流脱毛出力S2によって電
気分解を生じさせると共に、高周波脱毛出力S1によっ
て毛包内を加熱することにより当該電気分解の反応を活
発化させることができ、かくして直流脱毛出力S2とし
て、医療脱毛の場合と比較して格段的に弱い直流脱毛出
力S2によってかなり速い反応速度で電気分解による永
久脱毛効果を得ることができる。
このとき直流用フットスイッチ23から得られるオンオ
フ出力311は時間制御回路24の設定時間だけ遅延さ
れ、これにより高周波脱毛出力S1によって毛包を加熱
した後直流脱毛出力S2によって電気分解を開始させる
ことができ、かくして予め加熱した分反応速度を速める
ことができる。
フ出力311は時間制御回路24の設定時間だけ遅延さ
れ、これにより高周波脱毛出力S1によって毛包を加熱
した後直流脱毛出力S2によって電気分解を開始させる
ことができ、かくして予め加熱した分反応速度を速める
ことができる。
これに加えて施術されている毛包に対して光脱毛出力形
成部13において発生される光脱毛出力S3が光プロー
ブ子4Bから照射されることより、当該毛包の内部を光
脱毛出力S3の光エネルギーによって加熱でき、これに
より毛包内部に生じている電気分解の反応速度を光脱毛
出力S3の光エネルギーを使ってさらに一段と速めるこ
とができる。かくするにつき加熱手段として光を用いる
ようにしたことにより、毛包内部の加熱を施術者に苦痛
を与えないように和らげることができる。
成部13において発生される光脱毛出力S3が光プロー
ブ子4Bから照射されることより、当該毛包の内部を光
脱毛出力S3の光エネルギーによって加熱でき、これに
より毛包内部に生じている電気分解の反応速度を光脱毛
出力S3の光エネルギーを使ってさらに一段と速めるこ
とができる。かくするにつき加熱手段として光を用いる
ようにしたことにより、毛包内部の加熱を施術者に苦痛
を与えないように和らげることができる。
この実施例の場合、ブレンド脱毛出力S5及びアース出
力はそれぞれ出力端子T1及びT2に供給されて当該出
力端子T1及びT2にブレンド脱毛出力ライン3A及び
アースケーブル31のコネクタCI及びC2を着脱自在
に接続できるようになされ、これにより、第2のアース
端子T3にアフタケア用ローラ45の接続ケーブル44
のコネクタC3を接続した状態において握り導子32の
アースケーブル31のコネクタC2を出力端子T2から
離して出力端子TIに接続し直すことにより、アフタケ
ア用ローラ45を動作させることができるようになされ
ている。
力はそれぞれ出力端子T1及びT2に供給されて当該出
力端子T1及びT2にブレンド脱毛出力ライン3A及び
アースケーブル31のコネクタCI及びC2を着脱自在
に接続できるようになされ、これにより、第2のアース
端子T3にアフタケア用ローラ45の接続ケーブル44
のコネクタC3を接続した状態において握り導子32の
アースケーブル31のコネクタC2を出力端子T2から
離して出力端子TIに接続し直すことにより、アフタケ
ア用ローラ45を動作させることができるようになされ
ている。
以上の構成に加えて美容脱毛装置1はパターン設定装置
部15を有し、 脱毛施術条件設定信号5P11.を脱
毛器本体2に供給することにより、脱毛器本体2のブレ
ンド出力回路28から送出されるブレンド脱毛出力S5
を予め設定された脱毛施術条件に応じて制御できるよう
になされている。
部15を有し、 脱毛施術条件設定信号5P11.を脱
毛器本体2に供給することにより、脱毛器本体2のブレ
ンド出力回路28から送出されるブレンド脱毛出力S5
を予め設定された脱毛施術条件に応じて制御できるよう
になされている。
〔2〕高周波脱毛出力形成部
高周波出力回路26は第2図に示すように、高周波用フ
ットスイッチ27のオンオフ操作出力S21によってク
ロック信号S22を発生するクロック発生回路51を有
し、その出力端に得られるクロック信号S22を16段
シフトレジスタ構成のスイッチ信号形成回路52に与え
る。
ットスイッチ27のオンオフ操作出力S21によってク
ロック信号S22を発生するクロック発生回路51を有
し、その出力端に得られるクロック信号S22を16段
シフトレジスタ構成のスイッチ信号形成回路52に与え
る。
ここでクロック発生回路51には、パターン設定装置部
15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定信号5
PIIGを構成する第1の信号としてクロック周波数設
定信号S□、が与えられ、これによりクロック信号S2
2のクロック周波数をパターン設定装置部15から設定
できるようになされている。
15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定信号5
PIIGを構成する第1の信号としてクロック周波数設
定信号S□、が与えられ、これによりクロック信号S2
2のクロック周波数をパターン設定装置部15から設定
できるようになされている。
スイッチ信号形成回路52は、第3図(A I )〜(
A16)に示すように、 オン操作信号S21が与えら
れた時点toN(−t+)から順次クロック信号S22
の1周期分の時間が経過した時点Lx、ts、L4・・
・・・・toごとに順次スイッチ信号523(スイッチ
パルスSWI、SW2・・・・・・5W16でなる)を
発生し、これをエンベロープ波形メモリ53(第4図)
のアナログスイッチ回路PTI、PT2・・・・・・P
T16に与える。
A16)に示すように、 オン操作信号S21が与えら
れた時点toN(−t+)から順次クロック信号S22
の1周期分の時間が経過した時点Lx、ts、L4・・
・・・・toごとに順次スイッチ信号523(スイッチ
パルスSWI、SW2・・・・・・5W16でなる)を
発生し、これをエンベロープ波形メモリ53(第4図)
のアナログスイッチ回路PTI、PT2・・・・・・P
T16に与える。
アナログスイッチ回路PTI、PT2・・・・・・PT
16はオン動作したとき電源VCCをサンプリング波形
値記憶用抵抗分圧回路R1、R2・・・・・・R16に
与えることにより、その分圧電圧V、 、V、・・・・
・・voでなる波形出力信号S24を波形整形回路54
に送出する。
16はオン動作したとき電源VCCをサンプリング波形
値記憶用抵抗分圧回路R1、R2・・・・・・R16に
与えることにより、その分圧電圧V、 、V、・・・・
・・voでなる波形出力信号S24を波形整形回路54
に送出する。
かくして波形出力信号S24は、第3図(B)に示すよ
うに、スイッチ信号323のスイッチパルスSWI・、
SW2・・・・・・5W16が発生するごとに分圧電圧
V、、V、・・・・” V l 6によって表されるサ
ンプリング波形値をもつような階段状波形を呈する。
うに、スイッチ信号323のスイッチパルスSWI・、
SW2・・・・・・5W16が発生するごとに分圧電圧
V、、V、・・・・” V l 6によって表されるサ
ンプリング波形値をもつような階段状波形を呈する。
この実施例の場合、サンプリング波形値記憶用抵抗分圧
回路R1、R2・・・・・・R16は例えばFET(電
界効果型トランジスタ)を可変抵抗素子として含む抵抗
分圧回路で構成され、当該各FETのゲートにパターン
設定装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件
設定信号S□。を構成する第2の信号としてサンプリン
グ波形値設定信号5PIG!の各設定信号SMI、SM
2・・・・・・5Ml6が与えられ、これによりエンベ
ロープ波形の各サンプリング点のサンプリング値を表す
分圧電圧V+、Vt・・・・・・Vllkをパターン設
定装置部15から設定できるようになされている。
回路R1、R2・・・・・・R16は例えばFET(電
界効果型トランジスタ)を可変抵抗素子として含む抵抗
分圧回路で構成され、当該各FETのゲートにパターン
設定装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件
設定信号S□。を構成する第2の信号としてサンプリン
グ波形値設定信号5PIG!の各設定信号SMI、SM
2・・・・・・5Ml6が与えられ、これによりエンベ
ロープ波形の各サンプリング点のサンプリング値を表す
分圧電圧V+、Vt・・・・・・Vllkをパターン設
定装置部15から設定できるようになされている。
この実施例の場合スイッチ信号形成回路52は高周波用
フットスイッチ27が第3図の時点t。Nにおいてオン
操作された後、シフトレジスタが最終段のサンプリング
波形値VI&を出力する状態になった後オフ操作時点り
。F、まで引き続きオン操作を続けたとき、最終段のス
イッチ信号5W16を論理rl(Jレベルのまま維持す
るようになされ、かくしてこの時間の開披形出力信号3
24の信号レベルとして最終段のサンプリング波形値■
1−を保持するようになされている。
フットスイッチ27が第3図の時点t。Nにおいてオン
操作された後、シフトレジスタが最終段のサンプリング
波形値VI&を出力する状態になった後オフ操作時点り
。F、まで引き続きオン操作を続けたとき、最終段のス
イッチ信号5W16を論理rl(Jレベルのまま維持す
るようになされ、かくしてこの時間の開披形出力信号3
24の信号レベルとして最終段のサンプリング波形値■
1−を保持するようになされている。
ここでオフ操作時点t OFFにおいて高周波用フット
スイッチ27がオフ操作されると、スイッチ信号形成回
路52はリセット動作をして第3図の時点t。N以前の
初期状態、すなわち第1段スイッチパルスSWIを論理
r HJレベルに立ち上げた状態に戻るようになされ、
これにより高周波用フットスイッチ27がオン操作され
るごとに1波形分の波形出力信号S24を送出するよう
になされている。
スイッチ27がオフ操作されると、スイッチ信号形成回
路52はリセット動作をして第3図の時点t。N以前の
初期状態、すなわち第1段スイッチパルスSWIを論理
r HJレベルに立ち上げた状態に戻るようになされ、
これにより高周波用フットスイッチ27がオン操作され
るごとに1波形分の波形出力信号S24を送出するよう
になされている。
この階段波形形状の波形出力信号S24はフィルタ回路
構成の波形整形回路54において波形整形され、階段状
波形形状を滑らかな波形に整形してなるエンベロープ制
御信号525(第3図(C))が高周波脱毛出力形成回
路55に供給される。
構成の波形整形回路54において波形整形され、階段状
波形形状を滑らかな波形に整形してなるエンベロープ制
御信号525(第3図(C))が高周波脱毛出力形成回
路55に供給される。
ここで波形整形回路54において用いられるフィルタ回
路は電位の段差をなくすもので、クロック発生回路51
のクロック周波数を高くすると強くかかり、これに対し
て低くすると緩くかかるようになされている。
路は電位の段差をなくすもので、クロック発生回路51
のクロック周波数を高くすると強くかかり、これに対し
て低くすると緩くかかるようになされている。
高周波脱毛出力形成回路55は、高周波発生回路25か
ら供給される高周波出力SO2の振幅をエンベロープ制
御信号525によって振幅変調することにより、高周波
出力SO2に対してエンベロープ制御信号S25のエン
ベロープ波形を付与して高周波脱毛出力Slを高周波出
力回路26の出力として送出する。
ら供給される高周波出力SO2の振幅をエンベロープ制
御信号525によって振幅変調することにより、高周波
出力SO2に対してエンベロープ制御信号S25のエン
ベロープ波形を付与して高周波脱毛出力Slを高周波出
力回路26の出力として送出する。
第2図の構成の高周波出力回路26において、施術者が
高周波用フットスイッチ27を操作したとき高周波脱毛
出力S1はエンベロープ波形メモリ53に予め記憶され
ているエンベロープ波形に応じて振幅をエンベロープ制
御されることにより、被施術者に対して不快感を与えな
いように高周波脱毛施術を行うことができる。
高周波用フットスイッチ27を操作したとき高周波脱毛
出力S1はエンベロープ波形メモリ53に予め記憶され
ているエンベロープ波形に応じて振幅をエンベロープ制
御されることにより、被施術者に対して不快感を与えな
いように高周波脱毛施術を行うことができる。
因に高周波用フットスイッチ27をオン操作したとき高
周波脱毛出力31の電流値を瞬時に立ち上げた場合には
被施術者に対して不快感を与えるおそれがあるが、高周
波脱毛出力S1の振幅をエンベロープ制御することによ
り高周波脱毛出力S1の立ち上がり傾斜を必要に応じて
設定することができることにより、被施術者に不快感を
与えるような刺激を生じさせないようにできる。
周波脱毛出力31の電流値を瞬時に立ち上げた場合には
被施術者に対して不快感を与えるおそれがあるが、高周
波脱毛出力S1の振幅をエンベロープ制御することによ
り高周波脱毛出力S1の立ち上がり傾斜を必要に応じて
設定することができることにより、被施術者に不快感を
与えるような刺激を生じさせないようにできる。
特にエンベロープ波形として第3図(C)に示すように
複数のピーク波形の間に谷間波形部を挿入するようにす
れば、高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維
持し続けることを回避できることにより、被施術者に不
快感を与えることな(しかも実効的に施術時間を短縮さ
せることができる。
複数のピーク波形の間に谷間波形部を挿入するようにす
れば、高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維
持し続けることを回避できることにより、被施術者に不
快感を与えることな(しかも実効的に施術時間を短縮さ
せることができる。
因に高周波脱毛出力S1の振幅を高い信号レベルに維持
し続ければその加熱効果を速めることができることによ
り施術時間を全体として短縮することができると考えら
れるが、実際上高周波脱毛出力S1の信号レベルを高い
信号レベルに維持し続けると、被施術者に不快感を与え
るおそれがある。この点について高周波脱毛出力S1の
振幅値を第3図(C)に示すようにピーク波形部の間に
谷間波形部を形成するようにすれば、被施術者に与える
不快感を確実に和らげることができる。
し続ければその加熱効果を速めることができることによ
り施術時間を全体として短縮することができると考えら
れるが、実際上高周波脱毛出力S1の信号レベルを高い
信号レベルに維持し続けると、被施術者に不快感を与え
るおそれがある。この点について高周波脱毛出力S1の
振幅値を第3図(C)に示すようにピーク波形部の間に
谷間波形部を形成するようにすれば、被施術者に与える
不快感を確実に和らげることができる。
かくするにつき階段状波形形状を有する波形出力信号S
24を波形整形回路54において滑らかなエンベロープ
波形に整形するようにしたことにより、不快感の軽減効
果をさらに一段と高めることができる。
24を波形整形回路54において滑らかなエンベロープ
波形に整形するようにしたことにより、不快感の軽減効
果をさらに一段と高めることができる。
〔3〕直流脱毛出力形成部
直流出力回路22は第5図に示すように、直流用フット
スイッチ23のオンオフ出力311を時間制御回路24
において遅延時間電だけ遅延させてなる遅延オンオフ信
号S12をエンベロープ形成回路60のクロック発生回
路61に受ける。
スイッチ23のオンオフ出力311を時間制御回路24
において遅延時間電だけ遅延させてなる遅延オンオフ信
号S12をエンベロープ形成回路60のクロック発生回
路61に受ける。
この実施例の場合、時間制御回路24は、パターン設定
装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定
信号5l−1゜を構成する第3の信号として遅延時間設
定信号S pH1を受け、遅延オンオフ信号S12の遅
延時間τ。を遅延時間設定信号S□。に対応する値に設
定し、これによりエンベロープ形成回路60のエンベロ
ープ波形の発生開始時点をパターン設定装置部15から
設定できるようになされている。
装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定
信号5l−1゜を構成する第3の信号として遅延時間設
定信号S pH1を受け、遅延オンオフ信号S12の遅
延時間τ。を遅延時間設定信号S□。に対応する値に設
定し、これによりエンベロープ形成回路60のエンベロ
ープ波形の発生開始時点をパターン設定装置部15から
設定できるようになされている。
エンベロープ形成回路60は、高周波出力回路26(第
2図)ついて上述したと同様にして、時間制御回路24
から得られる遅延オンオフ信号S12に基づいてクロッ
ク発生回路61においてクロック信号343を発生して
これをスイッチ信号形成回路62に供給し、これにより
第3図(Al)〜(A16)について上述したと同様の
スイッチパルスでなるスイッチ信号S44をエンベロー
プ波形メモリ63にエンベロープ波形続出信号として与
える。
2図)ついて上述したと同様にして、時間制御回路24
から得られる遅延オンオフ信号S12に基づいてクロッ
ク発生回路61においてクロック信号343を発生して
これをスイッチ信号形成回路62に供給し、これにより
第3図(Al)〜(A16)について上述したと同様の
スイッチパルスでなるスイッチ信号S44をエンベロー
プ波形メモリ63にエンベロープ波形続出信号として与
える。
ここで、クロック発生回路61はパターン設定装置部1
5(第1図)から供給される′脱毛施術条件設定信号S
FIGを構成する第4の信号としてクロック周波数設
定信号5FIG4を受け、これによりクロック信号S4
3のクロック周波数をパターン設定装置部15から設定
できるようになされている。
5(第1図)から供給される′脱毛施術条件設定信号S
FIGを構成する第4の信号としてクロック周波数設
定信号5FIG4を受け、これによりクロック信号S4
3のクロック周波数をパターン設定装置部15から設定
できるようになされている。
エンベロープ波形メモリ63は第4図について上述した
と同様にしてスイッチ信号S44を構成する16個のス
イッチパルスが与えられるごとに、第3図(B)につい
て上述したと同様にして階段波形形状の波形出力信号S
45を送出し、これを波形整形回路64において第3図
(C)について上述したと同様にして滑らかな波形に整
形した後、エンベロープ制御信号S46として減衰波形
付与回路65にエンベロープ形成回路60の出力として
供給する。
と同様にしてスイッチ信号S44を構成する16個のス
イッチパルスが与えられるごとに、第3図(B)につい
て上述したと同様にして階段波形形状の波形出力信号S
45を送出し、これを波形整形回路64において第3図
(C)について上述したと同様にして滑らかな波形に整
形した後、エンベロープ制御信号S46として減衰波形
付与回路65にエンベロープ形成回路60の出力として
供給する。
ここで、エンベロープ形成メモリ63は、パターン設定
装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定
信号S□。を構成する第5の信号としてサンプリング波
形値設定信号5PIIGSを受け、当該サンプリング波
形値設定信号5PIGSの各設定信号(第4図の各設定
信号SMI、3M2・・・・・・5M16に相当する)
によってサンプリング波形値記憶用抵抗分圧回路(第4
図のサンプリング波形値記憶用抵抗分圧回路R1、R2
・・・・・・R16に相当する)のFETを制御するこ
とにより、エンベロープ波形の各サンプリング点のサン
プリング値を表す分圧電圧(第4図の分圧電圧V、 、
V、・・・・・・VI&に相当する)をパターン設定装
置部15から設定できるようになされている。
装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件設定
信号S□。を構成する第5の信号としてサンプリング波
形値設定信号5PIIGSを受け、当該サンプリング波
形値設定信号5PIGSの各設定信号(第4図の各設定
信号SMI、3M2・・・・・・5M16に相当する)
によってサンプリング波形値記憶用抵抗分圧回路(第4
図のサンプリング波形値記憶用抵抗分圧回路R1、R2
・・・・・・R16に相当する)のFETを制御するこ
とにより、エンベロープ波形の各サンプリング点のサン
プリング値を表す分圧電圧(第4図の分圧電圧V、 、
V、・・・・・・VI&に相当する)をパターン設定装
置部15から設定できるようになされている。
減衰波形付与回路65は第6図に示すように、エンベロ
ープ制御信号S46をホールド選択スイッチ回路71の
切換入力端aを介して利得制御増幅回路72に受け、当
該エンベロープ制御信号S46の振幅を減衰波形形成回
路73において発生される利得制御信号551によって
制御してなる波形制御信号S52を、減衰波形付与回路
65の出力として直流脱毛出力形成回路66(第5図)
に送出する。
ープ制御信号S46をホールド選択スイッチ回路71の
切換入力端aを介して利得制御増幅回路72に受け、当
該エンベロープ制御信号S46の振幅を減衰波形形成回
路73において発生される利得制御信号551によって
制御してなる波形制御信号S52を、減衰波形付与回路
65の出力として直流脱毛出力形成回路66(第5図)
に送出する。
減衰波形形成回路73は充放電用コンデンサ73Aを有
し、スイッチングトランジスタ73Bがリセットパルス
発生回路74から与えられるリセットパルスS53によ
ってオン制御されたとき、電源■。によって所定のリセ
ット電圧値にまで充電され、 その後当該充電電荷が並
列に接続された放電用抵抗回路73C(可制御抵抗素子
例えばFETを含んで構成されている)を通じて放電さ
れることにより第7図(Bl)及び(B2)において減
衰曲線に1で示すように、 リセット電圧v astか
ら、主として充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗
回路73Cの時定数によって決まる減衰率を有する減衰
波形を描くように充電電圧が低下して行き、当該減衰波
形を有する充電電圧が利得制御信号351として利得制
御増幅回路72に供給される。
し、スイッチングトランジスタ73Bがリセットパルス
発生回路74から与えられるリセットパルスS53によ
ってオン制御されたとき、電源■。によって所定のリセ
ット電圧値にまで充電され、 その後当該充電電荷が並
列に接続された放電用抵抗回路73C(可制御抵抗素子
例えばFETを含んで構成されている)を通じて放電さ
れることにより第7図(Bl)及び(B2)において減
衰曲線に1で示すように、 リセット電圧v astか
ら、主として充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗
回路73Cの時定数によって決まる減衰率を有する減衰
波形を描くように充電電圧が低下して行き、当該減衰波
形を有する充電電圧が利得制御信号351として利得制
御増幅回路72に供給される。
ここで充放電用コンデンサ73Aの放電電圧は、電源V
CC及びアース間に接続された放電電圧設定用抵抗分圧
回路73D(可制御抵抗素子例えばFETを含む分圧回
路で構成されている)から逆流阻止用ダイオード73E
を通じて充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗回路
73Cに供給され、かくして充放電用コンデンサ73A
の放iit圧がダイオード73Eから供給される設定電
圧以下にはならないように設定されている。
CC及びアース間に接続された放電電圧設定用抵抗分圧
回路73D(可制御抵抗素子例えばFETを含む分圧回
路で構成されている)から逆流阻止用ダイオード73E
を通じて充放電用コンデンサ73A及び放電用抵抗回路
73Cに供給され、かくして充放電用コンデンサ73A
の放iit圧がダイオード73Eから供給される設定電
圧以下にはならないように設定されている。
この実施例の場合、放電用抵抗回路73Cは、パターン
設定装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件
設定信号S□。を構成する第6の信号として減衰率設定
信号5PII。、を受け、抵抗値を当該減衰率設定信号
S□。に応じて調整することによって充放電用コンデン
サ73Aの放電時定数を変更できるようになされ、その
結果利得制御信号S51の減衰曲線に1の減衰率を変更
することにより減衰エンベロープ波形Kl(第7図(B
1)、(B2))が同一の減衰目標値に到達するまでの
減衰波形形状を、例えば第8図において減衰曲線Kll
〜に14によって示すように変形できるようになされて
いる。
設定装置部15(第1図)から供給される脱毛施術条件
設定信号S□。を構成する第6の信号として減衰率設定
信号5PII。、を受け、抵抗値を当該減衰率設定信号
S□。に応じて調整することによって充放電用コンデン
サ73Aの放電時定数を変更できるようになされ、その
結果利得制御信号S51の減衰曲線に1の減衰率を変更
することにより減衰エンベロープ波形Kl(第7図(B
1)、(B2))が同一の減衰目標値に到達するまでの
減衰波形形状を、例えば第8図において減衰曲線Kll
〜に14によって示すように変形できるようになされて
いる。
またこの実施例の場合、放電電圧設定用抵抗分圧回路7
3Dは、パターン設定装置部15(第1図)から供給さ
れる脱毛施術条件設定信号S Pa1Gを構成する第7
の信号として減衰目標値設定信号S、□7を受け、抵抗
値を当該減衰目標値設定信号5PIG?に応じて調整す
ることにより充放電用コンデンサ73Aの放電目標電圧
を変更できるようになされ、その結果利得制御信号S5
1の減衰曲線に1の減衰目標値を変更することにより減
衰曲線Klの各減衰目標値に到達するまでの減衰波形形
状を、例えば第9図において減衰曲線K11l〜に11
4によって示すように変形できるようになされている。
3Dは、パターン設定装置部15(第1図)から供給さ
れる脱毛施術条件設定信号S Pa1Gを構成する第7
の信号として減衰目標値設定信号S、□7を受け、抵抗
値を当該減衰目標値設定信号5PIG?に応じて調整す
ることにより充放電用コンデンサ73Aの放電目標電圧
を変更できるようになされ、その結果利得制御信号S5
1の減衰曲線に1の減衰目標値を変更することにより減
衰曲線Klの各減衰目標値に到達するまでの減衰波形形
状を、例えば第9図において減衰曲線K11l〜に11
4によって示すように変形できるようになされている。
リセットパルス発生回路74は、オンオフ出力511(
第5図)に基づいて、第7図(A)に示すように、直流
用フットスイッチ23(第5図)が時点L 081 ’
s L 0FFI% L ONm・L 0FFRs L
ONm・・・・・・において順次交互にオン操作又は
オフ操作されたとき、オフ操作された後オン操作される
までの操作インターバル時間τA (=tor□〜to
工8、t OFj!” t ON3 )がインターバル
タイム設定回路75から供給されるインターバルタイム
信号S54が表す基準インターバルタイムτ1と比較し
て短いか否かを判断し、当該判断結果に基づいてリセッ
トパルス353を減衰波形形成回路73に与えるか否か
を決めるようになされている。
第5図)に基づいて、第7図(A)に示すように、直流
用フットスイッチ23(第5図)が時点L 081 ’
s L 0FFI% L ONm・L 0FFRs L
ONm・・・・・・において順次交互にオン操作又は
オフ操作されたとき、オフ操作された後オン操作される
までの操作インターバル時間τA (=tor□〜to
工8、t OFj!” t ON3 )がインターバル
タイム設定回路75から供給されるインターバルタイム
信号S54が表す基準インターバルタイムτ1と比較し
て短いか否かを判断し、当該判断結果に基づいてリセッ
トパルス353を減衰波形形成回路73に与えるか否か
を決めるようになされている。
すなわち操作インターバル時間τ、が基準インターバル
時間τ1より短いとき(このことは施術者が同じ毛包に
ついて脱毛施術をしていることを表す)、リセットパル
ス発生回路74は第7図(Bl)及び(B2)において
時点toyr+〜L oat間の期間で示すように、リ
セットパルスS53を減衰波形形成回路73に供給しな
いようになされ、かくして利得制御信号351は操作イ
ンターバル時間τ、が経過し終わった後も引続き減衰曲
線Klに沿って減衰して行くようになされている。
時間τ1より短いとき(このことは施術者が同じ毛包に
ついて脱毛施術をしていることを表す)、リセットパル
ス発生回路74は第7図(Bl)及び(B2)において
時点toyr+〜L oat間の期間で示すように、リ
セットパルスS53を減衰波形形成回路73に供給しな
いようになされ、かくして利得制御信号351は操作イ
ンターバル時間τ、が経過し終わった後も引続き減衰曲
線Klに沿って減衰して行くようになされている。
これに対して時点り。、□〜t 083の期間で示すよ
うに、操作インターバル時間τ、が基準インク−パル時
間τ1より長くなったとき(このことは施術者が1つの
毛包の施術を終了して次の毛包に移ったことを意味する
)、このときリセットパルス発生回路74は時点t。N
3においてオン操作された後遅延タイミング時間τ。だ
け経過した時点で得られる遅延オンオフ信号S12に基
づいてリセットパルスS53を送出してスイッチングト
ランジスタ73Bをオン動作させることより、充放電用
コンデンサ73Aをリセット電圧V□iに充電し、これ
により新たな直流脱毛施術を開始できるようにする。
うに、操作インターバル時間τ、が基準インク−パル時
間τ1より長くなったとき(このことは施術者が1つの
毛包の施術を終了して次の毛包に移ったことを意味する
)、このときリセットパルス発生回路74は時点t。N
3においてオン操作された後遅延タイミング時間τ。だ
け経過した時点で得られる遅延オンオフ信号S12に基
づいてリセットパルスS53を送出してスイッチングト
ランジスタ73Bをオン動作させることより、充放電用
コンデンサ73Aをリセット電圧V□iに充電し、これ
により新たな直流脱毛施術を開始できるようにする。
この実施例の場合、インターバルタイム設定回路75は
、パターン設定装置部15(第1図)から供給される脱
毛施術条件設定信号S□。を構成する第8の信号として
インターバルタイム設定信号S□、を受け、当該インタ
ーバルタイム設定信号5PIIGIによって基準インタ
ーバル期間τ、を変更できるようにすることにより、施
術操作タイミングの条件をパターン設定装置部15から
設定できるようになされている。
、パターン設定装置部15(第1図)から供給される脱
毛施術条件設定信号S□。を構成する第8の信号として
インターバルタイム設定信号S□、を受け、当該インタ
ーバルタイム設定信号5PIIGIによって基準インタ
ーバル期間τ、を変更できるようにすることにより、施
術操作タイミングの条件をパターン設定装置部15から
設定できるようになされている。
二のようにしてホールド選択スイッチ回路71がエンベ
ロープ制御信号S46の入力端a側に切り換わっている
とき、利得制御増幅回路72は第7図(B2)の期間t
。FFI〜t outに示すように、操作インターバル
時間τ、が基準インターバル時間τ、より短いときには
エンベロープ制御信号S46を利得制御増幅回路72に
おいて減衰曲線に1を有する利得制御信号S51によっ
て利得制御することにより、波形整形回路64から得ら
れるエンベロープ制御信号S46に基づいてその波高値
を減衰曲線に1に沿わせるように減衰制御する。
ロープ制御信号S46の入力端a側に切り換わっている
とき、利得制御増幅回路72は第7図(B2)の期間t
。FFI〜t outに示すように、操作インターバル
時間τ、が基準インターバル時間τ、より短いときには
エンベロープ制御信号S46を利得制御増幅回路72に
おいて減衰曲線に1を有する利得制御信号S51によっ
て利得制御することにより、波形整形回路64から得ら
れるエンベロープ制御信号S46に基づいてその波高値
を減衰曲線に1に沿わせるように減衰制御する。
これに対してホールド選択スイッチ回路71が入力端す
側に切り換えられると、利得制御増幅回路72に対する
エンベロープ制御信号として基準電圧源76の一定基準
電圧■、が供給され、かくして利得制御増幅回路72は
波形IIJ御信分信号2として第7図(B1)において
減衰曲線(これをホールドオン減衰曲線と呼ぶ)KIX
で示すように、当該一定電圧vlIに基づいてその値を
減衰曲線に1と同様の減衰率で減衰させたような波形制
御信号S52を送出する。
側に切り換えられると、利得制御増幅回路72に対する
エンベロープ制御信号として基準電圧源76の一定基準
電圧■、が供給され、かくして利得制御増幅回路72は
波形IIJ御信分信号2として第7図(B1)において
減衰曲線(これをホールドオン減衰曲線と呼ぶ)KIX
で示すように、当該一定電圧vlIに基づいてその値を
減衰曲線に1と同様の減衰率で減衰させたような波形制
御信号S52を送出する。
この実施例の場合、ホールド選択スイッチ回路71は、
パターン設定装置部15(第1図)から供給される脱毛
施術条件設定信号S□。を構成する第9の信号としてホ
ールド選択信号S□G雫を受け、当該ホールド選択信号
5PRG9によって施術条件をパターン設定装置部15
から設定することにより、第7図(B1)に示すように
ホールドオン減衰曲線KIXを含む波形制御信号S52
、又は第7図(B2)に示すようにホールドオン減衰曲
線KIXを含まない波形制御信号S52を選択して送出
し得るようになされている。
パターン設定装置部15(第1図)から供給される脱毛
施術条件設定信号S□。を構成する第9の信号としてホ
ールド選択信号S□G雫を受け、当該ホールド選択信号
5PRG9によって施術条件をパターン設定装置部15
から設定することにより、第7図(B1)に示すように
ホールドオン減衰曲線KIXを含む波形制御信号S52
、又は第7図(B2)に示すようにホールドオン減衰曲
線KIXを含まない波形制御信号S52を選択して送出
し得るようになされている。
第6図の構成によれば、1つの毛包について直流脱毛施
術をしているときには、施術者は直流用フットスイッチ
23を基準インターバル時間τ8より短い操作インター
バル時間τ、のタイミングで直流用フットスイッチ23
をオンオフ操作することにより、1つの毛包に流れる直
流電流を時間の経過に従って減衰させて行くことができ
、かくして被施術者の体調、体質などや、施術する部位
、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質等の条件に適応
できるような脱毛施術条件を選択しながら直流脱毛施術
をなし得る。
術をしているときには、施術者は直流用フットスイッチ
23を基準インターバル時間τ8より短い操作インター
バル時間τ、のタイミングで直流用フットスイッチ23
をオンオフ操作することにより、1つの毛包に流れる直
流電流を時間の経過に従って減衰させて行くことができ
、かくして被施術者の体調、体質などや、施術する部位
、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質等の条件に適応
できるような脱毛施術条件を選択しながら直流脱毛施術
をなし得る。
因に一般に直流脱毛施術をする場合、大きな直流電流を
、長時間の間流し続けると不快感が増す傾向にあるが、
上述のように構成すれば直流電流を流す時間、及びその
電流値のエンベロープを被施術者の体調、体質等に適合
するように必要に応じて制御して施術条件を設定できる
ことにより、この分波施術者に不快感を与えるおそれを
有効に軽減し得る。
、長時間の間流し続けると不快感が増す傾向にあるが、
上述のように構成すれば直流電流を流す時間、及びその
電流値のエンベロープを被施術者の体調、体質等に適合
するように必要に応じて制御して施術条件を設定できる
ことにより、この分波施術者に不快感を与えるおそれを
有効に軽減し得る。
このようにするにつき、以下に述べるように、パターン
設定装置部15によって多種類の施術条件を予めマニュ
アル設定し、又はプログラム設定することにより、多様
な施術条件の施術者に対して最適な脱毛施術をなし得る
。
設定装置部15によって多種類の施術条件を予めマニュ
アル設定し、又はプログラム設定することにより、多様
な施術条件の施術者に対して最適な脱毛施術をなし得る
。
〔4〕パタ一ン設定装置部
パターン設定装置部15は第10図に示すように、操作
パネル80から入力されたデータをバス81を介して中
央処理ユニツ) (CPU)82に取り込むと共に、当
13cPU82がプログラムメモリ部83に格納されて
いるプログラムによってディジタルデータ処理し、その
処理結果をデータメモリ部84にパターン設定データと
して蓄積し、当該蓄積されたプログラム設定データを入
出力装置85を介してディジタル/アナログ変換回路8
6に出力し、かくしてアナログ制御信号でなる脱毛施術
条件設定信号5PIGを脱毛器本体2に送出するように
なされている。
パネル80から入力されたデータをバス81を介して中
央処理ユニツ) (CPU)82に取り込むと共に、当
13cPU82がプログラムメモリ部83に格納されて
いるプログラムによってディジタルデータ処理し、その
処理結果をデータメモリ部84にパターン設定データと
して蓄積し、当該蓄積されたプログラム設定データを入
出力装置85を介してディジタル/アナログ変換回路8
6に出力し、かくしてアナログ制御信号でなる脱毛施術
条件設定信号5PIGを脱毛器本体2に送出するように
なされている。
操作パネル80は第11図に示すように、マニュアル設
定操作子群80Aを有し、脱毛施術条件設定信号5PI
IGの設定条件を施術者がそれぞれ数値設定し得る設定
操作子を含んでなる。この実施例の場合マニュアル設定
操作子群80Aは高周波出力回路26(第2図)のクロ
ック周波数設定信号S□。、のクロック周波数データを
入力し得る第1の設定操作子と、高周波出力回路26の
エンベロープ波形メモリ53に対するサンプリング波形
値設定信号5PRGIの各サンプリング波形値データを
設定する第2の設定操作子と、直流出力回路22(第5
図)に関連して遅延時間制御回路24に対する遅延時間
設定信号S□0の遅延時間データを入力する第3の設定
操作子と、クロック発生回路61のクロック周波数設定
信号5Plfi4のクロック周波数データを入力し得る
第4の設定操作子と、エンベロープ形成メモリ63に対
するサンプリング波形値設定信号5PIG%の各サンプ
リング波形値データを入力し得る第5の設定操作子と、
減衰波形付与回路65に対する減衰率設定信号SpHG
&、減衰目標値設定信号S pHG’l、インターバル
タイム設定信号SP*。及びホールド選択信号S□。、
の減衰率データ、減衰目標値データ、インターバルタイ
ムτ1の数値データ及びホールドモード選択用のモード
指定データをそれぞれ入力し得る第6、第7、第8及び
第9の設定操作子とを含んでなる。
定操作子群80Aを有し、脱毛施術条件設定信号5PI
IGの設定条件を施術者がそれぞれ数値設定し得る設定
操作子を含んでなる。この実施例の場合マニュアル設定
操作子群80Aは高周波出力回路26(第2図)のクロ
ック周波数設定信号S□。、のクロック周波数データを
入力し得る第1の設定操作子と、高周波出力回路26の
エンベロープ波形メモリ53に対するサンプリング波形
値設定信号5PRGIの各サンプリング波形値データを
設定する第2の設定操作子と、直流出力回路22(第5
図)に関連して遅延時間制御回路24に対する遅延時間
設定信号S□0の遅延時間データを入力する第3の設定
操作子と、クロック発生回路61のクロック周波数設定
信号5Plfi4のクロック周波数データを入力し得る
第4の設定操作子と、エンベロープ形成メモリ63に対
するサンプリング波形値設定信号5PIG%の各サンプ
リング波形値データを入力し得る第5の設定操作子と、
減衰波形付与回路65に対する減衰率設定信号SpHG
&、減衰目標値設定信号S pHG’l、インターバル
タイム設定信号SP*。及びホールド選択信号S□。、
の減衰率データ、減衰目標値データ、インターバルタイ
ムτ1の数値データ及びホールドモード選択用のモード
指定データをそれぞれ入力し得る第6、第7、第8及び
第9の設定操作子とを含んでなる。
このようにしてマニュアル設定操作子群80Aの各設定
操作子は、被施術者の体調、体質や、施術する部位、皮
膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質などの脱毛施術条件
に最適な数値データを必要に応じて施術者が入力し、こ
れにより1回の施術に用いられる施術条件を組み合わせ
ることによりパターン化し得る。
操作子は、被施術者の体調、体質や、施術する部位、皮
膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質などの脱毛施術条件
に最適な数値データを必要に応じて施術者が入力し、こ
れにより1回の施術に用いられる施術条件を組み合わせ
ることによりパターン化し得る。
この実施例の場合当該設定条件パターンは、マニュアル
指定動作モード及びライト指定動作モードのいずれか一
方の動作モードで処理される。
指定動作モード及びライト指定動作モードのいずれか一
方の動作モードで処理される。
マニュアル指定動作モードは、マニュアル設定操作子群
80Aによって入力された設定データをそのまま用いて
脱毛施術をする動作モードで、施術者はマニュアル指定
ボタン80Bを選択操作することによって当該動作モー
ドを選択し得る。
80Aによって入力された設定データをそのまま用いて
脱毛施術をする動作モードで、施術者はマニュアル指定
ボタン80Bを選択操作することによって当該動作モー
ドを選択し得る。
これに対してライト指定動作モードは、マニュアル設定
操作子群80Aによって入力された施術条件パターンを
予めデータメモリ部84に蓄積しておき、必要に応じて
当該蓄積させた施術条件パターンを指定することによっ
て脱毛施術をするもので、施術者はライト指定ボタン8
0Gを指定操作すると同時に施術条件パターン番号を表
す操作子ボタンでなるパターン選択操作ボタン80Dを
指定操作することによりパターン番号を付してパターン
データをデータメモリ部84に格納すると共に、ライト
指定ボタン80Cを操作せずにパターン選択操作ボタン
80Dを指定操作することによって対応する施術条件パ
ターン番号のパターンデータを読み出すことができるよ
うになされている。
操作子群80Aによって入力された施術条件パターンを
予めデータメモリ部84に蓄積しておき、必要に応じて
当該蓄積させた施術条件パターンを指定することによっ
て脱毛施術をするもので、施術者はライト指定ボタン8
0Gを指定操作すると同時に施術条件パターン番号を表
す操作子ボタンでなるパターン選択操作ボタン80Dを
指定操作することによりパターン番号を付してパターン
データをデータメモリ部84に格納すると共に、ライト
指定ボタン80Cを操作せずにパターン選択操作ボタン
80Dを指定操作することによって対応する施術条件パ
ターン番号のパターンデータを読み出すことができるよ
うになされている。
この実施例の場合、データメモリ部84は第12図に示
すように、操作パネル80のマニュアル設定操作子群8
0Aが操作されたとき当該入力データを取り込むマニュ
アル設定データメモリM1と、前回のデータ入力処理に
よってマニュアル設定データメモリM1に取り込まれて
いた入力データを記録する前回入力データメモリM2と
、マニュアル設定データメモリM1及び前回入力データ
メモリM2が一敗しない状態になったとき、当該一致し
ない部分のデータのアドレス及び数値データを表す変化
分データを記憶する変化分データメモリM3と、脱毛器
本体2に対する脱毛施術条件設定信号S□。となる出力
データを記憶する出力データメモリM4と、初期設定時
に脱毛器本体2に供給すべき第0番目のパターンデータ
でなる開始パターンデータと、施術者によって設定入力
されたパターンデータでなる第1〜第16番目のパター
ンデータとを記憶するパターン設定データメモリM5と
を有する。
すように、操作パネル80のマニュアル設定操作子群8
0Aが操作されたとき当該入力データを取り込むマニュ
アル設定データメモリM1と、前回のデータ入力処理に
よってマニュアル設定データメモリM1に取り込まれて
いた入力データを記録する前回入力データメモリM2と
、マニュアル設定データメモリM1及び前回入力データ
メモリM2が一敗しない状態になったとき、当該一致し
ない部分のデータのアドレス及び数値データを表す変化
分データを記憶する変化分データメモリM3と、脱毛器
本体2に対する脱毛施術条件設定信号S□。となる出力
データを記憶する出力データメモリM4と、初期設定時
に脱毛器本体2に供給すべき第0番目のパターンデータ
でなる開始パターンデータと、施術者によって設定入力
されたパターンデータでなる第1〜第16番目のパター
ンデータとを記憶するパターン設定データメモリM5と
を有する。
パターン設定装置部15のCP、UO3は第13図に示
すパターン設定データ処理手順に従って施術者が操作パ
ネル80を用いて入力したデータに基づいて脱毛器本体
2の動作条件をパターン設定データに基づいて設定する
。
すパターン設定データ処理手順に従って施術者が操作パ
ネル80を用いて入力したデータに基づいて脱毛器本体
2の動作条件をパターン設定データに基づいて設定する
。
すなわちCPU82はパターン設定装置部15が電源を
投入して動作状態になったとき、ステップSPIから当
該パターン設定データ処理手順に入り、ステップSP2
においてデータメモリ部84のすべてのメモリMl〜M
5をオールクリアした後、 ステップSP3においてパ
ターン設定データメモリM5に第0番目のプログラムデ
ータとして記憶されている開始パターンデータを出力デ
ータメモリM4に転送することにより、脱毛器本体2に
対する脱毛施術設定信号S□6として実用玉輿型的な脱
毛施術をなし得る脱毛施術設定信号S pH++を送出
できるような状態に設定する。
投入して動作状態になったとき、ステップSPIから当
該パターン設定データ処理手順に入り、ステップSP2
においてデータメモリ部84のすべてのメモリMl〜M
5をオールクリアした後、 ステップSP3においてパ
ターン設定データメモリM5に第0番目のプログラムデ
ータとして記憶されている開始パターンデータを出力デ
ータメモリM4に転送することにより、脱毛器本体2に
対する脱毛施術設定信号S□6として実用玉輿型的な脱
毛施術をなし得る脱毛施術設定信号S pH++を送出
できるような状態に設定する。
続いてCPU82はステップSP4において操作パネル
80に設けられたスタートボタン80Eが操作されるの
を待ち受ける状態になる。
80に設けられたスタートボタン80Eが操作されるの
を待ち受ける状態になる。
このスタートボタン80Eは、施術者が操作パネル80
において所望のデータを設定操作し終わった後、当該設
定したデータについてのデータ処理動作を開始させる命
令を施術者の入力操作に基づいて発生させるものである
。
において所望のデータを設定操作し終わった後、当該設
定したデータについてのデータ処理動作を開始させる命
令を施術者の入力操作に基づいて発生させるものである
。
実際上施術者は、CPU82がステップSP4において
スタートボタン80Eがオン動作するのを待ち受けてい
るタイミングにおいて、操作パネル80のマニュアル設
定操作子群80A、マニュアル指定ボタン80B1ライ
ト指定ボタン80C及びパターン選択操作ボタン80D
を操作することによって施術条件を設定する。
スタートボタン80Eがオン動作するのを待ち受けてい
るタイミングにおいて、操作パネル80のマニュアル設
定操作子群80A、マニュアル指定ボタン80B1ライ
ト指定ボタン80C及びパターン選択操作ボタン80D
を操作することによって施術条件を設定する。
かくして施術者が施術条件を設定した後スタートボタン
80Eを操作すると、CPU82はこれをステップSP
4において肯定結果を得ることにより判別してステップ
SP5に移り、操作パネル80のマニュアル設定操作子
群80Aによって設定された設定データをスキャンして
マニュアル設定データメモリM1に書き込み、かつそれ
以前にマニュアル設定データメモリM1に保持していた
データ(すなわち前回の設定操作によって設定されたデ
ータ)を前回入力データメモリM2に転送する。
80Eを操作すると、CPU82はこれをステップSP
4において肯定結果を得ることにより判別してステップ
SP5に移り、操作パネル80のマニュアル設定操作子
群80Aによって設定された設定データをスキャンして
マニュアル設定データメモリM1に書き込み、かつそれ
以前にマニュアル設定データメモリM1に保持していた
データ(すなわち前回の設定操作によって設定されたデ
ータ)を前回入力データメモリM2に転送する。
続いてCPU82はステップSP6に移ってマニュアル
指定ボタン80Bがオン操作されたか否かを判断する。
指定ボタン80Bがオン操作されたか否かを判断する。
ここで肯定結果が得られると、このことは現在のデー
タ処理サイクルにおいてマニュアル設定操作子群80A
を脱毛施術設定信号S□Gとして送出することにより脱
毛器本体2を現在入力した設定条件を用いて脱毛施術を
すべきことが指定入力されたことを意味する。
タ処理サイクルにおいてマニュアル設定操作子群80A
を脱毛施術設定信号S□Gとして送出することにより脱
毛器本体2を現在入力した設定条件を用いて脱毛施術を
すべきことが指定入力されたことを意味する。
そこでCPU82はステップSP7においてマニュアル
設定データメモリM1のデータを出力データメモリM4
に転送した後、ステップSP8に移って出力データメモ
リM4のデータを入出力装置85、ディジタル/アナロ
グ変換回路86を通じて脱毛施術設定信号S□。とじて
脱毛器本体2に出力させる。
設定データメモリM1のデータを出力データメモリM4
に転送した後、ステップSP8に移って出力データメモ
リM4のデータを入出力装置85、ディジタル/アナロ
グ変換回路86を通じて脱毛施術設定信号S□。とじて
脱毛器本体2に出力させる。
このとき脱毛器本体2は脱毛施術設定信号S□6として
第1〜第9の設定信号、すなわちクロック周波数設定信
号SP1□〜ホールド選択信号S□、を高周波出力回路
26(第2図)及び直流出力回路22(第5図)に送出
して上述のステップSP4の待受状態に戻る。
第1〜第9の設定信号、すなわちクロック周波数設定信
号SP1□〜ホールド選択信号S□、を高周波出力回路
26(第2図)及び直流出力回路22(第5図)に送出
して上述のステップSP4の待受状態に戻る。
かくしてCPU84は施術者によってマニュアル指定ボ
タン80Bが操作されたときこれを優先的なデータ処理
条件としてステップSP6において検出してマニュアル
設定操作子群80Aにマニュアル設定された脱毛施術設
定条件の下に脱毛器本体2を動作させる。
タン80Bが操作されたときこれを優先的なデータ処理
条件としてステップSP6において検出してマニュアル
設定操作子群80Aにマニュアル設定された脱毛施術設
定条件の下に脱毛器本体2を動作させる。
これに対してステップSP6において否定結果が得られ
ると、このことは施術者がマニュアル設定による脱毛施
術を指定しなかったことを意味し、このときCPU82
はステップSP9に移ってマニュアル設定データメモリ
M1及び前回入力データメモリM2のデータが相違する
かどうかの判断をする。
ると、このことは施術者がマニュアル設定による脱毛施
術を指定しなかったことを意味し、このときCPU82
はステップSP9に移ってマニュアル設定データメモリ
M1及び前回入力データメモリM2のデータが相違する
かどうかの判断をする。
ここで肯定結果が得られると、このことは現在マニュア
ル設定操作子群80Aによって設定されたデータが前回
設定されたデータとは異なることを意味し、このときC
PU82はステップ5PIOにおいてマニュアル設定デ
ータメモリM1及び前回入力データメモリM2の変化部
分を検出して当該変化した部分のデータだけを変化分デ
ータメモリM3に書き込んだ後、ステップ5PIIにお
いて出力データメモリM4のうち変化分データメモリM
3に記憶された変化分データの部分だけを書き換える。
ル設定操作子群80Aによって設定されたデータが前回
設定されたデータとは異なることを意味し、このときC
PU82はステップ5PIOにおいてマニュアル設定デ
ータメモリM1及び前回入力データメモリM2の変化部
分を検出して当該変化した部分のデータだけを変化分デ
ータメモリM3に書き込んだ後、ステップ5PIIにお
いて出力データメモリM4のうち変化分データメモリM
3に記憶された変化分データの部分だけを書き換える。
かくして出力データメモリM4のデータのうち、変化し
なかった部分のデータは改めて書き直すことなくそのま
ま利用して出力データを形成できることにより、この分
層時間の間に出力データを書き換えることができる。
なかった部分のデータは改めて書き直すことなくそのま
ま利用して出力データを形成できることにより、この分
層時間の間に出力データを書き換えることができる。
その後CPU82はステップ5P12においてマニュア
ル設定データメモリM1のデータを前回入力データメモ
リM2に転送した後、ステップ5P13において変化分
データメモリM3をクリアして上述のステップSP8に
移り、これにより新たに書き換えられた出力データを出
力データメモIJ M 4から脱毛器本体2へ出力した
後、上述のステップSP4に戻る。
ル設定データメモリM1のデータを前回入力データメモ
リM2に転送した後、ステップ5P13において変化分
データメモリM3をクリアして上述のステップSP8に
移り、これにより新たに書き換えられた出力データを出
力データメモIJ M 4から脱毛器本体2へ出力した
後、上述のステップSP4に戻る。
またステップSP9において否定結果が得られると、こ
のことは現在の入力データの処理においてマニュアル設
定操作子群80Aから入力されたマニュアル設定データ
が前回設定されたデータと同じであるのでデータを書き
換える必要がないことを意味する。このときCPU82
はステップ5P14に移ってパターン選択操作ボタン8
0Dがオン操作さたか否かの判断をする。
のことは現在の入力データの処理においてマニュアル設
定操作子群80Aから入力されたマニュアル設定データ
が前回設定されたデータと同じであるのでデータを書き
換える必要がないことを意味する。このときCPU82
はステップ5P14に移ってパターン選択操作ボタン8
0Dがオン操作さたか否かの判断をする。
ここで否定結果が得られると、このことは施術者が施術
条件を設定せずに誤ってスタートボタン80Eを操作し
たことを意味し、このときCPU82は直ちに上述のス
テップSP4に戻る。
条件を設定せずに誤ってスタートボタン80Eを操作し
たことを意味し、このときCPU82は直ちに上述のス
テップSP4に戻る。
これに対してステップ5P14において肯定結果が得ら
れると、このことは施術者が現在マニュアル設定操作子
群80Aによって設定入力したデータをパターン設定デ
ータとして登録しようとしているか、又はデータメモリ
部84に予め格納されているパターン設定データを用い
て脱毛施術しようとしていることを意味している。この
ときCPU82はステップ5P15に移ってライト指定
ボタンがオン操作されたか否かを判断し、肯定結果が得
られたとき出力データメモリM4のデータをパターン設
定データメモリM5のうちパターン選択操作ボタン80
0によって指定されたパターン番号のメモリエリアに格
納した後、上述のステップSP4に戻る。
れると、このことは施術者が現在マニュアル設定操作子
群80Aによって設定入力したデータをパターン設定デ
ータとして登録しようとしているか、又はデータメモリ
部84に予め格納されているパターン設定データを用い
て脱毛施術しようとしていることを意味している。この
ときCPU82はステップ5P15に移ってライト指定
ボタンがオン操作されたか否かを判断し、肯定結果が得
られたとき出力データメモリM4のデータをパターン設
定データメモリM5のうちパターン選択操作ボタン80
0によって指定されたパターン番号のメモリエリアに格
納した後、上述のステップSP4に戻る。
これに対してステップ5P15において否定結果が得ら
れると、CP−U82はステップ5P17に移ってパタ
ーン設定データメモリM5のうちパターン選択操作ボタ
ン80Dによって選択指定されたパターン番号のパター
ン設定データを読み出して出力データメモリM4に転送
した後、ステップSP8において、当該転送されたデー
タに基づいて動作条件を脱毛器本体2に設定した後、上
述のステップSP4に戻る。
れると、CP−U82はステップ5P17に移ってパタ
ーン設定データメモリM5のうちパターン選択操作ボタ
ン80Dによって選択指定されたパターン番号のパター
ン設定データを読み出して出力データメモリM4に転送
した後、ステップSP8において、当該転送されたデー
タに基づいて動作条件を脱毛器本体2に設定した後、上
述のステップSP4に戻る。
かくしてCPU82はデータメモリ部84に予めパター
ン設定データとして格納されたパターンデータのうち、
パターン選択操作ボタン80Dによって選択指定された
パターンデータをパターン設定データメモリM5から引
き出して脱毛器本体2を制御する。
ン設定データとして格納されたパターンデータのうち、
パターン選択操作ボタン80Dによって選択指定された
パターンデータをパターン設定データメモリM5から引
き出して脱毛器本体2を制御する。
第1O図〜第13回の構成によれば、予めパターン設定
データメモリM5にパターンデータとして設定したパタ
ーン設定データをパターン選択操作ボタン80Dのうち
の1つを選択操作するだけで脱毛施術に必要な施術条件
を一挙に設定することができ、かくして脱毛施術の操作
を一段と簡易化し得ると共に、パターンデータとして、
被施術者の体調、体質などや、施術する部位、皮膚の種
類、状態、脱毛すべき毛の質などの脱毛施術条件に適応
するパターンデータを必要に応じて用意することができ
ることにより、多様な脱毛施術条件に適応して常に最適
な施術条件の下に脱毛施術をなし得る美容脱毛装置を容
易に実現し得る。
データメモリM5にパターンデータとして設定したパタ
ーン設定データをパターン選択操作ボタン80Dのうち
の1つを選択操作するだけで脱毛施術に必要な施術条件
を一挙に設定することができ、かくして脱毛施術の操作
を一段と簡易化し得ると共に、パターンデータとして、
被施術者の体調、体質などや、施術する部位、皮膚の種
類、状態、脱毛すべき毛の質などの脱毛施術条件に適応
するパターンデータを必要に応じて用意することができ
ることにより、多様な脱毛施術条件に適応して常に最適
な施術条件の下に脱毛施術をなし得る美容脱毛装置を容
易に実現し得る。
かくするにつき、第13図のステップSP6について上
述したように、マニュアル指定ボタン80Bがオン操作
されたか否かを判断することにより、マニュアル操作が
選択されたときには優先的に当該マニュアル設定条件を
採用するようにしたことにより、−段と好適な脱毛施術
を実現し得る。
述したように、マニュアル指定ボタン80Bがオン操作
されたか否かを判断することにより、マニュアル操作が
選択されたときには優先的に当該マニュアル設定条件を
採用するようにしたことにより、−段と好適な脱毛施術
を実現し得る。
さらにステップ5P9−3P10−3P11−3P 1
2−3P 13−3P8のループを設けるようにしたこ
とにより、順次続く設定操作において、変更されなかっ
たデータが有るときにはこれをそのまま利用できるよう
にしたことにより、効率良く設定データの書き換え処理
をなし得るパターン設定装置を容易に実現し得る。
2−3P 13−3P8のループを設けるようにしたこ
とにより、順次続く設定操作において、変更されなかっ
たデータが有るときにはこれをそのまま利用できるよう
にしたことにより、効率良く設定データの書き換え処理
をなし得るパターン設定装置を容易に実現し得る。
〔5〕美容脱毛施術
以上の構成において美容脱毛施術をする際、施術者はプ
ローブ4の針状導子4Aを脱毛しようとする毛包に1つ
づつ順次挿入した後、高周波用フットスイッチ27及び
直流用フットスイッチ23を操作する。
ローブ4の針状導子4Aを脱毛しようとする毛包に1つ
づつ順次挿入した後、高周波用フットスイッチ27及び
直流用フットスイッチ23を操作する。
このとき直流脱毛出力形成部12には時間制御回路24
において遅延タイミング時間τ。たけ遅延した時点で遅
延オンオフ信号S12が与えられることにより、高周波
脱毛出力形成部11から送出される高周波脱毛出力S1
により毛包が加熱した状態を得た後、直流脱毛出力形成
部12から送出される直流脱毛出力S2によって電気分
解法に基づく脱毛施術がなされる。
において遅延タイミング時間τ。たけ遅延した時点で遅
延オンオフ信号S12が与えられることにより、高周波
脱毛出力形成部11から送出される高周波脱毛出力S1
により毛包が加熱した状態を得た後、直流脱毛出力形成
部12から送出される直流脱毛出力S2によって電気分
解法に基づく脱毛施術がなされる。
かくするにつき、高周波脱毛出力31及び直流脱毛出力
S2のエンベロープ波形についてのパラメータをパター
ン化してパターン設定情報として予め用意し、当該パタ
ーン設定情報を必要に応じて選択して脱毛器本体2に対
して脱毛施術条件設定信号S PIIGとして供給でき
るようにしたことにより、被施術者の体調や体質、並び
に施術する部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質
等の多様な脱毛施術条件に最適な施術条件を通用するこ
とができ、かくして−段と快適な脱毛施術をなし得る美
容脱毛装置を容易に実現し得る。
S2のエンベロープ波形についてのパラメータをパター
ン化してパターン設定情報として予め用意し、当該パタ
ーン設定情報を必要に応じて選択して脱毛器本体2に対
して脱毛施術条件設定信号S PIIGとして供給でき
るようにしたことにより、被施術者の体調や体質、並び
に施術する部位、皮膚の種類、状態、脱毛すべき毛の質
等の多様な脱毛施術条件に最適な施術条件を通用するこ
とができ、かくして−段と快適な脱毛施術をなし得る美
容脱毛装置を容易に実現し得る。
因に、設定信号S□□及びSFIGgによって高周波脱
毛出力S1に対してエンベロープを付与するようにした
ことにより、高周波脱毛出力S1に基づいて被施術者に
無用な不快感を与えるおそれを有効に回避し得る。
毛出力S1に対してエンベロープを付与するようにした
ことにより、高周波脱毛出力S1に基づいて被施術者に
無用な不快感を与えるおそれを有効に回避し得る。
さらに設定信号S□64及び5PIGSによって直流脱
毛出力2に対してエンベロープを付与できるようにし、
また設定信号S□。、S□1及びS□。
毛出力2に対してエンベロープを付与できるようにし、
また設定信号S□。、S□1及びS□。
によってエンベロープを付与し又は付与しない直流脱毛
出力の信号レベルを施術時間の経過に従って減衰させる
ことができるようにしたことにより、被施術者の体調、
体質等の施術条件に適合した直流脱毛出力を用いて効率
的な脱毛施術をなし得る。
出力の信号レベルを施術時間の経過に従って減衰させる
ことができるようにしたことにより、被施術者の体調、
体質等の施術条件に適合した直流脱毛出力を用いて効率
的な脱毛施術をなし得る。
すなわち、施術者は必要に応じてホールド選択スイッチ
回路71を切り換えることにより、波形制御信号352
にエンベロープ波形を付与させるようにしたり、又は付
与させないようにするような条件を必要に応じて選択で
きる。
回路71を切り換えることにより、波形制御信号352
にエンベロープ波形を付与させるようにしたり、又は付
与させないようにするような条件を必要に応じて選択で
きる。
また、放電用抵抗73Gの抵抗値を調整することにより
、減衰量&1K11、K12・・・・・・(第8図)で
示すように、減衰率を施術条件に応じて変更することが
できる。
、減衰量&1K11、K12・・・・・・(第8図)で
示すように、減衰率を施術条件に応じて変更することが
できる。
また施術者が放t′r!X圧設定用抵抗73Dの抵抗値
を必要に応じて調整することにより、減衰曲線に111
、K112・・・・・・(第9図)で示すように、波形
制御信号S52の減衰目標値を必要に応じて調整できる
ことにより、時間の経過に従って生ずる減衰量を施術条
件に応じて選択することができる。
を必要に応じて調整することにより、減衰曲線に111
、K112・・・・・・(第9図)で示すように、波形
制御信号S52の減衰目標値を必要に応じて調整できる
ことにより、時間の経過に従って生ずる減衰量を施術条
件に応じて選択することができる。
さらに直流用フットスイッチ23をオンオフ操作するに
つき、設定信号5PIIG3及び5PIGIによって、
時間τ。を制御することにより直流脱毛のタイミングを
最適値に設定し、また操作インターバル時間τ、が基準
インターバル時間τ、と比較して時間τ、がτ、より長
くなったとき減衰波形を自動的にリセットさせることが
できるようにしたことにより、被施術者に対して無用に
不快感を与えることなく効率良く脱毛施術を続けること
ができる。
つき、設定信号5PIIG3及び5PIGIによって、
時間τ。を制御することにより直流脱毛のタイミングを
最適値に設定し、また操作インターバル時間τ、が基準
インターバル時間τ、と比較して時間τ、がτ、より長
くなったとき減衰波形を自動的にリセットさせることが
できるようにしたことにより、被施術者に対して無用に
不快感を与えることなく効率良く脱毛施術を続けること
ができる。
〔6〕他の実施例
(1)上述の実施例においては、エンベロープ波形メモ
リ53としてアナログ電圧値でなるサンプリング波形値
を記憶するようにした場合について述べたが、これに代
え、ディジタル電圧値でなるサンプリング波形値を記憶
するようにしても、上述の場合と同様の効果を得ること
ができる。
リ53としてアナログ電圧値でなるサンプリング波形値
を記憶するようにした場合について述べたが、これに代
え、ディジタル電圧値でなるサンプリング波形値を記憶
するようにしても、上述の場合と同様の効果を得ること
ができる。
(2)上述の実施例においては、高周波脱毛出力S1及
び直流脱毛出力S2の両方についてそのエンベロープ波
形を制御するようにしたが、そのいずれか一方について
は制御しないようにしても良い。
び直流脱毛出力S2の両方についてそのエンベロープ波
形を制御するようにしたが、そのいずれか一方について
は制御しないようにしても良い。
(3)上述の実施例においては、パターン設定データを
構成する脱毛施術条件として、 高周波出力回路26に
ついてクロック周波数設定信号5PRGI及びサンプリ
ング波形値設定信号5PIGtを用い、また直流出力回
路22について遅延時間設定信号Spi@s、クロック
周波数設定信号5FIIG4、サンプリング波形値設定
信号S□。、減衰率設定信号S□二4、減衰目標値設定
信号S PIO’l、インターバルタイム設定信号S□
。及びホールド選択信号S□。、を用いるようにしたが
、脱毛施術条件はこれに限らず、その一部を省略し、又
は他の条件を追加するようにしても良い。
構成する脱毛施術条件として、 高周波出力回路26に
ついてクロック周波数設定信号5PRGI及びサンプリ
ング波形値設定信号5PIGtを用い、また直流出力回
路22について遅延時間設定信号Spi@s、クロック
周波数設定信号5FIIG4、サンプリング波形値設定
信号S□。、減衰率設定信号S□二4、減衰目標値設定
信号S PIO’l、インターバルタイム設定信号S□
。及びホールド選択信号S□。、を用いるようにしたが
、脱毛施術条件はこれに限らず、その一部を省略し、又
は他の条件を追加するようにしても良い。
上述のように本発明によれば、脱毛出力にエンベロープ
波形、減衰波形を付与するにつき、予めパターン化した
パターンデータを用意し得るようにしたことにより、被
施術者に不快感を与えずにしかも効率良く脱毛施術がで
きる美容脱毛装置を容易に実現し得る。
波形、減衰波形を付与するにつき、予めパターン化した
パターンデータを用意し得るようにしたことにより、被
施術者に不快感を与えずにしかも効率良く脱毛施術がで
きる美容脱毛装置を容易に実現し得る。
第1図は本発明による美容脱毛装置の全体構成を示すブ
ロック図、第2図は第1図の高周波出力回路の詳細構成
を示すブロック図、第3図は第2図の各部の信号を示す
信号波形図、第4図は第2図のエンベロープ波形メモリ
53の詳細構成を示す接続図、第5図は第1図の直流出
力回路22の詳細構成を示すブロック図、第6図は第5
図の減衰波形付与回路65の構成を示す系統的接続図、
第7図は第6図の減衰機能の説明に供する信号波形図、
第8図及び第9図は減衰特性の説明に供する特性曲線図
、第10図はパターン設定装置部15の詳細構成を示す
ブロック図、第11図及び第12図は第10図の操作パ
ネル80及びデータメモリ部84の詳細構成を示す路線
図、第13図は第1θ図のCPU82のパターン設定デ
ータ処理手順を示すフローチャートである。 l・・・・・・美容脱毛装置、2・・・・・・脱毛器本
体、4・・・・・・プローブ、11・・・・・・高周波
脱毛出力形成部、12・・・・・・直流脱毛出力形成部
、13・・・・・・光脱毛出力形成部、14・・・・・
・冷却風形成部、15・・・・・・パターン設定装置部
、32・・・・・・握り導子、45・・・・・・アフタ
ケア用ローラ、51,61・・・・・・クロック発生回
路、52.62・・・・・・スイッチ信号形成回路、5
3.63・・・・・・エンベロープ波形メモリ、54.
64・・・・・・波形整形回路、65・・・・・・減衰
波形付与回路、80・・・・・・操作パネル、82・・
・・・・CPU、84・・・・・・データメモリ部。 高側液獣力回1各の眸る田 第 図 6威嚢ミ皮形イ寸与回路の詳に田 第 図 第 図 沫衰ミ皮形の調i 第 8 図 ミ政衰浪形の謁P堅 第 デ 図 パター>校定に置部の11戊 870 図 棟イ乍パ冬ルの構成 第 11 図 デ°−タメモリ部の構成 @ 12 図
ロック図、第2図は第1図の高周波出力回路の詳細構成
を示すブロック図、第3図は第2図の各部の信号を示す
信号波形図、第4図は第2図のエンベロープ波形メモリ
53の詳細構成を示す接続図、第5図は第1図の直流出
力回路22の詳細構成を示すブロック図、第6図は第5
図の減衰波形付与回路65の構成を示す系統的接続図、
第7図は第6図の減衰機能の説明に供する信号波形図、
第8図及び第9図は減衰特性の説明に供する特性曲線図
、第10図はパターン設定装置部15の詳細構成を示す
ブロック図、第11図及び第12図は第10図の操作パ
ネル80及びデータメモリ部84の詳細構成を示す路線
図、第13図は第1θ図のCPU82のパターン設定デ
ータ処理手順を示すフローチャートである。 l・・・・・・美容脱毛装置、2・・・・・・脱毛器本
体、4・・・・・・プローブ、11・・・・・・高周波
脱毛出力形成部、12・・・・・・直流脱毛出力形成部
、13・・・・・・光脱毛出力形成部、14・・・・・
・冷却風形成部、15・・・・・・パターン設定装置部
、32・・・・・・握り導子、45・・・・・・アフタ
ケア用ローラ、51,61・・・・・・クロック発生回
路、52.62・・・・・・スイッチ信号形成回路、5
3.63・・・・・・エンベロープ波形メモリ、54.
64・・・・・・波形整形回路、65・・・・・・減衰
波形付与回路、80・・・・・・操作パネル、82・・
・・・・CPU、84・・・・・・データメモリ部。 高側液獣力回1各の眸る田 第 図 6威嚢ミ皮形イ寸与回路の詳に田 第 図 第 図 沫衰ミ皮形の調i 第 8 図 ミ政衰浪形の謁P堅 第 デ 図 パター>校定に置部の11戊 870 図 棟イ乍パ冬ルの構成 第 11 図 デ°−タメモリ部の構成 @ 12 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 毛包に差し込んだ針状導子に脱毛出力を供給して電流を
流すことにより当該毛包について永久脱毛をする美容脱
毛装置において、 上記脱毛出力にエンベロープ波形を付与するエンベロー
プ付与手段と、 上記エンベロープ波形が付与された上記脱毛出力に所定
の変化を生じさせるための条件を表すパターン設定情報
を発生するパターン設定手段とを具えることを特徴とす
る美容脱毛装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30587989A JPH03165711A (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 美容脱毛装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30587989A JPH03165711A (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 美容脱毛装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03165711A true JPH03165711A (ja) | 1991-07-17 |
Family
ID=17950426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30587989A Pending JPH03165711A (ja) | 1989-11-25 | 1989-11-25 | 美容脱毛装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03165711A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6314822U (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 |
-
1989
- 1989-11-25 JP JP30587989A patent/JPH03165711A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6314822U (ja) * | 1986-07-15 | 1988-01-30 |
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