JPH0316636A - 水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法 - Google Patents
水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法Info
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- JPH0316636A JPH0316636A JP11365989A JP11365989A JPH0316636A JP H0316636 A JPH0316636 A JP H0316636A JP 11365989 A JP11365989 A JP 11365989A JP 11365989 A JP11365989 A JP 11365989A JP H0316636 A JPH0316636 A JP H0316636A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【産朶１゛．の技術分９１１
本発明は、特定の分゛ｒ配列構造をイｆする水並びに１
，｝定の分子配列構造をイｆする水を含む水溶液，含水
物質（本発明においては構造水という）及び気体中水の
含有成分を変えることなく，水の分子構造を変え，反応
速度をコントロールする袈７？？及び方法に関する． 【従宋の技術］ 天然水は液中にｒｆ．／Ｅする物質の組成に従って液中
の陰イオンにもとづき（１）塩化物質 （２》炭化水素
質《３》硫酸塩質の三つに分けられる．さらにそれぞれ
の三神類は陽イオンの神類に従って（１）ナトリウム質
｛２）マグネシウム？ｔ （３）カリウム賀（４｝ カ
ルシウム質の４種類に分けられるので全部でｌｌｔｆｌ
の水があるとイえられている．さらに，生体水，水道水
，人造水雰厳密な分析によれば丁・χノＪ゛別である．
この千差万別の水及び含水物質の水の性質を判別するこ
とは現在に於ては不ｉ’ｌ能と云われている． Ｔ．価三ｔＩＩ鉄塩含イ７２ ｘ １ ０−” モＡｔ
／ Ｉ ｆ）処理水はイオン反沁抑制作川があり，金属
腐蝕抑制作用、塩障書除去作用，土鳩障害除去作用．防
腐作用，抗ウイルス作用，抗廟作川，免疫作用専の神〜
の生卵作用があるということは特公開昭５９−１９０２
２６号によって、公知の１１実であり、又，天然にイｔ
在する表飯石，太陽石、中［Ｉ１４の漢方桑石より反応
して得られた水又はイオン水，非イオン水の人］ニ水も
市鳩に多く提供されており，これらの水の何効作川が谷
神研究機関団体においても認められている． ・ｈ現７Ｉ６，水の構造について、周期表中で酸素のま
わりの元素（室素、硫黄．弗素専）の水素化合物にくら
べ水は特に沸点，融点が１１′５い．またルートン走敗
，表而張ノハω人密度，温度、その他の点においても水
は異常な状態を示すことが知られている．このことは水
素帖合による水分子・の配列のため擬鮎品摺逍（氷の結
品構造が部分的に桟っている》の型を構成していると占
えられている．又Ｘ線１■１析によると細胞膜の第−・
）Ｍ ［１は完全なＩ！ｌＩ造水である．さらに水は温
度，光． ＩＦ力，及び水に含有されている物質専によ
り綱造化が変化することも知られている． このように水は丁・；’ｎ Ｊｊ別の状態で０／Ｅして
おり，化′ｉ反尾速度にも丁・差万別にかかわっている
ことがわかっている．その化学反応速度を経験的に制御
し正常な化学反応を行なわしめる努力をしているが的確
に化学反応な；Ｐ３ １１するｈ法及び装置はないのが
実状である． また，水は物質に接触すると水のｔｌｌｌＴｉ化が変わ
り，水の持っている反応速度が変化することが知られて
いる．また，水に物理作用を与えると，水のｔＭ造化も
変わり反応速度が変化することも知られている。そこで
物質に水を接触させることと物Ｆ１＋作用を同時に行わ
せたり゛．Ｉｎ次それぞれ行うと，効串よく水の構逍化
、すなわち水の反応速度を制御することが可能となる．
従来は水の中に可泗性物質を泪かして水溶液等の化学反
応を速くしたり遅くしたりしていた．また、物狸処理の
みで水の化？反応速度をコントロールしていたが，水溶
液に物質を溶かす方法は水の成分を変えて水そのものの
構造を変える欠点がある．また，物理処理のみでは化学
反応速度のコントロールが効串よく行われない欠点があ
った． 【発明が解決しようとする問題点】 従来技術で解明されているごとく構造化された水は化学
反応速度は遅く構造化が不完全な水は化学反応速度は速
い．即ち水の関わっている化学反応系に於ては化学反応
条件《化学物質のｍ，＋１１１．ｆＩＩ化還元宙拉，温
度，リし力、重気重専専）を・定にした場合，水のｔＭ
逍化が化学反応速度を決定している．そこで化？反応速
度が判れば水の構逍化が必然的に決定できる． ・力水に電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．■■視光
線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外。（牡波，光等）を照
射すると耗験的にも科′ｔ分析的にも化？反応速度が変
わることが判っている．それ専のことにより電磁波の照
射］−１をｌｉ｛Ｊ ｍすれ１ｆ化学反応速度即ち水の
構造化を：ＩＩ１１御することができる．本発明は、特
定の分子Ａ！列構造をイｆした水ｑｐびに特定の分子配
列構逍をイ１゜する水を含む水溶液及び含水物質の製造
装１ｎ，並びに，水が棲触すると水を変化させる物質と
物Ｐ１＋作用とを糾合わせることにより効串良く水の化
′？反応速度をコントロールすることができる方法、ま
た，原水または気体中の化′？成分を変えることなく水
溶液の化学反応速度を制御できる方法，また．接触法で
水に水溶性物質を使って半永久的に作用させることがで
きる方法を捉ａｃすることを１１的とするものである．
，｝定の分子配列構造をイｆする水を含む水溶液，含水
物質（本発明においては構造水という）及び気体中水の
含有成分を変えることなく，水の分子構造を変え，反応
速度をコントロールする袈７？？及び方法に関する． 【従宋の技術］ 天然水は液中にｒｆ．／Ｅする物質の組成に従って液中
の陰イオンにもとづき（１）塩化物質 （２》炭化水素
質《３》硫酸塩質の三つに分けられる．さらにそれぞれ
の三神類は陽イオンの神類に従って（１）ナトリウム質
｛２）マグネシウム？ｔ （３）カリウム賀（４｝ カ
ルシウム質の４種類に分けられるので全部でｌｌｔｆｌ
の水があるとイえられている．さらに，生体水，水道水
，人造水雰厳密な分析によれば丁・χノＪ゛別である．
この千差万別の水及び含水物質の水の性質を判別するこ
とは現在に於ては不ｉ’ｌ能と云われている． Ｔ．価三ｔＩＩ鉄塩含イ７２ ｘ １ ０−” モＡｔ
／ Ｉ ｆ）処理水はイオン反沁抑制作川があり，金属
腐蝕抑制作用、塩障書除去作用，土鳩障害除去作用．防
腐作用，抗ウイルス作用，抗廟作川，免疫作用専の神〜
の生卵作用があるということは特公開昭５９−１９０２
２６号によって、公知の１１実であり、又，天然にイｔ
在する表飯石，太陽石、中［Ｉ１４の漢方桑石より反応
して得られた水又はイオン水，非イオン水の人］ニ水も
市鳩に多く提供されており，これらの水の何効作川が谷
神研究機関団体においても認められている． ・ｈ現７Ｉ６，水の構造について、周期表中で酸素のま
わりの元素（室素、硫黄．弗素専）の水素化合物にくら
べ水は特に沸点，融点が１１′５い．またルートン走敗
，表而張ノハω人密度，温度、その他の点においても水
は異常な状態を示すことが知られている．このことは水
素帖合による水分子・の配列のため擬鮎品摺逍（氷の結
品構造が部分的に桟っている》の型を構成していると占
えられている．又Ｘ線１■１析によると細胞膜の第−・
）Ｍ ［１は完全なＩ！ｌＩ造水である．さらに水は温
度，光． ＩＦ力，及び水に含有されている物質専によ
り綱造化が変化することも知られている． このように水は丁・；’ｎ Ｊｊ別の状態で０／Ｅして
おり，化′ｉ反尾速度にも丁・差万別にかかわっている
ことがわかっている．その化学反応速度を経験的に制御
し正常な化学反応を行なわしめる努力をしているが的確
に化学反応な；Ｐ３ １１するｈ法及び装置はないのが
実状である． また，水は物質に接触すると水のｔｌｌｌＴｉ化が変わ
り，水の持っている反応速度が変化することが知られて
いる．また，水に物理作用を与えると，水のｔＭ造化も
変わり反応速度が変化することも知られている。そこで
物質に水を接触させることと物Ｆ１＋作用を同時に行わ
せたり゛．Ｉｎ次それぞれ行うと，効串よく水の構逍化
、すなわち水の反応速度を制御することが可能となる．
従来は水の中に可泗性物質を泪かして水溶液等の化学反
応を速くしたり遅くしたりしていた．また、物狸処理の
みで水の化？反応速度をコントロールしていたが，水溶
液に物質を溶かす方法は水の成分を変えて水そのものの
構造を変える欠点がある．また，物理処理のみでは化学
反応速度のコントロールが効串よく行われない欠点があ
った． 【発明が解決しようとする問題点】 従来技術で解明されているごとく構造化された水は化学
反応速度は遅く構造化が不完全な水は化学反応速度は速
い．即ち水の関わっている化学反応系に於ては化学反応
条件《化学物質のｍ，＋１１１．ｆＩＩ化還元宙拉，温
度，リし力、重気重専専）を・定にした場合，水のｔＭ
逍化が化学反応速度を決定している．そこで化？反応速
度が判れば水の構逍化が必然的に決定できる． ・力水に電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．■■視光
線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外。（牡波，光等）を照
射すると耗験的にも科′ｔ分析的にも化？反応速度が変
わることが判っている．それ専のことにより電磁波の照
射］−１をｌｉ｛Ｊ ｍすれ１ｆ化学反応速度即ち水の
構造化を：ＩＩ１１御することができる．本発明は、特
定の分子Ａ！列構造をイｆした水ｑｐびに特定の分子配
列構逍をイ１゜する水を含む水溶液及び含水物質の製造
装１ｎ，並びに，水が棲触すると水を変化させる物質と
物Ｐ１＋作用とを糾合わせることにより効串良く水の化
′？反応速度をコントロールすることができる方法、ま
た，原水または気体中の化′？成分を変えることなく水
溶液の化学反応速度を制御できる方法，また．接触法で
水に水溶性物質を使って半永久的に作用させることがで
きる方法を捉ａｃすることを１１的とするものである．
（１）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶件物
質にて処理！ Ｌ，た後、電磁波（例えばａ線、ｘ線、
紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外，ｔｔ
ｔｇｔ）！ＫｌｇＬ磁気！ρＩ射．音波照射《音波照射
（音波専）、加熱冷却，ＪＩＥノハ振動、噴射専の物狸
的処理を行い，処理水または処理された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含有成分を変えることなく水の分子構造を変え，反応速
度をコントロールする方法。（２｝原水または銀体中の
水の含有成分を、電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．
可視光線．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波）照射．磁
気照射．音波ＩＫ（引（音波．超音波等），加熱冷却．
Ｊ〕ｈノハ振動、噴射等の物ｒ１！的処ｉｌｌを行っ
た後，非水溶性物質にて処ｐ＋＋ Ｌて，処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含−１’ｆ成分を変えること
なく水の分子綱造を変え，反応速度をコントロールする
方法．法． ｛３）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶４ｆ
？ｉｆｍ物にて処理！シた後、電磁波（例えばａ線、ｘ
線、紫外線， ’＋ｉｌ視光線．遠赤外線．赤外線．超
遠赤外電波）照射．磁ｚ（ Ｈ＋＜１射．音波ｐａｔ射
（音波、超音波等），加熱冷却． ｒａｔノハ振動，噴
射等の物Ｆ１！的処理ｔを行い、処理水または処理され
た気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液
及び気体中の水の含有成分を変えることなく水の分子構
造を変え，反心速度をコントロールする方法．法． （４）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波《例
えばａ線、ｘ線、紫外線， ｉｉｌ視光線．遠赤外線．
赤外線、超遠赤外電波）！ｌｒＪＱＬ磁気照射．音波照
射（音波照射（音波専），加熱冷却． ｎ−．力，振動
． ＋１６１｝１’３の物理的処３１１１を行った後，
非水洞性｛Ｔ機物にて処理シて処理水または処理された
気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及
び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分子構
造を変え、反応速度をコントロールする方法．法． （５）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性無
機物にて処理した後、電磁波（例えばａ線、ｘ線、・紫
外線．可視光線．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波）照
射．磁只照射．音波照射（音波照射（音波等），加熱冷
却、１１；ノハ振動，噴射等の物即的処理を行い、処理
水または処理された気体中の水の含イ！成分を得ること
を特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変える
ことなく，水の分７−構造を変え，反沁進度をコントロ
ールする方法． 《６》原水または気体中の水の含有成分を．ｉｌｉ！ａ
波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．
赤外線、超遠赤外電波）照Ｑ−１．磁気照射．音波照射
（ｒ′ｉ波照射（音波、超音波等），加熱冷却． ｒ＋
三力，振動，噴Ｑ４刃の物理的処ｉｌｌを行い． ３『
水溶件無機物にて処卯木または処理！された気体中の水
の含有成分を得ることを特徴とする水ｆｆ’ｌ液及び気
体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子摺逍を
変え，反応速度をコントロールする方法．（７）原水ま
たは虱体中の水の含有成分を、非水溶ヤＩ有機物及び非
水溶性無機物にて処理した後，電磁波（例えばａ綿、ｘ
線、紫外線．可視光線，遠赤外縮．赤外線、超遠赤外電
波）照射、磁気照射ｒ↑波照Ｑ４ （バ波、超音波？Ｐ
）．加熱冷却，ＦＥ力，振動、噴Ｑ４ ５の物１１ｌｊ
的処理を行い，処理水または処理された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含有成分を変えることなく、水の分Ｊｌ＋Ｍ逍を変え，
反応速度をコントロールする方法． （８》原水または気体中の含有゜成分を，非水Ｍｆｆｆ
ｆ機物にて処理シた後、電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫
外線．ｉＩＩ視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外Ｓｉ
ｔ波）照射．磁気照射＊ Ｉ’ｊ波照射《音波、超？１
波７′Ｆ），加熱冷却． １’Ｅ力、振動，噴９｛専の
物Ｆ！！的処理を行い、次に非水溶性！！１一機物にて
処理シて処理！水または処理された気体中の水の含有成
分をｆｌることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含
有成分を変えることなく，水の分子構造を変え，反応速
度をコントロールする方法． （９）原水または気体中の水の含４−Ｔ成分を，電磁波
（例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤
外線．超遠赤外１Ｏ波）照射．磁気照射．音波照Ｑ４
（音波照射（音波′７７），加熱冷却，圧力，振動．ｎ
ｎ（Ｈ？ｙの物理的処ｐｌを行い、次に非水溶性有機物
にて処ＪＴＩ！ Ｌた後，非水泗性無機物にて処理して
，処理水または処理ｊされた気体中の水の含有成分を得
ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を
変えることなく水の分子ｈｌｌｎを変え，反応速度をコ
ントロールする方法′． （１０）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
無機物にて処理シた後，非水溶性イｉ機物にて処ＩＩＩ
！ Ｌ， ．次に電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．
■１視九紛．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波） Ｉｔ
（ＩＩｔ ．磁気照射．音波照射 （音波照射（音波雰
），加熱冷却，ハミカ、振動，噴Ｑ４ ？Ｊの物理的処
理を行い、処理！水または処裡された気体中の水の含有
成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含
有成分を変えることなく水の分子摺逍を変え，反応速度
をコントロールする方法． （！１）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
熊機物にて処理した後． 電磁波（例えばａ線、ｘ線、
紫外線、可視光線．遠赤外線．赤外線．超ｉ赤外’＋Ｉ
１ｉｊｌ ） ！”ｌ｛ ． 磁ｘ（照Ｑ１． ｎ 波
？！。（６４ （ 音波照射（音波専），加熱冷却、圧
力、振動，哨Ｑ４ ５の物ｐｌｌ的処理を行い，次に非
水溶ｆｆｊｉ機物にて処ＰＩ！ Ｌ，て処ＩＩ１！水ま
たは処Ｊｌｐされた気体中の水の含有成分をｊｉＩるこ
とを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変え
ることなく水の分子構造を変え，反応速度をコントロー
ルする方法． （１２）原水または気体中の水の含｛Ｔ成分を、電磁波
《例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤
外線、超遠赤外電波）照ｇ１．磁気照射、音波照射、
（含波照射（音波笠），加熱冷却、圧力，振動、噴射等
の物Ｆｌ的処理を行った後，，Ｉ１“水溶性無機物にて
処理を行い，次に非水溶性有機物にて処理シて処裡水ま
たは処理された１ｔ体中の水の含有成分をｔｌることを
特徴とする水溶液及び気体中の水の含ｆｉ成分を変える
ことなく水の分子構造を変え，反応速度をコントロール
する方法． ｛Ｉ３》原水または気体中の水の含有成分を、叶磁波（
例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外
線、超遠赤外電波）照射．磁気照射．８波照射（音波照
射（音波専），加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的
処ｊｌｌｌを行った後，非水溶性ｎ機物にて処理ｔを行
い，次に非水溶性金属間化合物にて処理！ シ．次に非
水溶性金属にて処理シて、処理水または処ｉｌ１された
気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及
び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分子構
造を変え，反応速度をコントロールする方法． ｛１０原水または気体中の水の含有成分を，１・■磁波
《例えばａ線、ｘ線、紫外線， ｎｆ視光線．遠赤外線
．赤外線、超遠赤外電波｝照射．磁只化ＩＱ｛．音波照
０−ｔ（Ｉ１波、超音波刃），加熱揄却，ｌ〔ノハ振動
、噴射等の物理的処Ｐｌを行った後，非水溶性物質にて
処ｐ１！を行い、次に非水溶性金属間化合物にて処理し
て、処理水または処理された気体中の水の含有成分を得
ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含イ丁成分
を変えることなく，水の分子ｖｔＴｉを変え，反応速度
をコントロールする方法。（ｌ５）原水または気体中の
水の含有成分を，電磁波（゛例えばａ線、ｘ線、紫外線
。（１ｆ視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外ｓｔｔ波
） ｉｊ／（射．磁訊照射．音波照射（音波．超音波専
），加熱冷却． ｎ：．ノハ振動．’ｎＱ４”９ｆ）物
Ｐ１！的処理！を行ナイ．ノＩ’ 水ｆｆｉ 性物ｆｆ
ｉにて処理し、出に非水溶件金属にて処理して、処理水
または処理された？（体中の水の含有成分を得ることを
特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えるこ
となく．水の分子構遣を変え，反応速度をコントロール
する方法． （Ｉ６》原水または気体中の水の含有成分を、ｓｔｔ磁
波（例えばａ ｌｌ 、ｘ線、紫外線， ｉｉｌ視光線
．遠赤外線．赤外線．超遠赤外市波）照射．磁気熊射．
音波照Ｑ４（ｉ’？波照射（音波専）、加熱冷却． ７
１ミカ，振動．７１Ｑ｛等の物理的処理を行ない，非水
溶件金属間化合物にて処理して．次に非水溶性金属にて
処ｎ！シて処理水または処理！された気体中の水の含イ
ｒ成分を得ることを特徴とする水泗液及び気体中の水の
含ｉｆ成分を変えることなく，水の分子？ｌｌｔＢを変
え，反応速度をコントロールする方法．（１７）原水ま
たは気体中の水の含有成分を．？ｌｔ磁波（例えばａ
Ｉｉ！、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外綿．
超遠赤外市波）照射．磁気照射、音波照射（音波照射（
箭波？？），加熱冷却，ｎミノハ振動、噴射専の物ｐｌ
ｌ的処Ｆ１を行ない，非水溶性金属間化合物にて処理し
て，処ｉｌｌ水または処理された銀体中の水の含有成分
を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成
分を変えることなく，水の分ｊ’ｔＭＴｉを変え，反応
速度をコントロールする方法． ｛ｌ８》原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばａ ｌｌ 、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線
．赤外縮．超遠赤外１′Ｉ１波）照射．磁気照射．音波
ＩＶ。（射（音波照射（音波専），加熱冷却，圧力、振
動，噴ｔＲ専の物理的処理を行ない、非水溶性金穎にて
処理！ Ｌ，て、処理水または処理された気体中の水の
含Ｙｉ成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の
水の含Ｉｆ成分を変えることなく，水の分Ｙ・構造を変
え、反応速度をコントロールする方法． ｛１９｝原水またはｔ（体中の水の含Ｎ成分を．６Ｉｖ
（醸化６シ素），酸化アルミニウム（アルミナ）炭化社
素を組合せ処理し，次＄二鉗にて処理した後、電磁波Ｊ
ｌ４（射（例えばａ Ｉｆｄ 、ｘ線、紫外線．可視光
線、遠赤外線、赤外線．超遠亦外電波専）にて処３１１
１して，処理ｅ水または処ｊｌｌｊされたＳａｔ体中の
水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中
の水の含有成分を変えることなく，水の分子構造を変え
．反応速度をコントロールする方法 （２０３７１１水または％Ｌ体中の水の含有成分を．６
１酸（＃化６Ｆ′素），酸化アルミニウム，酸化鉄．酸
化ニッケル，ｉｖ化コバルト及び酸化チタンを組合せ処
理！ Ｌ ．次に鉗にて処理した後電磁波照射（例えば
ａ線、ｘ線、紫外線， ｉ＋ｊ視光線、遠赤外線、赤外
線．超遠赤外電波専）にて処理して処裡水または処７１
１１された気体中の水の含（ｒ成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
．水の分子摺逍を食え、反応速麿をコントロールするノ
Ｊ法． （２１）原水または気体中の水の含有成分を、砂酸（Ｎ
ＸＩ化６ｔ素）、酸化アルミニウム（アルミナ）、炭化
６［素を組合せて処理シて、更に非水溶性何機物にて処
理した後銀にて処理し，次に％ｔｔ磁波照射（例えばａ
線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外線、超遠
赤外電波専）にて処理シて，処理ｉ水または処理された
気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及
び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分子構
造を変え．反応速度をコントロール１゛る方法． ｛２２｝原水または気体中の水の含有成分を，窒化アル
ミ、窒化硅素，窄化ホーソその他のセラミックを組合せ
にて処裡し，次に非水溶性｛ｆｌｌ物及び銀にて処理し
て徂磁波！！＜｛Ｑ４（例えばａ線、ｘ線、紫外線，
＋４視光線．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波、超音波
等）を施して、処理水または処裡された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含イ．Ｔ成分を変えることなく，水の分子＋ＭＤを変え
，反応速１文をコントロールする方法． （２３）原水または気体中の水の含有成分を，金Ｗ４酸
化物，金ｋＡＶｔ化物，その他の非水溶性金雇を組合せ
゛処ＩＩＩ！ Ｌ ．次に非水溶件有機物及び銀にて処
理しテＳ［磁汲照９｛（例えばａ ａ 、ｘ線、紫外線
．可視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外電波等》を行
って、処理水または処理された気体中の水の含有成分を
得ることを特徴と゜４る水瀉液及び気体中の水の含有゛
成分を変えることなく，水の分子＋Ｍｎを変え，反応速
度をコントロールする方法． （２４）原水または気体中の水の含有成分を６Ｐ．ｆａ
ＣＭ化社素）．＃化鉄．＃化ニッケルを組合せ処理して
，次に非水溶性有機物にて処理！ Ｌ，た後，銀にて処
川！して，次に重磁汲照射（例えばα線、ｘ線、紫外線
．可視光線．遠赤外線，赤外線．超遠赤外ｓｔｔ波、超
音波等｝を行って処１１ｌｉ水または処１１１ｊされた
気体中の水の含有成分をｆ！ｌることを特徴とする水溶
液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分
子一構造を変え、反応速度をコントロールする方法． （２５）原水または気体中の水の含有成分を，セラくッ
ク処理を行った後、銀にて処理して、処理水または処理
された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水
溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の
分子ｈｉｌｌを変え，反応速度をコントロールする方法
． （２６）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
物質で処理ｌを行った後，銀にて処理シて，処理水また
は処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
，水の分子構造を変え，反応速度をコントロールする方
法． （２７》原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
有機物で処理を行った後，釦にて処理シて、処理！水ま
たは処裡された気体中の水の含有成分を得ることを特徴
とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることな
く，水の分子構造を変え，反応速度をコントロールする
方法． （２Ｂ）＊ｔ水または気体中の水の含有成分を，非水溶
性無機物で処理をを行った後，銀にて処理して，処理水
または処理された気体中の水の含有成分を得ることを特
徴とする水滴液及び気体中の水の含有成分を変えること
なく．水の分子構造を変え，反応速度をコントロールす
る方法。 （２’ｌ）Ｊ≦｛水または気体中の水の含有成分を，非
水溶ｆｆ｛ｊ磯物で処理し，更に，ノ１：水溶性無機物
で処理を行った後，銅にて処理シて、処理水または処理
された気体中の水の含ｆ］成分を１ｉｌることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含（ｆ成分を変えることな
く，水の分子摺逍を変え，反応速度をコントロールする
ノｊ法． （３０）原水または気体中の水の含有成分を，非水消作
物質で処ＦＩＩＬ更に，非水溶性有機物質にて処理し，
次に非水溶性熊機物で処理シた後、銀にて処理して、処
理水または処理された２（体中の水の含有成分を得るこ
とを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変え
ることなく、水の分子桶造を変え，反込速度をコントロ
ールする方法。（３１）原水または気体中の水の含｛−
ｆ成分を、能酸（ＩＩ１１２化社素）．ＡｔＦ化アルミ
ニウム（アルミナ），炭化硅素、酸化鉄，Ｎｔ化ニッケ
ル，ｉＩ！Ｉ化コバルト，酸化チタン，窒化硅素、窒化
アルミ、窒化６ｔ素、窒化硅素、窒化ホウソ，その他の
セラミヴク，金ｒｉｆ４酸化物，金属硫化物，その他の
非水溶性金属を組合せて処理を行った後，銀にて処理し
て，処理水または処理された気体中の水の含有成分を得
ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を
変えることなく，水の分Ｙ−ＩｌｌＩ造を変え，反応速
度をコントロールする方法． （３２）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金
城間化合物にて処理シた後，銀にて処理！シて、処理ｊ
．水または処理された気体中の水の含有成分を得ること
を特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変える
ことなく、水の分子１１ｎを変え，反応速度をコントロ
ールする方法． （３３）Ｊ≦Ｌ水または気体中の水の含有成分を非水溶
性金属にて処理した後．鉗にて処理して，処理水または
処１１１ｊされた気体中の水の含有成分を得ることを特
徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えること
なく，水の分子−Ｉｉ構造を変え，反応速度をコントロ
ールする方法． （３４》原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金
Ｋ間化合物にて処理シた後，非水清件金属にて処理し，
さらに鉋にて処理ｊ ｌ，て，処理水または処１１１１
された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水
溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の
分子構逍を変え，反応速度をコントロールする方法． ［作 Ｊ１１１ 本発明は、受水タンクの力；
質にて処理！ Ｌ，た後、電磁波（例えばａ線、ｘ線、
紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外，ｔｔ
ｔｇｔ）！ＫｌｇＬ磁気！ρＩ射．音波照射《音波照射
（音波専）、加熱冷却，ＪＩＥノハ振動、噴射専の物狸
的処理を行い，処理水または処理された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含有成分を変えることなく水の分子構造を変え，反応速
度をコントロールする方法。（２｝原水または銀体中の
水の含有成分を、電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．
可視光線．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波）照射．磁
気照射．音波ＩＫ（引（音波．超音波等），加熱冷却．
Ｊ〕ｈノハ振動、噴射等の物ｒ１！的処ｉｌｌを行っ
た後，非水溶性物質にて処ｐ＋＋ Ｌて，処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含−１’ｆ成分を変えること
なく水の分子綱造を変え，反応速度をコントロールする
方法．法． ｛３）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶４ｆ
？ｉｆｍ物にて処理！シた後、電磁波（例えばａ線、ｘ
線、紫外線， ’＋ｉｌ視光線．遠赤外線．赤外線．超
遠赤外電波）照射．磁ｚ（ Ｈ＋＜１射．音波ｐａｔ射
（音波、超音波等），加熱冷却． ｒａｔノハ振動，噴
射等の物Ｆ１！的処理ｔを行い、処理水または処理され
た気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液
及び気体中の水の含有成分を変えることなく水の分子構
造を変え，反心速度をコントロールする方法．法． （４）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波《例
えばａ線、ｘ線、紫外線， ｉｉｌ視光線．遠赤外線．
赤外線、超遠赤外電波）！ｌｒＪＱＬ磁気照射．音波照
射（音波照射（音波専），加熱冷却． ｎ−．力，振動
． ＋１６１｝１’３の物理的処３１１１を行った後，
非水洞性｛Ｔ機物にて処理シて処理水または処理された
気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及
び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分子構
造を変え、反応速度をコントロールする方法．法． （５）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性無
機物にて処理した後、電磁波（例えばａ線、ｘ線、・紫
外線．可視光線．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波）照
射．磁只照射．音波照射（音波照射（音波等），加熱冷
却、１１；ノハ振動，噴射等の物即的処理を行い、処理
水または処理された気体中の水の含イ！成分を得ること
を特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変える
ことなく，水の分７−構造を変え，反沁進度をコントロ
ールする方法． 《６》原水または気体中の水の含有成分を．ｉｌｉ！ａ
波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．
赤外線、超遠赤外電波）照Ｑ−１．磁気照射．音波照射
（ｒ′ｉ波照射（音波、超音波等），加熱冷却． ｒ＋
三力，振動，噴Ｑ４刃の物理的処ｉｌｌを行い． ３『
水溶件無機物にて処卯木または処理！された気体中の水
の含有成分を得ることを特徴とする水ｆｆ’ｌ液及び気
体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子摺逍を
変え，反応速度をコントロールする方法．（７）原水ま
たは虱体中の水の含有成分を、非水溶ヤＩ有機物及び非
水溶性無機物にて処理した後，電磁波（例えばａ綿、ｘ
線、紫外線．可視光線，遠赤外縮．赤外線、超遠赤外電
波）照射、磁気照射ｒ↑波照Ｑ４ （バ波、超音波？Ｐ
）．加熱冷却，ＦＥ力，振動、噴Ｑ４ ５の物１１ｌｊ
的処理を行い，処理水または処理された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含有成分を変えることなく、水の分Ｊｌ＋Ｍ逍を変え，
反応速度をコントロールする方法． （８》原水または気体中の含有゜成分を，非水Ｍｆｆｆ
ｆ機物にて処理シた後、電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫
外線．ｉＩＩ視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外Ｓｉ
ｔ波）照射．磁気照射＊ Ｉ’ｊ波照射《音波、超？１
波７′Ｆ），加熱冷却． １’Ｅ力、振動，噴９｛専の
物Ｆ！！的処理を行い、次に非水溶性！！１一機物にて
処理シて処理！水または処理された気体中の水の含有成
分をｆｌることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含
有成分を変えることなく，水の分子構造を変え，反応速
度をコントロールする方法． （９）原水または気体中の水の含４−Ｔ成分を，電磁波
（例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤
外線．超遠赤外１Ｏ波）照射．磁気照射．音波照Ｑ４
（音波照射（音波′７７），加熱冷却，圧力，振動．ｎ
ｎ（Ｈ？ｙの物理的処ｐｌを行い、次に非水溶性有機物
にて処ＪＴＩ！ Ｌた後，非水泗性無機物にて処理して
，処理水または処理ｊされた気体中の水の含有成分を得
ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を
変えることなく水の分子ｈｌｌｎを変え，反応速度をコ
ントロールする方法′． （１０）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
無機物にて処理シた後，非水溶性イｉ機物にて処ＩＩＩ
！ Ｌ， ．次に電磁波（例えばａ線、ｘ線、紫外線．
■１視九紛．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波） Ｉｔ
（ＩＩｔ ．磁気照射．音波照射 （音波照射（音波雰
），加熱冷却，ハミカ、振動，噴Ｑ４ ？Ｊの物理的処
理を行い、処理！水または処裡された気体中の水の含有
成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含
有成分を変えることなく水の分子摺逍を変え，反応速度
をコントロールする方法． （！１）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
熊機物にて処理した後． 電磁波（例えばａ線、ｘ線、
紫外線、可視光線．遠赤外線．赤外線．超ｉ赤外’＋Ｉ
１ｉｊｌ ） ！”ｌ｛ ． 磁ｘ（照Ｑ１． ｎ 波
？！。（６４ （ 音波照射（音波専），加熱冷却、圧
力、振動，哨Ｑ４ ５の物ｐｌｌ的処理を行い，次に非
水溶ｆｆｊｉ機物にて処ＰＩ！ Ｌ，て処ＩＩ１！水ま
たは処Ｊｌｐされた気体中の水の含有成分をｊｉＩるこ
とを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変え
ることなく水の分子構造を変え，反応速度をコントロー
ルする方法． （１２）原水または気体中の水の含｛Ｔ成分を、電磁波
《例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤
外線、超遠赤外電波）照ｇ１．磁気照射、音波照射、
（含波照射（音波笠），加熱冷却、圧力，振動、噴射等
の物Ｆｌ的処理を行った後，，Ｉ１“水溶性無機物にて
処理を行い，次に非水溶性有機物にて処理シて処裡水ま
たは処理された１ｔ体中の水の含有成分をｔｌることを
特徴とする水溶液及び気体中の水の含ｆｉ成分を変える
ことなく水の分子構造を変え，反応速度をコントロール
する方法． ｛Ｉ３》原水または気体中の水の含有成分を、叶磁波（
例えばａ線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外
線、超遠赤外電波）照射．磁気照射．８波照射（音波照
射（音波専），加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的
処ｊｌｌｌを行った後，非水溶性ｎ機物にて処理ｔを行
い，次に非水溶性金属間化合物にて処理！ シ．次に非
水溶性金属にて処理シて、処理水または処ｉｌ１された
気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及
び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分子構
造を変え，反応速度をコントロールする方法． ｛１０原水または気体中の水の含有成分を，１・■磁波
《例えばａ線、ｘ線、紫外線， ｎｆ視光線．遠赤外線
．赤外線、超遠赤外電波｝照射．磁只化ＩＱ｛．音波照
０−ｔ（Ｉ１波、超音波刃），加熱揄却，ｌ〔ノハ振動
、噴射等の物理的処Ｐｌを行った後，非水溶性物質にて
処ｐ１！を行い、次に非水溶性金属間化合物にて処理し
て、処理水または処理された気体中の水の含有成分を得
ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含イ丁成分
を変えることなく，水の分子ｖｔＴｉを変え，反応速度
をコントロールする方法。（ｌ５）原水または気体中の
水の含有成分を，電磁波（゛例えばａ線、ｘ線、紫外線
。（１ｆ視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外ｓｔｔ波
） ｉｊ／（射．磁訊照射．音波照射（音波．超音波専
），加熱冷却． ｎ：．ノハ振動．’ｎＱ４”９ｆ）物
Ｐ１！的処理！を行ナイ．ノＩ’ 水ｆｆｉ 性物ｆｆ
ｉにて処理し、出に非水溶件金属にて処理して、処理水
または処理された？（体中の水の含有成分を得ることを
特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えるこ
となく．水の分子構遣を変え，反応速度をコントロール
する方法． （Ｉ６》原水または気体中の水の含有成分を、ｓｔｔ磁
波（例えばａ ｌｌ 、ｘ線、紫外線， ｉｉｌ視光線
．遠赤外線．赤外線．超遠赤外市波）照射．磁気熊射．
音波照Ｑ４（ｉ’？波照射（音波専）、加熱冷却． ７
１ミカ，振動．７１Ｑ｛等の物理的処理を行ない，非水
溶件金属間化合物にて処理して．次に非水溶性金属にて
処ｎ！シて処理水または処理！された気体中の水の含イ
ｒ成分を得ることを特徴とする水泗液及び気体中の水の
含ｉｆ成分を変えることなく，水の分子？ｌｌｔＢを変
え，反応速度をコントロールする方法．（１７）原水ま
たは気体中の水の含有成分を．？ｌｔ磁波（例えばａ
Ｉｉ！、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外綿．
超遠赤外市波）照射．磁気照射、音波照射（音波照射（
箭波？？），加熱冷却，ｎミノハ振動、噴射専の物ｐｌ
ｌ的処Ｆ１を行ない，非水溶性金属間化合物にて処理し
て，処ｉｌｌ水または処理された銀体中の水の含有成分
を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成
分を変えることなく，水の分ｊ’ｔＭＴｉを変え，反応
速度をコントロールする方法． ｛ｌ８》原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばａ ｌｌ 、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線
．赤外縮．超遠赤外１′Ｉ１波）照射．磁気照射．音波
ＩＶ。（射（音波照射（音波専），加熱冷却，圧力、振
動，噴ｔＲ専の物理的処理を行ない、非水溶性金穎にて
処理！ Ｌ，て、処理水または処理された気体中の水の
含Ｙｉ成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の
水の含Ｉｆ成分を変えることなく，水の分Ｙ・構造を変
え、反応速度をコントロールする方法． ｛１９｝原水またはｔ（体中の水の含Ｎ成分を．６Ｉｖ
（醸化６シ素），酸化アルミニウム（アルミナ）炭化社
素を組合せ処理し，次＄二鉗にて処理した後、電磁波Ｊ
ｌ４（射（例えばａ Ｉｆｄ 、ｘ線、紫外線．可視光
線、遠赤外線、赤外線．超遠亦外電波専）にて処３１１
１して，処理ｅ水または処ｊｌｌｊされたＳａｔ体中の
水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中
の水の含有成分を変えることなく，水の分子構造を変え
．反応速度をコントロールする方法 （２０３７１１水または％Ｌ体中の水の含有成分を．６
１酸（＃化６Ｆ′素），酸化アルミニウム，酸化鉄．酸
化ニッケル，ｉｖ化コバルト及び酸化チタンを組合せ処
理！ Ｌ ．次に鉗にて処理した後電磁波照射（例えば
ａ線、ｘ線、紫外線， ｉ＋ｊ視光線、遠赤外線、赤外
線．超遠赤外電波専）にて処理して処裡水または処７１
１１された気体中の水の含（ｒ成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
．水の分子摺逍を食え、反応速麿をコントロールするノ
Ｊ法． （２１）原水または気体中の水の含有成分を、砂酸（Ｎ
ＸＩ化６ｔ素）、酸化アルミニウム（アルミナ）、炭化
６［素を組合せて処理シて、更に非水溶性何機物にて処
理した後銀にて処理し，次に％ｔｔ磁波照射（例えばａ
線、ｘ線、紫外線．可視光線．遠赤外線．赤外線、超遠
赤外電波専）にて処理シて，処理ｉ水または処理された
気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及
び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分子構
造を変え．反応速度をコントロール１゛る方法． ｛２２｝原水または気体中の水の含有成分を，窒化アル
ミ、窒化硅素，窄化ホーソその他のセラミックを組合せ
にて処裡し，次に非水溶性｛ｆｌｌ物及び銀にて処理し
て徂磁波！！＜｛Ｑ４（例えばａ線、ｘ線、紫外線，
＋４視光線．遠赤外線．赤外線、超遠赤外電波、超音波
等）を施して、処理水または処裡された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含イ．Ｔ成分を変えることなく，水の分子＋ＭＤを変え
，反応速１文をコントロールする方法． （２３）原水または気体中の水の含有成分を，金Ｗ４酸
化物，金ｋＡＶｔ化物，その他の非水溶性金雇を組合せ
゛処ＩＩＩ！ Ｌ ．次に非水溶件有機物及び銀にて処
理しテＳ［磁汲照９｛（例えばａ ａ 、ｘ線、紫外線
．可視光線．遠赤外線．赤外線．超遠赤外電波等》を行
って、処理水または処理された気体中の水の含有成分を
得ることを特徴と゜４る水瀉液及び気体中の水の含有゛
成分を変えることなく，水の分子＋Ｍｎを変え，反応速
度をコントロールする方法． （２４）原水または気体中の水の含有成分を６Ｐ．ｆａ
ＣＭ化社素）．＃化鉄．＃化ニッケルを組合せ処理して
，次に非水溶性有機物にて処理！ Ｌ，た後，銀にて処
川！して，次に重磁汲照射（例えばα線、ｘ線、紫外線
．可視光線．遠赤外線，赤外線．超遠赤外ｓｔｔ波、超
音波等｝を行って処１１ｌｉ水または処１１１ｊされた
気体中の水の含有成分をｆ！ｌることを特徴とする水溶
液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の分
子一構造を変え、反応速度をコントロールする方法． （２５）原水または気体中の水の含有成分を，セラくッ
ク処理を行った後、銀にて処理して、処理水または処理
された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水
溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の
分子ｈｉｌｌを変え，反応速度をコントロールする方法
． （２６）原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
物質で処理ｌを行った後，銀にて処理シて，処理水また
は処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
，水の分子構造を変え，反応速度をコントロールする方
法． （２７》原水または気体中の水の含有成分を，非水溶性
有機物で処理を行った後，釦にて処理シて、処理！水ま
たは処裡された気体中の水の含有成分を得ることを特徴
とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることな
く，水の分子構造を変え，反応速度をコントロールする
方法． （２Ｂ）＊ｔ水または気体中の水の含有成分を，非水溶
性無機物で処理をを行った後，銀にて処理して，処理水
または処理された気体中の水の含有成分を得ることを特
徴とする水滴液及び気体中の水の含有成分を変えること
なく．水の分子構造を変え，反応速度をコントロールす
る方法。 （２’ｌ）Ｊ≦｛水または気体中の水の含有成分を，非
水溶ｆｆ｛ｊ磯物で処理し，更に，ノ１：水溶性無機物
で処理を行った後，銅にて処理シて、処理水または処理
された気体中の水の含ｆ］成分を１ｉｌることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含（ｆ成分を変えることな
く，水の分子摺逍を変え，反応速度をコントロールする
ノｊ法． （３０）原水または気体中の水の含有成分を，非水消作
物質で処ＦＩＩＬ更に，非水溶性有機物質にて処理し，
次に非水溶性熊機物で処理シた後、銀にて処理して、処
理水または処理された２（体中の水の含有成分を得るこ
とを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変え
ることなく、水の分子桶造を変え，反込速度をコントロ
ールする方法。（３１）原水または気体中の水の含｛−
ｆ成分を、能酸（ＩＩ１１２化社素）．ＡｔＦ化アルミ
ニウム（アルミナ），炭化硅素、酸化鉄，Ｎｔ化ニッケ
ル，ｉＩ！Ｉ化コバルト，酸化チタン，窒化硅素、窒化
アルミ、窒化６ｔ素、窒化硅素、窒化ホウソ，その他の
セラミヴク，金ｒｉｆ４酸化物，金属硫化物，その他の
非水溶性金属を組合せて処理を行った後，銀にて処理し
て，処理水または処理された気体中の水の含有成分を得
ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を
変えることなく，水の分Ｙ−ＩｌｌＩ造を変え，反応速
度をコントロールする方法． （３２）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金
城間化合物にて処理シた後，銀にて処理！シて、処理ｊ
．水または処理された気体中の水の含有成分を得ること
を特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変える
ことなく、水の分子１１ｎを変え，反応速度をコントロ
ールする方法． （３３）Ｊ≦Ｌ水または気体中の水の含有成分を非水溶
性金属にて処理した後．鉗にて処理して，処理水または
処１１１ｊされた気体中の水の含有成分を得ることを特
徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えること
なく，水の分子−Ｉｉ構造を変え，反応速度をコントロ
ールする方法． （３４》原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金
Ｋ間化合物にて処理シた後，非水清件金属にて処理し，
さらに鉋にて処理ｊ ｌ，て，処理水または処１１１１
された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水
溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水の
分子構逍を変え，反応速度をコントロールする方法． ［作 Ｊ１１１ 本発明は、受水タンクの力；
【水または気体の中の水を
第・及び第二の水質調禦装置にて使川１１的に合った構
造水となる条件にマッチさせ，右機不純物餘去袈ｉＦ（
及び無機不純物除夫装１ｎにより原水に含まれるイｉ機
，無機の不純物を除太し，第一・及び第二の白動水質分
析装１ｎにより原水と純水との水ｎを白動的に分析し，
その粘果により定ｎｔボンブより調幣液を供給して水の
調整を行い，これに物Ｊｌｌｌ処理手段として電磁波発
生装置専により発生した電磁波を電磁波コントロール袈
置にて制御して水に照射して所定の摺遣水を得るように
したものである． ［実 施 例］ 第１図は、本発明方法に使用する構造木製造装１ｎの配
ｉｎ図であって，１は未処理水の受水タンク、２はｎ機
不純物除Ｊ＜ ”Ａ ｉｒ／、３は無機不純物除去装置
，４は純水１ｉ’槽、５は電磁波照射袈置、６はｔＭ造
水１ｔｉ’槽，７は受水タンク１の第・水質調整装置，
８は純水１佇槽４の第二水質調整装Ｆｊ、９は電磁波発
ｉＵ装ｉｉ．ｌｏは徂磁波コントロール装Ｆｊ、１ｌは
受水タンク１の第一の〔１動水質分析袈ｉＦｉｌ２は純
水貯慴４の第二自動水質分析袈１ｎ、１１》１は受水タ
ンク冒の第−調整液定晴ボンブ、’Ｉ’ Ｉ） ２は純
水貯槽４の第二調整液定晴ボンブ，目ミは谷ボンブ及び
電磁波！（（ｔ射装置の重源．■），は受水タンクｌへ
の送水ボンブ，１》ヨはイｆ機不純物除去装置への送水
ボンブ．Ｐ．は第一水質調整装１ｎ７への送水ボンブｓ
ｌ”４は第二水質調整装置８への送水ボンブ、Ｐ．は１
ｕ磁波照ｑ｛装ｉ＋Ｙ ５への送水ボンブ，］）．は構
造水供給ボンブ、Ｖ．，Ｖ．．■．は受水タンクｌの配
管路のバルブ，ｖ４．Ｖ．，Ｖｓはイｆ機不純物除夫装
置．，２，無機不純物除表装ｉ７ｆ ３、純水！ｉ’槽
４の配管路のバルブ、Ｖ，Ｖ，％は純水ｆｆｉ’槽４と
水質調整袈Ｈｒ（ ｓとの配冑路のバルブ，■．は純水
ｌｒｉ槽４と電磁波照射装１ｎ５の配冑路の水：１量コ
ントロールバルブ，■，。は重ｆｆｌ波照射袈；ｎ５と
構造水貯槽６の配青路のバルブ，■．は摺遣水１ｒ？
Ｍ ６の叶水配管路に設けたバルブ、■．は受水タンク
１の給水配管路に設けたバルブ．ｖ１５は第・水質分析
袈；ｎ１！と受水タンクｌの配管路に設けたバルブ、ｖ
ｌｍは第二水質分析装Ｆｊ ＋ ２と純水ｆｆｉ’ Ｗ
ｉ ４の配青路に設けたバルブである．Ｉａは受水夕冫
クｌの給水配青路の先端部に設けた不純物濾過器である
． イｆ機不純物除夫装置２には濾過機，逆浸透膜，イオン
交換樹脂専が組込まれており，水中のイｉ機本純物を除
去する機能を行う． 無機不純物除去’Ａ Ｆｌ． ３には濾過機，逆浸透膜
、イオン交換樹脂専が組込まれており無機不純物を除上
する機能を行う． １ｕ磁波照射’Ａ ｉｆｆ ５には純水貯槽４から送ら
れる純水を導通するコイル状のｉ。（ｔ磁波吸収管５ａ
が設けられ、電磁波照射装置５の内側聖に設けられた電
磁波発生装置５ｂより発生した電磁波を水質コントロー
ルバルブＶ，にて制８１５れた調整水に照Ｑ４ Ｌて構
造水に変換する．第一・水質調整装１ｒ１７及び第二水
質調繁装ｉｒｊ ８は、使用目的に合ったＩｌｌｌ造水
になる条件を化学反応試験により決定し、その敗植に合
致１゛るように１１１１．ＮＩ化還元重イ−１，電気伝
導度及びイ■機物濃度を調整する． 受水タンク１の第・１”）動水質分析装ｉｒｌ ｌ Ｉ
は水ｒｒｔＪ＃整’Ａ Ｆｊ ７にて水質を調整された
受水タンクの水《原水）を白動的に分析し，純水貯槽４
の自動水質分析製置Ｉ２は，第二水質調整装ｉＦ（ ８
にて水質を調整された純水１ｊ？槽の純水を自動的に分
析する． １’ ｆ） ｌ及びＴＰ２は受水タンク１の純水及び純
水貯槽４の純水の水質を自動的に分析し，その結果によ
り調整液を受水タンク富及び純水貯槽４に供給する第一
及び第二調整液定燻ボンブである．■｝は電磁波允生装
１ｒ１９の電源で・ある．原水または気体中の水の成分
を変えずに水の摺逍を変え反応速度な：】シトロールす
る方法としてｊ；１記第１図の装１？Ｉを用いて．次の
ｙＪ造ｈ法により操作する． （＋）＃Ｉ水または気体中の水を非水溶性物質にて処Ｉ
ＩＩ！ Ｌ／ ．次に物理処理（１゛ｕ磁波照射．磁気
照射．音波ＪＩＧ Ｑ｛ ．加熱冷却． ７−ＩＥノハ
振動１１７１射専）を行い摺逍水となし．構造水１『？
槽６に貯溜する。 （２）１κ１水または気体中の水を物理処理（前記（１
）と同じ処理！．以ド同じ）を行い，次に非水溶性物質
にて処理シた摺遣水を構造水貯摺６に１『？湘する．る
． ｛３）原水ま・たは気体中の水を非水溶性有機物にて処
理した後，物理処理を行い構造水を得，これをＭ逍水貯
摺６に１『Ｐ溜する． （４｝原水または気体中の水を物理処理した後，非水溶
性有機物にて処理し、得た構造水を構造水ｆｆｉ摺６に
ｆｆ？溜する． （Ｓ） ＩＱ水または気体中の水を非水溶性熊機物にて
処理した後，物理処ｉｌｌを行い、得た構造水を構造水
貯摺６に貯溜する． （６）原水または気体中の水を物理処理した後、非水溶
性無機物にて処ｊ’ｌ！ Ｌ， ．得たＩ１ｌＩ造水な
構造水１佇槽６にｆｆ？溜する． （７）原水または気体中の水を非水溶性ｆ１機物にて処
理シた後．非水溶性無機物にて処裡し，次に物Ｆ１１処
理ｌを行って，得た摺逍水を構造水貯ＪｆＩ６に１佇溜
する。 （Ｆ３）原水または気体中の水を非水溶性４ｆ機物にて
処理！ ｔ，た後、物理処理を行い、次に非水溶性無機
物にて処理シ、得た摺遣水を構造水ｆｆｉ’摺６に貯溜
する． （９）原水または気体中の水を物理処理した後，非水溶
性有機物にて処理し、次に非水溶性熊機物にて処理し，
得た構造水をｈ’ｉｌ造水ｌ庁槽６に貯溜する． （１０）原水または気体中の水を非水溶性無機物にて処
卯し，次に非水溶性有機物にて処理した後，物狸処理な
脊い，得られたｔｉｌｌ遣水を構造水１庁槽６に胛溜す
る． （ＩＩ）原水または気体中の水を非水溶性無機物にて処
理！ Ｌた後．物Ｊｌｌｌ処Ｊｌｐを行い、次に非水溶
性有機物にて処理して、得られた慴造水をｈ’ｌｌ逍水
Ｉｔ？槽６にＩｎ溜する． （１２）原水または気体中の水を物理処理シた後、非水
溶性無機物にて処理！ Ｌ ．次に非水溶ヂ１；有機物
にて処理！ Ｌ， ．得られた構逍水を構造水ｆｆｉ’
槽６にＩｔｉ’溜する．する． （１３）原水または気体中の水を物理処理した後，非水
溶性有機物にて処理を行い、非水溶性金属間化合物にて
処理シ、次に非水溶性金属にて処理し，得られた構造水
を構造水１ｒｉ″槽６にＩｒｉ’溜する。（！４》原水
または２体中の水を物理処理した後、Ｊト水溶作物質に
て処理して非水泗性金Ｋ間化合物にて処理し，得られた
構造水な摺逍水１ｒ７ ４ｆｔ Ｂにｔｒｉ’ Ｆｆｒ
ｆする． （ｌ５１原水または気体中の水を物理処理した後、非水
溶性物質にて処理してノ１：水溶性金雇にて処理非水溶
性（ｆ機物にて処理！シ、得られたｖＩ逍水を摺逍水１
庁摺６に貯溜する． （１６）原水または気体中の水を物理処理した後，次に
非水溶性金属間化合物にて処理し，次に非水溶性金属に
て処理し，得られた摺逍水を構造水貯槽６にＩｔｉ’溜
する． （ｌ７）原水または気体中の水を物理処理した後．次に
非水溶性金風間化合物にて処理し，得られた構造水を構
造水貯Ｍ６にＩｔ？溜する． （１８｝原水または気体中の水を物理処理した後，次に
非水溶性金属にて処理！ Ｌ ．得られた摺遣水を構造
水１ｒ？拾〇にＩｎ’溜する． （＋ｑ）Ｉ＋；ｔ水マタハ気体中ノ水ヲ６ｌｆ’＊（′
Ｎｔ化硅素），酸化アルミニウム（アルミナ），及び炭
化硅素を組合せ処理シた後，銀にて処理して、次に１ｉ
ｔ磁波照射を行い，得られた摺逍水を構造水貯槽６にＩ
ｒ？溜する． ｛２０｝原水または気体中の水を能＃（酸化硅素）、酸
化アルミニウム（アルミナ），酸化鉄、酸化ニッケル，
酸化コバルト及び酸化チタンを組合せ処理シた後，銀に
て処理シて，次に電磁波照射を行い，得られたＩｌｌＩ
造水を構造水１ｒｉ”槽６に貯溜する。（２１）原水ま
たは気体中の水の含有成分を、硅酸ｌ化６Ｆ．素）、酸
化アルくニウム（アルミナ）及●● び炭化６ｔ素を組合せ処理シた後，非水溶性イ■機物に
て処Ｐ＋Ｈ Ｌ． ．次に銀にて処理！ ｔ．， ．次
に電磁波照射を行い、得られた摺遣水を構造水貯槽６に
貯溜する．る． （２２）Ｊ≦１水またはｌｔ体中の水の含有成分を，硅
酸（酸化硅素）、窄化アルジニウム，窒化硅素、窒化硅
素，窄化ホー１ハその他のセラミックを組合せ処理した
後，非水？Ｓ件有機物にて処理！Ｌ，［ｌにて処理し，
得られた構造水を構造水１ｊ？槽６にＩｔ？溜する。（
ｚ３）原水または気体中の水を金ＪｉＡ酸化物，金属硫
化物，その他の不水溶付金城を組合せ処理した後，Ｊ１
水溶性ｊｆ機にて処理！ Ｌ ．次に銀にて処Ｆ＋；
Ｌ，た後，１牡磁波照射を行い，得られた摺逍水を構造
水ＩｒｉＩ槽６に貯溜する． （２４）原水または気体中の水の含有成分を硅Ｎ！（酸
化硅素）、酸化鉄，ｌｖ化ニッケルを組合せ処理して，
次に非水涜性Ｉｆａ物にて処理シた後．銀にて処理して
，次に電磁波照射《例えばａ線，χ線，紫外線，ｉｑ視
光線，遠赤外線，赤外線照射（遠赤外叶波専）を行って
処理水または処理された気体中の水の含有成分を得，得
られた構造水を構造水貯槽６に＋ｒ；’溜する． （２５）原水または気体中の水の含有成分をセラミック
処Ｐｌを行った後、釦にて処理して、処理水または処理
ｌされた気体中の水の含有成分を得．得られた桶逍水を
構造水１ｒｉ’ ４ｆｌ６ ニＩｒｉ’ ｆｆｆｆ ｔ
６ −（２６）原水または気体中の水の含有成分を非
水溶性物質で処理を行った後、銀にて処理して，処裡水
または処理された気体中の水の含有成分を得，得られた
構逍水を構道水！ｒ？ Ｍｌ ｆｓに叶溜する。（２７
）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性有機物で
処理！を行った後、銀にて処理！Ｌ．て，得られた構造
水を構造水１ｒ；“摺０にＩｔｉ’ ｆｆｆｆする．Ｃ
２８）原水または気体中の水の含４−Ｔ成分を非水溶性
無機物で処理を行った後、銀にて処理して，得られた構
造水を構造水＋ｒｔ’槽６に貯溜する。（２９》原水ま
たは気体中の水の含有成分を非水溶性４ｉ機物で処理シ
更に，非水溶性無機物で処理を行った後、銀にて処理し
て，得られた綱遣水をＩＩ構造水ｔｒｉ“Ｗ９６に貯溜
する．水ｔｒｉ“Ｗ９６に貯溜する． （３０）原水または％Ｌ体中の水の含有成分を非水溶竹
物質で処ＩＩＩ！ Ｌ更に，ノ『水溶性Ｋｉ機物質にて
処Ｊ’１し，次に非水溶性無機物で処理した後，銀にて
処理シて，得られた摺遣水を構造水１ｊ？槽６にｌｒｉ
’溜する． ＋３＋）１６（水または気体中の水の含伯゜成分を６ｔ
ＮＩ（酸化６１）．ｌ’ｌ２化アルミニウム（アルミナ
），炭化硅素，＃化ニッケル．Ｖ化コバルト．ｌ’ｌｌ
化チタン，窄化アルミ，＊化６Ｌ素、窒化硅素、窒化ホ
ーソ，その他のセラミック、金雇酸化物、金属硫化物、
その他の非水溶外金城を組合せて処理を行った後，鋼に
て処理して，得られた綱造水を構逍水１ｒｉ’槽６に財
溜する． １３２》原水または２（体中の水の含４ｉ成分を非水溶
住金嵐間化合物にて処理シた後，銀にて処ＩＩｌ！シて
，処理水または処理された気体中の水の含有成分を得，
得られた構造水を桶逍水財．Ｗ９６に貯溜する。（３３
）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金城にて
処理した後、銀にて処理して，処理水または処理された
気体中の水の含有成分を得、得られた＃Ｒ逍水を構逍水
貯槽６に貯溜する． ｛３０原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金！
ｌバＩ化合物にて処理シた後，非水溶性金属にて処理し
，さらに鉗にて処理シて．処理水または処理された’ｘ
Ｌ体中の水の含有成分を１！ｉ．ｆ！ｌられた構造水を
摺逍水ｆｆ？槽６に１『？溜する． 拭験成ｈ１は，次のとおりである． ′Ａ励洞（１９１及び（２０）による成ｈ１表（但し１
ｕ磁波処理をしなかった処Ｐ『水）を小１゜・ 進二Ｌ１ 検 杏 本吉 東 ・Ｖ．成１年１３１２（ｉｌｌ依頼の検体につき，以ド
の通りｔｌＪ：’；シまず．′ｌ４成ｌ年菖ハ２ｆｉｌ
−１依頼の検体につき，以ドの通り報告します．Ｉ｛・
： １・・ １ １ ゜； な１勺戊１ ＜ｌ ｌ
｝Ｊ ２ ６１１〜ＩＩＩ３０１１実塊例（３ｌ）によ
る成植表を示す． 第一旦一表 甲成１年ＩＪＩＩＩＩＮ依頼の検体につき，以ドの通り
報告します．ｌｈ『−・・ １ ； Ｆ 検 ゼ壬 糸／ｉ 東 ↑嘗５゜Ｆ 計ｒｉｔ証明＝ｌ業登録第１３号淳生大臣指定第２２チ
冫ｔＦｔｔ駄Ｌ伊那郡桑刑師会 長野鳴田１那市大？イ』リＪＩＳ部９ ＴＥＬ （０２
６５） ７２−５８５１１”ＶｈＱ ｌ年ＩＪ’ｌ２６
１１依頼の検体につき，以ドの通り報告します．横 合
［１ 平成１年１ｊｌ２Ｂｒｌ〜２ＪＪＩｌｌ実施
例《２０》によるｌｉｔ晴表を爪す．火施例《３１》に
て処理した後電磁波を照射した煽合の処理水の横合によ
る成鳥１表を示す． ■効 ！Ｉ！］ 本発明は＊ Ｉｆｆ ｊＬ！ Ｌ／た如１１１１Ｆ戊し
たことにより，未処理水（原水）受水タンク重において
水質調察袈ｉＦｊ ７及び１゛１動水質分析袈置１１に
より原水を使川１１的に合った構造水になる条件に合致
させることができると八に． ４ｆ機不純物及び無機不
純物はｔｓ機不純物除夫装７１ ２と無機不純物除夫袈
１ｄ３とにより除太されて純水となし，純水貯摺４に１
庁藏することができる．しかも純水Ｊ佇４ｆｔ４に貯蔵
された水に１１！磁波照射袈１ｎ５にて電磁波を照財し
て所期の１１的の構造水を得ることができ．これを連続
１′１動的に行うことができることにより，本発明によ
り９１１２逍された特走の分子配列した水並びに特定の
分子妃列憫造をイ］すろ水を含む水溶液及び介水物質は
，促進− Ｐ＞ ＋Ｌ． ．抑制が１゜１山に食換でき
るために応用範囲が非常に広い．例えば細胞分裂を促進
し． ＋ＩＥ常細胞の増加、すなわちーＬ物成艮を促進
するので飼料．２ａ３ｔｈ串をｌｒＩｌ ｌできるし，
バイオデクノロジーに於ける培養，促進を計ることがで
き、漢方生桑、医薬品の効果の促進と一般化学反応の促
進へ応用することができ，さらに化学反応平衡への利川
、化学反応抑制への利川等、その利川範囲は大きい．
第・及び第二の水質調禦装置にて使川１１的に合った構
造水となる条件にマッチさせ，右機不純物餘去袈ｉＦ（
及び無機不純物除夫装１ｎにより原水に含まれるイｉ機
，無機の不純物を除太し，第一・及び第二の白動水質分
析装１ｎにより原水と純水との水ｎを白動的に分析し，
その粘果により定ｎｔボンブより調幣液を供給して水の
調整を行い，これに物Ｊｌｌｌ処理手段として電磁波発
生装置専により発生した電磁波を電磁波コントロール袈
置にて制御して水に照射して所定の摺遣水を得るように
したものである． ［実 施 例］ 第１図は、本発明方法に使用する構造木製造装１ｎの配
ｉｎ図であって，１は未処理水の受水タンク、２はｎ機
不純物除Ｊ＜ ”Ａ ｉｒ／、３は無機不純物除去装置
，４は純水１ｉ’槽、５は電磁波照射袈置、６はｔＭ造
水１ｔｉ’槽，７は受水タンク１の第・水質調整装置，
８は純水１佇槽４の第二水質調整装Ｆｊ、９は電磁波発
ｉＵ装ｉｉ．ｌｏは徂磁波コントロール装Ｆｊ、１ｌは
受水タンク１の第一の〔１動水質分析袈ｉＦｉｌ２は純
水貯慴４の第二自動水質分析袈１ｎ、１１》１は受水タ
ンク冒の第−調整液定晴ボンブ、’Ｉ’ Ｉ） ２は純
水貯槽４の第二調整液定晴ボンブ，目ミは谷ボンブ及び
電磁波！（（ｔ射装置の重源．■），は受水タンクｌへ
の送水ボンブ，１》ヨはイｆ機不純物除去装置への送水
ボンブ．Ｐ．は第一水質調整装１ｎ７への送水ボンブｓ
ｌ”４は第二水質調整装置８への送水ボンブ、Ｐ．は１
ｕ磁波照ｑ｛装ｉ＋Ｙ ５への送水ボンブ，］）．は構
造水供給ボンブ、Ｖ．，Ｖ．．■．は受水タンクｌの配
管路のバルブ，ｖ４．Ｖ．，Ｖｓはイｆ機不純物除夫装
置．，２，無機不純物除表装ｉ７ｆ ３、純水！ｉ’槽
４の配管路のバルブ、Ｖ，Ｖ，％は純水ｆｆｉ’槽４と
水質調整袈Ｈｒ（ ｓとの配冑路のバルブ，■．は純水
ｌｒｉ槽４と電磁波照射装１ｎ５の配冑路の水：１量コ
ントロールバルブ，■，。は重ｆｆｌ波照射袈；ｎ５と
構造水貯槽６の配青路のバルブ，■．は摺遣水１ｒ？
Ｍ ６の叶水配管路に設けたバルブ、■．は受水タンク
１の給水配管路に設けたバルブ．ｖ１５は第・水質分析
袈；ｎ１！と受水タンクｌの配管路に設けたバルブ、ｖ
ｌｍは第二水質分析装Ｆｊ ＋ ２と純水ｆｆｉ’ Ｗ
ｉ ４の配青路に設けたバルブである．Ｉａは受水夕冫
クｌの給水配青路の先端部に設けた不純物濾過器である
． イｆ機不純物除夫装置２には濾過機，逆浸透膜，イオン
交換樹脂専が組込まれており，水中のイｉ機本純物を除
去する機能を行う． 無機不純物除去’Ａ Ｆｌ． ３には濾過機，逆浸透膜
、イオン交換樹脂専が組込まれており無機不純物を除上
する機能を行う． １ｕ磁波照射’Ａ ｉｆｆ ５には純水貯槽４から送ら
れる純水を導通するコイル状のｉ。（ｔ磁波吸収管５ａ
が設けられ、電磁波照射装置５の内側聖に設けられた電
磁波発生装置５ｂより発生した電磁波を水質コントロー
ルバルブＶ，にて制８１５れた調整水に照Ｑ４ Ｌて構
造水に変換する．第一・水質調整装１ｒ１７及び第二水
質調繁装ｉｒｊ ８は、使用目的に合ったＩｌｌｌ造水
になる条件を化学反応試験により決定し、その敗植に合
致１゛るように１１１１．ＮＩ化還元重イ−１，電気伝
導度及びイ■機物濃度を調整する． 受水タンク１の第・１”）動水質分析装ｉｒｌ ｌ Ｉ
は水ｒｒｔＪ＃整’Ａ Ｆｊ ７にて水質を調整された
受水タンクの水《原水）を白動的に分析し，純水貯槽４
の自動水質分析製置Ｉ２は，第二水質調整装ｉＦ（ ８
にて水質を調整された純水１ｊ？槽の純水を自動的に分
析する． １’ ｆ） ｌ及びＴＰ２は受水タンク１の純水及び純
水貯槽４の純水の水質を自動的に分析し，その結果によ
り調整液を受水タンク富及び純水貯槽４に供給する第一
及び第二調整液定燻ボンブである．■｝は電磁波允生装
１ｒ１９の電源で・ある．原水または気体中の水の成分
を変えずに水の摺逍を変え反応速度な：】シトロールす
る方法としてｊ；１記第１図の装１？Ｉを用いて．次の
ｙＪ造ｈ法により操作する． （＋）＃Ｉ水または気体中の水を非水溶性物質にて処Ｉ
ＩＩ！ Ｌ／ ．次に物理処理（１゛ｕ磁波照射．磁気
照射．音波ＪＩＧ Ｑ｛ ．加熱冷却． ７−ＩＥノハ
振動１１７１射専）を行い摺逍水となし．構造水１『？
槽６に貯溜する。 （２）１κ１水または気体中の水を物理処理（前記（１
）と同じ処理！．以ド同じ）を行い，次に非水溶性物質
にて処理シた摺遣水を構造水貯摺６に１『？湘する．る
． ｛３）原水ま・たは気体中の水を非水溶性有機物にて処
理した後，物理処理を行い構造水を得，これをＭ逍水貯
摺６に１『Ｐ溜する． （４｝原水または気体中の水を物理処理した後，非水溶
性有機物にて処理し、得た構造水を構造水ｆｆｉ摺６に
ｆｆ？溜する． （Ｓ） ＩＱ水または気体中の水を非水溶性熊機物にて
処理した後，物理処ｉｌｌを行い、得た構造水を構造水
貯摺６に貯溜する． （６）原水または気体中の水を物理処理した後、非水溶
性無機物にて処ｊ’ｌ！ Ｌ， ．得たＩ１ｌＩ造水な
構造水１佇槽６にｆｆ？溜する． （７）原水または気体中の水を非水溶性ｆ１機物にて処
理シた後．非水溶性無機物にて処裡し，次に物Ｆ１１処
理ｌを行って，得た摺逍水を構造水貯ＪｆＩ６に１佇溜
する。 （Ｆ３）原水または気体中の水を非水溶性４ｆ機物にて
処理！ ｔ，た後、物理処理を行い、次に非水溶性無機
物にて処理シ、得た摺遣水を構造水ｆｆｉ’摺６に貯溜
する． （９）原水または気体中の水を物理処理した後，非水溶
性有機物にて処理し、次に非水溶性熊機物にて処理し，
得た構造水をｈ’ｉｌ造水ｌ庁槽６に貯溜する． （１０）原水または気体中の水を非水溶性無機物にて処
卯し，次に非水溶性有機物にて処理した後，物狸処理な
脊い，得られたｔｉｌｌ遣水を構造水１庁槽６に胛溜す
る． （ＩＩ）原水または気体中の水を非水溶性無機物にて処
理！ Ｌた後．物Ｊｌｌｌ処Ｊｌｐを行い、次に非水溶
性有機物にて処理して、得られた慴造水をｈ’ｌｌ逍水
Ｉｔ？槽６にＩｎ溜する． （１２）原水または気体中の水を物理処理シた後、非水
溶性無機物にて処理！ Ｌ ．次に非水溶ヂ１；有機物
にて処理！ Ｌ， ．得られた構逍水を構造水ｆｆｉ’
槽６にＩｔｉ’溜する．する． （１３）原水または気体中の水を物理処理した後，非水
溶性有機物にて処理を行い、非水溶性金属間化合物にて
処理シ、次に非水溶性金属にて処理し，得られた構造水
を構造水１ｒｉ″槽６にＩｒｉ’溜する。（！４》原水
または２体中の水を物理処理した後、Ｊト水溶作物質に
て処理して非水泗性金Ｋ間化合物にて処理し，得られた
構造水な摺逍水１ｒ７ ４ｆｔ Ｂにｔｒｉ’ Ｆｆｒ
ｆする． （ｌ５１原水または気体中の水を物理処理した後、非水
溶性物質にて処理してノ１：水溶性金雇にて処理非水溶
性（ｆ機物にて処理！シ、得られたｖＩ逍水を摺逍水１
庁摺６に貯溜する． （１６）原水または気体中の水を物理処理した後，次に
非水溶性金属間化合物にて処理し，次に非水溶性金属に
て処理し，得られた摺逍水を構造水貯槽６にＩｔｉ’溜
する． （ｌ７）原水または気体中の水を物理処理した後．次に
非水溶性金風間化合物にて処理し，得られた構造水を構
造水貯Ｍ６にＩｔ？溜する． （１８｝原水または気体中の水を物理処理した後，次に
非水溶性金属にて処理！ Ｌ ．得られた摺遣水を構造
水１ｒ？拾〇にＩｎ’溜する． （＋ｑ）Ｉ＋；ｔ水マタハ気体中ノ水ヲ６ｌｆ’＊（′
Ｎｔ化硅素），酸化アルミニウム（アルミナ），及び炭
化硅素を組合せ処理シた後，銀にて処理して、次に１ｉ
ｔ磁波照射を行い，得られた摺逍水を構造水貯槽６にＩ
ｒ？溜する． ｛２０｝原水または気体中の水を能＃（酸化硅素）、酸
化アルミニウム（アルミナ），酸化鉄、酸化ニッケル，
酸化コバルト及び酸化チタンを組合せ処理シた後，銀に
て処理シて，次に電磁波照射を行い，得られたＩｌｌＩ
造水を構造水１ｒｉ”槽６に貯溜する。（２１）原水ま
たは気体中の水の含有成分を、硅酸ｌ化６Ｆ．素）、酸
化アルくニウム（アルミナ）及●● び炭化６ｔ素を組合せ処理シた後，非水溶性イ■機物に
て処Ｐ＋Ｈ Ｌ． ．次に銀にて処理！ ｔ．， ．次
に電磁波照射を行い、得られた摺遣水を構造水貯槽６に
貯溜する．る． （２２）Ｊ≦１水またはｌｔ体中の水の含有成分を，硅
酸（酸化硅素）、窄化アルジニウム，窒化硅素、窒化硅
素，窄化ホー１ハその他のセラミックを組合せ処理した
後，非水？Ｓ件有機物にて処理！Ｌ，［ｌにて処理し，
得られた構造水を構造水１ｊ？槽６にＩｔ？溜する。（
ｚ３）原水または気体中の水を金ＪｉＡ酸化物，金属硫
化物，その他の不水溶付金城を組合せ処理した後，Ｊ１
水溶性ｊｆ機にて処理！ Ｌ ．次に銀にて処Ｆ＋；
Ｌ，た後，１牡磁波照射を行い，得られた摺逍水を構造
水ＩｒｉＩ槽６に貯溜する． （２４）原水または気体中の水の含有成分を硅Ｎ！（酸
化硅素）、酸化鉄，ｌｖ化ニッケルを組合せ処理して，
次に非水涜性Ｉｆａ物にて処理シた後．銀にて処理して
，次に電磁波照射《例えばａ線，χ線，紫外線，ｉｑ視
光線，遠赤外線，赤外線照射（遠赤外叶波専）を行って
処理水または処理された気体中の水の含有成分を得，得
られた構造水を構造水貯槽６に＋ｒ；’溜する． （２５）原水または気体中の水の含有成分をセラミック
処Ｐｌを行った後、釦にて処理して、処理水または処理
ｌされた気体中の水の含有成分を得．得られた桶逍水を
構造水１ｒｉ’ ４ｆｌ６ ニＩｒｉ’ ｆｆｆｆ ｔ
６ −（２６）原水または気体中の水の含有成分を非
水溶性物質で処理を行った後、銀にて処理して，処裡水
または処理された気体中の水の含有成分を得，得られた
構逍水を構道水！ｒ？ Ｍｌ ｆｓに叶溜する。（２７
）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性有機物で
処理！を行った後、銀にて処理！Ｌ．て，得られた構造
水を構造水１ｒ；“摺０にＩｔｉ’ ｆｆｆｆする．Ｃ
２８）原水または気体中の水の含４−Ｔ成分を非水溶性
無機物で処理を行った後、銀にて処理して，得られた構
造水を構造水＋ｒｔ’槽６に貯溜する。（２９》原水ま
たは気体中の水の含有成分を非水溶性４ｉ機物で処理シ
更に，非水溶性無機物で処理を行った後、銀にて処理し
て，得られた綱遣水をＩＩ構造水ｔｒｉ“Ｗ９６に貯溜
する．水ｔｒｉ“Ｗ９６に貯溜する． （３０）原水または％Ｌ体中の水の含有成分を非水溶竹
物質で処ＩＩＩ！ Ｌ更に，ノ『水溶性Ｋｉ機物質にて
処Ｊ’１し，次に非水溶性無機物で処理した後，銀にて
処理シて，得られた摺遣水を構造水１ｊ？槽６にｌｒｉ
’溜する． ＋３＋）１６（水または気体中の水の含伯゜成分を６ｔ
ＮＩ（酸化６１）．ｌ’ｌ２化アルミニウム（アルミナ
），炭化硅素，＃化ニッケル．Ｖ化コバルト．ｌ’ｌｌ
化チタン，窄化アルミ，＊化６Ｌ素、窒化硅素、窒化ホ
ーソ，その他のセラミック、金雇酸化物、金属硫化物、
その他の非水溶外金城を組合せて処理を行った後，鋼に
て処理して，得られた綱造水を構逍水１ｒｉ’槽６に財
溜する． １３２》原水または２（体中の水の含４ｉ成分を非水溶
住金嵐間化合物にて処理シた後，銀にて処ＩＩｌ！シて
，処理水または処理された気体中の水の含有成分を得，
得られた構造水を桶逍水財．Ｗ９６に貯溜する。（３３
）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金城にて
処理した後、銀にて処理して，処理水または処理された
気体中の水の含有成分を得、得られた＃Ｒ逍水を構逍水
貯槽６に貯溜する． ｛３０原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金！
ｌバＩ化合物にて処理シた後，非水溶性金属にて処理し
，さらに鉗にて処理シて．処理水または処理された’ｘ
Ｌ体中の水の含有成分を１！ｉ．ｆ！ｌられた構造水を
摺逍水ｆｆ？槽６に１『？溜する． 拭験成ｈ１は，次のとおりである． ′Ａ励洞（１９１及び（２０）による成ｈ１表（但し１
ｕ磁波処理をしなかった処Ｐ『水）を小１゜・ 進二Ｌ１ 検 杏 本吉 東 ・Ｖ．成１年１３１２（ｉｌｌ依頼の検体につき，以ド
の通りｔｌＪ：’；シまず．′ｌ４成ｌ年菖ハ２ｆｉｌ
−１依頼の検体につき，以ドの通り報告します．Ｉ｛・
： １・・ １ １ ゜； な１勺戊１ ＜ｌ ｌ
｝Ｊ ２ ６１１〜ＩＩＩ３０１１実塊例（３ｌ）によ
る成植表を示す． 第一旦一表 甲成１年ＩＪＩＩＩＩＮ依頼の検体につき，以ドの通り
報告します．ｌｈ『−・・ １ ； Ｆ 検 ゼ壬 糸／ｉ 東 ↑嘗５゜Ｆ 計ｒｉｔ証明＝ｌ業登録第１３号淳生大臣指定第２２チ
冫ｔＦｔｔ駄Ｌ伊那郡桑刑師会 長野鳴田１那市大？イ』リＪＩＳ部９ ＴＥＬ （０２
６５） ７２−５８５１１”ＶｈＱ ｌ年ＩＪ’ｌ２６
１１依頼の検体につき，以ドの通り報告します．横 合
［１ 平成１年１ｊｌ２Ｂｒｌ〜２ＪＪＩｌｌ実施
例《２０》によるｌｉｔ晴表を爪す．火施例《３１》に
て処理した後電磁波を照射した煽合の処理水の横合によ
る成鳥１表を示す． ■効 ！Ｉ！］ 本発明は＊ Ｉｆｆ ｊＬ！ Ｌ／た如１１１１Ｆ戊し
たことにより，未処理水（原水）受水タンク重において
水質調察袈ｉＦｊ ７及び１゛１動水質分析袈置１１に
より原水を使川１１的に合った構造水になる条件に合致
させることができると八に． ４ｆ機不純物及び無機不
純物はｔｓ機不純物除夫装７１ ２と無機不純物除夫袈
１ｄ３とにより除太されて純水となし，純水貯摺４に１
庁藏することができる．しかも純水Ｊ佇４ｆｔ４に貯蔵
された水に１１！磁波照射袈１ｎ５にて電磁波を照財し
て所期の１１的の構造水を得ることができ．これを連続
１′１動的に行うことができることにより，本発明によ
り９１１２逍された特走の分子配列した水並びに特定の
分子妃列憫造をイ］すろ水を含む水溶液及び介水物質は
，促進− Ｐ＞ ＋Ｌ． ．抑制が１゜１山に食換でき
るために応用範囲が非常に広い．例えば細胞分裂を促進
し． ＋ＩＥ常細胞の増加、すなわちーＬ物成艮を促進
するので飼料．２ａ３ｔｈ串をｌｒＩｌ ｌできるし，
バイオデクノロジーに於ける培養，促進を計ることがで
き、漢方生桑、医薬品の効果の促進と一般化学反応の促
進へ応用することができ，さらに化学反応平衡への利川
、化学反応抑制への利川等、その利川範囲は大きい．
第１図は本発明方法に使用する袈１ｎのＮ ｉｌｌと系
統を表わした図．第２図は１“１１磁波照ｌ｝ｌｒｉｌ
と反応生成物１．量とをグラフで表わした図である。 （〜受水タンク ２〜ｆ〕機不純物除大装置 ３〜無機不純物除去装置 ４〜純水Ｉｔ？槽 ５〜電磁波照射袈Ｆ（ ６〜＋ＩｌｌｔＴｉ水貯槽 ７〜受水タンクの水質調整袈１ａ ８〜純水１ｒ？摺の水質調幣装置 ９〜電磁波発生装１ｎ １０〜７ｕ磁波コントロール装；ｒｌ １１〜受水タンクの白動水質分析装『Ｃ１２〜純水貯槽
の１１動水質分析装置 Ｅ−電磁波発生装１ｎの電源 手 ｔｏ”ｄ −？−市 ｔ．Ｉｈ 犯Ｆ１．串件
の表示 ％Ｆ成１年特許願第１１３６５９号 ２．発明の名称 水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水
の分Ｊ’ ＋Ｍ造を変え、反応速度をコントロールする
方法 ３．補正をする青 ’ｌ件との関係 特許出願人 大 槻 れ 之 人 槻 ト゜｛ 久 ４．代Ｆ１！人〒１０５ １．添付図面第１図及び第２図を別紙の通り補正る． ２．先の出願の出願番号平成１年特許願第４６６４６号
を記載した願．リを別紙の通り補ｉＥする．５．補屯命
令の［１付 １′一成１年８ＪＪ２２ｒｌ（発送［１〉６．補正の対
象
統を表わした図．第２図は１“１１磁波照ｌ｝ｌｒｉｌ
と反応生成物１．量とをグラフで表わした図である。 （〜受水タンク ２〜ｆ〕機不純物除大装置 ３〜無機不純物除去装置 ４〜純水Ｉｔ？槽 ５〜電磁波照射袈Ｆ（ ６〜＋ＩｌｌｔＴｉ水貯槽 ７〜受水タンクの水質調整袈１ａ ８〜純水１ｒ？摺の水質調幣装置 ９〜電磁波発生装１ｎ １０〜７ｕ磁波コントロール装；ｒｌ １１〜受水タンクの白動水質分析装『Ｃ１２〜純水貯槽
の１１動水質分析装置 Ｅ−電磁波発生装１ｎの電源 手 ｔｏ”ｄ −？−市 ｔ．Ｉｈ 犯Ｆ１．串件
の表示 ％Ｆ成１年特許願第１１３６５９号 ２．発明の名称 水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく，水
の分Ｊ’ ＋Ｍ造を変え、反応速度をコントロールする
方法 ３．補正をする青 ’ｌ件との関係 特許出願人 大 槻 れ 之 人 槻 ト゜｛ 久 ４．代Ｆ１！人〒１０５ １．添付図面第１図及び第２図を別紙の通り補正る． ２．先の出願の出願番号平成１年特許願第４６６４６号
を記載した願．リを別紙の通り補ｉＥする．５．補屯命
令の［１付 １′一成１年８ＪＪ２２ｒｌ（発送［１〉６．補正の対
象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性物
質にて処理した後、電磁波（例えばα線、ｘ線、紫外線
、可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波）照射、
磁気照射、音波照射（音波、超音波等）、加熱冷却、圧
力、振動、噴射等の物理的処理を行い、処理水または処
理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする
水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく水の
分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （２）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（例
えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外線
、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、超
音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処理
を行った後、非水溶性物質にて処理して、処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく水
の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （３）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性有
機物にて処理した後、電磁波（例えばα線、ｘ線、紫外
線、可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波）照射
、磁気照射、音波照射（音波、超音波等）、加熱冷却、
圧力、振動、噴射等の物理的処理を行い、処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく水
の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （４）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（例
えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外線
、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、超
音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処理
を行った後、非水溶性有機物にて処理した処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、
水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法
。 （５）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性無
機物にて処理した後、電磁波（例えばα線、ｘ線、紫外
線、可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波）照射
、磁気照射、音波照射（音波、超音波等）、加熱冷却、
圧力、振動、噴射等の物理的処理を行い、処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、
水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法
。 （６）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（例
えばａ線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外線
、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、超
音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処理
を行い、非水溶性無機物にて処理水または処理された気
体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び
気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造
を変え、反応速度をコントロールする方法。 （７）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性有
機物及び非水溶性無機物にて処理した後、電磁波（例え
ばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外線、
超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、超音
波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処理を
行い、処理水または処理された気体中の水の含有成分を
得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分
を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコ
ントロールする方法。 （８）原水または気体中の含有成分を、非水溶性有機物
にて処理した後、電磁波（例えばα線、ｘ線、紫外線、
可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波）照射、磁
気照射、音波照射（音波、超音波等）、加熱冷却、圧力
、振動、噴射等の物理的処理を行い、次に非水溶性無機
物にて処理して処理水または処理された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応
速度をコントロールする方法。 （９）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（例
えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外線
、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、超
音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処理
を行い、次に非水溶性有機物にて処理した後、非水溶性
無機物にて処理して、処理水または処理された気体中の
水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中
の水の含有成分を変えることなく水の分子構造を変え、
反応速度をコントロールする方法。 （１０）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
無機物にて処理した後、非水溶性有機物にて処理し、次
に電磁波（例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤
外線、赤外線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照
射（音波、超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等
の、物理的処理を行い、処理水または処理された気体中
の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体
中の水の含有成分を変えることなく水の分子構造を変え
、反応速度をコントロールする方法。 （１１）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
無機物にて処理した後、電磁波（例えばα線、ｘ線、紫
外線、可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波）照
射、磁気照射、音波照射（音波、超音波等）、加熱冷却
、圧力、振動、噴射等の物理的処理を行い、次に非水溶
性有機物にて処理して処理水または処理された気体中の
水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中
の水の含有成分を変えることなく水の分子構造を変え、
反応速度をコントロールする方法。 （１２）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行った後、非水溶性無機物にて処理を行い、次に非
水溶性物にて処理して処理水または処理された気体中の
水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中
の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え
、反応速度をコントロールする方法。 （１３）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行った後、非水溶性有機物にて処理を行い、次に非
水溶性金属間化合物にて処理し、次に非水溶性金属にて
処理して、処理水または処理された気体中の水の含有成
分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有
成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度
をコントロールする方法。 （１４）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行った後、非水溶性物質にて処理を行い、次に非水
溶性金属間化合物にて処理して、処理水または処理され
た気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液
及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子
構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （１５）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行ない、非水溶性物質にて処理し、更に非水溶性金
属にて処理して、処理水または処理された気体中の水の
含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水
の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反
応速度をコントロールする方法。 （１６）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行ない、非水溶性金属間化合物にて処理し、次に非
水溶性金属にて処理して、処理水または処理された気体
中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気
体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を
変え、反応速度をコントロールする方法。 （１７）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行ない、非水溶性金属間化合物にて処理して、処理
水または処理された気体中の水の含有成分を得ることを
特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えるこ
となく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロール
する方法。 （１８）原水または気体中の水の含有成分を、電磁波（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波）照射、磁気照射、音波照射（音波、
超音波等）、加熱冷却、圧力、振動、噴射等の物理的処
理を行ない、非水溶性金属にて処理して、処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る、水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方
法。 （１９）原水または気体中の水の含有成分を、硅酸（酸
化硅素）、酸化アルミニウム（アルミナ）炭化硅素を組
合せ処理し、次に銀にて処理した後、電磁波照射（例え
ばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外線、
超遠赤外電波等）にて処理して、処理水または処理され
た気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液
及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子
構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （２０）原水または気体中の水の含有成分を、硅酸（酸
化硅素）、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化ニッケル、
酸化コバルト及び酸化チタンを組合せ処理し、次に銀に
て処理した後電磁波照射（例えばα線、ｘ線、紫外線、
可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波等）にて処
理して処理水または処理された気体中の水の含有成分を
得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分
を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコ
ントロールする方法。 （２１）原水または気体中の水の含有成分を、硅酸（酸
化硅素）、酸化アルミニウム（アルミナ）、炭化硅素を
組合せて処理して、更に非水溶性有機物にて処理した後
銀にて処理し、次に電磁波照射（例えばα線、ｘ線、紫
外線、可視光線、遠赤外線、赤外線、超遠赤外電波等）
にて処理して、処理水または処理された気体中の水の含
有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中の水の
含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応
速度をコントロールする方法。 （２２）原水または気体中の水の含有成分を、窒化アル
ミ、窒化硅素、窒化ホーソその他のセラミックを組合せ
にて処理し、次に非水溶性有機物及び銀にて処理して電
磁波照射（例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤
外線、赤外線、超遠赤外電波等）を施して、処理水また
は処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方
法。 （２３）原水または気体中の水の含有成分を、金属酸化
物、金属硫化物、その他の非水溶性金属を組合せ処理し
、次に非水溶性有機物及び銀にて処理して電磁波照射（
例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠赤外線、赤外
線、超遠赤外電波等）を行って、処理水または処理され
た気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液
及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子
構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （２４）原水または気体中の水の含有成分を硅酸（酸化
硅素）、酸化鉄、酸化ニッケルを組合せ処理して、次に
非水溶性有機物にて処理した後、銀にて処理して、次に
電磁波照射（例えばα線、ｘ線、紫外線、可視光線、遠
赤外線、赤外線、超遠赤外電波等）を行って処理水また
は処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方
法。 （２５）原水または気体中の水の含有成分を、セラミッ
ク処理を行った後、銀にて処理して、処理水または処理
された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水
溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の
分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （２６）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
物質で処理を行った後、銀にて処理して、処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、
水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法
。 （２１）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
有機物で処理を行った後、銀にて処理して、処理水また
は処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴と
する水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく
、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方
法。 （２８）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
熊機物で処理をを行った後、銀にて処理して、処理水ま
たは処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴
とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることな
く、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする
方法。 （２９）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
有機物で処理し、更に、非水溶性無機物で処理を行った
後、銀にて処理して、処理水または処理された気体中の
水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体中
の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え
、反応速度をコントロールする方法。 （３０）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
物質で処理し更に、非水溶性有機物質にて処理し、次に
非水溶性無機物で処理した後、銀にて処理して、処理水
または処理された気体中の水の含有成分を得ることを特
徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えること
なく、本の分子構造を変え、反応速度をコントロールす
る方法。 （３１）原水または気体中の水の含有成分を、硅酸（酸
化硅素）、酸化アルミニウム（アルミナ）、炭化硅素、
酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化チタン、窒
化アルミ、窒化硅素、窒化ホウソ、その他のセラミック
、金属酸化物、金属硫化物、その他の非水溶性金属を組
合せて処理を行った後、銀にて処理して、処理水または
処理された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とす
る水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、
水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法
。 （３２）原水または気体中の水の含有成分を、非水溶性
金属間化合物にて処理した後、銀にて処理して、処理水
または処理された気体中の水の含有成分を得ることを特
徴とする水溶液及び気体中の水の含有成分を変えること
なく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールす
る方法。 （３３）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金
属にて処理した後、銀にて処理して、処理水または処理
された気体中の水の含有成分を得ることを特徴とする水
溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の
分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法。 （３４）原水または気体中の水の含有成分を非水溶性金
属間化合物にて処理した後、非水溶性金属にて処理し、
さらに銀にて処理して、処理水または処理された気体中
の水の含有成分を得ることを特徴とする水溶液及び気体
中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変
え、反応速度をコントロールする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11365989A JPH0316636A (ja) | 1989-03-01 | 1989-05-08 | 水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4664689 | 1989-03-01 | ||
| JP1-46646 | 1989-03-01 | ||
| JP11365989A JPH0316636A (ja) | 1989-03-01 | 1989-05-08 | 水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0316636A true JPH0316636A (ja) | 1991-01-24 |
Family
ID=26386753
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11365989A Pending JPH0316636A (ja) | 1989-03-01 | 1989-05-08 | 水溶液及び気体中の水の含有成分を変えることなく、水の分子構造を変え、反応速度をコントロールする方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0316636A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7566142B2 (en) * | 2004-02-13 | 2009-07-28 | Jam Strait, Inc. | Changing color LEDS |
| JP2010142698A (ja) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Toru Furuya | 流体処理装置 |
| JP4768179B2 (ja) * | 1999-06-25 | 2011-09-07 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 車両ヘッドランプ及び車両 |
-
1989
- 1989-05-08 JP JP11365989A patent/JPH0316636A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4768179B2 (ja) * | 1999-06-25 | 2011-09-07 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 車両ヘッドランプ及び車両 |
| US7566142B2 (en) * | 2004-02-13 | 2009-07-28 | Jam Strait, Inc. | Changing color LEDS |
| JP2010142698A (ja) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Toru Furuya | 流体処理装置 |
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