JPH0316962A - 感光性セラミック膜 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は感光性セラ■ツク被覆組成物から形成されるセ
ラミック膜およびそれを有する多層コンデンサーに関す
る。

多層厚膜回路は多年にわたって単位面積当りの回路機能
を増大させるのに使用されてきた。

更に、最近の回路技術の進歩によりかかる用途のための
誘電材料について新たな要望が出てきた。従来、多重回
路で使用されている誘電材料のほとんどは慣用の厚膜誘
電組成物であった。

これら｛工誘電性固体の微細粒子訟工び不活性有機媒体
に分散された無機結合剤からたっている。

このような厚膜材料は通常スクリーン印刷で適用される
が、他の手段でも同様に適用することができる。

この種の厚膜材料は非常に重要であり、今後も重要であ
り得る。しかし、これ゛らの厚膜材料をスクリーン印刷
で適用するときに、８ミノレ（２０３μｍ）よりも良い
線訟よび間隔の解像を得ることは難しい。事実、この程
度の性能を得，るのにも、スクリーン印刷可変条件の全
て例えばスクリーン品質、スクイーズ硬さ、プリント速
度、分散特性等々を慎重に調節し、常にモニターして良
好な製品収率を得ることが不可欠である。言う咬でもな
く、同じような問題が厚膜導体訟↓び抵抗体材料の使用
についてもみちれる。

この問題に対する一つのアプローチは（１）感光？を適
用すること、（２）層■活性線に像形成するように露光
すること、（ろ）・ぐタ一ンを溶媒現像して層の未雫光
部分を除去すること、釦よび（４）パターンの残留露光
部分を焼成させて全ての残留有機材料を除去し、かつ無
機材料全焼結させることである。この技術は例えば米国
特許第３，４４３，９４４号、同第３．　６　１　５，
４５　７号、同第３，９５８．９９ｉＳ号、同第５，９
８　２．９　４　１号、同第３，　８　７　７．　９！
５０号トよび同第３，９　１　４．１２　８各号明細書
に開示されている。これらの系ではいずれも無機結合剤
業利用してい彦い。しかし、米国特許第３，３　５　５
，２　９　１号および同第３，５７３，９０８号にはガ
ラスの感光性ペーストを適用し、露光し、溶媒現像しそ
して露光領域を焼成させることによってガラス全半導体
デバイスに適用する方法が記載されている。

誘電材料金ペーストとして適用するための先行技術の方
法の有効性にもかかわらず、かかる材料を寸法安定性膜
として適用する方がより良好である。膜の使用による利
点はいくつかあり、（１）より良い表面均一性、（２）
より良い層厚さの均一性、（３）エリ厚い層を適用する
ことができ、これにより焼成された誘電層を厚〈する工
程を少９ くすることができ、（４）加工均一性が太き〈々り、（
５）保存寿命會延し、（６）ピソクアソプ汚れに対する
最小感度、訃よび（７）印刷スクリーンでの乾燥による
ペーストに生じる粘度変化に比して粘度変化が顕著でな
いことなどである。従って、慣用の方法のいずれか、例
えば適当ならば適宜スクリーン印刷によるかまたは更に
正確な特性が要求される場合には積層膜により適用し得
るセラミック分散物について非常に強い要望がある。

主なる態様によると、本発明は実質的に非酸化性の雰囲
気中で焼成可能な感光性セラミック被覆組成物に係り、
該組成物は （ａｌ　　表面積対重量比が１０ｍ２／ｒ以下であり、
かつ粒子の少なくとも７５重量φが１〜１〜０μｍのサ
イズを有しているセラミック固体の微細粒子、トよび （ｂｌ　　表面積対重量比１０ｍ２／ｊｉ’以下を有し
、かつ＝ｌ〇　一 粒子の少くとも９５重量多が１〜１０μｍのサイズを有
してしる無機結合剤の微細粒子 との混合物であって、そして（ｂ）対（ａ）の重量比が
０６〜２であり、かつ該粒子が有機媒体に分散され、さ
らに該有機媒体が、（ｅ）光硬化可能なモノマーおよび
（ｆ）揮発性非水性有機溶媒に溶解されている、 （ｃ）　　（１）　Ｃ１〜＜ｏアルキルアクリレート、
　Ｃ１〜１０アルキルメタクリレート、α−メチルスチ
レン訟よび０〜２重量多エチレン系不飽和カルボン酸、
アミン１たはシラン含有化合物のホモポリマーち・よび
コポリマー　（２）Ｃ＋〜１ｏモノオレフィンのホモポ
リマーおよびコポリマー、（３）　Ｃ？−４アルキレン
オキザイドのホモポリマーち・よびコポリマーならびに
これらの混合物からなる群から選択される有機重台体性
結合剤（全無様固形分の５〜２５重量φ構成）、ムよび
（ｄ）光開始系を含有していろ。

第二の態様によると、本発明は上記の感光性組成物の層
を包含し、該組成物から溶媒を揮発により除去した感光
性セラミソク膜に係る。

更に他の態様によると、本発明は上記感光性セラミック
膜からなり、該膜が（１）セラミック基体に積層され、
（２）活性線には形成するように露光されて膜の露光領
域の硬化を行い、（３）溶媒現像して膜の未露光領域金
除去し、そして（４）実質的に非酸化性の雰囲気中で焼
成して有機媒体の揮発３工び無機結合剤とセラミソク固
体との焼結を行ったものである。

Ａ　セラミック固体 本発明は事実上任意の高融点を有する無様固体制料に適
用し得る。しかし、本発明２工誘電性固体例えばアルミ
ナ、テクノ酸塩、ノルコン酸塩およびすず酸塩の分散版
を製造するのに特に適当である。本発明う工咬たかかる
イ月料の先駆物質、すなわち焼成すると誘電性固体訟よ
びこれらの任意の混合物に変換される固体材料に適用し
得る。

本発明に使用し得る数多くの誘電性固体のうちには、Ｂ
ａＴｉ○３、ＣａＴｉ０３、ＳｒＴｉＣＤ、ＰｂＴｉＯ
３、ＣａＺｒ○３、ＢａＺｒ○３、Ｃａｉｎ’ｓ、Ｂａ
ＳｎＯｓ　＞よびＡＬ２０３があげられる。セラミソク
技術の当業者Ｋ　’ｔＺ明らか女ように、本発明の紐成
物に使用されるセ乏ミソク固体の正確な化学組或は通常
レオロノーの意味でな工限定的ではない。捷だ、セラミ
ック固体は有機分散液では膨潤特性を有していないのが
好１しい。その理由は分散物のレオロノー特性がこれに
よって笑質的に変化し得るからである。

本発明の分散物は膜−１たはその層を焼成させて有機媒
体會除去し、かつ無機結合剤とセラミソク固体との焼結
を実施する場合、有機媒体の工３ 適切で完全々燃え切り（　ｂｕｒｕｏｕｔ　）−ｑ得る
ためには、０．３μｍ未満の粒子サイズを有する固体を
有意な量で含有していてはいけないことがわかった。し
かしながら、セラミソク固体はいずれも２０μｍを超え
ないで、更にセラミソク固体の少くとも７５重量袈は１
〜１０μｍのサイズを有していなければｉらない。分散
液を通常スクリーン印刷で適用される厚膜ペーストｌ作
るのに使用する場合、最犬の粒子サイズはスクリーンの
厚さ金超えるべきではなく、そして分散液を乾燥感光膜
を作るのに使用する場合、最犬の粒子サイズ（・工膜の
厚さ、を超えてはならない。セラミック固体の少くとも
９０重量多が１〜１０μｍの範囲にあるのが好咬しい。

更に、セラミソク粒子の表面，積／重量比が１　０　ｔ
ｏ２／ｉ７　’１超えないのが好捷しい。その理由（工
かかる拉子ほ伴っている無機結合剤の・焼結特性］−４ に不利な影響を及ぼす傾向があるからである。

更に、表面積／重量比が５ｍ２／ｆｆ超えないのが好笠
しい。表面積／重量比１〜５を有するセラミック粒子が
極めて好都合であることがわかった。

Ｂ、無機結合剤 本発明で使用されるガラスフリットは無機結晶性粒子の
焼結の補助をなし、セラミック固体よりも低し融解温度
を有する周知の任意の組成物であってもよい。しかしな
がら、デバイスの適当な気密性を得るためには、無機結
合剤のガラス転移温度（Ｔｇ）が５５０〜８２５℃、更
に好１しくは５７５〜７５０℃である。融解が５５０℃
以下で起ると、有機材料が射入されることがあり、そし
て有機物が分解するにつれて誘電層にふくれが生成され
る傾向がある。一方、８２５℃を超えるソｙ”ラス転移
温度では銅金属化と相容し得一１５ る焼結温度例えば９ＣＩＣｌ″ｃｔ−用いた場合、多孔
性誘電体金生成する傾向がある。

最も好１しく使用されるガラスフリット｛・マホウケイ
酸塩フリット例えばホウケイ酸鉛フリット、ホウケイ酸
のビスマス、カドミウム、ベリウム、カルシウム１たは
その他のアルカリ土類ホウケイ塩フリットである。この
ようなガラスフリットの製造は周知であり、例えばガラ
スの構成分を構成分の酸化物の形態で一緒に溶融しそし
てこのよーウな溶融組成物を水に注加してフリットを形
成させることからなる。バッチ成分は言う咬でもなく通
常のフリット製造の条件下で所望の酸化物を生成する任
意の化合物であってよい。例えば、ホウ酸からホウ酸酸
化物が得られ、フリントからシリコン二酸化物が得られ
、炭酸バリウムからバリウム酸化物が得られる等等であ
る。ガラス｛ま好咬し〈は水と共にボール＝１６　− ミルで磨砕されてフ゜リットの粒子サイズを減少させ、
実質・的に均一なサイズのフリットを得る。

次に、水に沈降させて微細物を分離し、そして微細物金
含む上澄液を除去する。他の分級方法も″！た同様に使
用し得る。

ガラスは慣用のガラス製造技術により、例えば所望の成
分を所望の比率で混合しそして混合物を加熱して融成物
を形成させることにより製造される。当該技術分野で周
知の如く、加熱はピーク温度で、かつ融成物が完全に液
状で均質となるような時間行われる。本発明の方法では
、成分をプラスチソクボールと共にポリエチレンジャー
中で振とうしてプレミックスとし、次いで所望の温度で
白金るつぼ中で溶融する。融成物會１〜１／２時間ピー
ク温度で加熱する。次に、融成物を冷水に注加する。急
冷中水の最高温度は水対融成物比を増大させることによ
りできる−　１７　＝ だ・け低く保持する。水から分離した後の粗製フリット
は風乾するか１たはメタノールで洗滌して排水して残留
水金除く。次に、粗製フリットをアルミナボールを用い
てアルミナ容器中で３〜５時間ボールミルする。フリッ
トのアルミナ混在はＸ−線回折分析の観察し得る限界内
にはない。

ミルから磨砕したフリットスラリ一を排出した俸、過剰
の溶媒をデヵンテーションでＩＩ去ｔ，、そしてフリッ
ト粉末を室温で風乾する。乾燥粉末．’｛ｒ３２５−メ
ッシュスクリーンを篩過させて全ての大きい粒子を除去
する。セラミック固体のよ．うな無機結合剤は１０ｍ２
／ｆ以下の表面対重量比を有していなければならず、１
た粒子の少くとも９５重量９ｇ＋Ｘ１〜１０μｍの粒子
サイズ金有していなければならない。

無機結合剤のｊＤ％ポイント（．ｌ：り大きい釦一工８
　一 工びより小さい粒子の等量重量部として定義される）は
セラミック固体と同等もしくは未満であるのが好プしい
。所定の粒子サイズセラミソク固体について、気密性金
得るの（（必要々無機結合剤／セラミソク固体の比は無
機結合剤サイズが減少するにつれて減少する。所定のセ
ラミソク固体一無機結合剤系により、無機結合剤対セラ
ミソク固体の比が気密性を得るのに必要とされるよりも
著しく高いときは、誘電層は焼成でふくれを形成する傾
向がある。比率が著し〈低いときは、焼成した誘電物質
は多孔性でちりそれ故に非気密性となる。

上述の粒子ザイズ訃よび表面積限界内では、そｊｔでも
魚機結合剤粒子が１〜６μ川であるのが好プしい。この
理由は高表面積會有するより小さい粒子が有機拐料を吸
着し、それ故完全汝分解を阻止する傾向があるからであ
る。一方、ｊ二り大きい粒子サイズでは焼結特性がより
乏しくなる傾向がある。無機結合剤対セラミソク固体の
比が０６〜２であるのが好１しい。

Ｃ，有機重合体性結合剤 前述のように、本発明の分散液の結合剤成分＆！（１）
Ｃ　　　アルキルアクリレ・一ト、Ｃ１〜１ｏ　　アル
１〜１０ キルメタクリレート、α−メチルスチレントよび０〜２
重量φのエチレン系不飽和カルボン酸、アミン１たはシ
ラン含有化合物のホモポリマーシよびコポリマー、（２
）Ｃ１〜１０モノオレフインのホモポリマー訟よびコポ
リマー、（３１　Ｃ’１〜４アルギレンオキサイト゛釦
よびその混合物のホモポリマ−シエびコポリマーからな
る群から選駅される有機重合体性結合剤てあり、結合剤
は全無機固形分の５〜２５重量％　ｙ，構成している。

上記重合体はホモポリマーならひにラングムコ７ｔ？１
Ｊマー．！５−よび高次のマルチポリマーを包含する。

重合体鎖に沿って分布しているカルボン酸オたはアミン
の相対量（工２．　０重量多未満でなければ彦らない。

低酸素雰囲気中でより完全に焼成するのでメタクリノレ
酸重合体、殊にポリ（メタクリル酸メチル）がアクリル
酸重合体よりも好１しい。

分散セラミソク固体の凝集會避け７るために、官能部分
會含むコモノマーはいずれＤ）一つの重合体の１０．０
２量φを超えないかさたは重合体混合物で２０係會超え
ないのが好プしい。場合によっては、１．８％程度の酸
含有モノマーを有している重合体混合物が分散液特性に
対して境界線上にあるか咬たはそれ以下であることが認
められた。大抵の場合、この．ｒＸラな重合体はそ２゛
一シでもな，し・更に極性の溶媒を用いることによって
本発明に使川ラ−ろことがてきる。従って、２０φもの
単量体含有官能基を有する重合体混合物２１〜 を使用し得るが、わずか１．５％の官能性単量体金有す
る該重合体混合物が好適である。該官能性単量体１，０
重量多以下が更に好甘しい。同じ理由から、重合体混合
物に含ｉｈる重合体のいずれもが１０重量φを超える官
能性コモノマー會含有していｋいのが好プしい。す々わ
ち、重合体性結合剤はそのいくつかが官能部分を全く含
オす、かつそのいくつかが１０重量多もの官能性コモノ
マーを含有し、全混合物中の官能性コモノマーの含量が
０．２〜２．０重量ダの範囲内にある限り重合体の混合
物でろり得る。他方、重合体結合剤がＯ〜５．０重量φ
の官能性コモノマー會含有する前記で定義したとおりの
メタクリル酸重合体から大部分が構成されているのが好
１しい。

適当な共重合し得るカルボン酸にシエエチル系不飽；Ｔ
ＩｌＣ３〜６モノカルボン酸例えばアクリル酸、２２ メタクリル酸シよびクロトン酸ならびにｃ４〜１ｏジカ
ルボン酸例えばフマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、
ビニルコノ）ク酸卦よびマレイン酸々らびにそれらの半
エステルおよび適宜それらの無水物および混合物が包含
される。低酸素雰囲気下でより完全な焼成をするので、
メタクリル酸重合体がアクリル酸重合体よりも好適でち
る。

言う！でもなく、ある種のアミン成分（・エアミン含有
モノマーの′共重合により直接連鎖中に導入されないが
、重合体鎖のペンダント反応性部分の後重合反応により
間接的に導入され得ることが認められている。これらの
例示としてはアンモニアの存在下にペンダントカルボン
酸基トグリシジル化合物との反応によって付加し得る第
一級アミンがある。従って、本文で使用される「エチレ
ン系不飽和アミン」なる用語はアミン含有コモノマーな
らびに後重合で反応してアミン基を形成している他のコ
モノマー双方から誘導される重合体を包含することを企
図している。第一、第二および第三アミンが同様にそれ
ぞれ有効である。ペンダントアミン基を結合剤／重合体
鎖の直接導入１〔適したコモノマーＫはメタクリル酸ジ
エチルアミンエチル、メタクリル酸ジメチルアミンエチ
ルおよびメタクリル酸ｔ−プチルアミノエチルが包含さ
れる。アミン官能基を導入する後重合反応に適したペン
ダント官能性部分を生成する適当なコモノマーには、上
記のエチレン系不飽和すなわちエポキサイド、例えばア
クリル酸グリシ・ゾルｔｉはメタクリル酸グリソジルが
あげられる。

非酸性コモノマーの上述した制限内で、アルキルアクリ
レートもしくはメタクリレートが重合体の少くとも・７
５重量多、好オしくは８ｏ重量ダを構成するのが好適で
ある。

重合体性結合剤はその他の非アクリル酸、非酸性コモノ
マー、例えばスチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル
、アクリルアミド等を約１０重量優１で含有し得る（但
し、前述の組成物基準ならびに以下に述べる物性基準が
満たされている限り）。しかし、かかるモノマーの約５
重量多以下を使用するのが好咬しい。その理由はこれら
のモノマーは完全に燃え切るのが一層難しいからである
。現在、かかる他のコモノマーの使用が本発明への適用
に訟いて共重合体の効ｉｔ更に付加するかは分らない。

しかし、上掲の量での該コモノマーは組成耘工び物性基
準が全て満たされている限り重合体の有効性を損じない
。

上記アクリル酸分よびメタクリル酸重合体に加えて、種
々のポリオレフィン例えばポリエチー２５　一 レン、ポリプロピレン、ポリプチレン、ポリイソブチレ
ントよびエチレンープロピレン共重合体も’ｉ＊使用し
得る。所謂ポリエーテルも′＝！た本発明に有用であり
、低級アルキレンオキサイドの重合体例えばポリエチレ
ンオキサ・イド、ポリグロビレンオキサイドおよびポリ
ブチレンオキサイドがちる。

上記の組成パラメーターに加えて、重合体性結合剤のち
る種の物性も無論重要である。特に、ホトレジストの当
業者には未露光結合剤重合体はどのような溶媒現像剤を
使用しても実質的に現像可能でなければならないことが
認識されている。一方、光硬化された結合剤は現像剤溶
媒で洗い去られないような十分な耐溶剤性を有していな
ければならない。

これらの基準に適合している重合体は慣用の溶液重合技
術に工りアクリレート重合の技術に−２６ 習熟した者によって製造することができる。典型的には
、かかる酸性アクリレー｝・重合体は比較的低沸点（７
５〜１５０℃）の有機溶媒中α，β一エチレン系不飽和
酸と共重合可能なビニル単量体の１種首たはそれ坦上と
會組合せて単量体混合物の２０〜６０％溶液となし、次
に重合触媒の添加により単量体を重合させそして常圧で
溶液の還流温度に混合物を加熱することによって製造さ
れる。重合反応が実質的に完了した後、得らｈ．た酸重
合体溶液會室温に冷却しそして試料を取り出して重合体
の粘度、分子量、酸等量等七測定する。

Ｄ　光開始系 適当な光開始系に熱的に不活性でるるが、活性組に露光
するか甘たは１８５゜Ｃもしくはそれ以下で遊離ラノカ
ルを発生ずる系でちる。これらの系には置換もしくは未
置換多核キノンが包含され、これらのキノンは共役炭素
環系に２個の環内炭素原子を有する化合物であり、例え
ば？，１０−アントラキノン、２−メチルアントラキノ
ン、２−エチルアントラキノン、２−もーブチルアンｌ
・ラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，４−ナ
フトキノン、９，１口−フエナントレンキノン、ベンズ
（ａ）７ントラセンー７．１２−ノオン、２，３−ナフ
タセン−５，１２−ノオン、２メチル−１，４−ナフト
キノン、Ｌ４−ノメチルーアン１・ラキノン、２，３一
ノメチルアン１・ラキノン、２−フエニルアン｝・ラキ
ノン、２，ロージフエニルアントラキノン、レテンキノ
ン、７８，９。１０−テトラヒ１″口ナフタセン−５，
１２−ノオンろよび１，２，３．４−テｌ・ラヒドロベ
ンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ノオンがあげられ
る。８５℃の低い温度で熱的に活性であるものも若干あ
るが、有用なその他の光開始剤（工米国特許記２，７　
６　０，８　６　３号に記載され、そしてビシナルヶト
アノレドニルアルコール例，ｔ　ハヘンゾイン、ヒハロ
イン、アシ口インエーテル例エばベンゾインメチルおよ
びエチルエーテル；α一炭化水素一置換芳香族アシ口イ
ン（α−メチルベンゾイン、α−アリルベンソイントよ
びα−フェニルベンゾイン）が包含される。米国特許第
２，８　５　０，４　４　５号、同第２，８　７　５，
０　４　７号、同第３，　０　９　７，　０　９　６号
、同第３，０　７　４，９　７　４号、同第３，　０　
９　７，　０　９　７号および同第３，１４５，１０４
号に開示でれている光還元可能な染料勢よび還元剤なら
びにフエナノン、オキサジンおよびキノン群の染料、ミ
ヒラーケトン、ペンゾフエノン、水素供与体を伴う２，
４．５　−　トリフエニルイミグゾリルニ量体（米国特
許第５，４２７、１６１号、同第３，４７９，１８５号
訟工び同第３．５４９．３６７号に記載されているロイ
コ染料卦よびその混合・吻が包含される）が開始剤とし
て使２つ 用し得る。米国特許第４，１　６　２，１　６２号に記
載の増感剤も咬た光開始剤嘔よび允抑制剤と共に有用で
ある。光開始剤および光開始剤系は乾燥光重合可能な層
の総重量を基にして０．０５〜１０重量多で存在してい
る。

Ｅ，光硬化可能な単量体 本発明の光硬化可能な単量体成分は少くとも一つの重合
可能なエチレン系基を有する少くとも一つの付加重合可
能々エチレン系不飽和化合物からなっている。かかる化
合物は遊離ラジカル開始、連鎖生長付加重合により高重
合体を形成し得る。好’ｔ　Ｌ　＜　＋佳、不飽和化合
物（単量体）は少くとも２個の末端エチレン系不飽和基
例えば２〜４個の基會有している。単量体化合物は非気
体である。すなわち、これら化合物（・工１００℃を超
える標準沸点トエび有槻重合体結合剤に対して可塑化作
用を有している。

３０ 単独ｔｆｃは他の単量体と組合せて使用し得る適当な単
量体には、アクリル酸ｔ−ブチルおよびメタクリル酸ｔ
−ブチル、１，５−ペンタンジオールジアクリレートお
よびジメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ソエテルアミノエチル
ア夛リレート訃よびメタクリレート、エチレングリコー
ルジアクリレートおよびジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート唱よびジメタクリレート、
ソエテレングリコールジアクリレート｝よびジメタクリ
レ，一ト、ヘキサメチレングリコールジアクリレートふ
・よびジメククリレート、１，３−プロパンジオールジ
アクリレートお・工びジメタクリレート、デカメチレン
グリコールジアクリレート督よびジメタクリレート、１
，４−シクロヘキサンノオールノアクリレートおよびジ
メククリレート、２．２−ジメチロールプロパンノアク
リレート訃工びジメククリレート、グリセロールジアク
リレートろよびジメタクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレートトよびジメタクリレート、グリセ
ロールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、ト
ーリメチロールグロノぐントリアクリレートおよびトリ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト訟よびトリメタクリレート、ポリオキシエチル化トリ
メチロールプロノｆントリアクリレートおよびトリメク
クリレートおよび米国特許第３，３８０，８３１号に記
載の類似化合物、２，２−ジ（ｐ−ヒドロキシフエニル
）一フロｉ４ンジアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート訃よびテトラメタクリレート、２，
２−ソ−（ｐ−ヒドロキシ７エニル）−７’ロノぞンジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリオキシエチル−２．２一ノ（ｐ−ヒドロキシフ
エニル）グロノぐンノメタクリレート、ビスフェノール
Ａのジー（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプ口
ピル）エーテル、ビスフェノールＡのジー（２−メタク
リルオキシエチル）エーテル、ビスフェノールＡのジー
（３−アクリルオキシー２−ヒドロキシプロビル）エー
テル、ビスフェノールＡのジー（２−アクリルオキシエ
チル）エーテル、１，４一ブタンジオールのジー（３−
メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプ口ピル）エーテル
、トリエチレングリコールノメタクリレート、ポリオキ
シゾロビルトリメチロールプロパントリアクリレート、
ブチレングリコールジアクリレートふ・よびノメタクリ
レート、１　，２．４−プタンｌ・リオールトリアクリ
レート釦工びトリメタクリレート、２，２，４．　−　
１〜リメチル−１，３−ペンタンジオール・ゾアクリレ
ートむ工びジノタクリレート、１〜フエニルエチレンー
ｉ，２一ノ；ｌ　：ｐク＋）　ｖ　−３３ ト、シアリルフマレート、スチレン、１，４−ベンゼン
ジオールジメタクリレート、１，４−ジインプロペニル
ベンゼンおよび１　，３．５−トリイソプロペニルベン
ゼンが包含される。少くとも３００の分子量を有するエ
チレン系不飽和化合物も咬た有用でちり、そして例えば
２〜１５個の炭素原子會有するアルキレングリコールか
ら製造されるアルキレンもしくはポリアルキレングリコ
ールジアクリレー｝ｔたは１〜１０個のエーテル結合の
ポリアルキレンエーテルグリコール訟よび米国特許第２
，９２７，０２２号に記載のもの、例えば複数個の付加
重合可能なエチレン結合、特に末端結合として存在する
場合の該結合會有するものがあげられる。特に好オしい
単量体はポリオキシエチル化トリメチロールプ口／？ン
トリアクリレート、エチル化ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ−　３４　
− ？ド口キシペンタアクリレート訃工び１，１ｏ−デカン
ノオールノメチルアクリレートである。不飽和単量体成
分は乾燥光重合可能■層の全重量を基にして５〜４５重
量係の量で存在する。

すぐれた燃え切り特性のために本発明に使用するために
特に好咬しい光硬化可能な単量体は次の化学構造に相当
するある種のモノー、ノー釦よびｌ・り一官能性メクク
リレートである。

上記のメククリル酸単量体の３種のしずれでも、β一炭
素が存在（水素原子２個）するかプた（′Ｓ．存在しな
いか（水素原子ろ個）によってα一炭素は２捷たは３個
の水素原子置換分を有していなければなら々い。更に、
β一炭素が存死しないときは、メタクリル酸メチルの場
合のように水素原子で置換されている。一方、β一炭素
が存在しているときは、Ｒ１、Ｒ２訃よびＲ３は独立し
てアルキル基、アリール基１たはアラルキル基から選択
されるか、３個のＲ基の一つが月であるときは他の２個
のＲ基にアルキル基、アリール基１たはアラルキル基か
ら選択されるのが好壕しい。前者の例は２，２−ジメチ
ロールプロパンノメタクリレート（ｆ）ＭＰＤＭＡ）　
＄−よびトリメチロールプロノぐントリメククリレ−１
〜　（ＴＭＰＴＭＡ）である。

他の成分が微量で光重合可能な組成物に存在することが
でき、例えば顔料、染料、熱重合抑制剤、接着促進剤例
えばオルガノシランカソプリング剤、可塑剤、被覆助剤
例えばポリエチレンオキサイＦ等であり、但し、光重合
可能な組成物がその本質的な特性會留保している限りで
ある。オルガノシロキサンは無機粒子の重量ヲ基にして
３０重量多もしくはそれ以下の量で特に有用である。処
理された粒子は有機物に対する必要性が低い。従って、
被膜中の有機物の濃度を減少することかでさ、その結果
焼成時の燃え切りが工り容易となる。オルガノシランは
捷だ分散特性を改善し、−１だ同等な気密性で無機３７ 結合剤／セラミソク固体の比をより低くすることができ
る。

Ｆ．有機媒質 有機媒質の主目的は微細な組成物固体の分散のためのビ
ヒクルとしてセラミック咬たはその他の基体に容易に適
用し得るような形態で役立つことである。従って、有機
媒体（・工１ず固体が適度の安定性を伴って分散可能で
あることである。第二に、有機媒体のレオロノー特性は
分散液に艮好々適用特性を付烏するようなものでなけれ
ばならない。

分散液を膜とする場合、セラミソク固体訟工び無機結合
剤が分散されている有機媒体は、」二記重合体性結合剤
、単量体ち・よび揮発性有機溶媒に溶解している開始剤
ならびに任意に他の溶解されている物質例えば可塑剤、
離型剤、分散剤、はく離剤、防汚剤ｐ工び湿潤剤からな
る。

＝３８ 溶媒の混合物であってもよい有機媒体の溶媒成分は重合
体の完全々溶液を得て、かつ常圧で比較的低いレベルの
熱を適用することにより分散液から溶媒を揮発させ得る
のに十分に高い揮発性を有するように選択される。更に
、溶媒は有機媒体中に含捷れる任意の添加物の沸点訟よ
び分解温度以下で十分に沸騰しなければならない。従っ
て、ｉ　ｓ　ｏ　’ｃ以下の大気圧沸点を有する溶媒が
最もひんぱんに使用される。かかる溶媒ニハベンゼン、
アセトン、キシレン、メタノール、エタノール、メチル
エチルケトン、１，１．１ートリクロロエタン、テトラ
クロロエチレン、酢酸アミル、２，２．４　−　トリエ
チルペンタジオール−１，３−モノインブチレート、ト
ルエン、メチレンクロライド、訃よびエチレングリコー
ルモノアルキル訃よびジアルキルエーテル例えばエチレ
ングリコールモノーｎ−プロビルエーテルが包含される
。フイルム流延のために、メチレンクロライドがその揮
発性の故に特に好１しい。

往々にして、有機媒体は結合剤重合体のＴｇを低下させ
る働きをする可塑剤の一種壕たはそれ以上をも含有して
いる。かかる可塑剤はセラミック基体に対して良好な積
層乞確保し、かつ組成物の未露光領域の現像性金増進す
る助けとなる。しかしながら、このような材料の使用は
、流延された膜を焼成するときに除去しなければならな
い有機材料の量を減少させるために、最小限としなけれ
ばならない。無論、可塑剤の選択は変性されるべき重合
体によって主（（決定される。種々の結合剤系で使用さ
れている可塑剤の中には、ジエチルフタレート、ジブチ
ルフクレート、プチルベンジルフタレート、ジベンジル
フタレート、アルキルホスフエート、ポリアルキレング
リコール、グリセロール、ポリ（エチレンオキサイド）
、ヒドロキシエチル化アルキルスエノール、トリクレジ
ルホスフエートトリエチレングリコールジアセテートか
よびポリエステル可塑剤がある。ジフ゛チルフタレー｝
　７＞Ｅアクリル酸重合体系で往々にして使用される。

これは比較的低い濃度で有効に使用し得るからである。

本発明の感光性組戒物は感光層が支持体膜上に被覆され
ているレジストエレメントの感光層としてしばしば使用
される。

慣用のホトレジストエレメントでゆ、ロールの形態で保
存する際に感光層と支持体の裏面との間のプロソキング
を防止するために、除去し得るカバーシ一トで感光層を
保護することが必須であるか、筐たは少くとも非常に望
１しいことである。１だ、基体に積層された層を除去し
一４１　ー 得る支持体膜を用いて層とホトソールとの間のプロツキ
ングを防止するために像形成露光中保護するのが望！し
い。

光重合可能な組成物は約０．００１インチ（〜０．００
２５ＣＩＩＬ）〜約０．０１インチ（〜αＤ２５ｃＩｎ
，）ｔ７ｖはそれ以上の乾燥被膜厚さで支持体膜に被覆
される。

好寸しくは高度の温度に対する寸法安定性を有する適当
なは〈離可能な支持体は高重合体例えばポリアミド、ポ
リオレフィン、ポリエステル、ビニル重合体診．よびセ
ルロースエステルからなる種々の膜から選択し得るし、
筐た［］．００Ｄ．５インチ（〜０００１３ＣＴＩＬ）
〜０．００８インチ（　〜Ｏ．．０　２　ｃｘ　）１た
はそれ以上の厚さを有し得る。はく離し得る支持体を除
去する前に露光すべきときは、この支持体は言う咬でも
なく入射する活性線の実質的なフラクションを透過しな
ければならない・はく離し得る支持体が露光に先立って
除去され４２ ？ときは、このような制約は適用されない。特に適桶な
支持体は約０．　０　０　１インチ（〜０．００２５■
■■）の厚さを有する透明なポリエチレンテレフタレー
ト膜である。

エレメンｌ・が除去し得る保護力バーシートｖ含有せず
、かつロール形態で保存されるときは、は〈離し得る支
持体の裏側は好捷しくに光重合可能な層とのプロソキン
グを防止するための薄い剥離層の材料例えばワソクス１
たはシリコン會適用していた。あるいは１た、被覆され
た光重合可能な層への接着は被覆されるべき支持体表面
會火炎処理１たは放電処理することにより選択的に増強
される。

適当な除去し得る保護力バーシー｝？Ｘ用時上述の高重
合体の同じ群から選択され、同じ広範な厚さの範囲を有
し得る。０００１インチ（〜０．００２５ｃｍ　）　Ｗ
　ノポリエチレンのカバーンートが特に好１しい。上述
の支持体訟よびカバーシー｝＆ｊ−使用前の保存中光重
合可能々レノスト層に対して良好な保護を与える。

無機固体（誘電体およびガラス）対有機物の重量比は２
０〜６。Ｄの範囲内にあるのが好１し〈、更に好咬し（
ｔ′ｆ．２６〜４５である。適当々分散公よびレオロノ
ー特性を得るには、６０以下の比が必須である。しかし
、２５以下では、燃焼されるべき有機物の量が過剰であ
り、そして最終の層の品質が損われる。無機固体対有機
物の比は無機固体の粒子サイズ、有機成分＞よび無機固
体の表面前処理によって左右される。粒子をオルガノシ
ランカソプリング剤で処理するときは、無機固体対有機
物の比企増大させることができる。焼成の欠陥を最小限
とするのに有機物のより低いレベル會使用するのが好ゴ
しい。無機物対有機物の比が可能な限り高いことが殊に
重要である。本発明で使用するのに適したオルガノシラ
ンは一般式ＲＳｉ（ＯＲ’）５　（　Ｒ’はメチルオた
はエチルであり、そしてＲはアルキル、メタクリルオキ
シプロビル、ポリアルキレンオキサイド１たは膜の有機
マトリックスと相互作用し得るその他の有機官能基から
選択される〕に相当するものである。

他方、分散物を厚膜ペーストとして適用するときは、慣
用の厚膜有機媒体を適切なレオロジー調節ち・よび低揮
発性溶媒の使用と共に用いることができる。

本発明の組成物會厚膜組成物として処方する場合、通常
該組成物はスクリーン印刷によって基体に適用される。

従って、これらの組成物はスクリーンｋ容易に通過し得
るような適切な粘度を有していなければならない。更に
、該組成物９エスクリーン後迅速に固化するために、チ
キ４５ ソトｏ一プでなければならず、これによって良好々解像
が得られる。レオロノー特性は主要であるが、有機媒体
は好１しくほ固体および基体の適切な湿潤性、良好な乾
燥速度、粗い取り扱いに耐えるに十分な乾燥膜強度釦よ
び良好な焼成特性をもたらすように処方される。焼成さ
れた組成物の満足するに足る外観も咬た重要である。

これらの基準の全てに鑑み、広範な種類の不活性液体を
有機媒体として使用し得る。最も厚い膜組成物のための
有機媒体は典型的には樹脂の溶媒溶液であり、そして往
々にして樹脂釦工びチキソトローフ゜剤双方を含有する
溶媒溶液である。溶媒は通常１３０〜３５０℃の範囲内
で沸騰する。

この目的のための特に適当な樹脂｛工低級アルコールの
ポリメタクリレートおよびエチレング４６ リコールモノアセテートのモノブチルエーテルである。

厚膜適用のために最も広く用いられている溶＊（エテル
ペン例えばα−１たほβ−テルピネオール１たぱ他の溶
媒例えば灯油、ジブチルフタレート、プチルカルビトー
ル、プチルカルビトールアセテート、ヘキサメチレング
リコールおよび高沸点アルコールおよびアルコールエス
テルとのそれらの混合物である。これらの溶媒および他
の溶媒との様々の組合せを処方して所望の粘度釦よび各
々の適用のための揮発性要件會得ることができる。

通常使用されるチキントローグ剤のうちには水素添化ひ
捷し油釦工びその誘導体がある。無論、チキントローグ
剤を混入すること｝工必ずしも必要ではない。その理由
は懸濁液に固有のせん断減粘剤と組合せた溶媒／樹脂特
性が単独でこの場合適しているからである。

分散液中の有機媒体対無機固体の比はかなり変えること
ができ、そして分散液會適用する方法および使用する有
機媒体の種類に左右される。

通常、良好々被覆を行うのに、分散液は重量基準で６０
〜９０％の固形分および４０〜１０％の有機媒体を補充
して含有している。かかる分散液は通常半流体のコンシ
ステンシーヲ有し、普通「ペースト」と称される。

ペーストは３本ローノレミルで好都合に調製される。ペ
ーストの粘度は低、中かよび高ぜん断速度で室温でプル
ソクフィールド（　Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ）粘度計で測
定して典型的には次の範囲内におる。

０．２　　　　　　　　　　　　１００〜５０００３０
０〜２０００　好適 ６００〜１５００最も好適 ４　　　　　　　　　　　　　４０〜４００ｉｏｏ〜２
５０　好適 １４０〜２００　最も好適 ３８４ ７〜４０ １０〜２５　　好適 １２〜１８　最も好適 有機媒体（ビヒクル）の使用量およびタイプは主として
最終の所望の処方物粘度および印刷厚さ１（よって定め
られる。

光画像の可視性業増大させるために、種々の染料釦よび
顔料を加えてもよい。しかし、使用されるいずれの着色
剤も好筐しくは使用される活性組に透明でなければなら
々いが、可視１たはＵ■スペクトル領域で不透明もしく
は他の照射線七強度に吸収してもよい。

上述した多くの特性か工び組成ノ｛ラメータに加えて、
成分のいずれも（無機訟よび有機共に）実質的に・〜ロ
ゲンを含有していないことも必須４９ でちる。この理由は普通の焼成条件下でハロゲン化化合
物は隣接する伝導性層の腐食を生じ、１た焼成される炉
の表面を腐食させるからである。

実施例 成分材料 以下に述べる実施例に釦いて、指示された性質を有する
次の成分材料を用いた。

Ａ．無機物 ガラスフリット：フェロ■（ＦｅｒｏＣｏｒｐ．製）ガ
ラス＋３４６７、水中でボールミルし、分別しそして乾
燥して１．３〜２．２ｍ２／Ｓ’の範囲の表面積とした
もの、組成（成分モル％）；酸化鉛（５．（Ｓ）、二酸
化ケイ素（　６　８．’ｌ　）、酸化ホウ素（４、７）
、アルミナ（−６．５　）　、酸化カルシウム（１１．
１）、酸化ナ１・リウム（２．８）かよび酸化カリウム
（１３） ５０　− アルミナ：酸化アルミニウム （Ａ２２０５）、 粒子 サイズ〉０５μ、 ９０多く５μ、 表面積３〜 ４．５　ｍ２７ｆ？ 顔料： アルミン酸コバルト （ｃＯＡｔ２０４） 酸化ケイ素： 粉砕石英 ｍ２／２ コロイ ド状酸化亜鉛 五酸化アンチモン ガラスセラミソク 重合体性結合剤 メタクリル酸メチル９８ダ、 酸２％の共重合体、 メククリル Ｍ−＝２５Ｍ，　　酸蔦９、 Ｔｇ−１０６゜Ｃ 固有粘度８ ０１８３士００１１、 （＊）　Ｉｉ　５　０カノンーフェンスヶ（　Ｃａｎｎ
ｏｎ−Ｆｅｎｓｋｅ）粘度計金用いて２　Ｄ　’Ｃで測
定したメチレンクロライｌ’　５　３　ｍｌ！中の重合
体０．　２　５　５’　１．（含む溶液の固有粘度 Ｃ， 単量体 ＴＥＯＴＡ ｉ　ｏｏｏ ポリオキシエチル化１・リメチ ロールプロパン｝　’Ｊ　７　クＩ）　ｌ／一１・、Ｍ
ｗ−１１６２ ケムリンク■（ｃｈｅｍｌ　ｉｎｋ）　：１７６（アク
リレート単量体 Ｓａｒｔｏｍｅｒ　Ｃ○．製） ノペンタエリスリ トールモノヒド口　　　　Ｍｗ キシペンクアクリ レート〔サルトマー〕： ？チレン化ヘンタエリス リトールトリアクリレー ト〔サルトマ（Ｓａｒ七■ｍｅｒ）） Ｍｗ−３２６ ５２４ デカンジ万一ルジノタクリレート 〔サルトマー〕 ：ＭＶＪ−３１０ 一　５］ ５２ ペンタエリスリトールトリアク リレ−１〜　（サルトマー〕 Ｍｗ＝２９８ ポリエチレングリコー＃２００ ノメククリレート〔サノレトマー〕： Ｍｗ−ろろ０ 可塑剤 ジブチルフタレー ノオクチルンタレー プチルベンジルフクレー ルノカプリレートの混合物 リクレソルホスフエ−１・ Ｆ． エチルミヒラーケトン ：４，４−ビス−Ｎ，Ｎ−ノエチ ルアミノベンゾフェノン ペンゾフエノン Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ社製） ィルガキュア■１８４： １〜ヒ）’ロキシシク口ヘキシ ノレフエニルケトン ２ ｔ〜ブチンアントラキノン ビスー（Ｎ一エチル−１．２，３．４ キノリル）ケトン（ＥＴＱＫ） その他 ハレーション防止 テ１・ラヒドロ ６一 リエチレングリコールソアセテート 開始剤 ？ヒラー（Ｍｉｃｈｌ　ｅｒ　■　ｓ　）ケ１・ン　：
４、４′ ビス Ｎ．Ｎ−ノメチルアミノベンゾフエ ノン′ Ｃｙａｎａｍｉｃｉ社製） フエノン Ｍ−像むよび露光ラチチュート゛改良 ノーｔ−プチルメタンニトロン二量体 酸化防止剤 Ｓｈｅｌｌ化学社製） ＝５４ 被覆助剤 誘電膜の製造 Ａ．　ミルベースの製造 セラミック成分、ガラス７リット、二酸化ケイ素、アル
ミナ、顔料および任意の他の無機材料のすべて金メクク
リル酸メテル／メタクリル゛酸（９　８，／２　）の共
重含体６９およびメチレンクロライ｝″８　０．　Ｄ　
？と共に混合した。混合物を直径かよ−び長さ共に０．
５インチのブルンダム（　ｂｕｒｕｎｃｌｕｍ）（アノ
レミナ）シリンダー（　１．２　７ｃｒＩＬ）　ｋ半分
充てんした半パイント（２３４ｍｌ）ミルジャー中テ４
時間ボールミノレした。分散液會３２５メッシュスクリ
ーンを通してＰ過した。分散＃ｋ被覆するさでかくはん
１たほノヤ一回転させた。

Ｂ．被覆分散液の製造 添加されるべき他の成分の量全計算するために、固体％
會測定した。追加成分の全部が溶液となった後、過剰の
溶媒は排気領域で分散液を機械的にかくはんしそして、
ブルツクフィールド（　Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ　）粘度
計で測定して７００〜９００ｃｐｓの粘度が得られる玄
で溶媒全蒸発させることにより除去する。分散液を３２
５メッシュスクリーンを通して炉過する。

Ｃ．被覆操作 分散液は、タルポーイズ（　Ｔａｌｂｏｙｓ　）コーク
ーで、６　ｆｔ　（１　８３ｃｎＬ）／分で駆動きれて
いる基体上に位置しタ５．４ミルドクターナイフを用い
て９２Ａ”ｔｆｃは９２Ｄミラー■（Ｍｙｌａｒ）（ポ
リエステルフイ／Ｌ／　ム、Ｄｕ　Ｐａｎｔ社製）〔１
ミル（０．００２５ｃｍ））　　ポリエチレンテレフタ
レート膜に被覆する。膜をポリエチレンカパーシ一トと
共に巻きとられる前に、１３０〜１７５’Ｆ（５４〜７
９℃）で１２ｆｔ　（　３　６　６ｃｍ）空気衝突ヒー
ターに通す。被覆された膜の厚さは１．８ミル（０．０
０４６＝）でちる。

Ｄ，プロセス条件 被覆組成物の調製方法わよび誘電部分もしくは部品の調
製に唱いて汚れ汚染を避けるように注意しなければなら
ない。かかる汚染により焼成された誘電体に欠陥が生じ
得るからである。

７’　Ｏ　セス作業＋ｓクラス１００のクリーンルーム
で実施するのが最善でちる。膜を焼成した導体パターン
を含む脱脂したアルミナ部品に積層する。アルミナ部品
はクロロセン（　１，１．１　−　｝　ＩＪクロロエタ
ン）中で超音波で脱脂し、そして５０〜１００℃で真空
炉で焼成して脱脂用溶媒を除去する。膜は、１００〜１
１０℃の積層温度に加熱したときに５０のデュＣｌメー
タ（　Ｄｕｒｏｒｏｅｔｅｒ　）速度を有するネオプレ
ンで被覆したロールを有する熱−　５７　− ロールラミネータ（Ｗｅｓｔｅｎ　Ｍａｇｎｕｍ　Ｃｏ
．製）で積層する。膜２　ｏ．　５ｆｔ　（１５．２α
）／分の速度で部品に積層する。ラミネータに一回以上
通過させてより良い接着かよび銅金属化物の１わりの適
合性を確実にすることができる。

部分をバーケイーアスコア（　Ｂｅｒｋｅｙ−Ａｓｋｏ
ｒ　）（　Ｂｅｒｋｅｙ　Ｐｈｏｔｓ　工ｎｃ　．製）
真空プリンター′！！ｆｃは平行ＨＴＧ　（　Ｔｈｅ　
Ｈｙｂｒｉｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｇｒｏｕｐ　Ｉ
ｎｃ．製）ＵＶ露光源を用いて６０秒窒素・ぐージ後Ｈ
ＴＧ源玄たは６ｑ秒真空プリンター中の引落でフォトタ
ーゲットと接触させて露光する。最適の露光時間は、現
像後誘電体中に正しいサイズバイアスもし〈は光形成さ
れた孔を形成するための最良の露光についての情報を与
える露光シリーズから決定される。

露光部分は２　’５　’Ｏ　Ｏ　ｒｐｍで回転している
部分でクロロセン現像剤全６〜８　秒、５　０　ｐｓｉ
スフ゜レー一　５８　ー 次いで該部分を乾燥するため５　０　ｐｓｉで２〜１０
秒空気流を用いてスピン現像器で現像する。現像剤（工
回転部分に垂直にスプレーする。平らなスプレージエソ
トパターンが０．１２５インチ（０ろ１８ｃＩｒＬ）　
ＪＪ空気噴霧ノズル（　Ｓｐｒａｙｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅ
ｍ社製）でインダス１・リアル・カタログ（　工ｎｄｕ
ｓｔｒｉａｌＣａｔａｌｏｇ　）　２　７に記載の如く
セソトアソプ（　ｓｅｔｕｐ）Ｊ２３　ｉ用いて得られ
る。溶媒流は５０〜２　０　０　０ｍＶ分好咬し〈はろ
ＯＯｍυ脅であり得る。ノズル対部品の距離は０５イン
チ（１２７ｃＩｒＬ）〜８インチ（２０．３５ｃｒｎ）
であってよく、典型的な距離は１５インチ（ろ８　１　
ＣＴＬ）である。

現像された部分全強制ドラフト炉で７５℃で１５分間乾
燥しそしてピーク温度９００℃で２時間サイクルにわた
って炉で焼成（　ｆｉｒｅ）する。

本発明の組成物金焼成するに当り、部分乞無機結合剤の
力゛ラス転移温度捷で実質的に非酸化性の雰囲気に曝し
そして焼成工程の焼結相の過程では本質的に完全な非酸
化性雰囲気に曝す。

「実質的に非酸化性の雰囲気」なる用語は、銅金属のい
ずれの顕著々酸化金行うのには不十分な酸素乞含有して
いるが、有機材別の酸化會行うのには十分な酸素會含有
する雰囲気會意味する。実際のところ、ＩＤＯ〜１ｏｏ
Ｏｐｐｍの０２の窒素雰囲気が焼成工程の予備焼結相に
適していることがわかった。３００〜８　０　０　ｐｐ
ｍの０２が好プしい。酸素の量は誘電層の厚さが増すに
つれて増加する。２５μｍに焼成する誘電層の一つの層
については、３００〜４　０　０　ｐｐｍ○２で十分で
ある。５０μｍに焼成する誘電フイルムの二層について
は、６００〜８　０　０　ｐｐｍ　０２が好笠しい。一
方、焼成工程のガラス焼結工程で用いられる本質的に完
全な非酸化性雰囲気とは０２の残留量のみ例えば約１　
０　ｐｐｍを含む窒素雰囲気會称する。本発明の組成物
を、焼成層での物理的欠陥を最小限とするために低い加
熱速度で焼成するのが好咬しい。

焼成部分は、それで作ったコンデンサーの頂部に水を適
用して湿潤誘電正接（ｆ）Ｆ）ｆｆｉ測定することによ
り気密性を試験する。ピコファラド（　ＰＦ　）でのキ
ャパシタンス會測り、相対誘電率會算出する。コンデン
サーは下の方にある銅金属被覆、４０〜５０μｍ厚の焼
成誘導体ｐよび上の方にある銅金属被覆からなっている
。

５０μｍ厚の焼成誘電体は一つの膜２２５μｍ厚の誘電
層に焼成し、そしてこの操作を反覆することによるか笠
＊は誘電層の二層會共焼成することによって得ることが
できる。底部層よりも光吸収會少くするように最適化さ
れた頂部層會使用し２、それによって底部層中に適切な
光の透過を得ることができる。これにより垂直のり壁ｋ
　ｆ−ｉするバイアス（ｖｉａ．ｓ）の形成が可能と々
る。

あるい＋ｉ−ｉ　ｉし誘電体の第一の層金第二の層が６
１ 積層される前に露光することができるが、但し現像しな
い。次に、第二の層を積層し露光した後、双方の層を同
時に現像する。

Ｅ．試験操作 １Ｃｒｎ２の面積金有する銅ディスクおよびアルミナ基
体上に支持された接触タブからなる上記誘電膜からコン
デンサーを作製する。銅ディスク上に誘電膜の層をのせ
、そして誘電層の上に下方のタブに関して９０〜１８０
°回転させた接触タブを有する同一サイズの第二の銅デ
ィスク全のせる。

キャパシタンスおよび誘電正接はヒューレソトーパソカ
一Ｆ（Ｈｅｗｌｅｔｔ−Ｐａｃｋａｒｄ　）　ＨＰ　４
２７４　Ａ多周波ＬＣＲメータを用いて１　ｋＨｚで測
定し、方絶縁抵抗はスーパー（Ｓｕｐｅｒ　）メグネム
メーク・モｙ’　ル１１｛Ｍ　１　７　０　（　Ｂｉｄ
ｄｌｅ　Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ　，　ＡＶＯ　，　Ｌ
ｔｄ．製）金用いて測定する。絶縁抵抗測定（・１コン
ｒ６２ ンサー會１　０　０　ＶＤＣに元電した後に行う。各々
の数字｛・工少〈とも１０回の測定の平均値である。

誘電層の厚さ｛・エゴウルド・サーフアナライザー（　
Ｇｏｕｌｄ　Ｓｕｒｆａｎａｌｙｚｅｒ　）　１　５　
Ｄ／レコーダー２５０を用いて測定する。誘電率は次の
式を用いて算出する。

Ｃ Ｋ　＝一　・　ｔ Ａ 式中、Ｃはコンアンサーのキャパシタンスであり、Ａは
誘電層と接触している小電極の面積であり、そしてｔは
誘電層の厚さである。

電気的測定を行う前で焼成後に少くとも１５時間すべて
のコンデンサーを経時させた。誘電正接（　ＤＦ　）は
この経時期間内に０．５〜２％だけ減少するのが普通で
ある。しかしながら、キャパシタンスは一般にこの期間
中影響を受けない。

湿潤基準での誘電正接は、上方の銅ディスク上に水１滴
をのせ、それにより水滴がディスクｔ湿潤するが接触タ
ブを湿潤しないようにすることによって求められる。３
０秒間静置した後、ＤＦ　’ｋ常法で測定する。誘電体
は湿潤ＤＦが１φより小さいとき気密であるとみなされ
る。０．５％以下が好１しい。

実施例　１〜ａ 上述した成分卦よび操作を使用して、以下の表ＩＶＣ示
す組成を有する４種の異った感光性誘電膜會製造した。

ノプチルフタレート ９．２ｓ／５．７５ ペンゾフエノン ミヒラーケトン １．２　１／０．７　５ ０．　０　８／０．　０　５ ベンジルジメチルケクール 分散物　？ 固　　体　　多 １９９．０６ ６　２．９　９ ろ．６　５／５．７　５ ３６５／５．７　５ ９．　２　６７５．　７　５ ９．　２　６７５．　７　５ ０．４７／０．７５　　　１．２１／０．７５０．０３
／０．０５　　　０．０８／０．０５口．０６／０．１
０　　　　　　　０．１６／０．１０７７５７ ６３．５６ １９９．３７ ６２８１ ６．　９　７／５．　７　５ ６．９　７７５．７　５ ０．９１／０．７　５ ０．　０　６／０．　０　５ ０１２／口．１　０ １５０．１２ ６２７Ｂ ６５ 実施例４からの膜を、銅伝導性金属化の，頂上で別個に
焼成した誘電二層會構成することによってコンデンサー
に組み入れた。二層の誘電層完成時、上部の導体金属化
金プリントし、焼成した。組立て操作に用ＸＡたゾロセ
ス条件は次のと訟りであった。

積層　：１００〜１１Ｄ’ｃでロールを２回通す（　５
　０．８　ＣＩＩＬ）、２ｋｗ水銀灯で１分次いで２秒
空気流で乾燥 ゛炉乾燥：　　７５℃で１５分間 あった。

実施例１〜４からの焼成膜は見掛け上は欠陥を有してい
なかったが、実施例１からの膜は著しく多孔性であった
。インク溶液〔ランガー（Ｒａｎｇｅｒ）コ８ムスタン
プ非スミアインク〕の適用により、洗い去られない焼成
誘電体に可成りの吸収がみられた。これに比べて実施例
２の焼成誘電体は微量のインク吸収をとど、め、咬た実
施例３訟よび４の誘導体は全く吸収していなかった。

上記のコンデンサーはどんな見掛け上の欠陥もなしに焼
成されたとしても、実施例１のコンデンサーは非気密性
でちり、咬た実施例２のコンデンサーはその気密性の境
界にあった。しかし、実施例ろ訃よび４のコンデンサー
は極めて良好な気密特性を有していた。特に、実施例４
のコンデンサーは相対誘電率（Ｋ）が８０でありＯ〜０
．５％の湿ｉ　ＤＦを有していた。

全ての実施例の膜を上述の条件下で解像経由フォトマス
ク（　ｖｉａ　ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　ｐｈｏｔｏｍａ
ｓｋ　）を経て露光した。上述の如〈現像すると、これ
らの膜は良く解像された４ミルバイアス會有する画像會
形成した。

実施例　５ 実施例１〜４と同様の誘電膜を製造し、ここではミルベ
ースに小量の石英を加えて力゛ラスフリットの軟化点を
上昇させた。膜の相当する組成を以下の・表２に示す。

表　　２ 誘電膜の特性一組戒一石英添加 ミノレペース 実施例１〜４のガラスフリッ 実施例１〜４のアルミナ アルミン酸コバルト 粉砕石英、表面積８ｍＶＳ’ 笑施例１〜４の共重合体 メチレンクロライド ガラス／アルミナ（重量） 実施例５ （？） ト７８７８ ４　３，　７　７ ０，１２ ２、４５ ６．００ ８　Ｄ．　０　０ １．８ 分散物 ガラスフリット アルミナ アルミン酸コバルト 石英 分散物中の共重合体 ジブチルフタレート ペンゾフエノン ミヒラーケトン 分散物　？ 固　　体　　多 −　−／４　６．７　０ −−７２５．９５ −−／　　０．０７ −−／　　１．４５ １　５．９　２／１　３．４　３ ９．　２　７／５．　７　５ １．２１／０．７５ ０．　０　８／０．　０　５ １９９．０４ ６２９１ プロセス条件は実施例１〜４と同一であった。

焼成部分は欠陥を有していなかった。

実施例５の膜は、多段階焼成時に被覆導体層で生じるふ
くれの傾向を妨げることがわかった。

６９　一 このことは石英処理したフリノトのより高い軟化点に帰
することができ、これによりガラスが導体層に移入する
傾向が減少される。

実施例　６〜Ｂ 異った単量体金用いた更に５種の感光性誘電膜を製造し
た。膜の関連組成を以下の表乙に示７０ 誘電膜の製造一組成一単量体変化 ミルペース 実施例１〜４のガラスフリット 実施例１〜４のアルミナ アルギン酸コバルト 実施例１〜４の共重合体 メチレンクビライド ガラス／アルミナ（重量） ２３６．００　　　　　　２３１．４３　　　　　　２
３１．４３１２４．２０　　　　　　　１２８、５．７
　　　　　　　１２ａ５７０．３４　　　　　　　　　
０．３４ １　７．　３　０　　　　　　　　１　７．　３　０　
　　　　　　　１　７．　３　０２６０、５３　　　　
　　２３１．５０　　　　　　２３１．５０１．　９　
　　　　　　　　　１．　８　　　　　　　　　　１．
　８分散物 ガラスフリット アルミナ アルミン酸コバルト 実施例１〜４の共重合体 分散物に添加されＩＦ／固体重量優 −−７４８．６５　　　　−−／４７．６４　　　　−
−／４７．６４−−７２５．６０　　　　−−７２６．
４６　　　　−−／２６．４６−−　　　　　　　−−
／　０．０７　　　　−一／　０、０７２．９３／１２
．４９　　　４．２２／１３．４３　　４．９６／１！
ｉ、４３１．８９／５．７６　　　　　　−　　　　　
　　　−−クリレート ジグチル７タレート ペンゾ７エノン ミヒラーケトン ＥＴＱＫ． シアソルブ（　Ｃｙａｓｏｒｂ）　ＵＶ　２４分散物　
゛ｔ 固　　体　　φ ２．４　６７５．７　５ ２．８　９／５．，７　５ １．　８　９／５．　７　６ ０．　４　９７１．　５ ２．４６／５、７５　　　　２．８９／５．７５０．３
２／０．７５　　　　０．３８／０．７５０．０２／０
．０５　　　　０．０４／０．０５０．　０　２／０．
　０　５ ０．　０　３／０．　１ ０．　０　３／０．　１ ０．０　４／０．１　０ ４’０．６１ ５５．７７ ６２．８２ ７２．００ ０．０　５／０．１　０ ４　９．　９　４ ７　２．０　０ 一　７１　一 上記膜のプロセス条件は実施例１〜４と同一であり、そ
して焼成した組成物はすべて著しい欠陥を有していなか
った。

実施例　９ この実施例では、２種の重合体性結合剤を用いた誘電膜
會製造した。膜の関連した組成を以下の表４に示す。

表　　４ 誘電膜の特性一組成−二重結合剤 ミルベース 実施例１〜４のガラスフリソ１・ 芙施例１〜４のアルミナ 二酸化ケイ素（実施例５の石英） アルミン酸コバルト 実施例１〜４の共重合体 メチレンク口ライト′ 力゛ラス／アルミナ（重量） 実施例？ （２） ７８７８ ４３７７ ２４５ ０．１２ ６００ ８０．００ １８ 分散物 ガラスフリソｌ・ 二酸化ケイ素 アルミナ アルミン酸コバル１・ 実施例１〜４の共重合体 ノブチルフタレート ペンゾフエノン ミヒラーケトン メチルフェノール 分散物　２ 固体φ −／禎６．７０ −／　　１．４５ −／２５．９５ −／０．０７ １　２．４　７／１　１．０　５ ９．５７７５．７５ １．２５／０．７５ ０．０　８／０．０　５ ２０１．１１ ６４３１ 膜を実施例１〜４に記載の如く処理し、そして１０個の
コンデンサーについて湿潤ＤＦ０．１２±００４會有し
、かつ著しい欠陥乞有しｉい焼成誘電体が得られた。

実施例　１０鮫よび１１ 更に２種の膜組成物そ製造し、この組成物では頂部誘電
屑組成物會調節してより、低い光吸収を提供し、そして
下の方の誘電層への更に多くの光透過會可能とする。有
機物含量も減少せしめられて良好な焼成能力２生じｆＣ
０膜の関連した組成を以下の表５に示す。実施例１０釦
よび１１のための分散物は下記のミルベースから得られ
た・ 表　　　５ 誘電膜の製造一組成一光吸収訟よび燃焼性成　　分 実施例１〜４のガラスフリソト 実施例１〜４のアルミナ 実施例１〜４の共重合体 メチレンクロライド ガラス／アルミナ（重量） （２） ２３６．００ １２４．２０ １７３０ ２３０５ろ １９ ガラスフリット アルミナ 芙施例１〜４の共重合体 ノブチルフタレー１・ −　−７５　２．４　１ −　−／２　７．　５　９ １　１．１　２／ｇ．４　２ １　０．９　２／５．／１８ ／４８．５５ ／２５．５５ １　９．　５　０／１　２．６　８ １　２．２　７　／　５．７　４ ペンノルノノチルケクール １．　９　９７１．　０　０ ７４ ７５ ペンゾフエノン ３．２１／１．５ ケトン ジーｔ−プチルニトロソメタ　０．２０／０．１０　　
０．２１／０．１０ンニ量体 分散物　ｒ　　　　　　　２６５．６２　　　２’６５
．８５固　　体　　％　　　　　　　　　　　６２．９
１　　　　　６２．４４実施例１０の膜を実施例１１の
底部層膜に積層した。底部層の如く、上部層を２回ラミ
ネータを通して積層した。両方の層を画像形成させ、現
像しそして一緒に焼成させる以外は、膜を実施例１〜４
の如く処理すると３８μｍ厚の誘電体が得られた。相対
誘電率は８，０、％ＤＦ　＝　０１であった。上部層膜
は１，　３　ミ／レであり、そして底部層膜は１，５ミ
ル厚であった。著しい欠陥はなかった。

実施例　１２ 追加の膜組成物ｋｍ造し、ここではガラスフリット訃よ
びアルミナをシランカツプリング剤で表面の前処理を行
い、そして酸性官能性を有しない重合体性結合剤を用い
た。ガラスフリソトかよびアルミナ全別個に１０分間に
わたって加圧供給した痕跡量の氷酢酸を含む９５％エタ
ノール中の４％溶液としてシランカツプリング剤と共に
２　ｋｇ量でパターソンーケレイ（　Ｐａｔｔｅｒ　ｓ
ｏｎ−Ｋｅｌｌｅｙ　）双胴Ｖブレンダーで処理した。

試料を全混合中更に１０分間、稼動中の増圧器バーで混
合した。試料を１０５℃で１時間乾燥した。

有機物レベルが低下してより良い焼成能力が得られた。

分散物組成を以下の表６に示す。

表　　６ 誘電膜の製造 アノレミン酸コバルト ０．６２ ベン・ゾルイソオクチ／ｌ／７タレート　　　　　２、
９４／５．２７ミヒラーケトン　　　　　　　　　　　
０．０４／Ｄ．［ｌ４ベンゾフエノン　　　　　　　　
　　　０．　５　８／０．６　４シ−ｔ’−ブチルニト
ロソメタンニ量体　　　０．０　８　／０．　０　９イ
オノール■（Ｉｏｎｏｌ）（前掲と同じ）　　　　０．
１５／０１７，ｆｆ　ＩＪエチレンオキサイド　　　　
　　０．１　４７１１．１　５分散物　７１１６。ろ９ 固　　体　　多　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　６３０５Ｔｇ＝９６℃ メチレンクロライド ガラス／アルζナ（重量） ガラスフリソト アノレミナ アルミン酸コバルト ミルベースの共重合体 ジブチルフタレート ７８ ２１４．５ １、８ −−／５０．０７ 一−／２　７．　８　１ −−／　　ｏ．ｏ６ ６．０６／１０、４９ ２．９　５／３．　２　８ 膜の２片を１ｆｔ／分（３０．５侃／分）で一緒に予備
積層した以外は実施例１〜４に記載の如く膜を処理した
。カバーシートの一つ會除去し、構成物會供試基体に０
．　５　ｆｔ／分（１５、２の／分）で積層した。過剰
の膜を切りとり、そして部分を２回貼り合せ機中に通し
、第１回の通しの後１８００配向ｔ変えて，・高められ
た導体部の１わりの良好な接着および適合性を・確実に
した。部分を２０秒間１６ｍＷ／ｃＷＬ２でＨ’ｌ’Ｇ
源で露光し、そして１４秒−　７９　− ？クロルエクン中でスピン現像した。現像された部分を
７５℃で１５分間次いで２５０℃で１時間焼成した。酸
素濃度が最高５　０　０　ｐｐｍに達し、ピーク温度９
００′Ｃ’ｔ有する８帯域ベルｌ・炉中１．　７　ｉｎ
／分（４．ろ２■■■／分）で、部分を２時間ザイクル
乞用いて焼成した。上述の如くして製造されたコンデン
サーは厚さ５０μｍであり、誘電率６．７および湿潤Ｄ
Ｆ０．５ｋ有し、著しい欠陥はみられなかった。

果施例　１３ 塩基性成分會有する重合体性結合剤を用いて追加の膜組
成物を表７に示す如く製造した。

表　　　７ 塩基性重合体性結合剤全含む分散物 ミルベース　　　　　　　　　　（２）アルミン酸コバ
ルト メチレンクロライド ガラス／アルミナ（重量） ０１０ ８００ １．５０ カ゛ラスフリソト アルミナ アルミン酸コバルト ミルベースのクーポリマー 笑施例１２の共重合体 −−／４６．７３ 一／ろ　１　１　５ −／０．０６ −／３．７４ ５ろ７／７．４９ ポリオキゾエチル化トリメチロール　　　　３．４　９
／４．８　７プロパントリアクリレート ノブチルフタレ−１〜　　　　　　　　　　３．４　９
／４．８　７ミヒラーケトン　　　　　　　　　　　　
０．０３７０．０４ペンゾフエノン　　　　　　　　　
　　０．４　６７０．６　４ノーｔ−プチルニトロンメ
タンニ量体　　　０．０６／０．０９イオノール■（前
掲に同じ）　　　　　　　　　［１．１　２／０．’ｌ
　７ポリエチレンオキサイＦ　　　　　　　Ｄ．１　１
　７０．１　５分散物　Ｆ　　　　　　　　　　　　１
００．（Ｓ９固　　体　　φ　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　５８１２膜會実施例１２に記載の如〈処
理すると欠陥のない誘電体が得られた。

笑施例　１４ 追加の膜組成物を製造し、ここではガラスフノノトおよ
びアルミナを実施例１２と同じようにしてポリプロピレ
ンオキザイド含有，ｊ′ルガノゾロキサンエスデルで表
面の前処理ｆ　ｌ７た。こ８２ れが本発明金実施する上での最良の態様と考えられる。

分散物組成全以下の表８に示す。

表　　８ 誘電膜の製造 ミノレベース （？） 〜４のガラスフリット ０５重量φＹ９８８３を伴う実施例１〜４のアルミナ １４１８．０ アルミン酸コバルト ３０８ 実施例１２の共重合体 メチレンクロライド １５６６ １８２７ −８３ ガラスフリット アノレミナ アルミン酸コバルト ミルベースの共重合体 ポリオキシエチル化トリノチロール プロノセントリアクリレート ジブチルフタレート ペン・ゾルイソオクチルフタレート ミヒラーケトン ペンゾフエノン ジーｔ−プチルニトロンメタン二量体 イオノール■（前掲と同じ） ポリエチレンオキサイド 分散物　？ 固　　体　　φ −−７４４．０２ −／３３．８（Ｓ −−／　　０．０７ ２　５　１．　６／１　０．４　Ｂ １　４　６．７／３．９　３ １　２　２．４／３、２８ １２２、１／３．２７ １．５／０．０４ ２３．９／０．６４ ３．４／０．０９ ６．３／０．１　７ ５．６／０．１５ ４６７６．５ ６５．２ 分散物’ｉ　０．　５インチ（１．２７ｃｍ）プルンダ
ム（　ｂｕｒｕｎｄｕｍ　）シリンダー１　９．　５　
１ｂｓ　（８．８ｋｇ）　’ｅ含む２．　３　ｇａｌ　
（　８．７Ａ　）ミルジャー中で、４時間３２ｒ　．ｐ
．ｍ．でジャーロールした。膜成分の残部を、分散物の
固体％を求めた後加えた。分散物ｅ　一夜機械的に攪拌
し、次に１時間温和な攪拌で磁気的に攪拌して分散物か
ら空気を除去した。分散物％固体は７０．４優であり、
粘度はプルツクフィールド粘度計（應６スピンドル、５
．Ｏ　ｒｐｍ　）で測定して６８０センチポアーズであ
った。分ｉ１！［’Ｔｈ２０μポリプロピレンフィルタ
ーで済過し、そして１ミル（０、００２５ｃＩｒＬ）シ
リコン処理ポリエチレンテレフタレート上に厚さ１．７
５ミル（　０．　０　４　４　＋Ａｍ　）に押出ダイで
被覆した。次に、この被Ｍ６ｏ．ｓミル（０．００１２
５α）ポリエチレンテレフタレート上に上述の如くして
被覆された同一分散液の第二被膜に積層した。積層圧は
１１〜１　２　ｐｓｉ　（　０．　７　７　〜０．８　
４　ｋｇ／ｃｍ２）でアッタ。積層前の被膜を３個の３
　ｆｔ　（２．４４ｍ）長さの乾燥機帯域で乾燥した。

第一帯域は１２０”Ｆ（４８．９℃）、第二帯域は１４
０下（６０℃）卦よび第三帯域は２００゜Ｆ（９３．３
℃）であった。

誘電膜を直接供試基体に積層した以外は実施例１２と同
様にして膜を処理した。積層物會室温に冷却した後、カ
バーシートヲ引きはがして、部分の端から過剰の膜を除
いた。この部分會１０５℃の対流炉で１０分間焼成し、
そしてＮ２・ぐージ後光重合体表面から多少ずらしたフ
ォトマスクを経て活性線に露光した。露光は１６ｍＷ／
ｃＩｎ２でＨＴＧ源で２０秒間実施し、そして次に１．
１．１　−　｝リクロロエタン中で１２秒間スピン現像
した。現像した部分を７５℃で１５分間焼成し、４そし
て実施例１２の如く焼成すると良好に解像された１２ミ
ル（３（１４．８μ）のバイアス−　８６　− を有する５０μの誘電層が得られた。得られた誘電被膜
は著しい欠陥を有していなかった。

８７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）（ａ）表面積対重量比１０ｍ＾２／ｇ以下を有し、
   かつ粒子の少くとも７５重量％が１〜１０μｍのサイズ
   を有するセラミック固体の微細粒子、およ び （ｂ）ガラス転移温度５５０〜８２５℃、表面積対重量
   比１０ｍ＾２／ｇ以下を有し、粒子の少くとも９５重量
   ％が１〜１０μｍのサイズを有している無機結合剤の微
   細粒子 との混合物であって、そして（ｂ）対（ａ）の重量比が
   ０．６〜２であり、かつ該粒子が有機媒体に分散され、
   さらに該媒体が、（ｅ）光硬化可能な単量体、および（
   ｆ）揮発性非水性溶媒に溶解されている、 （ｃ）（１）Ｃ＿１＿〜＿１＿０アルキルアクリレート
   、Ｃ＿１＿〜＿１＿０アルキルメタクリレート、α−メ
   チルスチレンおよび０〜２重量％エチレン系不飽和カル
   ボン酸、アミンまたはシラン含有化合物のホモポリマー
   およびコポリマー、（２）Ｃ＿１＿〜＿１＿０モノオレ
   フィンのホモポリマーおよびコポリマーおよび（３）Ｃ
   ＿１＿〜＿４アルキレンオキサイドおよびそれらの混合
   物のホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択
   される有機重合体性結合剤（全無機固形分の５〜２５重
   量％を構成）、および （ｄ）光開始系 を含有する実質的に非酸化性雰囲気中で焼成可能な感光
   性セラミック被覆組成物の層から非水性有機溶媒を揮発
   によって除去した感光性セラミック膜。 ２）（１）（ａ）表面積対重量比１０ｍ＾２／ｇ以下を
   有し、かつ粒子の少くとも７５重量％が１〜１０μｍの
   サイズを有するセラミック固体の微細粒子、および （ｂ）ガラス転移温度５５０〜８２５℃、表面積対重量
   比１０ｍ＾２／ｇ以下を有し、粒子の少くとも９５重量
   ％が１〜１０μｍのサイズを有している無機結合剤の微
   細粒子 との混合物であって、そして（ｂ）対（ａ）の重量比が
   ０．６〜２であり、かつ該粒子が有機媒体に分散され、
   さらに該媒体が、（ｅ）光硬化可能な単量体、および（
   ｆ）有機溶媒に溶解されている、 （ｃ）メタクリル酸メチル９５．５重量％およびアクリ
   ル酸エチル４．５重量％の共重合体である有機重合体性
   結合剤（全無機固形分 の５〜２５重量％を構成）、および （ｄ）光開始系 を含有する実質的に非酸化性雰囲気中で焼 成可能な感光性セラミック被覆組成物の膜 を、セラミック基体に積層し、 （２）活性線に像露光させて膜の露光領域を硬化させ、 （３）溶剤により現像して膜の未露光領域を除去し、そ
   して （４）実質的に非酸化性雰囲気で焼成させて有機媒体を
   揮発させかつ無機結合剤およびセ ラミック固体を焼結させてなる、 パターンを形成したセラミック層。 ３）基体、該基体上の第１導電層および（ａ）該第１導
   電層上にある下記感光性セラミック被覆組成物の層およ
   び（ｂ）該層の上にある導電層の交互の層の少くとも一
   組からなり、そして上記各層を集積した層を焼成させて
   層の有機成分を揮発させかつ無機結合剤を焼結させてな
   り、さらに上記感光性セラミック被覆組成物が （ａ）表面積対重量比１０ｍ＾２／ｇ以下を有し、かつ
   粒子の少くとも７５重量％が１〜１０μｍのサイズを有
   するセラミック固体の微細粒子、およ び （ｂ）ガラス転移温度５５０〜８２５℃、表面積対重量
   比１０ｍ＾２／ｇ以下を有し、粒子の少くとも９５重量
   ％が１〜１０μｍのサイズを有している無機結合剤の微
   細粒子 との混合物であって、そして（ｂ）対（ａ）の重量比が
   ０．６〜２であり、かつ該粒子が有機媒体に分散され、
   さらに該媒体が、（ｅ）光硬化可能な単量体、および（
   ｆ）有機溶媒に溶解されている、 （ｃ）（１）Ｃ＿１＿〜＿１＿０アルキルアクリレート
   、Ｃ＿１〜＿１＿０アルキルメタクリレート、α−メチ
   ルスチレンおよび０〜２重量％エチレン系不飽和カルボ
   ン酸、アミンまたはシラン含有化合物のホモポリマーお
   よびコポリマー、（２）Ｃ＿１＿〜＿１＿０モノオレフ
   ィンのホモポリマーおよびコポリマーおよび（３）Ｃ＿
   １＿〜＿４アルキレンオキサイドおよびそれらの混合物
   のホモポリマーおよびコポリマーからなる群から選択さ
   れる有機重合体性結合剤（全無機固形分の５〜２５重量
   ％を構成）、および （ｄ）光開始系 を含有する実質的に非酸化性雰囲気中で焼成可能なもの
   である、多層コンデンサー。 ４）各層を下にある層に適用した後で上にある層を適用
   する前に、個別に焼成させた前記特許請求の範囲第３項
   記載のコンデンサー。 ５）層を共焼成させた前記特許請求の範囲第３項記載の
   コンデンサー。