JPH03170559A - 有機スルフィド安定化ポリマー系エンジニアリング樹脂 - Google Patents
有機スルフィド安定化ポリマー系エンジニアリング樹脂Info
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Classifications
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/36—Sulfur-, selenium-, or tellurium-containing compounds
- C08K5/37—Thiols
- C08K5/372—Sulfides, e.g. R-(S)x-R'
-
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C08K5/005—Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
-
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-
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、有機スルフィド系酸化防止剤で安定化され
たポリマー系樹脂に関する。より特定的には、この発明
は、高温エンジニアリングポリマー系樹脂の有機スルフ
ィド系酸化防止剤による安定化に関する。
たポリマー系樹脂に関する。より特定的には、この発明
は、高温エンジニアリングポリマー系樹脂の有機スルフ
ィド系酸化防止剤による安定化に関する。
[従来の技術]
一般的に全てのプラスチックは、特に高温において空気
又は酸素にさらされた時に分解し劣化する傾向を持つ。
又は酸素にさらされた時に分解し劣化する傾向を持つ。
この高温と酸素の存在との組合せがプラスチック材料の
酸化を引き起こす。酸化の際に、プラスチックは変色し
、脆化する傾向にあり、これらのことはプラスチックの
商品的価値を大いに損失させる。
酸化を引き起こす。酸化の際に、プラスチックは変色し
、脆化する傾向にあり、これらのことはプラスチックの
商品的価値を大いに損失させる。
近年、プラスチック業界では、種々の高温用途に用いる
ことのできる樹脂を開発することが求められている。高
温において用いることのできるこのような樹脂はしばし
ば、「エンジニアリング樹脂Jと称される{例えば,「
カーク・オスマー高分子科学及び工学百科事典( Ki
rk−Othmer’sEncyclopedia o
f Polymer Science and Eng
ineerjngN第2版、第6巻、第94〜129頁
、「縮刷化学辞典(The Condensed Ch
emical Dictionary)」、第821頁
を参照されたい}。これらの樹脂は高い荷重及び応力を
支持することができ、機械加工することができ且つ寸法
安定性で、あるので、多くのエンジニアリング用途にお
いて金属の代替品とすることができる。このようなエン
ジニアリング樹脂は、電動モーター用の部品、自動車部
品等のような種々の用途に用いることができる。エンジ
ニアリング樹脂はまた、一般的により高い加工温度を必
要とし、長期間に渡る耐熱性が必須である用途に用いら
れる。
ことのできる樹脂を開発することが求められている。高
温において用いることのできるこのような樹脂はしばし
ば、「エンジニアリング樹脂Jと称される{例えば,「
カーク・オスマー高分子科学及び工学百科事典( Ki
rk−Othmer’sEncyclopedia o
f Polymer Science and Eng
ineerjngN第2版、第6巻、第94〜129頁
、「縮刷化学辞典(The Condensed Ch
emical Dictionary)」、第821頁
を参照されたい}。これらの樹脂は高い荷重及び応力を
支持することができ、機械加工することができ且つ寸法
安定性で、あるので、多くのエンジニアリング用途にお
いて金属の代替品とすることができる。このようなエン
ジニアリング樹脂は、電動モーター用の部品、自動車部
品等のような種々の用途に用いることができる。エンジ
ニアリング樹脂はまた、一般的により高い加工温度を必
要とし、長期間に渡る耐熱性が必須である用途に用いら
れる。
これらのエンジニアリング樹脂を高温及び酸素の有害作
用から保護するために、当技術分野において2つの方法
が開発されている.第1の方法は、もともと高温に対し
てより安定である新規の樹脂を開発することから成る。
用から保護するために、当技術分野において2つの方法
が開発されている.第1の方法は、もともと高温に対し
てより安定である新規の樹脂を開発することから成る。
第2の方法は、樹脂を酸素及び高温に対して安定化する
添加剤を含有するポリマー配合物を開発することを伴う
。この第2の方法は第1の方法より費用対効果がはるか
に大きく、従って一般的に注目度が高く且つより研究さ
れている主題となっている。
添加剤を含有するポリマー配合物を開発することを伴う
。この第2の方法は第1の方法より費用対効果がはるか
に大きく、従って一般的に注目度が高く且つより研究さ
れている主題となっている。
当技術分野においては広範な安定化用添加剤が用いられ
ている。これら添加剤の有効性は、用いられる樹脂のタ
イプ、樹脂が受ける温度、このような暴露の期間等に依
存する。例えば、慣用的な安定剤には、フェノール類、
有機ホスファイト類及びスルフィド類が包含される。
ている。これら添加剤の有効性は、用いられる樹脂のタ
イプ、樹脂が受ける温度、このような暴露の期間等に依
存する。例えば、慣用的な安定剤には、フェノール類、
有機ホスファイト類及びスルフィド類が包含される。
フェノール類及び有機ホスファイト類はより一般的に用
いられているが、しかし多くの問題点を示す。例えば、
高性能且つ高分子量のフェノール類及びホスファイト類
は極めて高価であり、方、価格がより低く且つ低分子量
のフェノール類及びホスファイト類は使用に対して費用
対効果が大きいがしかしより揮発性であり、高い加工温
度において蒸発によって損失されがちである.フェノー
ル系安定剤は高温において及び光にさらされた時に着色
した不純物を形成しがちであり、他方有機ホスファイト
系安定剤は水分の存在下で容易に加水分解する。さらに
、ほとんどのホスファイト系安定剤は長期間熱安定剤と
しては効果がなく、通常、加工安定剤として、即ち樹脂
を高温から短期間(例えば押出成形及び射出成形の間)
保護するためにのみ用いられる。フェノール系及び有機
ボスファイト系安定剤はエステル及びアミドのような反
応性基を含有し、これらは水分と特に高温において反応
し得る。
いられているが、しかし多くの問題点を示す。例えば、
高性能且つ高分子量のフェノール類及びホスファイト類
は極めて高価であり、方、価格がより低く且つ低分子量
のフェノール類及びホスファイト類は使用に対して費用
対効果が大きいがしかしより揮発性であり、高い加工温
度において蒸発によって損失されがちである.フェノー
ル系安定剤は高温において及び光にさらされた時に着色
した不純物を形成しがちであり、他方有機ホスファイト
系安定剤は水分の存在下で容易に加水分解する。さらに
、ほとんどのホスファイト系安定剤は長期間熱安定剤と
しては効果がなく、通常、加工安定剤として、即ち樹脂
を高温から短期間(例えば押出成形及び射出成形の間)
保護するためにのみ用いられる。フェノール系及び有機
ボスファイト系安定剤はエステル及びアミドのような反
応性基を含有し、これらは水分と特に高温において反応
し得る。
周知の有機スルフィド系安定剤は、ポリオレフィン及び
スチレン系コポリマーにおいて長期間熱安定剤として有
用であるのみである。長期間熱安定剤とは、樹脂を製造
工程の後、即ちその有効寿命の間のみ保護する添加剤で
ある。慣用の有機スルフィド類は、プラスチック及び高
分子物質を高温加工及び製造工程の間は保護せず、従っ
て高温エンジニアリング樹脂における使用については効
果がない。さらに、有機スルフィド類、特にチオジブロ
ビオネート類はしばしば高温において分解して不快臭の
あるガスを放出し、着色した不純物を生ずる。
スチレン系コポリマーにおいて長期間熱安定剤として有
用であるのみである。長期間熱安定剤とは、樹脂を製造
工程の後、即ちその有効寿命の間のみ保護する添加剤で
ある。慣用の有機スルフィド類は、プラスチック及び高
分子物質を高温加工及び製造工程の間は保護せず、従っ
て高温エンジニアリング樹脂における使用については効
果がない。さらに、有機スルフィド類、特にチオジブロ
ビオネート類はしばしば高温において分解して不快臭の
あるガスを放出し、着色した不純物を生ずる。
慣用的な有機スルフィド系安定剤の例は、米国特許第3
. 652, 680及び同第3, 772, 246
号に開示されている。これらの特許はいずれも、ポリオ
レフィン中に酸化防止剤としてシクロアルカンビス(ア
ルキルスルフィド)を使用することを議論している。ヨ
ーロッパ特許第177,784号( 1986年4月1
6日刊行)もまた、ポリオレフイン中に紫外線安定剤と
してシクロアルカンビス(アルキルスルフィドを使用す
ることを開示している。しかしながら、高温エンジニア
リング樹脂を酸素及び高温の分解作用に対して安定化す
る問題はこれまで取り組まれていなかった。
. 652, 680及び同第3, 772, 246
号に開示されている。これらの特許はいずれも、ポリオ
レフィン中に酸化防止剤としてシクロアルカンビス(ア
ルキルスルフィド)を使用することを議論している。ヨ
ーロッパ特許第177,784号( 1986年4月1
6日刊行)もまた、ポリオレフイン中に紫外線安定剤と
してシクロアルカンビス(アルキルスルフィドを使用す
ることを開示している。しかしながら、高温エンジニア
リング樹脂を酸素及び高温の分解作用に対して安定化す
る問題はこれまで取り組まれていなかった。
[発明が解決しようとする課題]
従って、保護性酸化防止剤を添加することによって酸素
及び高温の悪影響から効果的に安定化されたエンジニア
リング樹脂含有ポリマー組成物の要求があるということ
がわかる。理想的には、エンジニアリング樹脂を保護す
るために用いられる酸化防止剤はこの樹脂を加工中に高
温及び酸素の両方の影響に対して安定化すべきであり、
また、最終製品を使用の間保護すべきである。さらに、
エンジニアリング樹脂が受ける高温加工に対して組成物
が耐性であるようにするために、酸化防止剤は熱安定性
であるべきである。さらに、酸化防止剤は水並びにこの
ような樹脂に慣用的に配合される広範な充填剤及び強化
材に対して化学的に不活性であるべきである。
及び高温の悪影響から効果的に安定化されたエンジニア
リング樹脂含有ポリマー組成物の要求があるということ
がわかる。理想的には、エンジニアリング樹脂を保護す
るために用いられる酸化防止剤はこの樹脂を加工中に高
温及び酸素の両方の影響に対して安定化すべきであり、
また、最終製品を使用の間保護すべきである。さらに、
エンジニアリング樹脂が受ける高温加工に対して組成物
が耐性であるようにするために、酸化防止剤は熱安定性
であるべきである。さらに、酸化防止剤は水並びにこの
ような樹脂に慣用的に配合される広範な充填剤及び強化
材に対して化学的に不活性であるべきである。
本発明の目的は、エンジニアリング樹脂とこの樹脂を加
工及び使用の両方の際に酸素及び高温の有害作用から保
護する酸化防止剤とを含有する樹脂ブレンドを提供する
ことにある。本発明のさらなる目的は、エンジニアリン
グ樹脂を安定化するのに用いることができ、それ自体高
温、水及び化学物質の影響に対して安定であり且つ不活
性である酸化防止剤を提供することにある。
工及び使用の両方の際に酸素及び高温の有害作用から保
護する酸化防止剤とを含有する樹脂ブレンドを提供する
ことにある。本発明のさらなる目的は、エンジニアリン
グ樹脂を安定化するのに用いることができ、それ自体高
温、水及び化学物質の影響に対して安定であり且つ不活
性である酸化防止剤を提供することにある。
[課題を解決するための手段】
この発明は、ポリカーボネート、ポリアリールエーテル
、ポリアミド、ポリエステル、ポリアセタール、ポリア
リールスルフィド、セルロースエステル及びスチレンコ
ポリマーより或る群から選択されるポリマー系エンジニ
アリング樹脂と、この樹脂を加工及び使用の際の酸化分
解又は熱分解に対して安定化するのに充分な量の有機ス
ルフィド系酸化防止剤とを含有する組成物であって、該
有機スルフィド系酸化防止剤が次の式工、■又はIII
: (これら式中、mは0又は1であり、 nは2〜15の整数であり、 Rは2〜30個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
アルキル基、5〜20個の炭素原子を有する置換若しく
は非置換シクロアルキル基、2〜30個の炭素原子を有
し且つ6個までの炭素原子が複素原子O若しくはSで置
き換えられた置換若しくは非置換アルキル基又は5〜2
0個の炭素原子を有し且つ6個までの炭素原子が複素原
子O若しくはSで置き換えられた置換若しくは非置換シ
クロアルキル基であり、但し、前記複素原子は互いに隔
離され且つ基Rが結合している該化合物中の部位から少
なくとも炭素原子1個分だけ隔離されていなければなら
ず、Rについての置換基は−OH、−SR’又は−OR
’であり、ここでR4は1〜30個の炭素原子を有する
アルキル基又は5〜20個の炭素原子を有するシクロア
ルキル基であり、Rl及びR2はそれぞれH又は1〜4
個の炭素原子を有するアルキル基であり、 R3はl〜24個の炭素原子を有するアルキル基又は5
〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基であり、 R’は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基であり
、 R6はH又は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基
であり、但し、mが0である場合にはR6はH又は1〜
7個の炭素原子を有するアルキル基であり、モしてmが
1である場合にはR6は1〜24個の炭素原子を有する
アルキル基であり、 R7は直接結合又は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
レン基であり、 R@は5〜16個の炭素原子を有する単環、二環又は三
環式シクロアルキル基である)で表わされることを特徴
とする前記組成物に関する。
、ポリアミド、ポリエステル、ポリアセタール、ポリア
リールスルフィド、セルロースエステル及びスチレンコ
ポリマーより或る群から選択されるポリマー系エンジニ
アリング樹脂と、この樹脂を加工及び使用の際の酸化分
解又は熱分解に対して安定化するのに充分な量の有機ス
ルフィド系酸化防止剤とを含有する組成物であって、該
有機スルフィド系酸化防止剤が次の式工、■又はIII
: (これら式中、mは0又は1であり、 nは2〜15の整数であり、 Rは2〜30個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
アルキル基、5〜20個の炭素原子を有する置換若しく
は非置換シクロアルキル基、2〜30個の炭素原子を有
し且つ6個までの炭素原子が複素原子O若しくはSで置
き換えられた置換若しくは非置換アルキル基又は5〜2
0個の炭素原子を有し且つ6個までの炭素原子が複素原
子O若しくはSで置き換えられた置換若しくは非置換シ
クロアルキル基であり、但し、前記複素原子は互いに隔
離され且つ基Rが結合している該化合物中の部位から少
なくとも炭素原子1個分だけ隔離されていなければなら
ず、Rについての置換基は−OH、−SR’又は−OR
’であり、ここでR4は1〜30個の炭素原子を有する
アルキル基又は5〜20個の炭素原子を有するシクロア
ルキル基であり、Rl及びR2はそれぞれH又は1〜4
個の炭素原子を有するアルキル基であり、 R3はl〜24個の炭素原子を有するアルキル基又は5
〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基であり、 R’は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基であり
、 R6はH又は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基
であり、但し、mが0である場合にはR6はH又は1〜
7個の炭素原子を有するアルキル基であり、モしてmが
1である場合にはR6は1〜24個の炭素原子を有する
アルキル基であり、 R7は直接結合又は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
レン基であり、 R@は5〜16個の炭素原子を有する単環、二環又は三
環式シクロアルキル基である)で表わされることを特徴
とする前記組成物に関する。
本発明者らは、ある種の有機スルフィドが広範な高温エ
ンジニアリングボリマ一系樹脂中に添加した場合に該ポ
リマー系樹脂中で安定剤活性、即ち酸化防止剤活性を提
供するということを発見した.本発明の有機スルフィド
系酸化防止剤は単独で又は一次酸化防止剤と組合せて用
いられた場合、エンジニアリング樹脂を酸化及び熱分解
の有害作用から保護する。この有機スルフィドは、ポリ
マー系エンジニアリング樹脂を加工の際及び使用の際の
両方において安定化する。
ンジニアリングボリマ一系樹脂中に添加した場合に該ポ
リマー系樹脂中で安定剤活性、即ち酸化防止剤活性を提
供するということを発見した.本発明の有機スルフィド
系酸化防止剤は単独で又は一次酸化防止剤と組合せて用
いられた場合、エンジニアリング樹脂を酸化及び熱分解
の有害作用から保護する。この有機スルフィドは、ポリ
マー系エンジニアリング樹脂を加工の際及び使用の際の
両方において安定化する。
本発明の組成物は、下記の式I、II及びInで表わさ
れる有機スルフィド系酸化防止剤で安定化されたポリマ
ー系エンジニアリング樹脂から成る:(これら式中、m
はO又はlであり、 nは2〜l5の整数であり、 Rは2〜30個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
アルキル基、5〜20個の炭素原子を有する置換若しく
は非置換シクロアルキル基、2〜30個の炭素原子を有
し且つ6個までの炭素原子が複素原子O若しくはSで置
き換えられた置換若しくは非置換アルキル基又は5〜2
0個の炭素原子を有し且つ6個までの炭素原子が複素原
子O若しくはSで置き換えられた置換若しくは非置換シ
クロアルキル基であり、但し、前記複素原子は互いに隔
離され且つ基Rが結合している該化合物中の部位から少
なくとも炭素原子1個分だけ隔離されていなければなら
ず、Rについての置換基はーOH、一SR’又は−OR
’であり、ここでR4は1〜30個の炭素原子を有する
アルキル基又は5〜20個の炭素原子を有するシクロア
ルキル基であり、R1及びR!はそれぞれH又は1〜4
個の炭素原子を有するアルキル基であり、 R3は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基又は5
〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基であり、 RSは1〜24個の炭素原子を有するアルキル基であり
、 R6はH又は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基
であり、但し、mがOである場合にはR6はH又は1〜
7個の炭素原子を有するアルキル基であり、そしてmが
1である場合にはR6は1〜24個の炭素原子を有する
アルキル基であり、 R′は直接結合又は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
レン基であり、 R8は5〜16個の炭素原子を有する単環、二環又は三
環式シクロアルキル基である)。
れる有機スルフィド系酸化防止剤で安定化されたポリマ
ー系エンジニアリング樹脂から成る:(これら式中、m
はO又はlであり、 nは2〜l5の整数であり、 Rは2〜30個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
アルキル基、5〜20個の炭素原子を有する置換若しく
は非置換シクロアルキル基、2〜30個の炭素原子を有
し且つ6個までの炭素原子が複素原子O若しくはSで置
き換えられた置換若しくは非置換アルキル基又は5〜2
0個の炭素原子を有し且つ6個までの炭素原子が複素原
子O若しくはSで置き換えられた置換若しくは非置換シ
クロアルキル基であり、但し、前記複素原子は互いに隔
離され且つ基Rが結合している該化合物中の部位から少
なくとも炭素原子1個分だけ隔離されていなければなら
ず、Rについての置換基はーOH、一SR’又は−OR
’であり、ここでR4は1〜30個の炭素原子を有する
アルキル基又は5〜20個の炭素原子を有するシクロア
ルキル基であり、R1及びR!はそれぞれH又は1〜4
個の炭素原子を有するアルキル基であり、 R3は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基又は5
〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基であり、 RSは1〜24個の炭素原子を有するアルキル基であり
、 R6はH又は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基
であり、但し、mがOである場合にはR6はH又は1〜
7個の炭素原子を有するアルキル基であり、そしてmが
1である場合にはR6は1〜24個の炭素原子を有する
アルキル基であり、 R′は直接結合又は1〜4個の炭素原子を有するアルキ
レン基であり、 R8は5〜16個の炭素原子を有する単環、二環又は三
環式シクロアルキル基である)。
上記の有機スルフィドのうちの数種の製造及び他の用途
にそれらを使用することは、米国特許第3, 652,
680号及び同第3, 772, 246号( Bu
cholz)に開示されている。
にそれらを使用することは、米国特許第3, 652,
680号及び同第3, 772, 246号( Bu
cholz)に開示されている。
好ましくは、本発明の有機スルフィド系酸化防止剤は、
前記の式工又は■において Rが次のもの: ?I+■− CH.− CHz− (ここで、α及びβは結合のタイプである)であり、 RlがH又はCH.であり、 R2がHであり、且つ R3がlO〜18個の炭素原子を有するアルキル基であ
る ものである。
前記の式工又は■において Rが次のもの: ?I+■− CH.− CHz− (ここで、α及びβは結合のタイプである)であり、 RlがH又はCH.であり、 R2がHであり、且つ R3がlO〜18個の炭素原子を有するアルキル基であ
る ものである。
有機スルフィ
ド系酸化防止剤は、
より好ましく
は、
式■又はIfにおいて
Rが次のもの:
であり、
R1及びR2
がHであり、
且つ
R3が12〜18個の炭素原子を有するアルキル基であ
る ものである。
る ものである。
式IIIで表わされる有機スルフィ
ド系酸化防止剤
は、
次の構造:
CH.
のものであるのが好ましい。
上記の好ましい有機スルフィド系酸化防止剤及びより好
ましい有機スルフィド系酸化防止剤において、nの値は
各基Rにおける結合していない部分の数によって決定さ
れる. 本発明の組成物において有用な好ましい有機スルフィド
系酸化防止剤の非限定的な例には、次のものが包含され
る=2.9−ビス(オクタデシルチオ)一p−メンタン
;β−(アルキルチオ)エチル−3−(アルキルチオ)
シクロヘキサン;β−(n−オクタデシルチオ)エチル
−3−(n−オクタデシルチオ)シクロヘキサン、β−
(n−オクタデシルチ才)エチル−4−(n−才クタデ
シルチオ)シクロヘキサン(これら全ては通常、異性体
の混合物として製造され、本明細書においてはrβ−(
n−アルキルチオ)エチル−3−及び4−(アルキルチ
オ)シクロヘキサン』と称することもある) , 1
,5.9−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデカン
、1,5,8−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデ
カン、1,4.8−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロ
ドデカン(これらは通常、異性体の混合物として製造さ
れ、本明細書においてはrl,4(又は5),8(又は
9)一トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデカン』と
称することもある);2,9−ビス(アルキルチオ)一
p−メンタン;3.3−ビス(アルキルチオブロビル)
エーテル; 1,4.8−トリス(アルキルチオ)シク
ロドデカン、1,5,,8−}−リス(アルキルチオ)
シクロドデカン及び1,5.9−トリス(アルキルチオ
)シクロドデカン(これら全ては通常、異性体の混合物
として製造され、本明細書においてはfl,4(又は5
),8(又は9)一トリス(アルキルチオ)シクロドデ
カン』と称することもある):ベンタエリトリットテト
ラキス(n−オクタデシルチオブロビル)エーテル:ベ
ンタエリトリットトリス(n−才クタデシルチオブロビ
ル)エーテル;ベンタエリトリットテトラキス(n−ド
デシルチオブ口ビル)エーテル:ペンタエリトリットト
リス(n−ドデシルチオプロビル)エーテル;トリメチ
ロールプロパントリス(n−オクタデシルチオブロビル
)エーテル;トリメチロールプロパントリス(n−ヘキ
サデシルチオブ口ビル)エーテル:ジベンタエリトリッ
トへキサキス(n−オクチルチオブロビル)エーテル;
ジペンタエリトリットへキサキス(n−ドデシルチオプ
ロビル)エーテル;ジペンタエリトリットへキサキス(
n−ヘキサデシルチオブロビル)エーテル。上記の類の
各化合物中のアルキルチオ基は、約2〜約38個の炭素
原子、好ましくは約8〜約20個の炭素原子を有する。
ましい有機スルフィド系酸化防止剤において、nの値は
各基Rにおける結合していない部分の数によって決定さ
れる. 本発明の組成物において有用な好ましい有機スルフィド
系酸化防止剤の非限定的な例には、次のものが包含され
る=2.9−ビス(オクタデシルチオ)一p−メンタン
;β−(アルキルチオ)エチル−3−(アルキルチオ)
シクロヘキサン;β−(n−オクタデシルチオ)エチル
−3−(n−オクタデシルチオ)シクロヘキサン、β−
(n−オクタデシルチ才)エチル−4−(n−才クタデ
シルチオ)シクロヘキサン(これら全ては通常、異性体
の混合物として製造され、本明細書においてはrβ−(
n−アルキルチオ)エチル−3−及び4−(アルキルチ
オ)シクロヘキサン』と称することもある) , 1
,5.9−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデカン
、1,5,8−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデ
カン、1,4.8−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロ
ドデカン(これらは通常、異性体の混合物として製造さ
れ、本明細書においてはrl,4(又は5),8(又は
9)一トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデカン』と
称することもある);2,9−ビス(アルキルチオ)一
p−メンタン;3.3−ビス(アルキルチオブロビル)
エーテル; 1,4.8−トリス(アルキルチオ)シク
ロドデカン、1,5,,8−}−リス(アルキルチオ)
シクロドデカン及び1,5.9−トリス(アルキルチオ
)シクロドデカン(これら全ては通常、異性体の混合物
として製造され、本明細書においてはfl,4(又は5
),8(又は9)一トリス(アルキルチオ)シクロドデ
カン』と称することもある):ベンタエリトリットテト
ラキス(n−オクタデシルチオブロビル)エーテル:ベ
ンタエリトリットトリス(n−才クタデシルチオブロビ
ル)エーテル;ベンタエリトリットテトラキス(n−ド
デシルチオブ口ビル)エーテル:ペンタエリトリットト
リス(n−ドデシルチオプロビル)エーテル;トリメチ
ロールプロパントリス(n−オクタデシルチオブロビル
)エーテル;トリメチロールプロパントリス(n−ヘキ
サデシルチオブ口ビル)エーテル:ジベンタエリトリッ
トへキサキス(n−オクチルチオブロビル)エーテル;
ジペンタエリトリットへキサキス(n−ドデシルチオプ
ロビル)エーテル;ジペンタエリトリットへキサキス(
n−ヘキサデシルチオブロビル)エーテル。上記の類の
各化合物中のアルキルチオ基は、約2〜約38個の炭素
原子、好ましくは約8〜約20個の炭素原子を有する。
本発明の実施において有用な代表的な有機スルフィドの
非限定的な例を以下に示す: CHz a{3 H2C−OCH2CH2CH−SCI xHzmH2C
−Oa{.CH.CH.SC. .H..?(CH20
CH2CIl.CH.SC,.H.■)4C(C11.
OCH.C}I2CII■SCl6H33)4C(CH
.OCH2CH2CH2SC.oH41)4C ((1
{go(T{iCH2Q{zsct Jts) 4C(
CHiOCt{20{2cHzsc+ 3H27) 4
C(CH20CH.CH2Cl{.SC..H.,)4
C (C}+.OCH2012C}{.SCJ . ?
)4C(G{20CH.CI{2CH.SCl48!.
)4C)As しI13 ?(CH20Cll■CHaCH2SC9H+ o)
1?(CH■OCH*O{icllzsc+ sHzy
l mC (CHzOCHzCHzO{zsc+ Jx
s) sC, .H. ,SCH2CH2CH20 (
CH.CH.O) .CH.CH.■I2開,(7)2
翼1883?C IJl3sscH2cH2cHzO
(CHtCHJCHiCHgO) xCHtCH2SC
HzCHzOCHzCHzCHzS−CI6831 ? . .H ..SCII ■CHtC}+ 20C
H .CH.OCH 2CH .OCH2CH.SCl
{ 2CH.OCH.CH.CH 2S−C , .H
..C l 3H ! ? SCH 2CH!CH2
0 (CH.CFl ICI.Cl{ .0) 4CO
.CH 2CH 2CH,tOcH.cH.cHts
c , Jt t口h Cl{. ?H. C.H.C((11.OQl.CH.CI.SC.H.
,) ,CJsC (CHtOCII■CLCl{2
sc: IoHz + ) 3C2H5C (CH.O
CH■CHzCH−SC14H2−) sC2H,C
(CI1.DClI■CII.CH.SC,J3,).
CJ−C (CH−OCHzCHzCH−SC−H 3
J sCzHsll: (CH2CCHxa{2CI{
xSCl3H2T) 3C.H.C(C11.0CI{
.CH!CI{2SCl.Hs.).C21+.C (
CI.OCH.CI12CH.SC.J. .).?;
Hs co.c(CHaOcHz01iCll.SC+。H■
),CHsC(CHaOCHzCl{−01−SC++
H+ s) sCl{ac(CHiOCHzCHzCH
−SCtJ*s) −CH.C(CH.OCH.CI.
CI{.S(1:..H..}.CHiC(CHtQC
HaaIaCHzSC+ slit) xCH−C(C
H*父九CH−Q{−SC−H1−) s(1{−C(
CHa(Xl{zCHtCH−SC,1Has) s(
7).C(CH.咄,作2αJC+−H−t)sCH.
C(01tOC}I.CI.Cl{.SC,.H..)
.CHxC (CHzOCHzCH*GhS(1+ s
Hs++) sCH. uh ?H3C(CH20CIl2CIICH2SC.■Hi
s).C3H? CHtOCHtCHaa{aSC+iHzs?CO−C
HiCHtCH*SC+tHtsCl■H..SCH*
CH.α{.0−C}I直 HCO−CHtCHzG{asc+ lH2Bi HCO−CH.CH.CH.SC. .H,.CH.O
CH.Q{.CH.S, .H..CM.CX&CH.
Cfi.SC l aHx 3HCO−C&CH2CH
.SC,.HssC . .H3,SCH.CH.CH
20−CHHCO−CH2CH.(1{lSCl 88
..{ HtJJ−CHtCHzαh乳+ sH− sCH.0
O12C}l2cH.sc..++3.?H.OCl{
■CI{■CH23C..H.,HCO−CH2CH2
CH.SC,.H.,?laHx■SCHxCHzcH
20−CH旨 HCO−CH2CHtCLSCIaHst直 HCO−CHzCHzCHzSC+aHsyCH.OC
H.CH.CH.SC..H.,ObOCHtCHtO
bSCaH1y HCOCR−CI{−Q{2sc−H + tC.H.
,SCH.CH.CH.O−CHHCOCI.CH,G
{,SC,H , ,直 HCOCR!CI.G{.SC.H. ,C G{10012Q{.CI.SC.H . ,CJ+*
SCHzCl{2a′IzO−CIl HCOCB.CH.012SC.H..■ HcoCH.a{.CA12SC.H , 1(MtC
CM*CHtCl{2SCsH l−CH.OCH.C
H.CH.SC. .1{..l HQX&CH.0+.SCI.H., C+oHz+SCHza{zcHio−G{HCOCH
zCH!CHiSCIaHz+HCOCIl.C}l.
cI{.SC,.H2.CH.(X&c71.C&SC
. .H2,?1{.OCHaCII2CH.SC.}
12?首 HCOC}12C}I.CH.SC, .H.,C..
H■SCH.CI2CH.OCHHCOCH*CHzC
}I*SC+ Jt−HCOCH*CH2CHzSC+
J*tCH.OCR.CH.CI.SC, .H.,C
H−OCH−CHCHaSC,−H−sj a1, CI.OCRICl{CI!SClaH3V区 CIam CH.OCR.CIICH2SCl68。
非限定的な例を以下に示す: CHz a{3 H2C−OCH2CH2CH−SCI xHzmH2C
−Oa{.CH.CH.SC. .H..?(CH20
CH2CIl.CH.SC,.H.■)4C(C11.
OCH.C}I2CII■SCl6H33)4C(CH
.OCH2CH2CH2SC.oH41)4C ((1
{go(T{iCH2Q{zsct Jts) 4C(
CHiOCt{20{2cHzsc+ 3H27) 4
C(CH20CH.CH2Cl{.SC..H.,)4
C (C}+.OCH2012C}{.SCJ . ?
)4C(G{20CH.CI{2CH.SCl48!.
)4C)As しI13 ?(CH20Cll■CHaCH2SC9H+ o)
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l mC (CHzOCHzCHzO{zsc+ Jx
s) sC, .H. ,SCH2CH2CH20 (
CH.CH.O) .CH.CH.■I2開,(7)2
翼1883?C IJl3sscH2cH2cHzO
(CHtCHJCHiCHgO) xCHtCH2SC
HzCHzOCHzCHzCHzS−CI6831 ? . .H ..SCII ■CHtC}+ 20C
H .CH.OCH 2CH .OCH2CH.SCl
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..C l 3H ! ? SCH 2CH!CH2
0 (CH.CFl ICI.Cl{ .0) 4CO
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c , Jt t口h Cl{. ?H. C.H.C((11.OQl.CH.CI.SC.H.
,) ,CJsC (CHtOCII■CLCl{2
sc: IoHz + ) 3C2H5C (CH.O
CH■CHzCH−SC14H2−) sC2H,C
(CI1.DClI■CII.CH.SC,J3,).
CJ−C (CH−OCHzCHzCH−SC−H 3
J sCzHsll: (CH2CCHxa{2CI{
xSCl3H2T) 3C.H.C(C11.0CI{
.CH!CI{2SCl.Hs.).C21+.C (
CI.OCH.CI12CH.SC.J. .).?;
Hs co.c(CHaOcHz01iCll.SC+。H■
),CHsC(CHaOCHzCl{−01−SC++
H+ s) sCl{ac(CHiOCHzCHzCH
−SCtJ*s) −CH.C(CH.OCH.CI.
CI{.S(1:..H..}.CHiC(CHtQC
HaaIaCHzSC+ slit) xCH−C(C
H*父九CH−Q{−SC−H1−) s(1{−C(
CHa(Xl{zCHtCH−SC,1Has) s(
7).C(CH.咄,作2αJC+−H−t)sCH.
C(01tOC}I.CI.Cl{.SC,.H..)
.CHxC (CHzOCHzCH*GhS(1+ s
Hs++) sCH. uh ?H3C(CH20CIl2CIICH2SC.■Hi
s).C3H? CHtOCHtCHaa{aSC+iHzs?CO−C
HiCHtCH*SC+tHtsCl■H..SCH*
CH.α{.0−C}I直 HCO−CHtCHzG{asc+ lH2Bi HCO−CH.CH.CH.SC. .H,.CH.O
CH.Q{.CH.S, .H..CM.CX&CH.
Cfi.SC l aHx 3HCO−C&CH2CH
.SC,.HssC . .H3,SCH.CH.CH
20−CHHCO−CH2CH.(1{lSCl 88
..{ HtJJ−CHtCHzαh乳+ sH− sCH.0
O12C}l2cH.sc..++3.?H.OCl{
■CI{■CH23C..H.,HCO−CH2CH2
CH.SC,.H.,?laHx■SCHxCHzcH
20−CH旨 HCO−CH2CHtCLSCIaHst直 HCO−CHzCHzCHzSC+aHsyCH.OC
H.CH.CH.SC..H.,ObOCHtCHtO
bSCaH1y HCOCR−CI{−Q{2sc−H + tC.H.
,SCH.CH.CH.O−CHHCOCI.CH,G
{,SC,H , ,直 HCOCR!CI.G{.SC.H. ,C G{10012Q{.CI.SC.H . ,CJ+*
SCHzCl{2a′IzO−CIl HCOCB.CH.012SC.H..■ HcoCH.a{.CA12SC.H , 1(MtC
CM*CHtCl{2SCsH l−CH.OCH.C
H.CH.SC. .1{..l HQX&CH.0+.SCI.H., C+oHz+SCHza{zcHio−G{HCOCH
zCH!CHiSCIaHz+HCOCIl.C}l.
cI{.SC,.H2.CH.(X&c71.C&SC
. .H2,?1{.OCHaCII2CH.SC.}
12?首 HCOC}12C}I.CH.SC, .H.,C..
H■SCH.CI2CH.OCHHCOCH*CHzC
}I*SC+ Jt−HCOCH*CH2CHzSC+
J*tCH.OCR.CH.CI.SC, .H.,C
H−OCH−CHCHaSC,−H−sj a1, CI.OCRICl{CI!SClaH3V区 CIam CH.OCR.CIICH2SCl68。
CH.001.C}l.cHsc, .H*@CHs
CI{.OCH.CH.CHSC..H.CJIzOC
H−CI{CI−SCl−H−sC.H, 0(CHiCHiCHtSCsH+t)a0((7)2
側2(7)2χ1sHJ*0(CH*CHt(1{zs
c+Jgs)t0(CH2(TbCH−SC1−tb−
) t0 (CH−CHOI−SC+ −Hay) t
C.H. 本発明の有機スルフィドについての下記の非限定的な代
表的構造において、ソルビタン主鎖は1,4−ソルビタ
ンであり、これは慣用的に用いられているソルビタンの
約85%を占める。ソルビタンはまた、一般的に3.6
−ソルビタン約13%及び2.5−アンヒドローL−イ
ジット約2%(共に1,4ーソルビタンの異性体である
)をも含有する。従って、1.4−ソルビタンから誘導
される下記の有機スルフィドがまた前記の異性体をも包
含するということは当業者に理解されよう{例えば「化
学技術百科事典(The Encyclopedia
of ChemicalTechnology) J第
1巻、第3版、第778〜789頁( 1978年)を
参照されたい}。
H−CI{CI−SCl−H−sC.H, 0(CHiCHiCHtSCsH+t)a0((7)2
側2(7)2χ1sHJ*0(CH*CHt(1{zs
c+Jgs)t0(CH2(TbCH−SC1−tb−
) t0 (CH−CHOI−SC+ −Hay) t
C.H. 本発明の有機スルフィドについての下記の非限定的な代
表的構造において、ソルビタン主鎖は1,4−ソルビタ
ンであり、これは慣用的に用いられているソルビタンの
約85%を占める。ソルビタンはまた、一般的に3.6
−ソルビタン約13%及び2.5−アンヒドローL−イ
ジット約2%(共に1,4ーソルビタンの異性体である
)をも含有する。従って、1.4−ソルビタンから誘導
される下記の有機スルフィドがまた前記の異性体をも包
含するということは当業者に理解されよう{例えば「化
学技術百科事典(The Encyclopedia
of ChemicalTechnology) J第
1巻、第3版、第778〜789頁( 1978年)を
参照されたい}。
?{COCH.CH.C’H2SCI .H.!■
CII■OCII■cozcozsc+■1125HC
OCH.CH2a1.SC..H.,t C}I.OCH.CHJI.SC,.H.,?COOI
,CHt01,SC, ,H■CH.OCH.CH.0
1aSCl.H.?8COCI{.CH.CH.SC.
H,.Cl{2(K1tCHaCH−SC−H + −
8COOI.C}l.cH.sc..H..G{.OC
R.CI.CI{.S(: . .H..CH20CH
aCHCHaSC+llHz−量 a{3 CHzOCHz04CHzSC,xH2mcHs CH2001.CH2CHSC.。821CHs 01.OCH2CHCHISC.JI3ffCI.OC
H.CH.CHSC. .H..CH. CI. 代表的な有機スルフイドの下記の非限定的な例はシヨ糖
から誘導され、ここで ZはCH.CH.CI.SR”であり、Z ’ ハCH
sC}ICHzSR” テあり、CH. Z2 であり、 R″ は前記の通りである: SC+all3y SC8I+,, SC,H,.−j SC20H41 SC+allit 下記の非限定的な例の式中、RSは8〜24個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし、R6はl〜7個の炭素
原子を有するアルキル基を表わす二 Cl+, 式I、 II又は■で表わされる本発明に従う有機スルフィ ド系酸化防止剤の好ましいちのの非限定的な例を以下に
示す: CH.(X刀.CHCH.SR” CHs 0(CH2(7)zcHgscl2l{tJ20(CT
{−CHzQ{−SC,−H−)h0(CHiCH*C
HxSCIOR!t)zOCOi*CHtCHxSC1
mH−) *OL (及びソルビタンの他の異性体) 上記の式中、R9は約10〜約18個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わし、36はH.CI+..又はc
2I+ 5であり、Z及びzl は前記の通りである
。
OCH.CH2a1.SC..H.,t C}I.OCH.CHJI.SC,.H.,?COOI
,CHt01,SC, ,H■CH.OCH.CH.0
1aSCl.H.?8COCI{.CH.CH.SC.
H,.Cl{2(K1tCHaCH−SC−H + −
8COOI.C}l.cH.sc..H..G{.OC
R.CI.CI{.S(: . .H..CH20CH
aCHCHaSC+llHz−量 a{3 CHzOCHz04CHzSC,xH2mcHs CH2001.CH2CHSC.。821CHs 01.OCH2CHCHISC.JI3ffCI.OC
H.CH.CHSC. .H..CH. CI. 代表的な有機スルフイドの下記の非限定的な例はシヨ糖
から誘導され、ここで ZはCH.CH.CI.SR”であり、Z ’ ハCH
sC}ICHzSR” テあり、CH. Z2 であり、 R″ は前記の通りである: SC+all3y SC8I+,, SC,H,.−j SC20H41 SC+allit 下記の非限定的な例の式中、RSは8〜24個の炭素原
子を有するアルキル基を表わし、R6はl〜7個の炭素
原子を有するアルキル基を表わす二 Cl+, 式I、 II又は■で表わされる本発明に従う有機スルフィ ド系酸化防止剤の好ましいちのの非限定的な例を以下に
示す: CH.(X刀.CHCH.SR” CHs 0(CH2(7)zcHgscl2l{tJ20(CT
{−CHzQ{−SC,−H−)h0(CHiCH*C
HxSCIOR!t)zOCOi*CHtCHxSC1
mH−) *OL (及びソルビタンの他の異性体) 上記の式中、R9は約10〜約18個の炭素原子を有す
るアルキル基を表わし、36はH.CI+..又はc
2I+ 5であり、Z及びzl は前記の通りである
。
式r.rr又はIUで表わされる本発明に従う有機スル
フィド系酸化防止剤の最も好ましいものの非限定的な例
は、以下の通りである: CH20CH2CH2CH2SR” C((&OC}12CJ{.CH.SR”),coxc
(CH20CH.CH.CHtSR ”).C.l{
.C(01.OCH.CH.CH.SR”).R”Sα
{.CH.CI{20CH I HGOhα2CH.訊10 I HCOCH.CH2Q1.SR ” CH.OCR.Q{.CI{.SR” snlo 上記の式中、RIGは約12〜約18個の炭素原子を有
するアルキル基を表わす。
フィド系酸化防止剤の最も好ましいものの非限定的な例
は、以下の通りである: CH20CH2CH2CH2SR” C((&OC}12CJ{.CH.SR”),coxc
(CH20CH.CH.CHtSR ”).C.l{
.C(01.OCH.CH.CH.SR”).R”Sα
{.CH.CI{20CH I HGOhα2CH.訊10 I HCOCH.CH2Q1.SR ” CH.OCR.Q{.CI{.SR” snlo 上記の式中、RIGは約12〜約18個の炭素原子を有
するアルキル基を表わす。
式■、II又は■で表わされる本発明の有機スルフィド
は、例えば米国特許第3, 652, 680号及び同
第3, 772, 246号に開示された方法によって
製造することができる。
は、例えば米国特許第3, 652, 680号及び同
第3, 772, 246号に開示された方法によって
製造することができる。
式(1)の化合物は、例えば次のようにして製造するこ
とができる.即ち、初めに水酸化ナトリウム又はカリウ
ムのような塩基の存在下でボリオール(1分子当たり2
個以上のヒドロキシル基を持つもの)をハロゲン化(例
えば塩化、臭化又は沃化)アリル又は置換アリルと反応
させる。塩基の使用量は、副生成物のハロゲン化水素を
除去し且つ対応するボリアリルエーテルを形成するのに
充分な量にすべきである。ボリアリルエーテルからの副
生成物の金属ハロゲン化物の分離を容易にするために、
必要ならば水又は不活性溶媒を用いるこどもできる。
とができる.即ち、初めに水酸化ナトリウム又はカリウ
ムのような塩基の存在下でボリオール(1分子当たり2
個以上のヒドロキシル基を持つもの)をハロゲン化(例
えば塩化、臭化又は沃化)アリル又は置換アリルと反応
させる。塩基の使用量は、副生成物のハロゲン化水素を
除去し且つ対応するボリアリルエーテルを形成するのに
充分な量にすべきである。ボリアリルエーテルからの副
生成物の金属ハロゲン化物の分離を容易にするために、
必要ならば水又は不活性溶媒を用いるこどもできる。
次に、上記の反応から得られたボリアリルエーテルに遊
離基条件下(即ち過酸化物、アゾ化合物、紫外線等の存
在下)でメルカブタンを添加することによって本発明の
酸化防止剤化合物を得る。この反応において用いられる
メルカブタンのモル数は、ボリアリルエーテル中の二重
結合の数と少なくとも等しい数である。
離基条件下(即ち過酸化物、アゾ化合物、紫外線等の存
在下)でメルカブタンを添加することによって本発明の
酸化防止剤化合物を得る。この反応において用いられる
メルカブタンのモル数は、ボリアリルエーテル中の二重
結合の数と少なくとも等しい数である。
式(n)及び(In)の化合物は、式(I)で表わされ
る化合物について前記した方法によって、ジアリルエー
テル又はオレフィンのいずれかにメルカブタンを添加す
ることによってそれぞれ製造することができる.本発明
の式(I)、(n)又は(III)で表わされる化合物
の製造に有用な他の適宜な方法は、本明細書の開示に基
づいて当業者に明白であろう. 本発明において用いることのできる樹脂は一般的に『エ
ンジニアリング樹脂1として分類することのできるポリ
マー系樹脂である。前記のように、rエンジニアリング
樹脂1とは高い荷重及び応力を支持することができ、機
械加工することができ且つ寸法安定性である樹脂である
。エンジニアリング樹脂は一般的に、加工及び最終製品
の使用の両方の際に極端な温度をかけられる。これらの
樹脂は、種々のタイプのエンジニアリング用途について
金属とほとんど同様に用いることができるので、エンジ
ニアリング樹脂として知られている。
る化合物について前記した方法によって、ジアリルエー
テル又はオレフィンのいずれかにメルカブタンを添加す
ることによってそれぞれ製造することができる.本発明
の式(I)、(n)又は(III)で表わされる化合物
の製造に有用な他の適宜な方法は、本明細書の開示に基
づいて当業者に明白であろう. 本発明において用いることのできる樹脂は一般的に『エ
ンジニアリング樹脂1として分類することのできるポリ
マー系樹脂である。前記のように、rエンジニアリング
樹脂1とは高い荷重及び応力を支持することができ、機
械加工することができ且つ寸法安定性である樹脂である
。エンジニアリング樹脂は一般的に、加工及び最終製品
の使用の両方の際に極端な温度をかけられる。これらの
樹脂は、種々のタイプのエンジニアリング用途について
金属とほとんど同様に用いることができるので、エンジ
ニアリング樹脂として知られている。
本発明において用いるのに適したエンジニアリング樹脂
には、例えばポリカーボネート、ポリアリールエーテル
、ポリアミド(即ちナイロン)、ポリエステル、ポリア
セタール、ポリスルフィド、セルロースエステル及びス
チレンコポリマーが包含されるが、これらに限定されな
い。
には、例えばポリカーボネート、ポリアリールエーテル
、ポリアミド(即ちナイロン)、ポリエステル、ポリア
セタール、ポリスルフィド、セルロースエステル及びス
チレンコポリマーが包含されるが、これらに限定されな
い。
本発明において用いるための好ましいエンジニアリング
樹脂には、非限定的な例として、次のものが包含される
: ・ポリ(2.6−ジメチルーp−フェニレンオキシド)
、 ・ポリ(2,3.6−トリメチルーp−フェニレンオキ
シド)、 ・ポリ(フェニレンエーテルースルホン)、・ポリ力プ
ロラクタム、 ・ポリヘキサメチレンアジバミド、 ・ポリへキサメチレンノナンジアミド、・ポリへキサメ
チレンセバカミド、 ・ポリへキサメチレンドデカンジアミド、・ポリへキサ
メチレンテレフタルアミド、・ポリウンデカンアミド、 ・ポリラウリルラクタム、 ・ポリ(フエニレンスルフィド)、 ・ポリ(エチレンテレフタレート)、 ・ポリ(l,4−ブチレンテレフタレート)、・ポリ(
1.4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)、 ・ポリ(アセタール)、 ・セルロースアセテート、 ・セルロースアセテートブロピオネート、・スチレンー
無水マレイン酸コポリマー及び ・2.2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ブロバンか
ら誘導されるポリカーボネート。
樹脂には、非限定的な例として、次のものが包含される
: ・ポリ(2.6−ジメチルーp−フェニレンオキシド)
、 ・ポリ(2,3.6−トリメチルーp−フェニレンオキ
シド)、 ・ポリ(フェニレンエーテルースルホン)、・ポリ力プ
ロラクタム、 ・ポリヘキサメチレンアジバミド、 ・ポリへキサメチレンノナンジアミド、・ポリへキサメ
チレンセバカミド、 ・ポリへキサメチレンドデカンジアミド、・ポリへキサ
メチレンテレフタルアミド、・ポリウンデカンアミド、 ・ポリラウリルラクタム、 ・ポリ(フエニレンスルフィド)、 ・ポリ(エチレンテレフタレート)、 ・ポリ(l,4−ブチレンテレフタレート)、・ポリ(
1.4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)、 ・ポリ(アセタール)、 ・セルロースアセテート、 ・セルロースアセテートブロピオネート、・スチレンー
無水マレイン酸コポリマー及び ・2.2−ビス(4−ヒドロキシフエニル)ブロバンか
ら誘導されるポリカーボネート。
有機スルフィド系酸化防止剤は一般的に、約1 : 1
0,000〜1:20のエンジニアリング樹脂に対する
有機スルフィドの重量比で本発明に従う組成物中に含有
される。好ましくは、本発明の組成物は、有機スルフィ
ド及びエンジニアリング樹脂を約1 : 1,000〜
約1=50の重量比で含有する.もちろん、本発明に従
う組成物中に存在する有機スルフィド系酸化防止剤の正
確な量は、用いられる有機スルフィド系酸化防止剤及び
エンジニアリング樹脂の種類、エンジニアリング樹脂の
用途、エンジニアリング樹脂が耐えなければならない応
力等に応じて変化する。この正確な使用量は、当業者が
容易に決定できるであろう。上記した比以外の比が本発
明において適切である場合もあり、それがどのような場
合であるかは、本明細書の開示に基づいて当業者に明ら
かであろう。
0,000〜1:20のエンジニアリング樹脂に対する
有機スルフィドの重量比で本発明に従う組成物中に含有
される。好ましくは、本発明の組成物は、有機スルフィ
ド及びエンジニアリング樹脂を約1 : 1,000〜
約1=50の重量比で含有する.もちろん、本発明に従
う組成物中に存在する有機スルフィド系酸化防止剤の正
確な量は、用いられる有機スルフィド系酸化防止剤及び
エンジニアリング樹脂の種類、エンジニアリング樹脂の
用途、エンジニアリング樹脂が耐えなければならない応
力等に応じて変化する。この正確な使用量は、当業者が
容易に決定できるであろう。上記した比以外の比が本発
明において適切である場合もあり、それがどのような場
合であるかは、本明細書の開示に基づいて当業者に明ら
かであろう。
本発明の有機スルフィドは、本発明のエンジニアリング
樹脂中で単独の安定剤として用いることができる。しか
しながら、ある種の目的のためには、本発明の有機スル
フィド系酸化防止剤を立体障害フェノール類、ホスファ
イト類、有機アミン類、ペンゾフエノン類及びベンゾト
リアゾール類のような補助安定剤と組合せて用いること
が適切であることもある。適当な立体障害フェノール類
には、ペンタエリトリットテトラキス(3.5−ジーt
−ブチルー4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が包含
される.適当なホスファイト類には、ジステアリルペン
タエリトリットジホスファイトが包含される.適当な有
機アミン類には、例えばN,N’−ジフェニルーp−フ
エニレンジアミン及びセバシン酸ビス(2,2,6.6
−テトラメチル−4−ビペリジニル)が包含される.適
当なベンゾフェノン類には、2−ヒドロキシ−4−n−
オクチルオキシベンゾフエノンが包含され、適当なベン
ゾトリアゾール類には、2−(2−ヒドロキシーS−t
−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾールが包含される
。本発明において用いるのに適した他の補助安定剤は、
本明細書の開示に基づいて当業者に明らがであろう。
樹脂中で単独の安定剤として用いることができる。しか
しながら、ある種の目的のためには、本発明の有機スル
フィド系酸化防止剤を立体障害フェノール類、ホスファ
イト類、有機アミン類、ペンゾフエノン類及びベンゾト
リアゾール類のような補助安定剤と組合せて用いること
が適切であることもある。適当な立体障害フェノール類
には、ペンタエリトリットテトラキス(3.5−ジーt
−ブチルー4−ヒドロキシヒドロシンナメート)が包含
される.適当なホスファイト類には、ジステアリルペン
タエリトリットジホスファイトが包含される.適当な有
機アミン類には、例えばN,N’−ジフェニルーp−フ
エニレンジアミン及びセバシン酸ビス(2,2,6.6
−テトラメチル−4−ビペリジニル)が包含される.適
当なベンゾフェノン類には、2−ヒドロキシ−4−n−
オクチルオキシベンゾフエノンが包含され、適当なベン
ゾトリアゾール類には、2−(2−ヒドロキシーS−t
−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾールが包含される
。本発明において用いるのに適した他の補助安定剤は、
本明細書の開示に基づいて当業者に明らがであろう。
本発明の組成物は、加工助剤、粘着防止剤、スリップ剤
、難燃剤、煙抑止剤、カップリング剤、湿潤剤、顔料、
充填剤、強化材等のような慣用のポリマー添加剤をさら
に含有することができる.適当な顔料には、二酸化チタ
ン、カーボンブラック等が包含される。適当な強化材に
は、雲母、クレー、タルク,有ti繊維、炭素繊維、黒
鉛繊維等が包含される.本発明の組成物中に用いること
のできる他の適当な添加剤は、本明細書の開示に基づい
て当業者に明らかであろう。
、難燃剤、煙抑止剤、カップリング剤、湿潤剤、顔料、
充填剤、強化材等のような慣用のポリマー添加剤をさら
に含有することができる.適当な顔料には、二酸化チタ
ン、カーボンブラック等が包含される。適当な強化材に
は、雲母、クレー、タルク,有ti繊維、炭素繊維、黒
鉛繊維等が包含される.本発明の組成物中に用いること
のできる他の適当な添加剤は、本明細書の開示に基づい
て当業者に明らかであろう。
本発明の組成物は、当技術分野において周知の方法によ
って容易に製造することができる。例えば、本発明の有
機スルフィドは、望まれる製品の製造に先立って任意の
適宜の段階において慣用の技術を用いて、本発明の組成
物のエンジニアリング樹脂中に容易に添加することがで
きる.例えば、有機スルフィドは乾燥粉末状のポリマー
と混合することができる。この場合、組成物は例えば最
終製品にすることができる。本発明の組成物の製造に有
用な他の方法は、本明細書の開示に基づいて当業者に明
らかであろう。
って容易に製造することができる。例えば、本発明の有
機スルフィドは、望まれる製品の製造に先立って任意の
適宜の段階において慣用の技術を用いて、本発明の組成
物のエンジニアリング樹脂中に容易に添加することがで
きる.例えば、有機スルフィドは乾燥粉末状のポリマー
と混合することができる。この場合、組成物は例えば最
終製品にすることができる。本発明の組成物の製造に有
用な他の方法は、本明細書の開示に基づいて当業者に明
らかであろう。
[実施例]
以下の特定的で非限定的な実施例によって本発明をさら
に例示する. fLL:β(n−オクタデシルチオ)エチル−3−(n
ーオクタデシルチオ)シクロヘキサン及び(n−オクタ
デシルチオ)エチル−4−(n−オクタデシルチオ)シ
クロヘキサンの製造 β−メルカブトエチル−3−メルカブトシクロヘキサン
及びβ−メルカブトエチル−4−メルカブトシクロヘキ
サン(異性体混合物として製造して分離していないもの
)176g(1モル)及びl−オクタデセンssog(
2モル)の窒素でガスシールされた下で撹拌された混合
物を8θ℃に加熱した。この混合物に、l一才クタデセ
ン25g (0.08モル)中に分散させた2,2゜−
アゾビス(インブチロニトリル) 1.5 gを同等の
4つの部分に分けてチロニl・リル)の第1の部分の添
加の際に110℃に発熱した。さらに80℃において4
時間反応を保持し、次いでヘキサン755gを添加した
。次いでこの溶液を4℃に冷却し、生成物を炉過によっ
て採集し、冷ヘキサン378gで洗浄し、空気乾燥して
、生成物516 gを得た(収率68%)。
に例示する. fLL:β(n−オクタデシルチオ)エチル−3−(n
ーオクタデシルチオ)シクロヘキサン及び(n−オクタ
デシルチオ)エチル−4−(n−オクタデシルチオ)シ
クロヘキサンの製造 β−メルカブトエチル−3−メルカブトシクロヘキサン
及びβ−メルカブトエチル−4−メルカブトシクロヘキ
サン(異性体混合物として製造して分離していないもの
)176g(1モル)及びl−オクタデセンssog(
2モル)の窒素でガスシールされた下で撹拌された混合
物を8θ℃に加熱した。この混合物に、l一才クタデセ
ン25g (0.08モル)中に分散させた2,2゜−
アゾビス(インブチロニトリル) 1.5 gを同等の
4つの部分に分けてチロニl・リル)の第1の部分の添
加の際に110℃に発熱した。さらに80℃において4
時間反応を保持し、次いでヘキサン755gを添加した
。次いでこの溶液を4℃に冷却し、生成物を炉過によっ
て採集し、冷ヘキサン378gで洗浄し、空気乾燥して
、生成物516 gを得た(収率68%)。
元素分析: C4−HssSi
理論値 C: 77.80% H: 12.76% S
+ 9.44%実測値 C: 77.7% H: 12
.7% S: 9.25%[: 2,9−ビス(n−オ
クタデシルチオ)−p−メンタンの製造 用いた操作は例1に記載したものと実質的に同じである
。2.9−ジメルカブトーp−メンタン305g (1
.498モル)及びl−オクタデセン786.8 g(
3. 05モル)の撹拌された混合物を2.2゜−ア
ゾビス(イソブチロニトリル) 1.25gの存在下で
80℃において反応させた。反応混合物をヘキサン1.
093 gから再結晶し、i戸過によって採集し、冷ヘ
キサン546gで洗浄し、空気乾燥して、生成物540
gを得た(収率49%)。
+ 9.44%実測値 C: 77.7% H: 12
.7% S: 9.25%[: 2,9−ビス(n−オ
クタデシルチオ)−p−メンタンの製造 用いた操作は例1に記載したものと実質的に同じである
。2.9−ジメルカブトーp−メンタン305g (1
.498モル)及びl−オクタデセン786.8 g(
3. 05モル)の撹拌された混合物を2.2゜−ア
ゾビス(イソブチロニトリル) 1.25gの存在下で
80℃において反応させた。反応混合物をヘキサン1.
093 gから再結晶し、i戸過によって採集し、冷ヘ
キサン546gで洗浄し、空気乾燥して、生成物540
gを得た(収率49%)。
元素分析: C..H..S.
理論値 C: 77.9% H: 13.1% S:
9.0%実測値 C: 7g.2% }l: 12.9
% S: 8.92%園旦+ 1.4(又は5),8(
又は9)一トリス(n−ヘキサデシルチオ)シクロドデ
カンの製造 用いた製造方法は例1に記載したものと実質的に同じで
ある。!,4(又は5),8(又は9)一トリメルカブ
トシクロドデカン(異性体混合物として製造して分離し
ていないもの) 48.8 g (0.185モル)
及びl−オクタデセン137 g (0.609モル)
の撹拌された混合物を2,2゜−アゾビス(イソブチロ
ニトリル)0.4gの存在下で80℃において反応させ
た。反応混合物をヘキサン200gから3回再結晶して
、精製生成物(異性体混合物)34gを得た。
9.0%実測値 C: 7g.2% }l: 12.9
% S: 8.92%園旦+ 1.4(又は5),8(
又は9)一トリス(n−ヘキサデシルチオ)シクロドデ
カンの製造 用いた製造方法は例1に記載したものと実質的に同じで
ある。!,4(又は5),8(又は9)一トリメルカブ
トシクロドデカン(異性体混合物として製造して分離し
ていないもの) 48.8 g (0.185モル)
及びl−オクタデセン137 g (0.609モル)
の撹拌された混合物を2,2゜−アゾビス(イソブチロ
ニトリル)0.4gの存在下で80℃において反応させ
た。反応混合物をヘキサン200gから3回再結晶して
、精製生成物(異性体混合物)34gを得た。
分析二06。}{+g。S
計算値 C: 76.8% H: 12.9% S:
10.3%実測値 C: 76.7% H: 12.5
% S: 10.2%L4=ペンタエリトリットテトラ
キス(n−ヘキサデシルチオブロビル)エーテル及びベ
ンタエリ!・リットトリス(n−ヘキサデシルチオブロ
ビル)エーテルの製造 電磁式撹拌機、冷却管及び窒素導入管を備えた250r
r+j2三つロフラスコを初めに窒素でパージした。次
いでn−ヘキサデシルメル力ブタン91 g(0.35
モル)を装入し、80℃に加熱した。加熱し撹拌したn
−ヘキサデシルメル力ブタンに、ペンタエリトリットテ
トラアリルー及びトリアリルエーテルの混合物(重量比
20/ 80の混合物) 26.4g(不飽和0.32
モル)中に2,2゜−アゾビス(インブチロニトリル)
0.2gの溶液を15分かけて滴下した。この添加が終
了した30分後に、2,2゛一アゾビス(インブチロニ
トリル)0.1gを添加した。さらに30分でアゾビス
(インブチロニトリル)を0.1gずつ2回添加した。
10.3%実測値 C: 76.7% H: 12.5
% S: 10.2%L4=ペンタエリトリットテトラ
キス(n−ヘキサデシルチオブロビル)エーテル及びベ
ンタエリ!・リットトリス(n−ヘキサデシルチオブロ
ビル)エーテルの製造 電磁式撹拌機、冷却管及び窒素導入管を備えた250r
r+j2三つロフラスコを初めに窒素でパージした。次
いでn−ヘキサデシルメル力ブタン91 g(0.35
モル)を装入し、80℃に加熱した。加熱し撹拌したn
−ヘキサデシルメル力ブタンに、ペンタエリトリットテ
トラアリルー及びトリアリルエーテルの混合物(重量比
20/ 80の混合物) 26.4g(不飽和0.32
モル)中に2,2゜−アゾビス(インブチロニトリル)
0.2gの溶液を15分かけて滴下した。この添加が終
了した30分後に、2,2゛一アゾビス(インブチロニ
トリル)0.1gを添加した。さらに30分でアゾビス
(インブチロニトリル)を0.1gずつ2回添加した。
最後の添加の後に、この反応を80℃においてさらに1
時間保持した。次いで、未精製生成物のワックス様固体
をイソブロビルアルコール400mj2とヘキサン10
0mffとの准合物から4回再結晶して、ペンタエリト
リットテトラキス(n−ヘキサデシルチオブロビル)エ
ーテル及びペンタエリトリットトリス(n−ヘキサデシ
ルチオブロビル)エーテルの混合物41 gを得た(収
率38%)。最終生成物は融点範囲40〜48℃の白色
固体だった。この生成物のNMR分析は、テトラキスエ
ーテル/トリスエーテルの比40/ 60を示した。
時間保持した。次いで、未精製生成物のワックス様固体
をイソブロビルアルコール400mj2とヘキサン10
0mffとの准合物から4回再結晶して、ペンタエリト
リットテトラキス(n−ヘキサデシルチオブロビル)エ
ーテル及びペンタエリトリットトリス(n−ヘキサデシ
ルチオブロビル)エーテルの混合物41 gを得た(収
率38%)。最終生成物は融点範囲40〜48℃の白色
固体だった。この生成物のNMR分析は、テトラキスエ
ーテル/トリスエーテルの比40/ 60を示した。
元素分折:
計算値
C..H,.4S404について
C: 73.12% H: 12.43% S: 9.
64%0: 4.81% C..H,.,O.Ssについて C: 72.16% H: 12.30% S: 9.
3%0: 6.2% Ot{: 1.7% 実測値 C: 73.3% H: 12.5% S:
9.26 %OH: 1.12% 園互:ペンタエリトリットテトラキス(n−ヘキサデシ
ルチオブロビル)エーテルの製造用いた操作は、ヘキサ
デシルメル力ブタン107g (0.417モル)を純
粋なペンタエリトリットテトラアリルエーテル29.6
4 g (0.1モル)と反応させたことを除いて例4
に記載したものと同一である。未精製生成物をヘキサン
300mβから3回再結晶して、融点55〜57℃の白
色固体57 gを得た。
64%0: 4.81% C..H,.,O.Ssについて C: 72.16% H: 12.30% S: 9.
3%0: 6.2% Ot{: 1.7% 実測値 C: 73.3% H: 12.5% S:
9.26 %OH: 1.12% 園互:ペンタエリトリットテトラキス(n−ヘキサデシ
ルチオブロビル)エーテルの製造用いた操作は、ヘキサ
デシルメル力ブタン107g (0.417モル)を純
粋なペンタエリトリットテトラアリルエーテル29.6
4 g (0.1モル)と反応させたことを除いて例4
に記載したものと同一である。未精製生成物をヘキサン
300mβから3回再結晶して、融点55〜57℃の白
色固体57 gを得た。
元素分析: Ca−H+a−S4
計算値 C: 73.12% }l: 12.43%
S: 9.64%0: 4.81% 実測値 C: 73.4% t{: 11.9% S:
10.0%赳1:ペンタエリトリットテトラキス(n
−ドデシルチオブロビル)エーテルの製造 用いた操作は、n−ドデシルメル力ブタン123.9
g (0.612モル)をペンタエリトリットテトラア
リルエーテル44. 5 g ( 0. 15モル)と
反応させたことを除いて例4に記載したものと同一であ
る。未精製生成物をヘキサン800mβから2回再結品
して、融点38〜40℃の白色固体95 gを得た。
S: 9.64%0: 4.81% 実測値 C: 73.4% t{: 11.9% S:
10.0%赳1:ペンタエリトリットテトラキス(n
−ドデシルチオブロビル)エーテルの製造 用いた操作は、n−ドデシルメル力ブタン123.9
g (0.612モル)をペンタエリトリットテトラア
リルエーテル44. 5 g ( 0. 15モル)と
反応させたことを除いて例4に記載したものと同一であ
る。未精製生成物をヘキサン800mβから2回再結品
して、融点38〜40℃の白色固体95 gを得た。
対l:ベンタエリトリットテトラキス(n−オクタデシ
ルヂオブロビル)エーテルの製造用いた操作は,n−オ
クタデシルメル力ブタン119.4 g (0.417
モル)をペンタエリトリットテトラアリルエーテル29
.6 g (0.1モル)と反応させたことを除いて例
4に記載したものと同一である。未精製生成物をヘキサ
ン300mj2から3回再結晶して、融点60〜63℃
の白色固体54 gを得た。
ルヂオブロビル)エーテルの製造用いた操作は,n−オ
クタデシルメル力ブタン119.4 g (0.417
モル)をペンタエリトリットテトラアリルエーテル29
.6 g (0.1モル)と反応させたことを除いて例
4に記載したものと同一である。未精製生成物をヘキサ
ン300mj2から3回再結晶して、融点60〜63℃
の白色固体54 gを得た。
1: トリメチロールプロパントリス(n−ヘキサデシ
ルチオブロビル)エーテルの製造用いた操作は、ヘキサ
デシルメル力ブタン79.3g (0.307モル)を
トリメチロールプロパントリアリルエーテル25 g
(0.0983モル)と反応させたことを除いて例4に
記載したものと同一である。未精製生成物をヘキサン3
00mI2.から3回再結晶して、融点39〜44℃の
白色固体34 gを得た。
ルチオブロビル)エーテルの製造用いた操作は、ヘキサ
デシルメル力ブタン79.3g (0.307モル)を
トリメチロールプロパントリアリルエーテル25 g
(0.0983モル)と反応させたことを除いて例4に
記載したものと同一である。未精製生成物をヘキサン3
00mI2.から3回再結晶して、融点39〜44℃の
白色固体34 gを得た。
剋旦:トリメチロールプロパントリス(n−才クタデシ
ルチオブ口ビル)エーテルの製造用いた操作は、n−オ
クタデシルメル力ブタン92.7g (0.323モル
)をトリメチロールプロパントリアリルエーテル25
g ( 0. 0983モル)と反応させたことを除い
て例4に記載したちのと同一である。未精製生成物をヘ
キサン300rr+j2から3回再結晶して、融点43
〜45℃の白色固体53 gを得た。
ルチオブ口ビル)エーテルの製造用いた操作は、n−オ
クタデシルメル力ブタン92.7g (0.323モル
)をトリメチロールプロパントリアリルエーテル25
g ( 0. 0983モル)と反応させたことを除い
て例4に記載したちのと同一である。未精製生成物をヘ
キサン300rr+j2から3回再結晶して、融点43
〜45℃の白色固体53 gを得た。
LL!2:ジペンタエリトリットへキサキス(n−才ク
チルチオブロビル)エーテルの製造 用いた操作は、n−才クチルメル力ブタン134.4
g (0.919モル)をジベンタエリトリットへキサ
アリルエーテル74.25 g (0.15モル)と反
応させたことを除いて例4のものと同一である.未精製
生成物の油分をヘキサン500mj2中で−76℃(ド
ライアイス/アセトン浴)において3回低塩再結晶して
、透明な油分20 gを得た。
チルチオブロビル)エーテルの製造 用いた操作は、n−才クチルメル力ブタン134.4
g (0.919モル)をジベンタエリトリットへキサ
アリルエーテル74.25 g (0.15モル)と反
応させたことを除いて例4のものと同一である.未精製
生成物の油分をヘキサン500mj2中で−76℃(ド
ライアイス/アセトン浴)において3回低塩再結晶して
、透明な油分20 gを得た。
鯉旦.ジベンタエリトリットへキサキス(n−ドデシル
チオブロビル)エーテルの製造 用いた操作は、n−ドデシルメル力ブタン123.9
g (0.612モル)をジベンタエリトリットへキサ
アリルエーテル49.5 g (0.10モル)と反応
させたことを除いて例4のものと同一である。
チオブロビル)エーテルの製造 用いた操作は、n−ドデシルメル力ブタン123.9
g (0.612モル)をジベンタエリトリットへキサ
アリルエーテル49.5 g (0.10モル)と反応
させたことを除いて例4のものと同一である。
未精製生成物の油分なヘキサン500mg中で=lO℃
において3回低温再結晶して、透明な油分38gを得た
。
において3回低温再結晶して、透明な油分38gを得た
。
1:ジペンタエリトリットへキサキス(n−ヘキサデシ
ルチオブロビル)エーテルの製造用いた操作は、ヘキサ
デシルメル力ブタン15L3 g (0.612モル)
をジベンタエリトリットへキサアリルエーテル49.5
g (0.10モル)と反応させたことを除いて例4
に記載したものと同一である。未精製生成物の固体をヘ
キサン600mβ中で3回再結晶して、融点44〜45
℃の白色固体75 gを得た。
ルチオブロビル)エーテルの製造用いた操作は、ヘキサ
デシルメル力ブタン15L3 g (0.612モル)
をジベンタエリトリットへキサアリルエーテル49.5
g (0.10モル)と反応させたことを除いて例4
に記載したものと同一である。未精製生成物の固体をヘ
キサン600mβ中で3回再結晶して、融点44〜45
℃の白色固体75 gを得た。
鯉■:
この例は、慣用の酸化防止剤と比較した本発明のスルフ
ィド系酸化防止剤のより大きい安定性を例証するもので
ある。
ィド系酸化防止剤のより大きい安定性を例証するもので
ある。
プラスチック添加剤の安定性を測定するためにプラスチ
ック工業において慣用的に用いられている方法は、熱重
量分析法である。酸化防止剤の少量の試料(10〜25
m g )を白金製ボート中で毎分lO℃の昇温速度で
加熱し、5%の重量低下のために必要な温度を測定した
。ガス流は、デュポン(Du−Pont)社製の990
0型熱重量分析機において毎分200ccだった。最初
の5個の被検試料(即ちA−E)はプラスチック工業に
おいて一般に用いられている慣用の安定剤である。
ック工業において慣用的に用いられている方法は、熱重
量分析法である。酸化防止剤の少量の試料(10〜25
m g )を白金製ボート中で毎分lO℃の昇温速度で
加熱し、5%の重量低下のために必要な温度を測定した
。ガス流は、デュポン(Du−Pont)社製の990
0型熱重量分析機において毎分200ccだった。最初
の5個の被検試料(即ちA−E)はプラスチック工業に
おいて一般に用いられている慣用の安定剤である。
罠±
5%の のための温
温度
窒素中
(’C)
空気中
A)チオジブロビオン酸ジステ
アリル
B)チオジブロビオン酸ジラウ
リル
C)ジステアリルベンタエリト
リットジホスファイト
D)テトラキス(2.4−ジーt一
プチルフェニル)−4,4゜−ビス
フエニリレンジホスホナイト
E) トリス(2.5−ジーt−プチルフェニル)ホ
スファイト 例1の化合物 例2の化合物 例3の化合物 例4の化合物 例5の化合物 例7の化合物 例8の化合物 例9の化合物 例10の化合物 例11の化合物 例l2の化合物 表1からわかるように、本発明のスルフィド系酸化防止
剤は明らかに、慣用の酸化防止剤よりはるかに高い安定
性を示す。特に、窒素中及び酸素中の両方において本発
明のスルフイド系酸化防止剤は従来の酸化防止剤と比較
して5%重量低下をもたらすのに有意に高い温度を必要
とする。
スファイト 例1の化合物 例2の化合物 例3の化合物 例4の化合物 例5の化合物 例7の化合物 例8の化合物 例9の化合物 例10の化合物 例11の化合物 例l2の化合物 表1からわかるように、本発明のスルフィド系酸化防止
剤は明らかに、慣用の酸化防止剤よりはるかに高い安定
性を示す。特に、窒素中及び酸素中の両方において本発
明のスルフイド系酸化防止剤は従来の酸化防止剤と比較
して5%重量低下をもたらすのに有意に高い温度を必要
とする。
本発明は、本発明の思想及び実質的な属性から逸脱する
ことなく他の特定形態で実施することができ、従って本
発明の範囲を示すには、上記の発明の詳細な説明の項よ
りもむしろ特許請求の範囲を参照すべきである。
ことなく他の特定形態で実施することができ、従って本
発明の範囲を示すには、上記の発明の詳細な説明の項よ
りもむしろ特許請求の範囲を参照すべきである。
r −・−)
Claims (27)
- (1)ポリカーボネート、ポリアリールエーテル、ポリ
アミド、ポリエステル、ポリアセタール、ポリアリール
スルフィド、セルロースエステル及びスチレンコポリマ
ーより成る群から選択されるポリマー系エンジニアリン
グ樹脂と、該樹脂を加工及び使用の際の酸化分解又は熱
分解に対して安定化するのに充分な量の有機スルフィド
とを含有する組成物であって、 該有機スルフィド系酸化防止剤が次の式 I 、II又はII
I: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (これら式中、nは2〜15の整数であり、mは0又は
1であり、 Rは2〜30個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
アルキル基、5〜20個の炭素原子を有する置換若しく
は非置換シクロアルキル基、2〜30個の炭素原子を有
し且つ6個までの炭素原子が複素原子O若しくはSで置
き換えられた置換若しくは非置換アルキル基又は5〜2
0個の炭素原子を有し且つ6個までの炭素原子が複素原
子O若しくはSで置き換えられた置換若しくは非置換シ
クロアルキル基であり、但し、前記複素原子は互いに隔
離され且つ基Rが結合している該化合物中の部位から少
なくとも炭素原子1個分だけ隔離されていなければなら
ず、Rについての置換基は−OH、−SR^4又は−O
R^4であり、ここでR^4は1〜30個の炭素原子を
有するアルキル基又は5〜20個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基であり、R^1及びR^2はそれぞれH
又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であり、 R^3は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基又は
5〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基であり
、 R^5は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基であ
り、 R^6はH又は1〜24個の炭素原子を有するアルキル
基であり、但し、mが0である場合にはR^6はH又は
1〜7個の炭素原子を有するアルキル基であり、そして
mが1である場合にはR^6は1〜24個の炭素原子を
有するアルキル基であり、 R^7は直接結合又は1〜4個の炭素原子を有するアル
キレン基であり、 R^8は5〜16個の炭素原子を有する単環、二環又は
三環式シクロアルキル基である)で表わされることを特
徴とする前記組成物。 - (2)ポリマー系エンジニアリング樹脂が ・ポリ(2,6−ジメチル−p−フェニレンオキシド)
、 ・ポリ(2,3,6−トリメチル−p−フェニレンオキ
シド)、 ・ポリ(フェニレンエーテル−スルホン)、・ポリカプ
ロラクタム、 ・ポリヘキサメチレンアジパミド、 ・ポリヘキサメチレンノナンジアミド、 ・ポリヘキサメチレンセバカミド、 ・ポリヘキサメチレンドデカンジアミド、 ・ポリヘキサメチレンテレフタルアミド、 ・ポリウンデカンアミド、 ・ポリラウリルラクタム、 ・ポリ(フェニレンスルフィド)、 ・ポリ(エチレンテレフタレート)、 ・ポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)、・ポリ(
1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)、 ・ポリ(アセタール)、 ・セルロースアセテート、 ・セルロースアセテートプロピオネート、 ・スチレン−無水マレイン酸コポリマー 及び ・2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンか
ら誘導されるポリカーボネート より成る群から選択されることを特徴とする請求項1記
載の組成物。 - (3)有機スルフィドが請求項1記載の式 I 又はIIで
表わされる化合物であり、但し、これらの式中、 Rが次のもの: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、α及びβは結合のタイプである)であり、 R^1がH又はCH_3であり、 R^2がHであり、且つ R^3が10〜18個の炭素原子を有するアルキル基で
ある ことを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (4)Rが次のもの: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ であり、 R^1及びR^2がHであり、且つ R^3が12〜18個の炭素原子を有するアルキル基で
ある ことを特徴とする請求項3記載の組成物。 - (5)有機スルフィド系酸化防止剤が式IIIで表わされ
且つ次の3種の構造: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ 及び▲数式、化学式、表等があります▼ のうちの1種を有することを特徴とする請求項1記載の
組成物。 - (6)有機スルフィドの高温ポリマー系樹脂に対する重
量比が約1:10,000〜1:20であることを特徴
とする請求項1記載の組成物。 - (7)有機スルフィドのポリマー系樹脂に対する重量比
が約1:1,000〜1:50であることを特徴とする
請求項6記載の組成物 - (8)補助熱安定剤又は光安定剤をさらに含有すること
を特徴とする請求項1記載の組成物。 - (9)補助熱安定剤又は光安定剤が立体障害フェノール
類、ホスファイト類、有機アミン類、ベンゾフェノン類
及びベンゾトリアゾール類より成る群から選択されるこ
とを特徴とする請求項8記載の組成物。 - (10)ポリマー添加剤をさらに含有することを特徴と
する請求項1記載の組成物。 - (11)ポリマー添加剤が加工助剤、粘着防止剤、スリ
ップ剤、難燃剤、煙抑止剤、カップリング剤、湿潤剤、
顔料、充填剤及び強化材より成る群から選択されること
を特徴とする請求項10記載の組成物。 - (12)ポリカーボネート、ポリアリールエーテル、ポ
リアミド、ポリエステル、ポリアセタール、ポリアリー
ルスルフィド、セルロースエステル及びスチレンコポリ
マーより成る群から選択されるポリマー系エンジニアリ
ング樹脂を加工及び使用の際の酸化分解及び熱分解に対
して安定化するのに充分な量の有機スルフィド系安定剤
を該ポリマー系エンジニアリング樹脂に添加して成る、
該ポリマー系エンジニアリング樹脂を酸化分解又は熱分
解に対して安定化する方法であって、 前記有機スルフィドが次の式 I 、II又はIII:▲数式、
化学式、表等があります▼( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (これら式中、mは0又は1であり、 nは2〜15の整数であり、 Rは2〜30個の炭素原子を有する置換若しくは非置換
アルキル基、5〜20個の炭素原子を有する置換若しく
は非置換シクロアルキル基、2〜30個の炭素原子を有
し且つ6個までの炭素原子が複素原子O若しくはSで置
き換えられた置換若しくは非置換アルキル基又は5〜2
0個の炭素原子を有し且つ6個までの炭素原子が複素原
子O若しくはSで置き換えられた置換若しくは非置換シ
クロアルキル基であり、但し、前記複素原子は互いに隔
離され且つ基Rが結合している該化合物中の部位から少
なくとも炭素原子1個分だけ隔離されていなければなら
ず、Rについての置換基は−OH、−SR^4又は−O
R^4であり、ここでR^4は1〜30個の炭素原子を
有するアルキル基又は5〜20個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基であり、R^1及びR^2はそれぞれH
又は1〜4個の炭素原子を有するアルキル基であり、 R^3は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基又は
5〜20個の炭素原子を有するシクロアルキル基であり
、 R^5は1〜24個の炭素原子を有するアルキル基であ
り、 R^6はH又は1〜24個の炭素原子を有するアルキル
基であり、但し、mが0である場合にはR^6はH又は
1〜7個の炭素原子を有するアルキル基であり、そして
mが1である場合にはR^6は1〜24個の炭素原子を
有するアルキル基であり、 R^7は直接結合又は1〜4個の炭素原子を有するアル
キレン基であり、 R^8は5〜16個の炭素原子を有する単環、二環又は
三環式シクロアルキル基である)で表わされることを特
徴とする前記方法。 - (13)有機スルフィドが請求項12記載の式 I 又は
IIで表わされる化合物であり、但し、これらの式中、 Rが次のもの: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ (ここで、α及びβは結合のタイプである)であり、 R^1がH又はCH_3であり、 R^2がHであり、且つ R^3が10〜18個の炭素原子を有するアルキル基で
ある ことを特徴とする請求項12記載の方法。 - (14)Rが次のもの: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
、表等があります▼ であり、 R^1及びR^2がHであり、且つ R^3が12〜18個の炭素原子を有するアルキル基で
ある ことを特徴とする請求項13記載の方法。 - (15)有機スルフィド系酸化防止剤が式IIIで表わさ
れ且つ次の3種の構造: ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ 及び▲数式、化学式、表等があります▼ のうちの1種を有することを特徴とする請求項12記載
の方法。 - (16)ポリマー系エンジニアリング樹脂が・2,2−
ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンから誘導され
るポリカーボネート、 ・ポリ(2,6−ジメチル−p−フェニレンオキシド)
、 ・ポリ(2,3,6−トリメチル−p−フェニレンオキ
シド)、 ・ポリ(フェニレンエーテル−スルホン)、・ポリカプ
ロラクタム、 ・ポリヘキサメチレンアジパミド、 ・ポリヘキサメチレンノナンジアミド、 ・ポリヘキサメチレンセバカミド、 ・ポリヘキサメチレンドデカンジアミド、 ・ポリヘキサメチレンテレフタルアミド、 ・ポリウンデカンアミド、 ・ポリラウリルラクタム、 ・ポリ(フェニレンスルフィド)、 ・ポリ(エチレンテレフタレート)、 ・ポリ(1,4−ブチレンテレフタレート)、・ポリ(
1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート)、 ・ポリ(アセタール)、 ・セルロースアセテート、 ・セルロースアセテートプロピオネート 及び ・スチレン−無水マレイン酸コポリマー より成る群から選択されることを特徴とする請求項12
記載の方法。 - (17)有機スルフィド系酸化防止剤が(n−オクタデ
シルチオ)エチル−3(4)−n−オクタデシルチオシ
クロヘキサン)であることを特徴とする請求項1記載の
組成物。 - (18)有機スルフィド系酸化防止剤が1,4(5),
8(9)−トリス(ヘキサデシルチオ)シクロドデカン
であることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (19)有機スルフィド系酸化防止剤がペンタエリトリ
ットテトラキス(n−オクタデシルチオプロピル)エー
テルであることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (20)有機スルフィド系酸化防止剤がペンタエリトリ
ットトリス(n−オクタデシルチオプロピル)エーテル
であることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (21)有機スルフィド系酸化防止剤がペンタエリトリ
ットテトラキス(n−ドデシルチオプロピル)エーテル
であることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (22)有機スルフィド系酸化防止剤がペンタエリトリ
ットトリス(n−ドデシルチオプロピル)エーテルであ
ることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (23)有機スルフィド系酸化防止剤がトリメチロール
プロパントリス(n−オクタデシルチオプロピル)エー
テルであることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (24)有機スルフィド系酸化防止剤がトリメチロール
プロパントリス(n−ヘキサデシルチオプロピル)エー
テルであることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (25)有機スルフィド系酸化防止剤がトリメチロール
プロパントリス(n−オクチルチオプロピル)エーテル
であることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (26)有機スルフィド系酸化防止剤がジペンタエリト
リットヘキサキス(n−ドデシルチオプロピル)エーテ
ルであることを特徴とする請求項1記載の組成物。 - (27)有機スルフィド系酸化防止剤がジペンタエリト
リットヘキサキス(n−ヘキサデシルチオプロピル)エ
ーテルであることを特徴とする請求項1記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/429,883 US5081169A (en) | 1989-10-31 | 1989-10-31 | Organic sulfide stabilized polymeric engineering resins |
| US429883 | 1989-10-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03170559A true JPH03170559A (ja) | 1991-07-24 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5081169A (ja) |
| EP (1) | EP0427103A1 (ja) |
| JP (1) | JPH03170559A (ja) |
| KR (1) | KR910008050A (ja) |
| AU (1) | AU642164B2 (ja) |
| BR (1) | BR9005423A (ja) |
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| US5070124A (en) * | 1989-10-31 | 1991-12-03 | Atochem North America, Inc. | Sulfide antioxidants for stabilizing crosslinked polyolefins |
| EP0611797B1 (en) * | 1993-02-17 | 1998-12-02 | Bayer Ag | Radiation-resistant polycarbonates |
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| KR100971658B1 (ko) * | 2008-01-03 | 2010-07-22 | 엘지전자 주식회사 | 실리콘 태양전지의 텍스처링 방법 |
| FR3087198B1 (fr) | 2018-10-11 | 2021-11-19 | Arkema France | Poudre de polymere thermoplastique pour impression 3d a recyclabilite amelioree |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US2995539A (en) * | 1956-03-01 | 1961-08-08 | Du Pont | Ethylene polymer composition containing alkanol sulfide polymer |
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| NL276273A (ja) * | 1961-04-04 | |||
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| US3248403A (en) * | 1962-03-27 | 1966-04-26 | Du Pont | Alpha, omega-bifunctional polythiomethylene compounds |
| US3258493A (en) * | 1962-09-11 | 1966-06-28 | Nat Distillers Chem Corp | alpha, alpha'-bis(laurylthio)-p-xylene |
| US3223738A (en) * | 1963-03-15 | 1965-12-14 | Phillips Petroleum Co | Cyclododecadienyl mercaptans and thioethers |
| US3277181A (en) * | 1963-07-10 | 1966-10-04 | Carlisle Chemical Works | Cyclic saturated thioethers |
| DE1545155A1 (de) * | 1964-01-31 | 1970-01-22 | Glanzstoff Ag | Verfahren zur Verbesserung der Stabilitaet von Polyolefinen |
| US3305520A (en) * | 1965-04-06 | 1967-02-21 | Bayer Ag | Polycarbonates stabilized by phosphites |
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