JPH0317263A - 物質蒸気発生装置 - Google Patents

物質蒸気発生装置

Info

Publication number
JPH0317263A
JPH0317263A JP15267689A JP15267689A JPH0317263A JP H0317263 A JPH0317263 A JP H0317263A JP 15267689 A JP15267689 A JP 15267689A JP 15267689 A JP15267689 A JP 15267689A JP H0317263 A JPH0317263 A JP H0317263A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
reflector
vapor
material vapor
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15267689A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Hara
一彦 原
Shigeo Eguri
成夫 殖栗
Yoichiro Tabata
要一郎 田畑
Yoshihiro Ueda
植田 至宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP15267689A priority Critical patent/JPH0317263A/ja
Publication of JPH0317263A publication Critical patent/JPH0317263A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/031Metal vapour lasers, e.g. metal vapour generation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、物質の蒸気を励起媒体又は電離媒体として
利用する物質蒸気発生装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来のこの種の物質の蒸気を利用した物質蒸気発生装置
の一例として、金属蒸気レーザ装置や、蒸気イオンビー
ム装置がある。
粕5図は昭和56年度レーザ研究、第9巻、第2?、第
60頁〜第61頁、「銅蒸気レーザの製作」に示された
従来の金属蒸気レーザ装置を示す断面図であり、図にお
いて、(1)は陰極端子、(2)は陽極端子、(3)は
陰極、(4)は陰極(3)に対向する陽極、(5)は電
極(3).(4)間に配置され、内部に物質蒸気空間で
ある放電が形成される容器で、例えば内管、(6)はこ
の内管(5)から径方向への熱伝導や対流による熱損失
を抑制するための断熱材、(7)は真空部OUを形成す
るためのシール管、(8)はレーザ光を取り出す窓、(
9)はこれらを取り囲む金属外管、切は金属蒸気を生成
する金属粒、aηは上記シール管から径方向への熱伝導
や対流による熱損失を抑制するための真空部、■■■は
真空部uI7の内部で、内管(5)を取り囲み、上記シ
ール管(7)からの熱放射による熱損失を抑制する複数
の熱反射体で、この例では金属で層状に4層設けられて
いる。αJは熱反射体切を支持するスペーサである。
次に動作について説明する。陰極端子(1)と陽極端子
(2)の間にパルス電圧が印加されると、陰極(3)と
陽f!)i(4)との間にパルス放電が発生し、内管(
5〕の内部に放電が形成される。次いで、放電により発
生した熱は、内管(5)に伝導し、内管(5)を取り囲
む断熱材(6)2真空部Qη,熱反射体q4,スペーサ
αJにより径方向への熱の放流,伝導,放射による熱損
失を極力抑えることで、内管(5)の温度を上昇させる
。温度が上昇すると、内管(5)内部に設定した金属粒
αQを溶融して、レーザ発振を起こすのに必要な金属蒸
気を得る。この状態において、パルス電圧により、金属
蒸気が励起され、反転分布を起こし、光共振器(第5図
には示されていない)を両端の窓(8)の外側に設置す
れば、窓(8)を通して、レーザ光が得られる。
〔発明が解決しようとする課題〕
従来の物質蒸気発生装置は、以上のように構成されてお
り、各熱反射体0の層間には数mm程度の隙間が存在す
る。通常、熱反射体(自)は装置の効率を上げるため、
反射率の^い材質のものを用いる。このため、熱放射に
よる熱流は層聞で反射を繰り返し、軸方向に流れ出てし
まう。この熱流を減少するためには、熱反射体(6)の
層間の隙間をな?すことか必要であるが、熱反射体(J
4の各層を互いに接触させると、熱反射体a″4間に熱
伝導による熱流が発生し、装置の効率が悪くなるという
問題点があった。即ち、例えば金属蒸気レーザ装置にお
いては、熱反則体四の径方向の熱損失が大きい場合、金
属蒸気を発生させるための所定の温度を得る内管(5冫
への投入電力が増加し、レーザ媒質のガス温度が増加す
る。このため、レーザ出力が減少し、レーザの効率も悪
くなる。また、熱反射体■■■の軸方向の熱損失が大き
い場合、内管(5ノの軸方向温度が平坦でなくなり、内
管(5)への同じ投入電力に対して、軸方向のレーザの
媒寅長が減少し、レーザの効率が悪くなる。また、熱反
射体q4のわずかの隙間を非接触で支持することは、熱
反射体の組立てが煩雑であるなどの問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、熱反射体の隙間を通って軸方向に流れ出る熱
放射による熱流及ひ熱反射体から流れ出る熱伝導による
熱流を減少することで、装置の熱効率を良くし、レーザ
媒質のガス浪度を減少してレーザ出力を増加でき、また
、装置の軸方向温度を平坦にし、軸方向のレーザ媒質長
を増加することで、レーザの効率を良くできると共に、
熱反射体の製作、組み立ての容易な装置を得ることを目
的とする。
〔課題を解決するための手段〕
この発明に係る物質蒸気発生装置は、物質蒸気空間を横
成する容器、この容器を取り囲む1酎状の熱反射体を備
え、物質蒸気空間で発生した魚気を励起媒体又はwt離
媒体として利用するものにおいて、熱反射体のMZに、
この層面に交わるように設けた熱反射板を備えたもので
ある。
〔作用〕
この発明における物質蒸気釦生装置は、各熱反射体の隙
間に熱反射板を設けることより、熱反射体から軸方向に
流れ出る熱放射による熱流が熱反射板により反射され、
この熱量を減少できる。
〔実九例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実九例を示す断面図である。(1)〜
Q4は上記従来装置と同一又は相当のものである。鍬1
図において、H , (t4a) , (14b)は各
熱反射体四の隙間に設けられた、例えばドーナッツ状の
平板で横戊した熱反射体である。この熱反則体041は
、表面が鏡面である金属板、即ちモリブデンやタンタル
などの金属板の上に金蒸着等をルして表面を鏡面に仕上
げたものや、金属板の表面を研磨して鏡面に仕上げた。
のである。このドーナツ状の平板(14a) , (1
4b)を熱反射体(1′4の各隙間に祖数仏設けている
。この時の熱反射体04の層間は約2〜3 mm程度と
し、熱反射板(1−9の厚さは約数十ミクロン程度とし
ている。また、この熱反射板04の光学的反射率は、鏡
面仕上げをしているので、99%程度である。
以下に、この実施例における熱反射板0−t)の作用及
び動作について説明する。第2図,第3図は熱.反躬板
Q−uを熱反対体(1′4の隙間に設けない場合の金r
FI4−a気レーザ装置に対して行った熱計算結果を示
す。この計算において、熱反射体aa間の熱損失過程は
、熱放射のみとし、熱反射体四の表面での熱放射の規則
反射を考慮した。第2図は熱反射体(6)の隙間を通っ
て流れ出る熱放射による熱流量を説明するための説明図
であり、図中、矢印は熱流量の流れる方向を示し、A−
Gは装置の各場所を示している。例えば、内管(5)の
温度を約1500度、電気入力を3kWと想定した場合
の熱流量分布を示すと、場所Aの場合、内管(5)への
全投入電力に対する熱流星の割合は13%,場所Bでは
13%,場所Cでは11%,場所υでは9%,場所Eで
は12%,場所Fでは23%,場所6では20%となっ
ている。
ここで、熱反射体四の枚数は5枚、熱反射体の光学的反
射率は、金属外筒(9)と対向する熱反射体(自)を0
.05 (例えば、銅板)、その他の熱反射体は0.0
1 (例えば、金蒸着した板)とした。第2図によれば
、内管(5冫への投入電力の37%(A十B+C)がシ
ール管(7)から真空脂Oυの熱反射体四へ流れ出るこ
とになる。また、第3図における縦軸は、この熱反射体
Q4へ流れ込む熱流量に対する熱反則体の陣間を通って
軸方向へ流れ出る全熱流量の割合(A十B)を示してい
る。また、図の横軸は、放射?ールド板の放射率、即ち
その他の熱反射体■■■の反射率を示す。これから、放
射率がO、即ち反射率が1に近ずくと、熱反別体へ流れ
込む熱流量の全部が、熱反射体から軸方向に流れ出るの
がわかる。よって、第1図に示すように、熱反射体■■
■の層間に、層面に交わるように熱反射板αΦを設ける
と、層間での軸方向に流れ出る熱流を熱反射板(14J
が反射し、軸方向に流れ出るのを妨げる。従って、熱損
失を抑制でき、装置の軸方向温度が平坦になる。このた
め、装置の熱効率を向上できるので、レーザ媒質のガス
温度を減少してレーザ出力を増加できる。
第4図(a)〜(d)はそれぞれこの発明の他の実九例
による熱反射板0り周辺を拡大して示す断面図である。
第4図(a)は熱反射体u4の端部を垂直に折り曲げて
、熱反射板a〜を構成したものである。また、第4図(
b)は熱反射体aaの一部を凸状に変形させて熱反射板
Q4を構成したものである。また,第4図(C)は上記
実施例と同様に熱反射板a<を熱反射体(1′4の一部
に固着又は熱反射体q4と一体化して描成しているが、
1つの熱反射体(1′4に接触している熱反射板Q4l
はその上下の熱反射体(6)と接触しないように構成し
ている。この実地例では、上記実地例の効果に加え、熱
反射板α勾を介して上下の熱反射体(1′4へゐれ出る
熱流を減少できる。即ち、熱反射体O→を通って径方向
に流れ出る熱流を減少できる。
また、第4図(d)も第4図(C)に示した実抛例と同
様のものであるが、その形状は断筒がL字状のものを示
している。
この熱反躬板α力は上記実九例の形状.材質に限るもの
ではないが、光学的反射率の大きいものが、熱反射体0
″4から軸方向に流れ出る熱流を反射する割合を増加す
るので、より好ましい。また、熱反射板CI4)の熱伝
導率を小さくすれば、熱反射板(141から熱反射体(
6)に流れ出る熱流を減少できる。また、第4図(a)
 . (b)に示すような構成にすれば、熱反射板U<
の支持スペーサの役割を備えることになり、現在、別に
設けている支持スペーサQJが不必要となる。また、熱
反射板a<は金属としたが、これに限らず、アルミナ等
の絶縁物の基板の表面に金蒸着等の金,li!4膜で鏡
面を形成してもよいよ〔発明の効果〕 以上のように、この発明によれば、物質蒸気空間を栂成
する容器、この容器を取り囲む層状の熱反射体を伽え、
物質蒸気空間で発生した蒸気を励組媒体又は!離媒体と
して利用するものにおいて、熱反射体の層間に、この層
面に交わるように設けた熱反射板をu4えることにより
、熱反射体から流れ出る熱放射及び熱伝導による熱流を
減少でき、装置の熱効率が改善され、また、装置の軸方
向温度を平坦にでき、そのため、蒸気を軸方向に長く得
ることができ、効率の良い物質蒸気発生装置を得ること
ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
譲1図はこの発明の一実抛例による物質蒸気発生製置を
示す断面図、粕2図は熱反射体の層間を通って流れ出る
熱反射による熱流量を説明するための説明図、粕3図は
放射シールド板の放対率に対する軸方向放熱量/放射シ
ールドへの入熱1(ヘ)を示すグラフ、第4図(a)〜
(d)はそれそれこの発明の他の実胤例に係る熱反躬板
周辺を拡大して示す断面図、第5図は従来の物負蒸気発
生装置を示す断面図である。 (3)・・・隘極、(4)・・・陽極、(5)・・・内
管、(7)・・・シール管、(9)・・・金属外管、a
t+・・・真空部、q4・・・熱反射体、a<・・・熱
反射板。 なお、図中、開一符号は同一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  物質蒸気空間を構成する容器、この容器を取り囲む層
    状の熱反射体を備え、上記物質蒸気空間で発生した蒸気
    を励起媒体又は電離媒体として利用するものにおいて、
    上記熱熱反射体の層間に、この層面に交わるように設け
    た熱反射板を備えた物質蒸気発生装置。
JP15267689A 1989-06-14 1989-06-14 物質蒸気発生装置 Pending JPH0317263A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15267689A JPH0317263A (ja) 1989-06-14 1989-06-14 物質蒸気発生装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15267689A JPH0317263A (ja) 1989-06-14 1989-06-14 物質蒸気発生装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0317263A true JPH0317263A (ja) 1991-01-25

Family

ID=15545674

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15267689A Pending JPH0317263A (ja) 1989-06-14 1989-06-14 物質蒸気発生装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0317263A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7328885B2 (en) Plasma radiation source and device for creating a gas curtain for plasma radiation sources
JP3506055B2 (ja) 誘電体バリア放電ランプ、およびその光照射装置
JPH0329317B2 (ja)
JPH0317263A (ja) 物質蒸気発生装置
US3314021A (en) Cathodoluminescent pumped laser having a cathode surrounding the laser
US4912719A (en) Ion laser tube
US4653060A (en) Gas laser tube and method for manufacturing the same
US3863178A (en) Apparatus for the production of laser radiation from a metal vapor
US4815091A (en) Metal vapor laser
JPH0771362A (ja) イオンスラスタ及びその構造の製造方法
EP0319898B1 (en) Metal vapor laser apparatus
US3525950A (en) Laser apparatus having high efficiency pumping arrangement
JPS6355987A (ja) レ−ザ装置
RU2303828C2 (ru) Рентгеновская трубка
US4041415A (en) Coaxial electron beam pumped laser
CN221008900U (zh) 一种增强光效的介质阻挡放电准分子光源
RU2100882C1 (ru) Лазерная электронно-лучевая трубка
JPH0453010Y2 (ja)
RU2525665C2 (ru) Лазерная электронно-лучевая трубка
US3931493A (en) Apparatus and method for the production of metal vapor
JPH0317261A (ja) 物質蒸気発生装置
WO1994006147A1 (fr) Tube a faisceau d'electrons pour laser
CN2391349Y (zh) 环形射频谐振腔激励的径向波激光器
JPH03237773A (ja) 金属蒸気レーザ装置
JPH03237772A (ja) 金属蒸気レーザ装置