JPH0317292A - 溶融塩浴による電気アルミニウムめっき装置 - Google Patents

溶融塩浴による電気アルミニウムめっき装置

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JPH0317292A
JPH0317292A JP15073689A JP15073689A JPH0317292A JP H0317292 A JPH0317292 A JP H0317292A JP 15073689 A JP15073689 A JP 15073689A JP 15073689 A JP15073689 A JP 15073689A JP H0317292 A JPH0317292 A JP H0317292A
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JP
Japan
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plating
plating solution
strip
molten salt
salt bath
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JP15073689A
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English (en)
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Masayoshi Tadano
政義 多々納
Kazuyuki Hisada
久田 和行
Tatsuo Ito
達雄 伊藤
Yoshio Kato
加藤 喜雄
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Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Original Assignee
Nisshin Steel Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 《産業上の利用分野) 本発明は、低温溶融塩浴によるMLaアルミニウムめっ
き′f1置に関する. (従米 I支術 ) ストリップの電気アルミニウムめっき方法には有磯溶削
めっき浴を用いる方法と溶融塩浴を用いる方法とがある
が、近隼、後者のめっき方法で常温でも液体となる共晶
化合物を用いな低温溶融塩浴が作業性、安全性などの見
地から注目されている.例えば、アルミニウムハロデン
化物と(ノ、トリ)アルキルビリノニウムハロデン化物
またはイミダゾリウムハロデン化物とを混合溶融してな
る溶融塩浴などはその例である。
この方法で広幅のストリップを連続めっきする場合は、
従来より水溶液めっき浴による方法で一般的に使用して
いるめっき装置のようにストリ・冫プをめっき浴に浸漬
して、浴を攪件しながらストリンブを移送して電解する
装置によっていた。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、溶融塩浴による場合は、めっき液の粘性
が水溶液めっき浴に比べて高いため、攬件を強くしても
ストリップ表面に発生した反応〃入が除去されず、また
、金属イオンの供給も不十分なため、lt流密度を高く
しても+12i速めつきできないという問題があった. 本発明は、これらの問題を解消した溶融塩浴による電気
アルミニウムめっき装置を提供するものである. (if!H!ff点を解決するための手段)本発明は、
上記問題をストリップのパスライン上下に陽極板を平行
に近接させて配置して、ストリップを通板した場合、ス
トリップと陽極板との間に形威される隙間にめっき液を
噴出させてめっ8浴にすることにより解消した。
すなわち、本発明は、ガス4人口を有する密閉型室両側
にストリップの入口と出口とを設けて、これらの出入口
でもって設定するストリ・ノブのパスライン上下に陽極
板をパスラインと平行に近接配置して、各Mh極板とパ
スラインとの間のストリップ出側に噴出口をストリップ
入側方向に向けためっ8液噴出管を挿入するとともに、
下側陽極板の下方にめっき液貯溜槽を配置して、この貯
溜槽と前記めっきw1.噴出管とを循環パイプで接続し
、また、下測PI極板と貯M槽との間に流下口が貯溜槽
に接続されためっき液受けを配置し、さらに、外周をパ
スラインと接触させることができる位置に通電ロールを
配置することに上り電気アルミニウムめっき装置を構處
した. (作用) この電気7ノレミニウムめっき装置は、ストリンプを通
板すると、ストリップと陽極板との間に隙間が形戊され
、その隙間のストリップ出側にめっき液噴出管を配置し
てあるので、噴出管よりめっき液を噴射すると、めっき
液が充たされ、めっき浴となる.また、通74ローノレ
は、ストリンブのパスラインと接触させることのできる
位置に配置してあるので、ストリップ通板後ストリップ
と接触させて、これを陰極にすれば電解を行うことがで
きる。
めっき浴は、めっき液をストリ・ノブの出側から入側に
向かって噴出管より噴出させるようにしてであるので、
ストリップ表面に発生した反応がスを発生と同時に除去
する。また、めっき液組成と同じ金属イオン濃度のめっ
き液をストリップ芥面供給するので、ストリップ界面で
の金属イオン濃度が低くなることがない.さらに、めっ
き液を噴出管から噴出させると、めっき液は、陽!Ii
l板14の入′Rまで高速で流れ、入側に至るまで速度
の低下が少ない。これに対して、めっ!k液を充たした
めっき裕内で噴出管からめっき液を噴出させても、めっ
き液の抵抗によりめっき液速度は急速に遅くなり、入側
でのめっき8l速度を高速にすることができない. ストリ・ノブとlIl極板の間から流れためっき謀は、
下fltl!陽極板の下方に配置されためっき液受けで
集められ、めっき液貯溜槽に入る。この貯溜槽とめっき
液噴出管とは、循環バイブで接続されているので、循環
使用される. めっき液噴出管より噴出させためっき液やめ98液貯溜
槽内のめっき液は、〃ス導入口より密閉型室に窒素やア
ルゴンなどの不活性がスを辱入すれば、酸化を防止でき
る。
(実施例) !141図、第2図は、本発明に係る電気アルミニウム
めっき装置の1実施例を示すもので、fjS1図におい
て、密閉型室1の左側および右側には、それぞれ人口2
および出口3が設けられている。そして、これらの出入
口の外側にデフレクターロール4が配置され、これらに
より密閉型室1を通板させるストリップ5のパスライン
を設定している。
密閉型室1は、内部がストリップ5を通すスリットロを
有する仕切り板6により4室に区分けされ、人口2側か
らtjS1室7、第2室8、tlIJ3室9および第4
室10になっていて、第1室7は、完全に仕切られてい
るが、第2室8から第4室10は、下側が連続している
. 第1室7と#IJ2室8の入側にはめつき液流出防止ロ
ール11がストリップ5の上下に配置され、また、この
めっき液流出防止ロール11の次にはス} +7ップ5
上側に通電ロール12が、下側にバックアップロール1
3が配置され、バック7ツブロール13の上下位置調整
によりストリップ5を通電ロール12に接触させている
。第3室9と第4室10にも入側に通電ロール12とバ
ックアップロール13が同様に配置されている. また、第1〜4室の各室とも通電ロール12とバックア
ンプロール13の次に高純度アルミニウム板からなるF
!極板14がストリップ5の上下に平行に配置されてい
る.これらの陽極板14は、12図に示すように、とも
1こストリ・冫ブ5の幅より広い1枚板で、ストリ・冫
プ5に近接して配置され、上側のものは、密閉型室1の
上部に固着され、下側のものは側面に固着されている.
そして、これらの陽極板14とストリップ5との間のス
トリップ出側には、噴出口を入側方向に向けためっき液
噴出管15が挿入されている。なお、陽極板は、1枚の
ものでなく、支持板の内側に陽極を固着したものでもよ
い. 各室のめっき液噴出管15の次には、〃イドロール16
が配置され、ストリップ5がめつき液噴出菅15や仕切
り板6と接触するのを防止している。第4室については
、このがイドロール16の次にめっ!液流出防止ロール
11が配置されている。
密閉型室1の入口2の外側には、グクト17が接続され
、内部にストリンブ5乾燥用の乾燥装置18がストリッ
プ5の通過位置両側に固着されている.同様に、密閉型
室1の出口3つ外側にもダクト17が接続されている.
なお、これらのダクト17およびffil¥l型室1に
は、〃ス導入口19が設けられている。
第1室7の下側にはめっき液貯溜槽20が設置され、こ
の貯溜槽と下側陽極板14との間にめっき液受け21が
固着されている。このめっき液受け21は、中央部に向
かって下り傾斜になっていて、その中穴部にめっき液貯
溜′Pa20と接続された流出口22が設けられている
同様に、第2室8から第4室10の連続した部分には、
めっき液貯WI槽20が設置され、この貯溜槽と下側陽
極板14との間に第1室と同様のめっき液受け21が固
着され、また、第3室9にも単独でめっき液受け2〕が
固着されている。
PtSl室7のめっき液貯溜′!f120は、図示して
ないが、第1室7のめっき液噴出管15と循環パイプで
接続され、同様に第2室8から第4室10の下部連続部
分に設けられためっき液貯溜槽20もPtS2室からW
S4室10のめっき液噴出管15に循環パイプで接続さ
れている。なお、いずれのめっき液貯溜槽20とも外側
にめっき?il23の温度制御用水W!24が設けられ
、下側に熱媒体を入れる入口25が、上側にその出口2
6が設けられている。
なお、今まで述べためっき液流出防止ロール11、バッ
クア・/ブロール13および〃イドロール16は、溶融
塩浴の場合、めっき液の腐食性が強いので、耐食性材料
、例えばフッ素ゴムで表面を被覆したものにする.また
、密閉型室1やめっき液受け21およびめっき液貯溜槽
2oを鋼材で作製する場合は、表面を耐食性材料、例え
ば7ノ素系樹脂、ガラス、塩化ビニル系υ1脂などで被
覆する. 通電ロール12としては、高純ノ文アルミニウムやNi
−Cr−No系合金製にすると不純物がめつき液に混入
しないので好ましい。
本実施例でのめっき装置は、第1室7で低電流密度でス
トリップの電解活性化処理を行い、第2〜4室でアルミ
ニウムのW1スめっきを施す、(発明の効果) 以上のように、本発明のめつき装置によれば、めっき液
の粘性が高い溶融塩浴でも高速でめっきできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る71taA7ルミニウムめっキ
f1raノ縦断面図であQ、PtS2図1i、tjSl
図11−■での横断面図である。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガス導入口を有する密閉型室両側にストリップの
    入口と出口とを設けて、これらの出入口でもっで設定す
    るストリップのパスライン上下に陽極板をパスラインと
    平行に近接配置して、各陽極板とパスラインとの間のス
    トリップ出側に噴出口をストリップ入側方向に向けため
    っき液噴出管を挿入するとともに、下側陽極板の下方に
    めっき液貯溜槽を配置して、この貯溜槽と前記めっき液
    噴出管とを循環パイプで接続し、また、下側陽極板と貯
    溜槽との間に流下口が貯溜槽に接続されためっき液受け
    を配置し、さらに、外周をパスラインと接触させること
    ができる位置に通電ロールを配置したことを特徴とする
    溶融塩浴による電気アルミニウムめっき装置。
  2. (2)密閉型室、めっき液受けおよびめっき貯溜槽の内
    面をフッ素系樹脂、塩化ビニル系樹脂またはガラスで被
    覆したことを特徴とする特許請求の範囲1項に記載の溶
    融塩浴による電気アルミニウムめっき装置。
  3. (3)めっき液貯溜槽の周囲に温度制御用の水槽を設け
    たことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の溶融
    塩浴による電気アルミニウムめっき装置。
  4. (4)通電ロールを高純度アルミニウム製またはNi−
    Cr−Mo系合金製にしたことを特徴とする特許請求の
    範囲1項に記載の溶融塩浴による電気アルミニウムめっ
    き装置。
JP15073689A 1989-06-14 1989-06-14 溶融塩浴による電気アルミニウムめっき装置 Pending JPH0317292A (ja)

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