JPH03174380A - 施釉装置の釉薬定量供給制御システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ　産業上の利用分野 本発明は、流量検出器と流量調節計とにより、釉薬圧送
ポンプの吐出量をＰＩＤ制御して、施釉の品質安定を計
る施釉装置の釉薬定量供給制御システムに関するもので
ある。

ロ　従来の技術 従来の施釉装置は、施釉室を通過する陶器搬送コンベア
によって施釉室へ搬送されて来る陶器表面に、釉薬タン
クから釉薬圧送ポンプによって供給される釉薬を、スプ
レ一方式により連続的に吹き付け塗布するようになって
いたが、スプレーガンの吹き出し量に応じ、釉薬圧送ポ
ンプの吐出量を制御する機能を具備していなかった。

ハ　発明が解決しようとする課題 上記説明の如く、従来の施釉装置には、スプレーガンの
吹き出し量に応じ、釉薬圧送ポンプの吐出量を制御する
制御機構が無かったので、ガンノズルの詰まり、エア圧
のバラ付き及び顔料等の釉薬粘度のバラ付き等により、
スプレーガンの吹き出し量が変化して陶器表面の釉薬塗
布量がバラツキ、陶器に色ムラを生じて製品が不良とな
ることが多く、生産性を阻害していた二　課題を解決す
るための手段 本発明は、上記従来の施釉装置の欠点に鑑み、スプレー
ガンへの釉薬供給を定量化して、その吹き出し量を一定
に保ち、釉薬塗布量を均一にして色ムラ等の不良発生を
未然に防止するもので、その構成は、施釉室を通過する
搬送コンベアと、前記搬送コンベアにより前記施釉室を
通過する陶器に釉薬を吹き付け塗布するエアスプレーガ
ンと、そのエアスプレーガンに釉薬タンクから釉薬を供
給する釉薬圧送ポンプとを備えた施釉装置において、釉
薬圧送路に、エアスプレーガンへの流量を検出する流量
検出器と、それに接続する流量調節計とを設け、その流
量検出器の検出量に応じ、釉薬圧送ポンプの吐出量を前
記流量調節計によりＰＩＤ制御して、エアスプレーガン
への釉薬供給を定量化することにある。

ホ　作用 搬送コンベアによって陶器が施釉室に搬送されてくると
、エアスプレーガンがそれらの陶器に釉薬を吹き付け塗
布するが、その過程において、流量検出器が常時エアス
プレーガンへの流量を検出し、その検出量に応じて流量
調節計が釉薬圧送ポンプの吐出量をＰＩＤ制御するので
、釉薬圧送ポンプからエアスプレーガンへ供給される釉
薬が定量化され、エアスプレーガンの吹き出し量が一定
に保たれ均一な施釉が可能となる。

へ　実施例 本発明に係る施釉装置の釉薬定量供給制御システムに、
更に釉薬量を自動検出して施釉量を制御するシステム組
み合せた実施例を図面に基づいて説明する。

第１図において、１は基枠であり、その前部（第１図に
おいて右を指し、以下同様の意である）寄りには施釉室
２が立設し、その施釉室２の前後部には自動測定手段と
しての第１陶器計量部３及び第２陶器計量部４が夫々設
けられている。又、基枠ｌの後端部には搬送駆動部５が
、その搬送駆動部５の前部寄りにはコンベア洗浄部６が
、更に前記施釉室２のコンベア出口後方には釉薬ダレ取
り部７が夫々設けられ、前記搬送駆動部５によって駆動
される無端状のステービンチェーンコンベア８が、多数
のローラ９を介し、基枠ｌ上の施釉室２、釉薬ダレ取り
部７及び基枠１中間部のコンベア洗浄部６を通過して、
施釉室２へ陶器の連続搬送が可能なように形成されてい
る。モして施釉室２の上部には横行可能な釉薬吹き付け
部１０が、四周には監視窓２ａが夫々設けられ、更に第
２図示の如く、基枠１の両側部には、流量検出器として
の流量検出センサー１１及び流量調節計１２を備えた流
量制御部１３と、性状を管理した釉薬が収容される釉薬
圧送ポンプ１４付き釉薬タンク１５と、施釉室２ヘパイ
ブ接続されている集塵機１６とが夫々配設されている。

前記釉薬吹き付け部１０は、移動ユニット１０ａとエア
スプレーガン１０ｂとから成り、エアスプレーガンｌＯ
ｂには、釉薬タンク１５と、圧力計１８ａ付き釉薬圧送
ポンプ１４及び流量検出センサー１１を経由するバイブ
１７とが接続されると共に、第６図示に如く圧力計１８
ａと減圧弁１８ｂとを備えたニアコンプレッサー１８か
らのエアバイブ１８ｃが接続されている。又、流量検出
センサー１１と流量ＦＪｓ計１２と釉薬圧送ポンプ１４
とは、信号送信用のコードｌｌａ及び１２ａで夫々接続
されている。

次に、前記第１陶器計量部３及び第２陶器計量部４の構
成について説明するが、両者は同一構造であるので第１
陶器計量部３についてのみ説明し、第２陶器計量部４に
ついてはその説明を省略する。

第１陶器計量部３は、第４図示の如く、基枠ｌの上部に
展張されるステービンチェーンコンベア８の下部に基台
３０が設けられ、その基台３０の上部中央に、基台３０
の上面を貫通する流体圧シリンダー装置としてのリフト
用エアシリンダー３１が垂設され、更にその両側に一対
のガイドバー３２．３２がメタル３３．３３を介して上
下動可能に夫々垂設されている。そして、リフト用エア
シリンダー３１と一対のガイドバー３２．３２との各頭
部へスライドベース３４が架設され、そのスライドベー
ス３４の中央部に、製品受皿３５を備えた測定器として
の天びん秤３６がガイドされるガイドバー３７が中央に
横設されている。更に、前記天びん秤３６をガイドバー
３７にそって横行させる流体圧シリンダー装置としての
横行エアシリンダー３８が、ガイドバー３７と同軸上に
設けられている。天びん秤３６の胴部前方に、同調器が
次のように構成されている。即ち、天びん秤３６の胴部
側端にビンケース３９を立設させたプレート４０が水平
に固着され、そのビンケース３９にはスプリング４１に
よって突出する同期ビン４２が設けられ、この同期ビン
４２と前記製品受皿３５の突端とは、リフト用エアシリ
ンダー３１の上昇作用により、ステービンチェーンコン
ベア８両側端のチェーン８ａ、８ａに挟着すれた製品受
はバー８ｂ、８ｂ、・・・・　（第５図参照）間に同時
に突出する。

又、製品受皿３５の斜め上方位置には、ステービンチェ
ーンコンベア８によって搬送されて米る陶器Ｓｓを感知
し、リフト用エアシリンダー３１に釉薬量測定の動作開
始又は動作終了信号をおくる検知器としての光電スイッ
チ４３が設けられると共に、前記流量制御部１３の内部
には、天びん秤３６から送られて来る釉薬量測定値を記
憶し、演算処理する演算処理装置（図示しない）と、そ
の演算処理結果に基づいて釉薬圧送ポンプ１４の吐出量
を制御する制御装置（図示しない）とが設けられている
。

上記の如く構成された施釉装置は、ステービンチェーン
コンベア８上に陶器Ｓｓを乗せ、ステービンチェーンコ
ンベア８を搬送駆動部５によって駆動させ、第１陶器計
量部３上において施釉前の陶器Ｓｅ重量を自動測定し、
続いて陶器Ｓｅを施釉室２へ搬送し、釉室２上部の移動
ユニット１０ａを移動させ乍らエアスプレーガン１０ｂ
により釉薬を吹き付け塗布し、施釉した陶器Ｓｅを施釉
室２外へ搬送すると共に、チェーン８ａのブレを釉薬ダ
レ取り部７で除去し、更に第２陶器計量部４上において
施釉後の陶器Ｓｅ重量を自動測定し、次のサヤ詰め工程
へ搬送する。

又、無端状に形成されたステービンチェーンコンベア８
は、搬送駆動部５によって駆動されると共にローラ９．
９・・・に誘導されて、基枠ｌの上部と中間部とを循環
する間に、コンベア洗浄部６によって洗浄される。集塵
機１６は、施釉作業中施釉室２の内部に発生する噴霧状
釉薬を収集して外部に漏れないようにする。

そして、施釉室２内において、移動ユニット１０ａを移
動させ乍ら、エアスプレーガン１゜ｂにより釉薬を陶器
Ｓｓに吹き付け塗布する施釉工程では、第６図示の如く
、釉薬定量供給制御システムが作用して、釉薬圧送ポン
プ１４の吐出量を流量調節計１２によりＰＩＤ制御し、
エアスプレーガン１０の吹き出し量を一定化することが
行なわれる。即ち、エアスプレーガン１０ｂは、圧送ポ
ンプ１４から吐出されバイブ１７によって供給される釉
薬を、ニアコンプレッサー１８の減圧弁１８ｂにより一
定圧力に調整して供給されるエフによって、陶器Ｓｅに
吹き付ける。そして、圧送ポンプ１４からエアスプレー
ガン１０ｂへ供給される釉薬の流量を、常時流量検出セ
ンサー１１が検出し、流量に変化がある場合にはその検
出データを電気信号に変換して流量調節計１２に送信す
る。流量調節計１２は、予め設定された設定値と受信し
たデータとを比較し、設定値に対する偏差の修正量を算
定し、その修正量を電気信号に変換して釉薬圧送ポンプ
１４へ送信し、釉薬圧送ポンプ１４の吐出量をＰＩＤ制
御する。そのため、エアスプレーガン１０には常に一定
量の釉薬が圧送され、エアスプレーガン１０の吹き出し
量は一定に保たれ、塗布量がバラついたり陶器に色ムラ
を生じたりすることがなく、均一な施釉の陶器が得られ
ると共に、連続運転が可能で且つ装置の常時監視の必要
がなくなる。

又、第１陶器計量部３、第２陶器計量部４、演算処理装
置及び制御装置等で構成される釉薬型自動検出システム
は、第７図、第８図示の如く作用するが、その概要につ
いて説明する。

即ち、施釉前の陶器Ｓｅがステービンチェーンコンベア
８によって搬送され、第１陶器計量部３上方へ接近して
、釉薬量測定の動作開始位置に達すると、光電スイッチ
４３が作動して、リフト用エアシリンダー３１に測定動
作開始の信号を送る。すると、リフト用エアシリンダー
３１が作動してスライドベース３４を上昇させ、その上
昇運動により、製品受皿３５の突端と同期ビン４２とは
、同時に製品受はバー８ｂ、８ｂ、・・・間に夫々突出
し「計量セット」がなされる、そして、製品受皿３５は
陶器Ｓｅをステービンチェーンコンベア８から浮き上ら
せ、又、同期ビン４２は製品受はバー８ｂに押されて移
動するので、それと一体の天びん秤３６は、ガイドバー
３７にガイドされ乍らステービンチェーンコンベア８の
搬送運動に同調して、スライドベース３４上を移動する
。この同調運動中噂こ、天びん秤３６が陶器Ｓｅの重量
測定を行い、その重量測定が終ると光電スイッチ４３か
らの信号により、リフト用エアシリンダー３１がスライ
ドベース３４を下降させるので、天びん秤３６が下降し
、製品受皿３５と同期ビン４２とは製品受はバー８ｂ、
８ｂ、・・・間から引っ込み、陶器Ｓｓは再びステービ
ンチェーンコンベア８上の元の位置に垂下されて搬送さ
れ、同時に天びん秤３６は、横行エアシリンダー３８の
作用により同調運動前の元の位置へ復帰し、「計量セッ
ト元位置戻し」がなされる。

続いて、陶器Ｓｓは施釉室２へ搬送されて施釉され、施
釉後の陶器Ｓｅは、再び第２陶器計量部４上において第
１陶器計量部３と同様の方法で、施釉後の陶器Ｓｅ重量
が自動測定される。

そして、施釉前及び施釉後の陶器Ｓｅ重量の測定値は、
第７図示の如く、演算処理装置に送られて夫々「データ
ー（１）記憶」、「データー（２）記憶」がなされ、更
に「演算処理（１）−（２）Ｊがなされ、釉薬量が算定
されて「設定値比較」が行なわれ、もし差異があると修
正値が算出され、施釉量をコントロールする目標値が変
更され「設定値変更」がなされる、そして、その新設定
値は流量制御部１３へ送られて「設定値比較」が行なわ
れ、釉薬圧送ポンプ１４の吐出量をフィードバック制御
し、エアスプレーガン１０ｂの吹き出し量をコントロー
ルする。又、設定値と比較して異常な差異がある時は、
演算処理装置に異常を「表示」すると共に、施釉装置の
「コンベア停止」又は「ガン元位置停止」等の処置がな
され、不良の発生を未然に防止する。

このように、釉薬型自動検出システムは、陶器表面に釉
薬を常に定量均一に施釉できるので、色ムラ等の不良発
生が未然に防止され、品質の向上、自動化による作業能
率の向上及び省力化が可能となるものである。

上記の如く、釉薬定量供給制御システムと釉薬型自動検
出システムとを備えた施釉装置は、常時、エアスプレー
ガンｌｏｂへの釉薬供給量を検出すると共に、施釉前後
の陶器Ｓｅ重量を自動測定して、釉薬圧送ポンプ１４の
吐出量をコントロールし、両システムの併合作用により
エアスプレーガン１０ｂの吹き出し量を常に一定に保つ
ので、不良品の発生が防止され均一な品質の施釉陶器が
得られると共に、作業の能率化及び省力化が可能で、総
じて生産性の向上が期待できるものである。

尚、本実施例においては、施釉装置の釉薬定量供給制御
システムにより陶器に施釉する場合について説明してい
るが、タイル素地を施釉する場合に使用することもでき
る。又、第１陶器計量部及び第２陶器計量部にエアシリ
ンダーを使用しているが、これに限定するものではなく
、油圧シリンダーを使用しても良い。

ト　発明の効果 以上で明らかなように、本発明に係る施釉装置の釉薬定
量供給制御システムは、エアスプレーガンへの流量を検
出する流量検出器と、流量４ 調節計とにより釉薬圧送ポンプの吐出量をＰＩＤ制御す
るものであるから、エアスプレーガンへの釉薬供給が定
量化され、エア圧のバラ付き及び顔料等の釉薬粘度のバ
ラ付き等があっても、エアスプレーガンの吹き出し量が
一定に保たれ、釉薬塗布量のバラツキにより陶器に色ム
ラを生ずることが無く、又、ガンノズルの詰まり等があ
る場合には異常信号が出て装置が停止し、不良発生を未
然に防止すると共に、均一な施釉の陶器が得られ、品質
の向上、作業能率の向上及び省力化が可能で、総じて生
産性の向上が期待できる等、その価値は大なるものがあ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る釉薬定量供給制御システムを組入
れた施釉装置の正面図、第２図はその平面図、第３図は
その側面図、第４図は釉薬自動検出システムの概略説明
図、第５図は陶器計量部上方のステービンチェーンコン
ベア及び陶器の状態を示す説明図、第６図は本発明に係
る釉薬定量供給制御システムの説明図、第７図はそのフ
ローチャート、第８図は釉薬型自動検出システムのフロ
ーチャートである。 １・・基枠、２・・施釉室、３・・第１陶器計量部、４
・・第２陶器計量部、５・・搬送駆動部、６・・コンベ
ア洗浄部、７・・釉薬ダレ取り部、８・・ステービンチ
ェーンコンベア、８ａ・・チェーン、８ｂ・・製品受は
バー、９・・ローラ、１０・・釉薬吹き付け部、１０ａ
・・移動ユニット、ｌｏｂ・・エアスプレーガン、１１
・・流量検出センサー　１２・・流量調節計、１３・・
流量制御部、１４・・釉薬圧送ポンプ、１５・・釉薬タ
ンク、１６・・集塵機、１７・・バイブ、１８・・ニア
コンプレッサー　１８ａ・・圧力計、１８ｂ・・減圧弁
、１８ｃ・・エアパイプ、３０・・基台、３１・・リフ
ト用エアシリンダー　３２・・ガイドバー　３３・・メ
タル、３４・・スライドベース３５・・製品受皿、３６
・・天びん秤、３７・・ガイドバー　３８・・横行エア
シリンダー３９・・ビンケース、４０・・プレート、４
スプリング、 ４２　・ ・同期ビン、 ４３　・ ・光電スイッチ、 Ｓｅ　　・ ・陶器

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 施釉室を通過する搬送コンベアと、前記搬送コンベアに
   より前記施釉室を通過する陶器に釉薬を吹き付け塗布す
   るエアスプレーガンと、そのエアスプレーガンに釉薬タ
   ンクから釉薬を供給する釉薬圧送ポンプとを備えた施釉
   装置において、釉薬圧送路に、エアスプレーガンへの流
   量を検出する流量検出器と、それに接続する流量調節計
   とを設け、その流量検出器の検出量に応じ、釉薬圧送ポ
   ンプの吐出量を前記流量調節計によりＰＩＤ制御して、
   エアスプレーガンへの釉薬供給を定量化する施釉装置の
   釉薬定量供給制御システム。