JPH03178675A - 固体物質を除染する方法及び装置 - Google Patents

固体物質を除染する方法及び装置

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JPH03178675A
JPH03178675A JP2275153A JP27515390A JPH03178675A JP H03178675 A JPH03178675 A JP H03178675A JP 2275153 A JP2275153 A JP 2275153A JP 27515390 A JP27515390 A JP 27515390A JP H03178675 A JPH03178675 A JP H03178675A
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container
heating
vacuum
decontaminated
temperature
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JP2275153A
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Guy Fraysse
ギイ・フライス
Jacques Thauront
ジヤツク・ソーロン
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PEC ENG
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    • B09—DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C—RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09C1/00—Reclamation of contaminated soil
    • B09C1/06—Reclamation of contaminated soil thermally
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B09—DISPOSAL OF SOLID WASTE; RECLAMATION OF CONTAMINATED SOIL
    • B09B—DISPOSAL OF SOLID WASTE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B09B3/00—Destroying solid waste or transforming solid waste into something useful or harmless
    • B09B3/40—Destroying solid waste or transforming solid waste into something useful or harmless involving thermal treatment, e.g. evaporation
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00—Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/82—Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]

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  • Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、１種類又は複数の蒸発可能な汚染物質で汚染
された固体物質を真空加熱によって除染する方法及び装
置に係わる。
本発明の特に重要な用途は、環境に直接危険を及ぼす汚
染物質、例えば水銀、又は環境に間接的に危険を及ぼす
汚染物質、即ち反応によって環境に直接有害な副産物を
生じる物質により汚染された物質の除染にある。
間接的に危険を及ぼす汚染物質には、ハロゲン化炭（ヒ
水素、例えばポリクロロビフェニル（ＰＣＢ）がある。
この物質の酸化による熱分解生成物は特に危険である。
本発明は主に、水銀で汚染された土又は材料の除染に使
用し得る。
本発明は、ＰＣＢ、溶媒もしくは炭化水素で汚染された
土の除染及び回収又は再生、「ピラレン（ｐｙｒａｌａ
ｎｅ）　」という名称でも知られているＰＣＢを絶縁油
として含んだ変圧器の除染及び回収、又は前述のごとき
絶縁油を含んだコンデンサの本体として使用されるアル
ミニウム箔ロールの除染及び回収にも有利に使用される
。
周知のように、ＰＣＢは酸素の存在下の特定の温度条件
で塩素（ヒベンゾパラジオキシン即ち「ダイオキシン」
を発生する。これらのダイオキシンには、特にテトラク
ロロ−２，３，７，８−ジベンゾパラジオキシン（ＴＣ
ＤＤ）（ＳＥＶＥＺＯダイオキシン）のように、極めて
高い毒性を示すものがある。そのため、ＰＣＢで汚染さ
れた物質を効果的に除染する方法が求められている。
一方、このような汚染された物質が大量に存在する場合
には、これらを回収又は再生できると有利である。
成る程度の割合の汚染物質で汚染された固体物質の処理
法は基本的に３種類が知られている。
即ち、汚染された物質を監視廃棄物として廃棄するか、
焼却するが、又は除染するがのいずれがである。
廃棄は場所をとり、好ましいとは言えない方法である。
燃焼による破壊は通常著しい高温で行わなければならず
、どの物質にも適用できるというわけではない。この方
法は費用がかかり、特に汚染された物質の完熟量が小さ
い場合には発熱量の高い燃料を供給しなければならない
ため経費が高くなる。
また、公知の除染方法は一般に費用がかかり、実施も難
しい。
例えば、「ビラレンｊを含んだ変圧器の場合は、汚染し
た部品を溶媒で洗浄することによって除染を行う方法が
知られている。この種の方法は例えば粉砕し易い固体の
除染には不向きであり、且つ大量の廃液を生じる。
また、例えば汚染された土の除染方法として、回転炉内
で加熱が均等になるように土をｔｔｘｔ’ｐｔ、ながら
汚染物質を加熱し蒸発させる方法も知られている。この
方法は、粉砕されていない嵩の大きい物質の除染には不
適当である。
本発明の目的は、１種類又は複数の蒸発可能汚染物質で
汚染された物質を真空加熱により除染する方法及び装置
であって、実際の操作に関する要件を先行技術の方法及
び装置より良く満たし、特に、１種類又は複数の汚染物
質で低度又は高度に汚染されたあらゆるタイプの物質、
例えば粉砕処理により小片に破砕できる物質もしくは破
砕できない物質、又は粉砕されていない固体ブロック状
の物質を、経済的に、且つ公知の方法で工業的に処理し
た場合より遥かに効果的に除染することができる方法及
び装置を提供することにある。
本発明の方法及び装置では、処理した被汚染物質の回収
が可能であり、そのまま再使用することができる。
例えば、ビラレンで汚染された変圧器の金属を回収する
ことができ、変圧器を再度組立てて再使用することがで
きる。
本発明の方法は、ビラレンで汚染された紙を含むアルミ
ニウム箔ロールの場合には、アルミニウムと前記紙とを
簡単に分離できるという利点を有する。
前記目的を達成するために、本発明は特に、少なくとも
１種類の蒸発可能汚染物質で汚染された固体物質を真空
加熱によって除染する方法を提案する。この方法は、 真空下で加熱ジ行うための容器に除染すべき物質を導入
し、 前記物質を所定の温度範囲内でほぼ全体的に加熱し、そ
れと同時に前記容器内に、約０．５絶対バールより低く
且つ該容器内の圧力を前記温度範囲内で当該汚染物質の
蒸発閾値（汚染物質によっては昇華閾値）より小さくす
るのに十分な真空を発生させ、 容器内の前記温度及び圧力条件を、除染すべき物質に含
まれた汚染物質がほぼ完全に蒸発（又は昇華）するのに
十分な時間にわたって維持し、容器内の雰囲気を吸引す
ることによって蒸発汚染物質を抽出し、 吸引した汚染物質を凝縮させることからなる。
、予想外のことに、本発明の方法では、初期の汚染度が
著しく低い（汚染物質含量が数ｐｐｍに過ぎない）場合
でも、汚染された物質から抽出される汚染物質を極めて
効果的に除去することができる。
有利な実施間では、下記の措置も１つ以上１１ζじる。
不連続工程からなる工業的方法を構成する。
０．３絶対バール以下の真空を発生させる。
０．１絶対バール以下の真空を発生させる。
０．０５絶対バール以下の真空を発生させる。
０．５絶対バール〜０．０１絶対バール、好ましくはほ
ぼ０．１絶対バールに等しい真空を発生させる。
除染すべき物質が小片に粉砕できるもの、又は予め粉砕
したものである場合は、この物質を回転炉内で撹拌しな
がら加熱し、 除染すべき物質に最初から含まれている水が前記加熱時
に蒸発したために形成された水蒸気を第１回路を介して
抽出し、この水蒸気を凝縮／除塵器でａ縮させて除去し
、次いで前記条件下で容器内に真空を発生させ、前記第
１回路から分離された第２回路を介して容器内の脱水雰
囲気を吸引することにより蒸発汚染物質を抽出し、除染
すべき物質が粉砕不可能な物質の場合には、容器内で加
熱用ガスを循環させることによってこの物質を加熱し、 蒸発可能汚染物質が環境に直接有害な熱分解を起こす場
合には、容器が当該汚染物質が起こし得る熱分解の閾値
以上の温度に（局部的又は全体的に）過熱されないよう
に前記所定温度範囲を調整し、 蒸発可能汚染物質がＰＣＢの場合には、容器及び汚染さ
れた物質を必ず５００　’Ｃ以下の温度に維持しながら
、除染すべき物質を約２００℃〜約４９０°Ｃ１有利に
は２７０℃〜３３０℃の温度範囲で加熱する。
除染すべき物質が小片に粉砕できるか又は予め粉砕して
あり、且つ酸化により環境に有害な熱反応副産物を発生
する汚染物質、特にＰＣＢで汚染されている場合には、
作動真空（ｖｉｄｅ　ｄｅ　ｆｏｎｃｔｉｏｎｎｅｍｅ
ｎｔ）の形成を好ましくは温度上昇の前（水の蒸発の後
）に行う。このようにすると、容器内に存在する酸素の
大部分が除去される。
除染すべき物質が前記タイプの粉砕し得ない物質の場合
には、加熱用ガスの循環による加熱を、容器内空気の除
去の後で、窒素のような不活性ガスによって行うと有利
であり、 蒸発可能汚染物質が特に水銀の場合には、抽出される蒸
発汚染物質の温度を閾値（例えば最高８００℃〉以下に
制限す・べく前記所定温度範囲を調整し、 前記温度及び圧力条件を約５時間〜約３６時間、有利に
は約８時間維持し、 蒸発可能汚染物質が水銀の場合には、除染すべき物質を
約２００℃〜約５００°Ｃの温度範囲、有利には約４０
０°Ｃで加熱し、 容器内に約０．５絶対バール〜約０．０１絶対バール、
例えば０．０８絶対バールの真空を形成し、更に、容器
内に蒸発汚染物質が滞留している場合にこれをガスによ
って運び出せるように、蒸発汚染物質の抽出時に、不活
性ガス、有利には窒素を用いて容器内部の掃気を少なく
とも一回行う。
本発明は、少量の蒸発可能汚染物質によって汚染された
粉砕可能な固体物質を真空加熱によって除染する装置も
提案する。この装置は、容器と、 前記容器及びその中味を環境に有害な汚染物質の分解を
誘起しない所定の温度範囲で加熱する手段と、 前記容器の温度を予め調節した所定値以下の値に厳密に
維持するように構成された容器温度調節手段と、 容器内の雰囲気を抽出し、当該汚染物質を前記温度範囲
で蒸発させるのに適した約０．５絶対バール以下、有利
には約０．１絶対バール以下の真空を容器内に発生させ
る手段と、 蒸発し且つ吸引された汚染物質を′ａ縮させる手段とを
含むことを特徴とする。
本発明はまた、少なくとも１種類の汚染物質で汚染され
た固体物質を真空加熱によって除染する装置も提案する
。この装置は、 加熱容器と、 前記容器の中味を所定の温度範囲で加熱する手段と、 容器内の雰囲気を抽出し、当該汚染物質を前記温度範囲
で蒸発させるのに適した約０，５絶対バール以下の真空
を容器内に発生させる手段と、容器から抽出された雰囲
気の温度を予め調節された所定値以下の値に厳密に維持
するように構成された温度調整手段と、 蒸発し且つ吸引された汚染物質を凝縮させる手段とを含
むことを特徴とする。
以下、添付図面に基づき非限定的実施例を挙げて本発明
をより詳細に説明する。
第１図は、粉砕可能な物質又は予め粉砕した物質、例え
ば水銀で汚染された土からなる物質の除染に使用される
本発明の装置１を簡単に示している。
この装置１は円筒形容器３を含む回転炉２を有する。前
記容器の軸線４は水平線に対して例えば約３０°傾斜さ
せてよく、又は傾斜させなくてもよい。
この場合は除染すべき１種類又は複数の物質が粉砕可能
な性質を有するため、除染すべき物質全体を十分均等に
加熱する回転炉を使用することができる。
前記容器は、ガスをガス処理回ｉ￥ｇ７方向に排出する
ためのスリーブ又は短管６を備えた取外し式の蓋５を有
する。この円筒形容器３は、例えば軸受１０を介して該
容器を支持する台８の側方脚部９上に載置される。
容器３を加熱するための伝導式外部加熱手段１１も具備
されている。この加熱手段は（７）１えば１つ又は複数
の加熱用電気抵抗１２からなる。別の加熱手段、例えば
誘導式加熱手段を使用することも勿論可能である。
シャフト１４を介して軸線４を中心に容器３を回転駆動
するモータ１３も具備されている。
第１図には、容器３を支承して支持台上の定位置に維持
する手段１５も簡単に示されている。この支承手段は当
業者には容易に理解される構造を有し、軸線４を中心と
する容器３の自由な回転を妨害しないようになっている
。
前記容器のＷ５及び上部１６は断熱されているが、冷却
器の役割を果たす短管６は断熱されておらず、有利には
複数のひれ１７を備える。
容器３には均等に分配された複数の温度検出器が具備さ
れている。これらの検出器は例えば熱電対からなる。
これらの熱電対は、例えば８００℃にセットされた高温
警報閾値を有するサーモスタット１９に接続されている
。サーモスタット１９は、これを取付けた容器壁面から
断熱されており、容器の加熱を制御する自動袋Ｗ　２０
に接続されている。この自動装置は、公知の方法で容器
の総ての点の温度と抽出された蒸発汚染物質の温度とを
制御して、これらの温度が必ず前記高温警報閾値以下の
値に維持されるようにする。
ガス処理回路７は公知タイプの回転継手２１を介して短
管６に接続されている。前記継手は例えば米国ＥＭＣＯ
ＷＩＩＥＡＴＯＮ社製の回転継手である。
回路７は可視管２２を含み、この可撓管は一方の端部が
回転継手２１に取外し式に接続され、他方の端部が堰止
め弁２３を介して洗気−冷却−凝縮器２４に接続されて
いる。
前記′ａ縮器２４は、冷却用水を受給する冷却用蛇管２
６を備えたタンク２５を含む。凝縮３２４内及び容器３
内の圧力と凝縮器の温度とを調節し制御する手段も具備
されており、自動装置２０に接続されている。
ａｍ器２４は、除染すべき物質の加熱によって生じた蒸
気を１ｉ縮後に排出する回路２８と、′ａ、縮語縮性２
４って再凝縮された蒸発汚染物質を回収する回路２９と
を含む。
ガス処理回路７は更に、第１凝縮器２４の下流のガス抽
出部に接続された安全用第２冷却凝縮器３０ら含む。こ
の回路７は、該回路を介して容器３内の蒸発汚染物質を
抽出する真空ポンプ３２の吸引側に接続された液滴除去
装置（ｄ６ｖ６ｓｉｃｕｌｅｕｒ）３１に接続されてい
る。
真空ポンプ３２は、例えば０．０１絶対バールまでの許
容し得る工業的真空を容器３内に発生させるのに適した
公知タイプのポンプである。第１図には出口フィルタ３
３及び例えば活性炭を使用する絶対フィルタ３４も図示
されている。
第２図は、粉砕し得る’ｔ１７１質、最初から粉砕され
ている物質、又は粉砕処理によって粉砕した物質の除染
を行う本発明の装置の第２実施例として、例えばＰＣＩ
）で汚染された土の除染に使用される装置３５を簡単に
示している。
この装置３５は、除染すべき粉砕可能な物質３８を保持
する容器３７を含む回転炉を有する。
容器３７は除染すべき物質を加熱するための二重外被３
９を含む。この外被は加熱用電気抵抗アレイで構成され
、その発熱量は公知の制御手段４０、例えばプログラム
可能な自動装置によって調節される。これらの加熱用電
気抵抗は、ｒＩｉ造的に」抵抗の温度が、従って容器及
びその中味の温度が５００℃を超えないように、例えば
約２００　’Ｃ〜約４９０℃の所定温度範囲で容８Ｓ３
７を加熱するように構成される。そのためには、例えば
これらの抵抗に供給される電力を制限し、従って前記抵
抗が送出し得る発熱量を制限する手段を具備する。この
手段はそれ自体公知であり、調整用レオスタッＩ・と、
閾値を超える給電を遮断する手段とを含む。
容器３７は軸線３７゛を中心に延びている。モータ４１
も具備されている。このモータは、主に撹拌しながら加
熱すべき物質の量に応じて選択される回転速度で容器を
駆動する。
容器３７は支持台４２に支持されている。
装置３５は、公知タイプの回転継手４４を介して容器３
７に接続されたガス処理回路４３を含む。前記回転継手
は、一方の端部が容器３７の蓋４５に接続され、他方の
端部が塵埃フィルタ４６に接続されている。
このフィルタは、除染すべき物質の加熱によって最初に
生じる水蒸気を凝縮すべく水で冷却される。
この塵埃フィルタは目詰まりを除くために定期的に洗浄
し得る。
フィルタ４６に捕捉された汚泥（水＋塵埃）は、汚染物
質で全く又は殆ど汚染されていない汚泥を回収する容器
４７の中に流入する。
回路４３は第２凝縮器４８を含む。この第２凝縮器は例
えば−組のバルブ４９．４９′、５０を介して第１１縮
器４６から分離し得る。その場合は凝縮器４８が回転炉
の出口に直接接続され、ｐ過凝縮器４６はあとで蒸発汚
染物質によって汚染されないように迂回される。
蒸発汚染物質の凝縮物はリザーバ５１に回収される。有
利には第３の′ａ縮器５２も具備し、第２ａｉｌ？ｉ器
４８の下流に接続する。この凝１１器５２から流出する
凝！１物は容器５３内に回収される。
凝縮器５２に接続された真空ポンプ５４は回路４３内を
真空にする。
この真空ポンプは自動装置４０によって制御され、例え
ば活性炭を用いるフィルタ５５を介して大気中への吐出
しを行う。
有利には、蒸発汚染物質を完全に追い出すべく、窒素を
用いて容器を掃気する手段〈図示せず）ち幅える。
第３図は、第２図の濾過膜１ｉｌｉ器４６の代わりに使
用できる１ｉ縮／除塵器を示している。
この凝縮／除塵器は、蛇管５８によって冷却される一定
レベル５７の液体（水＋除塵）を収容する容器５６を含
む。
回転炉から送られる加圧蒸気の導入５９は液面５７の下
に連通ずる管６０を介して行われ、除塵を含んだ蒸気の
凝縮及び濾過は前記液体中への空気の吹込みによって実
施される。管６０には真空解消孔６１が設けられている
。容器５６の上部では、−１えば冷却用蛇管からなる安
全用凝縮器６２が、例えば孔６１の上方で管６１の軌道
上に設置される。
容器５６は上部が管６３を介して真空発生回路に接続さ
れている。
第４図及び第５図には、回転継手レベルの装置部分の２
つの非限定的実施例を示した。
除染の最段には炉の温度が高くなついてる（例えば２５
０℃以上）。しかるに、枦の出口に取付けられて、回転
する容器と固定された抽出凝縮回路とを気密的に接続す
る回転継手は、このような高い温度に耐えることがてき
ない。
従って、継手の手前の接続管を冷却する必要がある。第
４図では、継手６５の手前の管６６がひれ６６を介して
冷却される。これらのひれは、ＰＣＢが炉から出た直後
に凝縮されるのを回避すべく、枦がら十分に距離をおい
て配置される（蓋６７はＩ！Ｉ′ｉ熟材６８で被覆され
ている）。
実際、容器内に収容された土は必ず−・部分が撹拌時に
前記出口に付着して残るため、これが、出口付近で即座
に再凝縮された排出ガスにより汚染されるようなことが
ないようにしなければならない。
第５図は円筒環７０を用いて回転継手６９を保護する別
の保護手段を簡単に示している。前記円筒管はデフレク
タの機能をもち、継手の内部に配置される。
このデフレクタはガス側が高温であるため、新井されて
いない回転継手を高温ガスから隔離しながらＰＣ［ｌの
凝縮を回避せしめる。前記継手は交換表面が大気で冷却
される。
第６図は粉砕できないために予め粉砕してない物質及び
／又は回転炉で除染するには大き過ぎる物質、例えばビ
ラレンで汚染された変圧語のような物体の除染に曲用さ
れる本発明の装置を簡単に示している。
この装置は、除染すべき物体を収容するのに適した固定
容器７２を含む炉７１を有し、前記容器には例えば複数
の加熱用抵抗からなる外部加熱手段７３と、ガスの循環
による内部加熱手段７５とが具（浦されている。
内部加熱手段は例えば容器７２に閉回路状に接続された
吹込みベンチレータ７６と、再循ｒＭ管７８の中を流れ
る吹込みガスを加熱する複数の加熱用抵抗７７とを含む
。回路の分離と回路の圧力降下調整とに係わる弁７９及
び８０も具備されている。
容器７２の圧力を検出する検出器８１も取付けられてい
る。
容器７２には、例えば熟電対からなる温度検出器８２も
、適当な方法で容器に接触して又は「手袋の指（グラブ
フィンガ）」のよう取付けられている。
これらの温度検出器は、該装置の調整及び制御を行う自
動装置８３に接続されている。この自動装置は、環境に
有害な汚染物質の分解を誘起しない温度範囲に従って、
容器の温度を所定値以下の値に厳密に維持し且つベンチ
レータ７６の流量と加熱用抵抗７４及び７７の発熟量と
を調整するための公知の手段を含む。
この実施例の装置は、容器７２内の雰囲気を抽出して該
容器内に真空を発生させる手段８４を含む。
この手段は例えば、冷却用蛇管８７を備えた凝縮器８６
に前記容器を接続する可４Ｒ管８５を含む。この可撓管
８５は、凝縮物を凝縮器８６方向に流動させるべく傾斜
している。凝縮物８７は凝１ｉ！器の底部に集められ、
排出管８９を介して排出される。
凝縮器８６に接続された「安全用」凝縮器９０は真空ポ
ンプ又は減圧器９１に直列接続されている。この真空ポ
ンプは例えばＲＯＯＴＳａ製減圧器のようなタイプであ
り、装置の残りの部分を真空にする。この真空ポンプは
例えばフィルタ９Ｚを介して大気中への吐出しを行う。
自動装置８３に接続された調圧器（ｐｒａｓｓｏｔａＬ
）９３は減圧器９１を介して凝縮器８６内の真空値、従
って容器７２内の真空値の調節及び制御を行う。この真
空値は圧力検出器８１によっても制御される。
第７図及び第８図は、粉砕できない固（本物買の除染を
行う本発明の装置の容器７２の実施例を示している。
容器７２は鋼鉄製の断熟された平行六面体からなり、蓋
９３と、グラブフィンガ状温度測定器９４と、ガス循環
口９５及び９６と、ガス抽出口９７とを含む。
この容器は、除染すべき物質を貯蔵するための孔のあい
た取外し式「バスゲラ１−Ｊ９８を含む。このバスケッ
トは関えばキャスタ９９上に配置される。
ここで第２図を参照しながら、例えばＰＣＢで汚染され
た土の汚染に適用される本発明の方法を実施するための
装置の機能を説明する。
蓋４５を開けて容器３７内にアクセスできるようにして
から、汚染された土３８を容器に入れる。
蓋４５を閉め、回転継手４４を介して回転炉を吸弓凝縮
回路４３に接続する。
温度が均一になるように回転炉内で前記上を撹（１ミし
ながら加熱する。
真空ポンプ５４を用いて容器３７内の圧力を少し下げ・
る（例えば０．９絶対バール〉と、（減圧値に応じて）
約９０〜１００℃の温度で物質中の水が蒸発する。
この水蒸気は回路４３によって吸引され、フィルタ４６
で凝縮される。このフィルタは水蒸気に伴って運ばれる
塵埃の濾過も行う。
水蒸気が完全に除去されるとフィルタ４６が□□□１え
ば自動的に隔離され、真空ポンプ５４によって容器３７
内に作動真空（例えば０．１バール）が形成される。
従って、容器内に含まれる酸素は極めて少量になる。
次いで、自動装置４０により容器内の温度が徐々に上が
り、環境に有害な汚染物質の分解を誘起しない温度範囲
で容器内の物質を加熱するための所期の温度に到達する
。この温度は検出器く図示せず）によって制御され、装
置の較正結果を考慮する。
成る程度の温度になるとＰＣＢが蒸発する。このＩ’Ｃ
Ｂはフィルタ４６を介して、又は弁４９°を通るバイパ
ス回路を介して凝縮器４８及び５２に吸引され、ここで
凝縮された復温となって容器５１及び５３内に落下し、
処理又は廃棄されるまで貯蔵される。
除染すべき物質を容器内で真空加熱する時間は初期の汚
染度に応じて異なる。原則としては、２４時間以下の加
熱時間で十分である。例えば、初期汚染度が７５．ＯＯ
Ｏｐｐｍの場合に２１５°Ｃで加熱すると、２４時間後
には除染した土の残留ＰＣＢ旦が約１．７ｐｐｍになる
。
次いで、炉３７から粉末状態の除染した土を取出す。こ
の操作には（第９図参照）、一方の端部が気密フード１
０１を介して容器３７に接続され且つ他方の端部がネオ
ブレンタイプの継手１０４を介して濾過用短管１０３を
含む箱１０′ｌに接続されたシュー■・１００を使用し
得る。
ＰＣ［ｌで汚染された変圧器タイプの粉砕不可能な物体
の除染に適用される装置の場合には（第６図参照）、加
熱を容器７２内でのガスの循環による対流式加熱で行う
。
加熱用ガスとしては例えば窒素のような不活性ガスを使
用し得る。
所期の蒸発温度に到達したら、ガスの循環を停止する。
弁７９及び８０を閉めて回路７５を隔離する。
次いで、真空ポンプ９１により容器内の雰囲気を吸引す
ることによって真空を発生させる。その結果、ＰＣＢが
蒸発して凝縮器９３で再凝縮され、管８９を介して回収
され、貯蔵され且つ廃棄される。
コンデンサのアルミニウム箔の除染ては、箔の間に挿入
された紙を約２４０°Ｃで炭（ヒする。燃焼物（ｃａｌ
ｃｉｎａｔｓ）を掃気用空気によって運び、フィルタ（
図示せず）で濾過する。このようにすれば、アルミニウ
ムから紙の燃焼残渣が容易に除去され、浄（ヒしたアル
ミニウムを回収することができる。
本発明の方法で行われる除染の特にイｒ　ＩＩＩな結果
の具体例として、最初に２００，０００・〜４００，０
００ｐｐｍのＰＣＢで汚染されていたコンデンサを絶対
圧力５０　ｍ　＋ｎ１１ｇの真空下２８０℃で２４時間
処理すると、アルミニウムのＰＣＢ含量が最終的に１１
１１１ｍ未満になる。
初期含量１００　、　ＯＯＯｐｐｍ以上の水銀で汚染さ
れた粉砕コンクリートの場合は、絶対圧力５０　＋ｎ　
ｍ　Ｈｇの真空下４００°Ｃで１２時間処理すると、最
終的水銀残留量が３０ｐｐｍ以下になり、時には５ｐｐ
ｍを割ることさえある。
本発明の装置では、ガス処理回路の構造が単純であるた
め、特に焼却の場合には既存のガス処理回路を用いた時
と比較してかなり重要な利点が得られる。即ち、このよ
うな単純な構造では、処理すべき抽出ガスの流量が極め
て少なく、本発明の方法及び装置を使用するとこの流量
がほぼゼロになる。
本発明の方法及び装置を用いて行った試験の結果を下記
の３つの表に数開示す。
これらの表は、本発明が様々な物質、飼えば最初にＰＣ
Ｂで汚染された物質（表１）又は水銀（表２及び３）で
汚染された物質の除染に有用であることと、これらの表
に示した条件で本発明の方法を実施した後の汚染値とを
示している。
表１は特に、本発明が初期汚染度の低い物資、即ち約１
０００　ｐ　ｐ　＋ｆｉ以下の汚染度の物質、又は汚染
度の高い物質、即ち約１００．ＯＯＯｐｐｍ以上の汚染
度の物質の除染に適していることを示している。
表２は水銀で著しく汚染された１５）砕可能な土の除染
結果である。
表３はアルカリ電池の除染に係わる。表２及び表３には
、除染分析に使用した原理も示した。
【図面の簡単な説明】
第１図は粉砕可能な又は粉砕した固体物質の除染に使用
される本発明の方法を実施するための本発明の装置の第
１実施例を簡単に示す説明図、第２図は粉砕可能な固体
物質の除染に使用される本発明の装置の第２実施例を簡
単に示す説明図、第３図は本発明の装置の一実施ｒｊ！
ＩＩで空気吹込みにより水蒸気をＦ遇する凝縮器を簡単
に示す説明図、第４図及び第５図は本発明の装置の回転
炉と抽出及びａＩｉｉｉ手段との間の回転継手の２つの
実施例を簡単に示す説明図、第６図は粉砕できない固体
物質の除染に適用される本発明の方法を実施するための
本発明の装置の一実施例を簡単に示す説明図、第７図は
第６図の加熱容器の開面図、第８図は第７図のｌ　ＶＩ
ｌｌ−Ｖｌｌｌに沿った断面図、第９図は第２図の回転
炉からの取出し操作を簡単に示す説明図である。 ３．３７・・・・・・回転炉、１８，２０，４０，８２
．８３・・・・・・容器温度調節手段、３２，５４．９
１・・・・・・雰囲気抽出手段。 ０つ （フ 一 寸 Ｕつ

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）少なくとも１種類の蒸発可能汚染物質で汚染され
    た固体物質を真空加熱により除染するための不連続的方
    法であって、 −真空下で加熱を行うための容器に除染すべき物質を導
    入し、 −前記物質を所定の温度範囲内でほぼ全体的に加熱し、
    それと同時に前記容器内に、約０．５絶対バールより低
    く且つ該容器内の圧力を前記温度範囲内で当該汚染物質
    の蒸発閾値より小さくするのに十分な真空を発生させ、 −容器内の前記温度及び圧力条件を、除染すべき物質に
    含まれた汚染物質がほぼ完全に蒸発するのに十分な時間
    にわたって維持し、 −容器内の雰囲気を吸引することによって蒸発汚染物質
    を抽出し、 −吸引した汚染物質を凝縮させるステップを含む不連続
    的除染方法。
  2. （２）発生させる真空が０．５絶対バール〜０．０１絶
    対バール、有利には約０．１絶対バールであることを特
    徴とする請求項１に記載の方法。
  3. （３）発生させる真空が約０．１絶対バールより小さい
    ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
  4. （４）粉砕可能な又は小片状の固体物質を除染する方法
    であって、除染すべき物質を回転炉内で撹拌しながら加
    熱することを特徴とする請求項１から３のいずれか一項
    に記載の方法。
  5. （５）除染すべき物質に最初から含まれている水が前記
    加熱時に蒸発したために形成された水蒸気を第１回路を
    介して抽出し、この水蒸気を凝縮／除塵器で再凝縮させ
    て除去し、次いで容器内に真空を発生させ、前記第１回
    路から隔離された第２回路を介して容器内の脱水雰囲気
    を吸引することにより蒸発汚染物質を抽出することを特
    徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
  6. （６）除染すべき物質を前記温度範囲で加熱する前に容
    器内に作動真空を発生させることを特徴とする請求項４
    又は５に記載の方法。
  7. （７）除染すべき物質が粉砕不可能な物質であり、この
    物質を容器内での加熱用ガスの循環によって加熱するこ
    とを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の
    方法。
  8. （８）加熱用ガスが不活性ガスであることを特徴とする
    請求項７に記載の方法。
  9. （９）除染すべき物質が環境に有害な熱分解を起こす汚
    染物質で汚染されている場合の除染方法であって、前記
    温度範囲を、当該汚染物質が起こし得る熱分解の閾値以
    上の温度に容器が過熱されないように調整することを特
    徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
  10. （１０）蒸発可能汚染物質がＰＣＢであり、容器及び汚
    染された物質を必ず５００℃以下の温度に維持しながら
    、除染すべき物質を約２００℃〜約４９０℃、有利には
    ２７０℃〜３３０℃の温度範囲で加熱することを特徴と
    する請求項９に記載の方法。
  11. （１１）温度範囲を、蒸発汚染物質の温度が閾値以下の
    値に制限されるように調整することを特徴とする請求項
    １から８のいずれか一項に記載の方法。
  12. （１２）蒸発可能汚染物質が水銀であり、除染すべき物
    質を約２００℃〜約８００℃の温度範囲、有利には約５
    ００℃で加熱することを特徴とする請求項１１に記載の
    方法。
  13. （１３）前記温度及び減圧条件を約５〜約３６時間、有
    利には約８時間維持することを特徴とする請求項１から
    １２のいずれか一項に記載の方法。
  14. （１４）容器内に蒸発汚染物質が滞留している場合にこ
    れをガスによって運び出せるように、蒸発汚染物質の抽
    出時に、不活性ガス、有利には窒素を用いて容器内部の
    掃気を所定時間にわたり少なくとも一回行うことを特徴
    とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
  15. （１５）酸化により環境に有害な熱分解を起こす少量の
    蒸発可能汚染物質で汚染された固体物質を真空加熱によ
    り除染する方法であって、 −真空下で加熱を行うための容器に除染すべき物質を導
    入し、 −容器が当該汚染物質が起こし得る分解の閾値以上の値
    に過熱しないように調整した温度範囲で除染すべき物質
    をほぼ全体的に加熱し、それと同時に前記容器内に、約
    ０．５絶対バールより低く且つ該容器内の圧力を前記温
    度範囲内で当該汚染物質の蒸発閾値圧力より小さくする
    のに十分な真空を発生させ、 −容器内の前記温度及び減圧条件を、除染すべき物質に
    含まれた汚染物質がほぼ完全に蒸発するのに十分な時間
    にわたつて維持し、 −容器内の雰囲気を吸引することによって蒸発汚染物質
    を抽出し、 −吸引した汚染物質を凝縮させるステップを含む除染方
    法。
  16. （１６）少なくとも１種類の蒸発可能汚染物質で汚染さ
    れた固体物質を真空加熱により除染する装置であって、 −容器と、 −前記容器及びその中味を環境に有害な汚染物質の分解
    を誘起しない所定の温度範囲で加熱する手段と、 −前記容器の温度を予め調節した所定値以下の値に厳密
    に維持するように構成された容器温度調節手段と、 −容器内の雰囲気を抽出し、当該汚染物質を前記温度範
    囲で蒸発させるのに適した約０．５絶対バール以下の真
    空を容器内に発生させる手段と−蒸発し且つ吸引された
    汚染物質を凝縮させる手段とを含むことを特徴とする除
    染装置。
  17. （１７）少なくとも１種類の汚染物質で汚染された固体
    物質を真空加熱により除染する装置であって、−加熱容
    器と、 −前記容器の中味を所定の温度範囲で加熱する手段と、 −容器内の雰囲気を抽出し、当該汚染物質を前記温度範
    囲で蒸発させるのに適した約０．５絶対バール以下の真
    空を容器内に発生させる手段と、−容器から抽出された
    雰囲気の温度を予め調節された所定値以下の値に厳密に
    維持するように構成された温度調整手段と、 −蒸発し且つ吸引された汚染物質を凝縮させる手段とを
    含むことを特徴とする装置。
  18. （１８）汚染された固体物質が粉砕可能であるか又は予
    め粉砕されており、加熱容器が回転炉からなり、容器及
    びその中味を加熱する手段がその容器の外側に具備され
    ていることを特徴とする請求項１６又は１７に記載の装
    置。
  19. （１９）容器内の雰囲気を抽出し且つ真空を発生させる
    手段が、除染すべき物質の加熱時に形成された水蒸気を
    凝縮し且つ空気吹き入れによってろ過する手段を含み、
    この手段が蒸発汚染物質凝縮手段から隔離できるように
    なっていることを特徴とする請求項１８に記載の装置。
  20. （２０）固体物質が粉砕不可能であり、容器の中味を加
    熱する手段が前記容器内に加熱用ガスを循環させる手段
    を含むことを特徴とする請求項１６又は１７に記載の装
    置。
  21. （２１）不活性ガスを用いて容器内部を掃気する手段も
    含むことを特徴とする請求項１６から２０のいずれか一
    項に記載の装置。
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