JPH03179401A - 表面保護材料 - Google Patents
表面保護材料Info
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- JPH03179401A JPH03179401A JP1319474A JP31947489A JPH03179401A JP H03179401 A JPH03179401 A JP H03179401A JP 1319474 A JP1319474 A JP 1319474A JP 31947489 A JP31947489 A JP 31947489A JP H03179401 A JPH03179401 A JP H03179401A
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Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、液晶表示素子またはCCD (チャージカプ
ルドデバイス)、BBD(パケットブリケートデバイス
)、CID(チャージインジェクションデバイス)等か
らなる固体撮像素子等のカラーフィルターの表面保護材
料に関する6[従来の技術] 従来、液晶表示ζ子や固体撮像素子のカラーフィルター
の製造において、カラーフィルターの表面保護材料とし
て可視光領域に高い光透過性を有する熱硬化型のアクリ
ル樹脂(例えば、オプトマーSS、日本合成ゴム製など
)が知られている(特開昭61−292604号)。
ルドデバイス)、BBD(パケットブリケートデバイス
)、CID(チャージインジェクションデバイス)等か
らなる固体撮像素子等のカラーフィルターの表面保護材
料に関する6[従来の技術] 従来、液晶表示ζ子や固体撮像素子のカラーフィルター
の製造において、カラーフィルターの表面保護材料とし
て可視光領域に高い光透過性を有する熱硬化型のアクリ
ル樹脂(例えば、オプトマーSS、日本合成ゴム製など
)が知られている(特開昭61−292604号)。
[発明が解決しようとする課題]
ところが、最近の液晶表示素子や固体撮像素子の高解像
度化に対応して、カラーフィルター表面の平坦性が要求
されてきており、該熱硬化型アクリル樹脂では、カラー
フィルターの画素パターンを平坦化できないという問題
点があった。
度化に対応して、カラーフィルター表面の平坦性が要求
されてきており、該熱硬化型アクリル樹脂では、カラー
フィルターの画素パターンを平坦化できないという問題
点があった。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、液晶表示素子や固体撮像素子の高解像度
化を可能とする理想的な平坦性を有するカラーフィルタ
ーの表面保護材料について鋭意検討した結果、本発明に
達した。
化を可能とする理想的な平坦性を有するカラーフィルタ
ーの表面保護材料について鋭意検討した結果、本発明に
達した。
すなはち本発明は、
スチレンまたはスチレン誘導体の単位と側鎖に光二量化
型および/または光重合型の官能基を含有する単位を有
する一般式(1): 明m書の浄書(内容に変更なし) (式中、R+およびR2は、水素原子またはメチル基、
Rsは、光二量化型および/または光重合型の官能基を
含有する一価の有機基、Arは、フェニル基またはナフ
チル基、mは、Oまたは1以上の整数、nは、 1以上
の整数。) で示される重量平均分子量が500〜10000の有機
高分子すらなることを特徴とする表面保護材料である。
型および/または光重合型の官能基を含有する単位を有
する一般式(1): 明m書の浄書(内容に変更なし) (式中、R+およびR2は、水素原子またはメチル基、
Rsは、光二量化型および/または光重合型の官能基を
含有する一価の有機基、Arは、フェニル基またはナフ
チル基、mは、Oまたは1以上の整数、nは、 1以上
の整数。) で示される重量平均分子量が500〜10000の有機
高分子すらなることを特徴とする表面保護材料である。
一般式(1)において、Raの光二量化型官能基を含有
する一価の有機基としては、 明#i書の浄書(内容に変更なし) などのケイ皮酸含有基、 一〇〇〇C112ClI2 ococu=ca−co:
cH@−C[120COfJ=fl:H−(H=CH@
などのシンナミリデン酢酸含有基、 −Go−C■=cn@ 、 −coo@an:aトco@ などのスチリルケトン含有基、 などのスチルベン含有基、 明細書の浄書(内容に変更なし) などのα−フェニル含有基、 などのベンゾフェノン含有基などが挙げられる。
する一価の有機基としては、 明#i書の浄書(内容に変更なし) などのケイ皮酸含有基、 一〇〇〇C112ClI2 ococu=ca−co:
cH@−C[120COfJ=fl:H−(H=CH@
などのシンナミリデン酢酸含有基、 −Go−C■=cn@ 、 −coo@an:aトco@ などのスチリルケトン含有基、 などのスチルベン含有基、 明細書の浄書(内容に変更なし) などのα−フェニル含有基、 などのベンゾフェノン含有基などが挙げられる。
Rsの光重合型官能基を含有する一価の有機基としては
、 −COOCH2CH=CHt、 などのビニル含有基、 一0O0CII*CH20COCR:(R2、−COO
CIhC11*0COC((Ha)C:CH2、CHa
OCOCR=CH2, 0CONHCH2CH20COC■=CH2、明細書の
浄側内容に変更なし) などのアクリル酸またはメタクリル酸含有基などが挙げ
られる。
、 −COOCH2CH=CHt、 などのビニル含有基、 一0O0CII*CH20COCR:(R2、−COO
CIhC11*0COC((Ha)C:CH2、CHa
OCOCR=CH2, 0CONHCH2CH20COC■=CH2、明細書の
浄側内容に変更なし) などのアクリル酸またはメタクリル酸含有基などが挙げ
られる。
R3の好ましいものは、
である。
rrh nについては、通常mは、O〜90tnは、
1〜50であり、好ましくは、mは、0〜601nは、
20〜50である。
1〜50であり、好ましくは、mは、0〜601nは、
20〜50である。
mとnの比は、通常、O:100〜θO: 10、であ
り、好ましくは、o:ioo〜70: 30である。
り、好ましくは、o:ioo〜70: 30である。
nの比率が、10未満であれば、光硬化時の架橋密度が
少なく、耐熱性、耐薬品性が不充分となる。
少なく、耐熱性、耐薬品性が不充分となる。
明細書の浄書(内容に変更なし)
分子量は、通常500〜tooooであり、好ましくは
、2000〜80ooである。重量平均分子量が、50
0未満であれば、光硬化物の耐熱性、耐薬品性が不充分
となる。また、重量平均分子量が10000を越えると
加熱時の有機高分子の溶融レベリング性が不十分となり
、理想的な平坦面が得られにくくなる。
、2000〜80ooである。重量平均分子量が、50
0未満であれば、光硬化物の耐熱性、耐薬品性が不充分
となる。また、重量平均分子量が10000を越えると
加熱時の有機高分子の溶融レベリング性が不十分となり
、理想的な平坦面が得られにくくなる。
一般式(1)で示される有機高分子の具体例としては、
(有機高分子1)重量平均分子量5000m:n=50
:50 (有機高分子2)重量平均分子量・8000m: n
=60: 40 (有機高分子3) 重量平均分子!昶oo。
:50 (有機高分子2)重量平均分子量・8000m: n
=60: 40 (有機高分子3) 重量平均分子!昶oo。
(有機高分子4)重量平均分子量7000m: n=1
0: 90 などが挙げられる。
0: 90 などが挙げられる。
一般式(1)で示される有機高分子の合成法としては、
BFs−E t*o1A I C1*s T i C
1a、などのルイス酸やH*SOa、HCl0a、CF
参〇00H,p−)ルエンスルホン酸などのプロトン酸
によるカチオン重合法、ブチルリチウム、ナトリウム−
ナフタレン錯体などによるアニオン重合法、ベンゾイル
パーオキサイド、ジクミルノf−オキサイド、アゾビス
イソブチロニトリルなどのラジカル重合法または、高分
子反応法などがある。
BFs−E t*o1A I C1*s T i C
1a、などのルイス酸やH*SOa、HCl0a、CF
参〇00H,p−)ルエンスルホン酸などのプロトン酸
によるカチオン重合法、ブチルリチウム、ナトリウム−
ナフタレン錯体などによるアニオン重合法、ベンゾイル
パーオキサイド、ジクミルノf−オキサイド、アゾビス
イソブチロニトリルなどのラジカル重合法または、高分
子反応法などがある。
本発明の表面保護材料は、一般式(1)で示される有機
高分子を芳香族炭化水素(トルエン、キシレンなど)、
エステル化合物(酢酸エチルセロソルブなど)などに溶
解して使用状態になるiこの場合の固形物濃度はM量基
準で10〜60%である。
高分子を芳香族炭化水素(トルエン、キシレンなど)、
エステル化合物(酢酸エチルセロソルブなど)などに溶
解して使用状態になるiこの場合の固形物濃度はM量基
準で10〜60%である。
本発明の表面保護材料の使用方法は、RGBの三色のカ
ラーフィルターのパターンを有するガラス基板上に一般
式(1)で示される有機高分子をスピン塗布、スプレー
塗布、ロールコート塗布、デイピング塗布、印刷塗布な
どにより膜厚0.5〜10μmとなるように塗布する。
ラーフィルターのパターンを有するガラス基板上に一般
式(1)で示される有機高分子をスピン塗布、スプレー
塗布、ロールコート塗布、デイピング塗布、印刷塗布な
どにより膜厚0.5〜10μmとなるように塗布する。
続いて、該有機高分子膜を赤外ランプ、ホットプレート
、クリーンオーブンなどにより100〜250℃で加熱
し、溶融流動させ平坦化面を得た後、該有機高分子膜の
耐熱性を向上させるために紫外線ランプまたは、遠紫外
線ランプで硬化させることによりカラーフィルター上に
理想的に平坦な表面保護膜が形成できる。
、クリーンオーブンなどにより100〜250℃で加熱
し、溶融流動させ平坦化面を得た後、該有機高分子膜の
耐熱性を向上させるために紫外線ランプまたは、遠紫外
線ランプで硬化させることによりカラーフィルター上に
理想的に平坦な表面保護膜が形成できる。
[実施例]
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが1
本発明の範囲はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。
本発明の範囲はこれらの実施例によって限定されるもの
ではない。
実施例1
有機高分子1を10g、キシレンを40gを混合しこれ
を孔径0.2μmのフィルターで濾過した後、以ドの表
面保護材料用の組成物とした。
を孔径0.2μmのフィルターで濾過した後、以ドの表
面保護材料用の組成物とした。
第1図に示すように、3μmの厚さを有するRGBのカ
ラーフィルターパターンを有するガラス基板上に上記表
面保護材料用組成物の溶液を3000回転で全面に回転
塗布した。塗布膜厚は、3μmであった。(第2図) 次に、150°Cで5分間加熱処理を行い(第3図)、
続いて高圧水銀灯により紫外線を1分間照射し硬化を行
った。(第4図) その結果、0.1μm以下に平坦化された表面保護膜層
が得られた。
ラーフィルターパターンを有するガラス基板上に上記表
面保護材料用組成物の溶液を3000回転で全面に回転
塗布した。塗布膜厚は、3μmであった。(第2図) 次に、150°Cで5分間加熱処理を行い(第3図)、
続いて高圧水銀灯により紫外線を1分間照射し硬化を行
った。(第4図) その結果、0.1μm以下に平坦化された表面保護膜層
が得られた。
また、この1摸は、可視光(400〜800 n m
)の透過率が、98.0%以上で良好な透明性を示した
。
)の透過率が、98.0%以上で良好な透明性を示した
。
さらに、IT○蒸着の加熱時にグラツク、着色等がなく
、ざらにITOエツチング時や配向膜塗布時に膜の膨潤
や溶解等がなく良好な耐熱性、耐薬品性を示した。
、ざらにITOエツチング時や配向膜塗布時に膜の膨潤
や溶解等がなく良好な耐熱性、耐薬品性を示した。
[発明の効果]
本発明の表面保護材料は、カラーフィルター上に理想的
に平坦性な表面保護層を与え、さらに耐熱性、耐薬品性
また透明性とも良好であった。
に平坦性な表面保護層を与え、さらに耐熱性、耐薬品性
また透明性とも良好であった。
これは、液晶表示素子や固体撮像素子の高解像化に充分
対応できるものである。
対応できるものである。
第工〜4図は、本発明の表面保護材料の使用方法の説明
図(断面図)である。 1・・カラーフィルター 2・・ガラス基板 3・・塗布された表面保護材料 4・・加熱によりレベリングした表面保護材料1 ・紫外線硬化した表面保護材料
図(断面図)である。 1・・カラーフィルター 2・・ガラス基板 3・・塗布された表面保護材料 4・・加熱によりレベリングした表面保護材料1 ・紫外線硬化した表面保護材料
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 スチレンまたはスチレン誘導体の単位と側鎖に光二
量化型および/または光重合型の官能基を含有する単位
を有する一般式(1): ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R_1およびR_2は、水素原子またはメチル
基、R_3は、光二量化型および/または光重合型の官
能基を含有する一価の有機基、Arは、フェニル基また
はナフチル基、mは、0または1以上の整数、nは、1
以上の整数、) で示される重量平均分子量が500〜10000の有機
高分子からなることを特徴とする表面保護材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319474A JPH03179401A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 表面保護材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319474A JPH03179401A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 表面保護材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03179401A true JPH03179401A (ja) | 1991-08-05 |
Family
ID=18110604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1319474A Pending JPH03179401A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 表面保護材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03179401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160037867A (ko) | 2016-03-22 | 2016-04-06 | 주식회사 포스코 | 내식성이 우수한 용융아연합금 도금강판 및 그 제조방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4915501A (ja) * | 1972-06-02 | 1974-02-12 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP1319474A patent/JPH03179401A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4915501A (ja) * | 1972-06-02 | 1974-02-12 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160037867A (ko) | 2016-03-22 | 2016-04-06 | 주식회사 포스코 | 내식성이 우수한 용융아연합금 도금강판 및 그 제조방법 |
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