JPH03180023A - 露光装置における温度制御方法 - Google Patents
露光装置における温度制御方法Info
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- JPH03180023A JPH03180023A JP1319532A JP31953289A JPH03180023A JP H03180023 A JPH03180023 A JP H03180023A JP 1319532 A JP1319532 A JP 1319532A JP 31953289 A JP31953289 A JP 31953289A JP H03180023 A JPH03180023 A JP H03180023A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、試料を試料ホルダによって保持しながらロ
ードロックを経由しワークチャンバに搬送・位置決めし
た後、露光ビームをその試料に露光する露光装置におけ
る温度制御方法、特に露光処理前に試料ホルダの温度を
一定にするための温度制御方法に関する。
ードロックを経由しワークチャンバに搬送・位置決めし
た後、露光ビームをその試料に露光する露光装置におけ
る温度制御方法、特に露光処理前に試料ホルダの温度を
一定にするための温度制御方法に関する。
第４図は従来の電子ビーム露光装置を示すブロック構成
図である。同図に示すように、電子ビーム露光装置には
試料（図示省略）に電子ビームを魚ａ＝ｔするためのワ
ークチャンバ１と、ワークチャンバ１に連結されたロー
ドロック２とが設けられている。また、ワークチャンバ
１とロードロック２との連結部分に］よゲート３が設け
られる一方、ロードロック２にはゲート３に対向するよ
うにゲート４が設けられている。さらに、ロードロック
２のゲート４の近傍位置に試料ホルダ保管部５が配設さ
れている。この試料ホルダ保管部５は試料ホルダ６を一
時的に保管するだけでなく、試料ホルダ６への試料の脱
着を行うことができるように構成されている。なお、こ
の露光装置には、図示を省略する搬送機溝部が設けられ
ており、試料ホルダ６がゲート７．４を介して試料ホル
ダ保管部５とロードロック２との間をまたゲート３を介
してロードロック２とワークチャンバ１との間を往復自
在となるように構成されている。
図である。同図に示すように、電子ビーム露光装置には
試料（図示省略）に電子ビームを魚ａ＝ｔするためのワ
ークチャンバ１と、ワークチャンバ１に連結されたロー
ドロック２とが設けられている。また、ワークチャンバ
１とロードロック２との連結部分に］よゲート３が設け
られる一方、ロードロック２にはゲート３に対向するよ
うにゲート４が設けられている。さらに、ロードロック
２のゲート４の近傍位置に試料ホルダ保管部５が配設さ
れている。この試料ホルダ保管部５は試料ホルダ６を一
時的に保管するだけでなく、試料ホルダ６への試料の脱
着を行うことができるように構成されている。なお、こ
の露光装置には、図示を省略する搬送機溝部が設けられ
ており、試料ホルダ６がゲート７．４を介して試料ホル
ダ保管部５とロードロック２との間をまたゲート３を介
してロードロック２とワークチャンバ１との間を往復自
在となるように構成されている。
したがって、試料が試料ホルダ６にセットされたのに続
いて、位置決め指令が制御部（図示省略）から与えられ
ると、試料ホルダ６は試料を保持しつつゲート、７．４
を通過して、ロードロック２に搬送される。さらに、そ
れに続いて、試料ホルダ６がゲート３を介してワークチ
ャンバ１の所定位置に搬送されて試料が位置決めされる
。
いて、位置決め指令が制御部（図示省略）から与えられ
ると、試料ホルダ６は試料を保持しつつゲート、７．４
を通過して、ロードロック２に搬送される。さらに、そ
れに続いて、試料ホルダ６がゲート３を介してワークチ
ャンバ１の所定位置に搬送されて試料が位置決めされる
。
その後、露光開始指令が与えられると、ワークチャンバ
１内で試料に電子ビームが照射露光される。
１内で試料に電子ビームが照射露光される。
ところで、従来より周知のように、露光処置中において
は試料を常に所定位置に固定しておく必要がある。特に
、上記露光装置では試料を試料ホルダ６に保持したまま
電子ビームを照射して露光処理を行っているので、試料
ホルダ６に大きな温度変化が与えられないようにする必
要がある。というのも、例えば試料ホルダ保管部５が比
較的低温であり、その試料ホルダ保管部５に長時間保管
されていた試料ホルダ６がロードロック２を経由して比
較的高温のワークチャンバ１に移送された時、ワークチ
ャンバ１への搬送直後においては試料ホルダ６は試料ホ
ルダ保管部５の温度に近い値を示しているが、時間の経
過につれて試料ホルダ６の温度が徐々に上昇する。その
結果、試料ホルダ６が熱膨脹して試料の位置ずれを生じ
させることがある。
は試料を常に所定位置に固定しておく必要がある。特に
、上記露光装置では試料を試料ホルダ６に保持したまま
電子ビームを照射して露光処理を行っているので、試料
ホルダ６に大きな温度変化が与えられないようにする必
要がある。というのも、例えば試料ホルダ保管部５が比
較的低温であり、その試料ホルダ保管部５に長時間保管
されていた試料ホルダ６がロードロック２を経由して比
較的高温のワークチャンバ１に移送された時、ワークチ
ャンバ１への搬送直後においては試料ホルダ６は試料ホ
ルダ保管部５の温度に近い値を示しているが、時間の経
過につれて試料ホルダ６の温度が徐々に上昇する。その
結果、試料ホルダ６が熱膨脹して試料の位置ずれを生じ
させることがある。
そこで、第４図に示すように、ワークチャンバ１、ロー
ドロック２および試料ホルダ保管部５にそれぞれの温度
を測定するための温度センサ８〜１０が設けられるとと
もに、それらセンサ８〜１０からの信号が第１ないし第
３の温度制御部１１〜１３にそれぞれ与えられている。
ドロック２および試料ホルダ保管部５にそれぞれの温度
を測定するための温度センサ８〜１０が設けられるとと
もに、それらセンサ８〜１０からの信号が第１ないし第
３の温度制御部１１〜１３にそれぞれ与えられている。
これらの温度制御部１１〜１３は、ワークチャンバ１．
ロードロック２および試料ホルダ保管部５をそれぞれ基
準の温度に調整するために、上記信号に基づいて熱媒循
環ライン１４〜１６を介してワークチャンバ１．ロード
ロック２および試料ホルダ保管部５をそれぞれ加熱／冷
却する。
ロードロック２および試料ホルダ保管部５をそれぞれ基
準の温度に調整するために、上記信号に基づいて熱媒循
環ライン１４〜１６を介してワークチャンバ１．ロード
ロック２および試料ホルダ保管部５をそれぞれ加熱／冷
却する。
しかしながら、上記装置ではワークチャンバ１゜ロード
ロック２および試料ホルダ保管部５の温度を測定し、そ
の測定結果に基づいて各部がそれぞれ所定の温度になる
ように制御することによって、試料ホルダ６を間接的に
一定温度に保とうとするものであり、試料ホルダ６の温
度を直接的に測定していない。したがって、試料ホルダ
６の温度制御に限界があり、試料ホルダ６の温度を精度
良く一定に保つことが困難である。
ロック２および試料ホルダ保管部５の温度を測定し、そ
の測定結果に基づいて各部がそれぞれ所定の温度になる
ように制御することによって、試料ホルダ６を間接的に
一定温度に保とうとするものであり、試料ホルダ６の温
度を直接的に測定していない。したがって、試料ホルダ
６の温度制御に限界があり、試料ホルダ６の温度を精度
良く一定に保つことが困難である。
この発明は上記のような問題を解消するためになされた
もので、試料ホルダの温度を精度良く所定の温度に制御
することができる露光装置における温度制御方法を提供
することを目的とする。
もので、試料ホルダの温度を精度良く所定の温度に制御
することができる露光装置における温度制御方法を提供
することを目的とする。
この発明は、露光処理を行うためのワークチャンバと、
前記ワークチャンバに連結されたロードロックと、試料
を保持する試料ホルダと、前記試料ホルダを前記ロード
ロックを経由して装置外部と前記ワークチャンバとの間
で搬送する搬送機構部と、前記ワークチャンバおよび前
記ロードロック内の温度をそれぞれ制御する第１および
第２の温度制御部とを備え、前記試料ホルダにより試料
を保持しながら前記ロードロックを介して前記ワークチ
ャンバに搬送し、所定位置に位置決めした後、露光ビー
ムを前記試料に照射して露光処理を行う露光装置におけ
る温度制御方法であって、前記露光処理に先立って、前
記試料ホルダを前記ロードロックを経由して装置外部と
前記ワークチャンバとの間を往復移動させながら、前記
ワークチャンバ内、前記ロードロック内および装置外部
における前記試料ホルダの温度をそれぞれ測定し、それ
らの測定値の差が一定の許容範囲内になるように、前記
第１および第２の温度制御部を制御している。
前記ワークチャンバに連結されたロードロックと、試料
を保持する試料ホルダと、前記試料ホルダを前記ロード
ロックを経由して装置外部と前記ワークチャンバとの間
で搬送する搬送機構部と、前記ワークチャンバおよび前
記ロードロック内の温度をそれぞれ制御する第１および
第２の温度制御部とを備え、前記試料ホルダにより試料
を保持しながら前記ロードロックを介して前記ワークチ
ャンバに搬送し、所定位置に位置決めした後、露光ビー
ムを前記試料に照射して露光処理を行う露光装置におけ
る温度制御方法であって、前記露光処理に先立って、前
記試料ホルダを前記ロードロックを経由して装置外部と
前記ワークチャンバとの間を往復移動させながら、前記
ワークチャンバ内、前記ロードロック内および装置外部
における前記試料ホルダの温度をそれぞれ測定し、それ
らの測定値の差が一定の許容範囲内になるように、前記
第１および第２の温度制御部を制御している。
この発明における温度制御方法は、試料ホルダをロード
ロックを経由して装置外部とワークチャンバとの間で往
復移動させながら、前記ワークチャンバ内、前記ロード
ロック内および装置外部における前記試料ホルダの温度
をそれぞれ測定し、測定値の差が一定の許容範囲内にな
るように、前記ワークチャンバおよび前記ロードロック
内の温度を制御する。そのため、前記試料ホルダはほぼ
一定の温度に保持される。
ロックを経由して装置外部とワークチャンバとの間で往
復移動させながら、前記ワークチャンバ内、前記ロード
ロック内および装置外部における前記試料ホルダの温度
をそれぞれ測定し、測定値の差が一定の許容範囲内にな
るように、前記ワークチャンバおよび前記ロードロック
内の温度を制御する。そのため、前記試料ホルダはほぼ
一定の温度に保持される。
第２図はこの発明にかかる温度制御方法を適用可能な露
光装置の構成を示すブロック構成図であり、第３図は試
料ホルダの構成を示すブロック構成図である。試料ホル
ダ部６０は、第３図に示すように、試料（図示省略）を
保持する試料ホルダ６１を備えている。また、その試料
ホルダ６１の一部に熱電対やサーミスタ等の温度センサ
６２が当接されており、このセンサ６２によって試料ホ
ルダ６１の温度が直接的に測定される。そして、その温
度センサ６２から出力された電圧値が前置アンプ６３に
より氷点補償されるとともに、適当に増幅されて電圧周
波数変換器６４に出力される。
光装置の構成を示すブロック構成図であり、第３図は試
料ホルダの構成を示すブロック構成図である。試料ホル
ダ部６０は、第３図に示すように、試料（図示省略）を
保持する試料ホルダ６１を備えている。また、その試料
ホルダ６１の一部に熱電対やサーミスタ等の温度センサ
６２が当接されており、このセンサ６２によって試料ホ
ルダ６１の温度が直接的に測定される。そして、その温
度センサ６２から出力された電圧値が前置アンプ６３に
より氷点補償されるとともに、適当に増幅されて電圧周
波数変換器６４に出力される。
電圧周波数変換器６４では、その電圧値に対応した周波
数を有する信号が発生されて、ＲＦ発振器６５に与えら
れる。そして、ＲＦ発振器６５において、その内部で発
生させたＲＦ信号を上記信号に基づいてＦＭ変調し、送
信アンテナ６６を介して送信する。
数を有する信号が発生されて、ＲＦ発振器６５に与えら
れる。そして、ＲＦ発振器６５において、その内部で発
生させたＲＦ信号を上記信号に基づいてＦＭ変調し、送
信アンテナ６６を介して送信する。
一方、ワークチャンバ１．ロードロック２および試料ホ
ルダ保管部５には、受信アンテナ７１〜７３がそれぞれ
設けられており、各部に移動してきた試料ホルダ部６０
から送信される信号を受信することができるように構成
されている。また、受信アンテナ７１〜７３によって受
信された各信号Ｓ、Ｓ、Ｓ３は受信器７４に与えられて
Ｆ２ Ｍ ｉｎ Ｍされた後、周波数カウンタ７５によってそ
の周波数がカウントされる。こうして、試料を保持する
試料ホルダ６１の温度を直接的に測定し、その温度に対
応したカウント値が温度設定部７６に出力される。なお
、その他の構成は、従来例（第４図）のそれと同一であ
るために、ここでは同一または相当部分に相当符号を付
してその説明を省略する。
ルダ保管部５には、受信アンテナ７１〜７３がそれぞれ
設けられており、各部に移動してきた試料ホルダ部６０
から送信される信号を受信することができるように構成
されている。また、受信アンテナ７１〜７３によって受
信された各信号Ｓ、Ｓ、Ｓ３は受信器７４に与えられて
Ｆ２ Ｍ ｉｎ Ｍされた後、周波数カウンタ７５によってそ
の周波数がカウントされる。こうして、試料を保持する
試料ホルダ６１の温度を直接的に測定し、その温度に対
応したカウント値が温度設定部７６に出力される。なお
、その他の構成は、従来例（第４図）のそれと同一であ
るために、ここでは同一または相当部分に相当符号を付
してその説明を省略する。
次に、この発明にかかる温度制御方法の一実施例につい
て第１図を参照しつつ説明する。まず、試料への電子ビ
ーム照射（露光処理）に先立って、オペレータがキーボ
ード（図示省略）を介してワークチャンバ１．ロードロ
ック２および試料ホルダ保管部５の初期温度Ｔ、Ｔ２．
Ｔ３を入力する。なお、人力された値Ｔ 、Ｔ２．Ｔ３
は温度設定部７６のメモリ（図示省略）に記憶される。
て第１図を参照しつつ説明する。まず、試料への電子ビ
ーム照射（露光処理）に先立って、オペレータがキーボ
ード（図示省略）を介してワークチャンバ１．ロードロ
ック２および試料ホルダ保管部５の初期温度Ｔ、Ｔ２．
Ｔ３を入力する。なお、人力された値Ｔ 、Ｔ２．Ｔ３
は温度設定部７６のメモリ（図示省略）に記憶される。
そして、温度制御開始の指令が装置全体を制御する制御
部（図示省略）から与えられると、温度設定部７６から
第１ないし第３の温度制御部１１〜１３に初期温度値Ｔ
１． Ｔ ２ 、 Ｔ ３が出力されて、第１ないし
第３の温度制御部１１〜１３が各温度センサ８〜１０か
ら出力される信号をフィードバックしながら各部の温度
を上記設定温度になるように制御する（ステップ５ＴＩ
）。それに続いて、試料ホルダ６１の原点位置たる試料
ホルダ保管部５に位置決めされている試料ホルダ部６゜
（第２図の２点鎖線）の試料ホルダ６１の温度が温度セ
ンサ６２により直接的に測定される（ステップ５Ｔ２）
。その測定結果は、上記のようにしてその温度に対応す
るカウント値Ｔｆｆ１３に変換されて、温度設定部７６
のメモリに記憶される。なお、温度測定にあたっては、
試料ホルダ６１の温度が試料ホルダ保管部５のそれと平
衡状態になるのを待って測定する。また、後で説明する
温度測定時（ステップＳＴ４，５Ｔ６）にも上記と同様
にしてＡｌ１定を行うようにする。
部（図示省略）から与えられると、温度設定部７６から
第１ないし第３の温度制御部１１〜１３に初期温度値Ｔ
１． Ｔ ２ 、 Ｔ ３が出力されて、第１ないし
第３の温度制御部１１〜１３が各温度センサ８〜１０か
ら出力される信号をフィードバックしながら各部の温度
を上記設定温度になるように制御する（ステップ５ＴＩ
）。それに続いて、試料ホルダ６１の原点位置たる試料
ホルダ保管部５に位置決めされている試料ホルダ部６゜
（第２図の２点鎖線）の試料ホルダ６１の温度が温度セ
ンサ６２により直接的に測定される（ステップ５Ｔ２）
。その測定結果は、上記のようにしてその温度に対応す
るカウント値Ｔｆｆ１３に変換されて、温度設定部７６
のメモリに記憶される。なお、温度測定にあたっては、
試料ホルダ６１の温度が試料ホルダ保管部５のそれと平
衡状態になるのを待って測定する。また、後で説明する
温度測定時（ステップＳＴ４，５Ｔ６）にも上記と同様
にしてＡｌ１定を行うようにする。
次に、試料を保持しないまま試料ホルダ部６゜が搬送機
構部（図示省略）によりゲート７，４を介してロードロ
ック２に搬送される（ステップ５Ｔ３）。そして、ロー
ドロック２に位置決めされた試料ホルダ部６０（第２図
の１点鎖線）の試料ホルダ６１の温度が測定されて（ス
テップ５Ｔ４）、上記と同様に、その温度に対応するカ
ウント値Ｔｍ２が温度設定部７６のメモリに記憶される
。
構部（図示省略）によりゲート７，４を介してロードロ
ック２に搬送される（ステップ５Ｔ３）。そして、ロー
ドロック２に位置決めされた試料ホルダ部６０（第２図
の１点鎖線）の試料ホルダ６１の温度が測定されて（ス
テップ５Ｔ４）、上記と同様に、その温度に対応するカ
ウント値Ｔｍ２が温度設定部７６のメモリに記憶される
。
さらに、試料ホルダ部６０がゲート３を介してワークチ
ャンバ１に搬送された（ステップ５Ｔ５）後、そのワー
クチャンバ１に位置決めされた試料ホルダ部６０（第２
図の実線）の試料ホルダ６１の温度が測定されて（ステ
ップ５Ｔ６）、その測定結果Ｔｍｌが温度設定部７６の
メモリに記憶される。
ャンバ１に搬送された（ステップ５Ｔ５）後、そのワー
クチャンバ１に位置決めされた試料ホルダ部６０（第２
図の実線）の試料ホルダ６１の温度が測定されて（ステ
ップ５Ｔ６）、その測定結果Ｔｍｌが温度設定部７６の
メモリに記憶される。
上記のようにして、各部における試料ホルダ６１の温度
が測定されると、試料ホルダ部６０はまずロードロック
２に搬送され（ステップ５Ｔ７）、続いて試料ホルダ保
管部５に順次搬送される（ステップ５Ｔ８）。そして、
温度設定部７６において、そのメモリに記憶されている
値を読み出し、次式 ％式％ にしたがってワークチャンバ１とロードロック２とにお
ける試料ホルダ６１の温度差ΔＴ１２およびワークチャ
ンバ１と試料ホルダ保管部５とにおける試料ホルダ６１
の温度差ΔＴ１３がそれぞれを求められ、その差ΔＴ
ΔＴ１３がともに予め設定１２゜ されている基準値未満であるか否かが判断される（ステ
ップ５Ｔ９）。
が測定されると、試料ホルダ部６０はまずロードロック
２に搬送され（ステップ５Ｔ７）、続いて試料ホルダ保
管部５に順次搬送される（ステップ５Ｔ８）。そして、
温度設定部７６において、そのメモリに記憶されている
値を読み出し、次式 ％式％ にしたがってワークチャンバ１とロードロック２とにお
ける試料ホルダ６１の温度差ΔＴ１２およびワークチャ
ンバ１と試料ホルダ保管部５とにおける試料ホルダ６１
の温度差ΔＴ１３がそれぞれを求められ、その差ΔＴ
ΔＴ１３がともに予め設定１２゜ されている基準値未満であるか否かが判断される（ステ
ップ５Ｔ９）。
ステップＳＴ９において、差ΔＴ 、ΔＴ１３の（２
うち少なくとも一方が基準値未満でない（すなわち基準
値以上である）と判断されると、さらに温度設定部７６
において、再設定温度Ｔ２Ｔ３′が下記の式に基づいて
それぞれ演算されて、ロードロック２．試料ホルダ保管
部５の温度として初期温度Ｔ 、Ｔ３の代わりに再設定
温度Ｔ２ 、Ｔ ’が再設定される（ステップｓＴ
１０）。
値以上である）と判断されると、さらに温度設定部７６
において、再設定温度Ｔ２Ｔ３′が下記の式に基づいて
それぞれ演算されて、ロードロック２．試料ホルダ保管
部５の温度として初期温度Ｔ 、Ｔ３の代わりに再設定
温度Ｔ２ 、Ｔ ’が再設定される（ステップｓＴ
１０）。
Ｔ−Ｔ２＋（ＴＩＩ１２−ＴＩＩｌｌ）Ｔ３−Ｔ３＋（
ＴＩｌ１３−Ｔ１） そして、初期温度Ｔ、Ｔ３の代わりに再設定温度Ｔ
、Ｔ が第２および第３の温度制御部３ １２．１３に与えられ、ロードロック２および試料ホル
ダ６０内５の温度が再設定温度Ｔ２Ｔ３ に制御される
。その後、ステップＳＴ２に戻り、ステップＳＴ９にお
いて差ΔＴ 、ΔＴ１２ １３ がともに基準値未満であると判断されるまで上記一連の
操作が繰り返される。こうして、試料ホルダ６１がワー
クチャンバ１．ロードロック２および試料ホルダ保管部
５のうちどの部分に搬送されでも、その温度は基準範囲
内に精度良く制御される。
ＴＩｌ１３−Ｔ１） そして、初期温度Ｔ、Ｔ３の代わりに再設定温度Ｔ
、Ｔ が第２および第３の温度制御部３ １２．１３に与えられ、ロードロック２および試料ホル
ダ６０内５の温度が再設定温度Ｔ２Ｔ３ に制御される
。その後、ステップＳＴ２に戻り、ステップＳＴ９にお
いて差ΔＴ 、ΔＴ１２ １３ がともに基準値未満であると判断されるまで上記一連の
操作が繰り返される。こうして、試料ホルダ６１がワー
クチャンバ１．ロードロック２および試料ホルダ保管部
５のうちどの部分に搬送されでも、その温度は基準範囲
内に精度良く制御される。
なお、上記のようにして、試料ホルダ６１の温度制御が
完了すると、試料ホルダ６１に試料が保持された後、ロ
ードロック２を経由してワークチャンバ１に搬送・位置
決めされる。そして、電子ビームが照射されて露光処理
が実行される。
完了すると、試料ホルダ６１に試料が保持された後、ロ
ードロック２を経由してワークチャンバ１に搬送・位置
決めされる。そして、電子ビームが照射されて露光処理
が実行される。
以上のように、試料ホルダ６１の温度を直接的に測定し
て、その温度がほぼ一定になるように制御しているので
、試料ホルダ６１の熱膨脹はほとんどなくなり、試料ホ
ルダ６１の熱膨脹による試料の位置ずれを防止すること
ができる。
て、その温度がほぼ一定になるように制御しているので
、試料ホルダ６１の熱膨脹はほとんどなくなり、試料ホ
ルダ６１の熱膨脹による試料の位置ずれを防止すること
ができる。
なお、上記実施例では、温度センサ６２により測定した
値を温度設定部７６に送るために、無線による送受信シ
ステムを利用したが、この代わりに前置アンプ６３から
出力された電圧値（アナログ値）をそれに対応するディ
ジタル信号に変換して一時的に試料ホルダ６０内の記録
手段（例えばメモリ素子）に記録し、外部に取り出した
後そのデータを温度設定部７６に与えるようにしてもよ
い。また、前置アンプ６３を直接温度設定部７６に電気
的に接続してもよい。
値を温度設定部７６に送るために、無線による送受信シ
ステムを利用したが、この代わりに前置アンプ６３から
出力された電圧値（アナログ値）をそれに対応するディ
ジタル信号に変換して一時的に試料ホルダ６０内の記録
手段（例えばメモリ素子）に記録し、外部に取り出した
後そのデータを温度設定部７６に与えるようにしてもよ
い。また、前置アンプ６３を直接温度設定部７６に電気
的に接続してもよい。
また、上記実施例では、ロードロック２および試料ホル
ダ保管部５の温度を再設定しているが、これに限定され
るものではなく、ワークチャンバ１およびロードロック
２の温度を、あるいはワークチャンバ１および試料ホル
ダ保管部５の温度を再設定するようにしてもよい。
ダ保管部５の温度を再設定しているが、これに限定され
るものではなく、ワークチャンバ１およびロードロック
２の温度を、あるいはワークチャンバ１および試料ホル
ダ保管部５の温度を再設定するようにしてもよい。
また、上記実施例では、試料ホルダ保管部５を設け、試
料ホルダ部６０を一時的に保管するようにしているが、
試料ホルダ保管部５を設けない場合、すなわち露光装置
の外部で試料ホルダに試料をセットし、ロードロックを
経由してワークチャンバに搬送し、所定位置に位置決め
した後、露光ビームをその試料に照射して露光処理を行
う場合にも、本発明を適用することができる。
料ホルダ部６０を一時的に保管するようにしているが、
試料ホルダ保管部５を設けない場合、すなわち露光装置
の外部で試料ホルダに試料をセットし、ロードロックを
経由してワークチャンバに搬送し、所定位置に位置決め
した後、露光ビームをその試料に照射して露光処理を行
う場合にも、本発明を適用することができる。
さらに、上記実施例では、この発明を電子ビーム露光装
置に適用した場合について説明したが、露光装置全般に
適用することができることは言うまでもない。
置に適用した場合について説明したが、露光装置全般に
適用することができることは言うまでもない。
以上のように、この発明によれば、試料ホルダをロード
ロックを経由して装置外部とワークチャンバとの間で往
復移動させながら、前記ワークチャンバ内、前記ロード
ロック内および装置外部における前記試料ホルダの温度
をそれぞれ直接的にＪｌ定し、それらの測定値の差が一
定の許容範囲内になるように、前記第１および第２の温
度制御部を制御するようにしているので、前記試料ホル
ダの温度を精度良くほぼ一定に保つことができる。
ロックを経由して装置外部とワークチャンバとの間で往
復移動させながら、前記ワークチャンバ内、前記ロード
ロック内および装置外部における前記試料ホルダの温度
をそれぞれ直接的にＪｌ定し、それらの測定値の差が一
定の許容範囲内になるように、前記第１および第２の温
度制御部を制御するようにしているので、前記試料ホル
ダの温度を精度良くほぼ一定に保つことができる。
第１図はこの発明にかかる温度制御方法の一実施例を示
すフローチャート、第２図はその温度制御方法を適用可
能な露光装置のブロック構成図、第３図は試料ホルダの
ブロック構成図、第４図は従来の露光装置のブロック構
成図である。 図において、１はワークチャンバ、２はロードロック、
１１は第１の温度制御部、１２は第２の温度制御部、６
１は試料ホルダである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
すフローチャート、第２図はその温度制御方法を適用可
能な露光装置のブロック構成図、第３図は試料ホルダの
ブロック構成図、第４図は従来の露光装置のブロック構
成図である。 図において、１はワークチャンバ、２はロードロック、
１１は第１の温度制御部、１２は第２の温度制御部、６
１は試料ホルダである。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- （１）露光処理を行うためのワークチャンバと、前記ワ
ークチャンバに連結されたロードロックと、試料を保持
する試料ホルダと、前記試料ホルダを前記ロードロック
を経由して装置外部と前記ワークチャンバとの間で搬送
する搬送機構部と、前記ワークチャンバおよび前記ロー
ドロック内の温度をそれぞれ制御する第１および第２の
温度制御部とを備え、前記試料ホルダにより試料を保持
しながら前記ロードロックを介して前記ワークチャンバ
に搬送し、所定位置に位置決めした後、露光ビームを前
記試料に照射して露光処理を行う露光装置において、 前記露光処理に先立って、前記試料ホルダを前記ロード
ロックを経由して装置外部と前記ワークチャンバとの間
を往復移動させながら、前記ワークチャンバ内、前記ロ
ードロック内および装置外部における前記試料ホルダの
温度をそれぞれ測定し、それらの測定値の差が一定の許
容範囲内になるように、前記第１および第２の温度制御
部を制御することを特徴とする露光装置における温度制
御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319532A JP2901193B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 露光装置における温度制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319532A JP2901193B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 露光装置における温度制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03180023A true JPH03180023A (ja) | 1991-08-06 |
| JP2901193B2 JP2901193B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=18111295
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1319532A Expired - Fee Related JP2901193B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 露光装置における温度制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2901193B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1457830A3 (en) * | 2003-03-11 | 2005-07-20 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus comprising a temperature conditioned load lock |
| US7394520B2 (en) | 2003-03-11 | 2008-07-01 | Asml Netherlands B.V. | Temperature conditioned load lock, lithographic apparatus comprising such a load lock and method of manufacturing a substrate with such a load lock |
| US7576831B2 (en) | 2003-03-11 | 2009-08-18 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for maintaining a machine part |
| US7878755B2 (en) | 2003-03-11 | 2011-02-01 | Asml Netherlands B.V. | Load lock and method for transferring objects |
| JP2011108731A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Tokyo Electron Ltd | フォトレジスト塗布現像装置、基板搬送方法、インターフェイス装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5815232A (ja) * | 1981-07-20 | 1983-01-28 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム露光装置 |
| JPH01283833A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-15 | Nec Corp | 電子ビーム露光装置用カセット |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP1319532A patent/JP2901193B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US8376637B2 (en) | 2009-11-13 | 2013-02-19 | Tokyo Electron Limited | Photoresist coating and developing apparatus, substrate transfer method and interface apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2901193B2 (ja) | 1999-06-07 |
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