JPH03181910A - レーザ走査顕微鏡 - Google Patents
レーザ走査顕微鏡Info
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- JPH03181910A JPH03181910A JP32048889A JP32048889A JPH03181910A JP H03181910 A JPH03181910 A JP H03181910A JP 32048889 A JP32048889 A JP 32048889A JP 32048889 A JP32048889 A JP 32048889A JP H03181910 A JPH03181910 A JP H03181910A
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Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、レーザ走査顕微鏡に関す−る。特に、試料に
レーザビームを走査し、試料からの反射光又は透過光を
電気信号として、画像として表示するレーザ走査顕微鏡
の光源の小型化技術に関する[従来の技術及び発明が解
決しようとする問題点]レーザビームをスポット状に集
束して、顕微鏡の対象物を観察するために利用する応用
の場合、スポット径は、波長に逆比例するため、より短
波長のレーザ光源であることが、望ましい。
レーザビームを走査し、試料からの反射光又は透過光を
電気信号として、画像として表示するレーザ走査顕微鏡
の光源の小型化技術に関する[従来の技術及び発明が解
決しようとする問題点]レーザビームをスポット状に集
束して、顕微鏡の対象物を観察するために利用する応用
の場合、スポット径は、波長に逆比例するため、より短
波長のレーザ光源であることが、望ましい。
レーザ走査顕微鏡においても同゛様に、その仝量分解能
を上げるために、より短波長のレーザ光源であることが
望ましい、また、生物分野への応用においては、螢光と
かラマン分光が多用されるが、この場合にも、測定可能
な範囲を広げるために、より短波長の光源が必要である
。
を上げるために、より短波長のレーザ光源であることが
望ましい、また、生物分野への応用においては、螢光と
かラマン分光が多用されるが、この場合にも、測定可能
な範囲を広げるために、より短波長の光源が必要である
。
これに対して、短波長レーザ光源として通常使用されて
いるのは、アルゴンイオンレーザの488nm、514
、5nm、 He−Cdレーザの441.6nm等の
短波長があるが、大型の装置になること、及び動作開始
のためのウオームアツプ− が必要であり、ビームのポイントスタビリテイが悪いこ
と、冷却処理が必要であり、そのため、振動防止処理が
必要である等の欠点、問題点があった。
いるのは、アルゴンイオンレーザの488nm、514
、5nm、 He−Cdレーザの441.6nm等の
短波長があるが、大型の装置になること、及び動作開始
のためのウオームアツプ− が必要であり、ビームのポイントスタビリテイが悪いこ
と、冷却処理が必要であり、そのため、振動防止処理が
必要である等の欠点、問題点があった。
本発明は、−に記の問題点を解決するために為されたも
のであり、レーザ光源を小型化するため、半導体レーザ
を使用し、短波長化するため、第2高調波発生器(SH
G)により半導体レーザの波長を172波長に変換し、
これをレーザ光源として、用いることにより、小型で安
定性の良い、上記の欠点、問題点を無くしたレーザ光源
を有するレーザ走査顕微鏡を提供することを目的とする
。
のであり、レーザ光源を小型化するため、半導体レーザ
を使用し、短波長化するため、第2高調波発生器(SH
G)により半導体レーザの波長を172波長に変換し、
これをレーザ光源として、用いることにより、小型で安
定性の良い、上記の欠点、問題点を無くしたレーザ光源
を有するレーザ走査顕微鏡を提供することを目的とする
。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、上記の技術的な課題の解決のために、レーザ
光源、このレーザ光源からの出カビ11を2次元に偏向
するビーム偏向系、偏向されたビーl、を試料に集束す
°る集束光学系、試料かの反射又は透過光を電気信号番
こ変換する光′wtgc換系とを市するレーザ走査顕微
鏡において、レーザ光源− が短い幅のパルス状の光を出力するレーザ光源であるこ
と、偏向系がステップ状に増減する高速度X−走査とス
テップ状に増減するY−走査の2次元走査をなすための
走査駆動制御手段を有すること、レーザ光の出力とステ
ップ状走査のステップとの位相を合わせる発光制御手段
を有する前記レーザ走査顕微鏡を提供する。そのレーザ
光源は、半導体レーザ、第2高調波発生器(SHG)及
びレーザ駆動手段とからなり、該半導体レーザは、レー
ザ駆動手段により出力される短パルス駆動電流により、
利得スイッチされ、短パルス光を出力する半導体レーザ
であり、そして、この短パルス光を該第2高調波発生器
を介して1/2光波長の短パルス光として出力するもの
が好適である。また、前記第2高調波発生器は、半導体
レーザの出力ビーム基本波を平行にする第1のコリメー
タレンズ、半導体レーザの非点較差を補正する1対の円
柱レンズ、波長を1/2に変換する第2高調波発生素子
、該第2高調波発生素子に、該ビームを集束する集束レ
ンズ、1/2波長のビームを平行にする第2のコリメー
タレンズ、1/2波長の光を透過し、該基本波を不透過
にする光フィルタとからなるレーザ光源装置が好適であ
る。
光源、このレーザ光源からの出カビ11を2次元に偏向
するビーム偏向系、偏向されたビーl、を試料に集束す
°る集束光学系、試料かの反射又は透過光を電気信号番
こ変換する光′wtgc換系とを市するレーザ走査顕微
鏡において、レーザ光源− が短い幅のパルス状の光を出力するレーザ光源であるこ
と、偏向系がステップ状に増減する高速度X−走査とス
テップ状に増減するY−走査の2次元走査をなすための
走査駆動制御手段を有すること、レーザ光の出力とステ
ップ状走査のステップとの位相を合わせる発光制御手段
を有する前記レーザ走査顕微鏡を提供する。そのレーザ
光源は、半導体レーザ、第2高調波発生器(SHG)及
びレーザ駆動手段とからなり、該半導体レーザは、レー
ザ駆動手段により出力される短パルス駆動電流により、
利得スイッチされ、短パルス光を出力する半導体レーザ
であり、そして、この短パルス光を該第2高調波発生器
を介して1/2光波長の短パルス光として出力するもの
が好適である。また、前記第2高調波発生器は、半導体
レーザの出力ビーム基本波を平行にする第1のコリメー
タレンズ、半導体レーザの非点較差を補正する1対の円
柱レンズ、波長を1/2に変換する第2高調波発生素子
、該第2高調波発生素子に、該ビームを集束する集束レ
ンズ、1/2波長のビームを平行にする第2のコリメー
タレンズ、1/2波長の光を透過し、該基本波を不透過
にする光フィルタとからなるレーザ光源装置が好適であ
る。
レーザ走査顕微鏡において、光源ビームとして必要な光
出力(パワー)は、数mWである。半導体レーザの光出
力は、波長840n−付近のもので、位相特性の良いも
のでは、約50mW程度の連続出力のものが最大である
。一方、第2高調波発生器の変換出力は、入射する光出
力密度の2乗に比例する。840n讃の第2高調波発生
素子で、変換効率が高く、420nm近傍まで透過率の
高い素子として、LiNb0.、KNbO,、LilO
s等があるが、最も変換効率の高いKNbO,を例にと
ると、その変換率は、50μmのビーム径で、IWの入
射出力のときに、約1%に過ぎない、50mWの入射出
力では、ビーム径を波長とほぼ同じとすれば、約100
μWの変換出力しか得られない、これは、必要される出
力の数4分の1であり、光源と6 しては弱過ぎる。
出力(パワー)は、数mWである。半導体レーザの光出
力は、波長840n−付近のもので、位相特性の良いも
のでは、約50mW程度の連続出力のものが最大である
。一方、第2高調波発生器の変換出力は、入射する光出
力密度の2乗に比例する。840n讃の第2高調波発生
素子で、変換効率が高く、420nm近傍まで透過率の
高い素子として、LiNb0.、KNbO,、LilO
s等があるが、最も変換効率の高いKNbO,を例にと
ると、その変換率は、50μmのビーム径で、IWの入
射出力のときに、約1%に過ぎない、50mWの入射出
力では、ビーム径を波長とほぼ同じとすれば、約100
μWの変換出力しか得られない、これは、必要される出
力の数4分の1であり、光源と6 しては弱過ぎる。
半導体レーザの出力を七げる方法として、Qスイッチ、
モード同期とかの短パルス動作法があり、これによると
出力パワーを数百倍にすることができる。
モード同期とかの短パルス動作法があり、これによると
出力パワーを数百倍にすることができる。
更に、半導体レーザの出力を上げる方法として、受動素
子、活性素子を半導体レーザの共振器中に挿入する外部
共振型のもの、その高い利得を利用した利得スイッチ型
のものがある。
子、活性素子を半導体レーザの共振器中に挿入する外部
共振型のもの、その高い利得を利用した利得スイッチ型
のものがある。
ここでは、その構成の簡便さから、後者の利得スイッチ
型の半導体レーザを用いる。この場合、数トピコ秒のパ
ルス幅で、IWのピーク出力を持ち、注つ、そのパルス
発生タイミングを駆動電流を流1タイミングで制御でき
る利点がある。
型の半導体レーザを用いる。この場合、数トピコ秒のパ
ルス幅で、IWのピーク出力を持ち、注つ、そのパルス
発生タイミングを駆動電流を流1タイミングで制御でき
る利点がある。
即ら、840nm近傍の波長を有する半導体レザを利得
スイング゛で動作さけ、数1−ビニ1秒幅の短パルス光
として、それをKNbO,のごとき第2高調波発生素子
により、1/2の波長 (約420nm)とした光源をレーザ光源として、用い
ること、2次元番こビームを偏向させるが、その偏向を
ステップ状に増減させる走査駆動制御手段でもって、ス
テップ状になし、発光制御手段により、上記レーザ光源
の短パルス発振とステップ状偏向との同期を取ることで
、性能を向上させることができる。
スイング゛で動作さけ、数1−ビニ1秒幅の短パルス光
として、それをKNbO,のごとき第2高調波発生素子
により、1/2の波長 (約420nm)とした光源をレーザ光源として、用い
ること、2次元番こビームを偏向させるが、その偏向を
ステップ状に増減させる走査駆動制御手段でもって、ス
テップ状になし、発光制御手段により、上記レーザ光源
の短パルス発振とステップ状偏向との同期を取ることで
、性能を向上させることができる。
[作用]
以上の構成により、半導体レーザは、
200MHz程度までの繰り返し、短パルス発振が可能
であり、また、利得スイッチの動作では、その発振の繰
り返しを電気的に制御することができる。即ち、1ステ
ツプが、5ナノ秒程度の高速なビームのステップ状の偏
向に対応することが可能である。
であり、また、利得スイッチの動作では、その発振の繰
り返しを電気的に制御することができる。即ち、1ステ
ツプが、5ナノ秒程度の高速なビームのステップ状の偏
向に対応することが可能である。
更に、現イfする偏向力式のいずれにも、対応可能であ
り、実時間の画像取得からランダム走★まで可能Cある
。
り、実時間の画像取得からランダム走★まで可能Cある
。
また、半導体レーザの出力を上げる方法として、利得ス
イッチ動作の他に、上述の如き出力を−にげろ方法も用
いることができる。
イッチ動作の他に、上述の如き出力を−にげろ方法も用
いることができる。
一
次に、本発明によるレーザ走査顕微鏡を具体的に実施例
により説明するが、本発明はそれらによって限定される
ものではない。
により説明するが、本発明はそれらによって限定される
ものではない。
[実施例]
反射型のレーザ走査顕微鏡を例にして、本発明を説明す
る。透過型についても、本発明が適用できることは言う
までもない。
る。透過型についても、本発明が適用できることは言う
までもない。
第1図は、本発明の走査型光学顕微鏡の主要部分の一例
の光学配置例を示寸°模式プロ・ンク図である。
の光学配置例を示寸°模式プロ・ンク図である。
本発明の走査型光学顕微鏡において、光源を半導体レー
ザ(LD)とし、これをパルス変調することが、従来の
走査型光学顕微鏡に対する構成の差テアル。1は、短パ
ルスレーザ光源であり、第2図A或いは第2図Bの構成
のものである。
ザ(LD)とし、これをパルス変調することが、従来の
走査型光学顕微鏡に対する構成の差テアル。1は、短パ
ルスレーザ光源であり、第2図A或いは第2図Bの構成
のものである。
即ち、レーザ光源1、このレーザ光源1からの出力ビー
ムを2次元に偏向するビーム偏向系3.4.5.6、転
7、偏向されたビームを試料に集束する集束光学系8、
試料9からの反射又は透通光を電気信号に変換゛する光
電変換系10.11.12とを右するレーザ走査顕微鏡
である。
ムを2次元に偏向するビーム偏向系3.4.5.6、転
7、偏向されたビームを試料に集束する集束光学系8、
試料9からの反射又は透通光を電気信号に変換゛する光
電変換系10.11.12とを右するレーザ走査顕微鏡
である。
レーザ光源1が短い幅のパルス状の光を出力する。偏向
系を構成するガルバノミラ−3,4がステップ状に増減
する高速度X−走査とステ・ンプ状に増減するY−走査
の2次元走査をなすための走査駆動制御手段13を有し
、レーザ光の出力とステップ状走査のステップとの位相
を合わせる発光制御手段16を有する。
系を構成するガルバノミラ−3,4がステップ状に増減
する高速度X−走査とステ・ンプ状に増減するY−走査
の2次元走査をなすための走査駆動制御手段13を有し
、レーザ光の出力とステップ状走査のステップとの位相
を合わせる発光制御手段16を有する。
そのレーザ光源1は、半導体レーザ19、第2高調波発
生器(5HG)40及びレーザ駆動手段15とからなる
。半導体レーザ19は、レーザ駆動手段15により出力
される短パルス駆動電流により、利得スイッチされ、短
パルス光を出力する半導体レーザであり、そして、この
類パルス光を該第2高調波発生器40を介してl/2光
波長の短パルス光として出力する。
生器(5HG)40及びレーザ駆動手段15とからなる
。半導体レーザ19は、レーザ駆動手段15により出力
される短パルス駆動電流により、利得スイッチされ、短
パルス光を出力する半導体レーザであり、そして、この
類パルス光を該第2高調波発生器40を介してl/2光
波長の短パルス光として出力する。
また、前記第2高調波発生器40は、第2図Aに於ては
、半導体レーザの出力ビーム基本波を平行にする第1の
コリメータレンズ、半導体レーザ=10 の非点隔差を補正する1対の円柱レンズで構成されるレ
ンズ群20と、波長を1/2に変換する第2高調波発生
素子22、そして、第2高調波発生素子22に、該ビー
ムを集束する集束レンズ21.172波長のビームを平
行にする第2のフリメークレンズ23.1/2波長の光
を透過し、該基本波を不透過にする光フイルタ−24と
からなる。
、半導体レーザの出力ビーム基本波を平行にする第1の
コリメータレンズ、半導体レーザ=10 の非点隔差を補正する1対の円柱レンズで構成されるレ
ンズ群20と、波長を1/2に変換する第2高調波発生
素子22、そして、第2高調波発生素子22に、該ビー
ムを集束する集束レンズ21.172波長のビームを平
行にする第2のフリメークレンズ23.1/2波長の光
を透過し、該基本波を不透過にする光フイルタ−24と
からなる。
また、第2図Bに於ては、上述と同じ機能の20.21
と、22及び発生した1/2波長での共振器を構成する
反射鏡26.27:とミラー25とからなる。
と、22及び発生した1/2波長での共振器を構成する
反射鏡26.27:とミラー25とからなる。
第2図A、Bにおいて、レーザ源19は、840nm近
傍で発振するGaAffiAs系半導体レザであり、2
0は、−11ノメータと、1対の円柱レンズから構成さ
れ、゛1導体レーデの出力のJr点隔差補正・ビーム整
形・平行ビーム化を行なう。
傍で発振するGaAffiAs系半導体レザであり、2
0は、−11ノメータと、1対の円柱レンズから構成さ
れ、゛1導体レーデの出力のJr点隔差補正・ビーム整
形・平行ビーム化を行なう。
レンズ群20により平行とされたビームaは、レンズ2
1により第2高調波発生素子22に数十μmの径に絞り
こまれる。第2高調波発生素子11− 22は、KNbOsで90度(57相整合の配置を取る
。図示していない温度制御装置により、位相整合が取ら
れる。クリチカルな角度整合であってもよいが、変換効
率が落ちる。第2高調波発生素子22により、1/2波
長となり、その出力は、レンズ23により、再び、平行
にされ、フィルタ24により、基本波(約840nm)
を除き、1/2波長(約420na)波のみを透過させ
る・。
1により第2高調波発生素子22に数十μmの径に絞り
こまれる。第2高調波発生素子11− 22は、KNbOsで90度(57相整合の配置を取る
。図示していない温度制御装置により、位相整合が取ら
れる。クリチカルな角度整合であってもよいが、変換効
率が落ちる。第2高調波発生素子22により、1/2波
長となり、その出力は、レンズ23により、再び、平行
にされ、フィルタ24により、基本波(約840nm)
を除き、1/2波長(約420na)波のみを透過させ
る・。
第2図Bは、レーザ光源1の異なる例を示す模式構成図
である。この構成において、凹面鏡27.26とミラー
25で構成するコンフォーカルな外部共振器の焦点近傍
に、第2高調波発生素子22を配置し、基本波を透過し
、1/2波長を反射するミラー25を介して、半導体レ
ーザ19の出力(語本波)は、上記と同様に、レンズ群
20及びレンズ21により、第2高調波発生素子22に
絞り込まれる。変換された1/2波長光は、26.27
による新しい共振器モードにより、発振し、レンズ機能
を兼ねるミラー26で平2− 行にされ、出力される。
である。この構成において、凹面鏡27.26とミラー
25で構成するコンフォーカルな外部共振器の焦点近傍
に、第2高調波発生素子22を配置し、基本波を透過し
、1/2波長を反射するミラー25を介して、半導体レ
ーザ19の出力(語本波)は、上記と同様に、レンズ群
20及びレンズ21により、第2高調波発生素子22に
絞り込まれる。変換された1/2波長光は、26.27
による新しい共振器モードにより、発振し、レンズ機能
を兼ねるミラー26で平2− 行にされ、出力される。
第3図は、半導体レーザの利得スイッチ動作を示す図で
あり、曲92Bは、レーザ駆動手段15による駆動電流
パルスを示し、曲線29は、光出力を示す。
あり、曲92Bは、レーザ駆動手段15による駆動電流
パルスを示し、曲線29は、光出力を示す。
公知のように、数百ピコ秒幅の駆動電流により利得が、
スイッチされ、数十ピコ秒幅の単一な光パルスが得られ
る。
スイッチされ、数十ピコ秒幅の単一な光パルスが得られ
る。
以上のようにして、得られた約420nmの平行な光パ
ルスビームaは、第1図の構成図において、偏向ビーム
スプリッタ−(PBS)又は半透過ミラー2を経て、高
速度のX−偏向ガルバノミラ−3により偏向される。こ
こでは、ガルバノミラ−を用いているが、音響光学素子
(AOM)或いはポリゴン(多面体)ミラーでも良い。
ルスビームaは、第1図の構成図において、偏向ビーム
スプリッタ−(PBS)又は半透過ミラー2を経て、高
速度のX−偏向ガルバノミラ−3により偏向される。こ
こでは、ガルバノミラ−を用いているが、音響光学素子
(AOM)或いはポリゴン(多面体)ミラーでも良い。
更に、ビームaは、低速度のY−偏向ガルバノミラ−4
によりY偏向され、2次元のビーム走査が為される。レ
ンズ5.6は、瞳伝達光学系で偏向面を一致させるため
のものである。レンズにより、対物レンズ8の後側像面
位置に、−・旦ビームを収束させる。この面上の2次元
走査パターンが、対物レンズ8により、試料9に投影さ
れる。
によりY偏向され、2次元のビーム走査が為される。レ
ンズ5.6は、瞳伝達光学系で偏向面を一致させるため
のものである。レンズにより、対物レンズ8の後側像面
位置に、−・旦ビームを収束させる。この面上の2次元
走査パターンが、対物レンズ8により、試料9に投影さ
れる。
また、レンズ7は、偏向面を対物レンズ8の入射瞳に一
致させる作用を有する。
致させる作用を有する。
そして、試料により反射された光すは、逆の光路を戻り
、偏向ビームスプリッタ−2により分離される0分離さ
れた光すは、レンズ10によりピンホール11に集束さ
れ、その透過光が光電変換素子12により、電気信号に
変換される。試料の情報は、2次元の走査の走査の順に
時系列の電気信号として得られる。
、偏向ビームスプリッタ−2により分離される0分離さ
れた光すは、レンズ10によりピンホール11に集束さ
れ、その透過光が光電変換素子12により、電気信号に
変換される。試料の情報は、2次元の走査の走査の順に
時系列の電気信号として得られる。
光電変換素子12は、ビニ1秒のオーダーの応答速度を
有するアバランシェ素子が好適である。
有するアバランシェ素子が好適である。
13は、ガルバノミラ−3,4を駆動制御するに程駆動
制御手段であり、16は、レーザ発光と偏向との位相を
合わせるための発光制御手段である。
制御手段であり、16は、レーザ発光と偏向との位相を
合わせるための発光制御手段である。
4−
第4図Cよ、2次元のステップ走査を示す図であり、曲
fi30は、高速度のX走査の駆動波形を示し、曲線3
1は、低速度のY走査の駆動波形を示す。その結果、曲
線31で示す′ようなラスク走査が為される。
fi30は、高速度のX走査の駆動波形を示し、曲線3
1は、低速度のY走査の駆動波形を示す。その結果、曲
線31で示す′ようなラスク走査が為される。
このステップ走査の利点は、サンプルする画素が固定さ
れているため、解像度が−Lがることにある。ビートの
スポット径の1/2程度の細かなステップをとれば、分
解能限度を上げることができる。第4図では、調波駆動
を示しているが、ガルバノミラ−では、走査速度を上げ
るため、三角波駆動が適している。この場合、画像メモ
リー17の番地管理により、通常のラスクー走査のとき
と同し画像としで、扱うことができる。
れているため、解像度が−Lがることにある。ビートの
スポット径の1/2程度の細かなステップをとれば、分
解能限度を上げることができる。第4図では、調波駆動
を示しているが、ガルバノミラ−では、走査速度を上げ
るため、三角波駆動が適している。この場合、画像メモ
リー17の番地管理により、通常のラスクー走査のとき
と同し画像としで、扱うことができる。
上記の駆動制御信号を出力する走査駆動制御手段■3に
従って、ビームがX−Yにステップ走査されるが、走査
駆動制御手段13は、またX走査スjツブに同期したタ
イミング信号を作り、発光制御手段16に出力する。発
光制御手段16は5、−の信yを受けて、レーザ駆動手
段15に類パル15 スの発光制御信号を出力す゛る。
従って、ビームがX−Yにステップ走査されるが、走査
駆動制御手段13は、またX走査スjツブに同期したタ
イミング信号を作り、発光制御手段16に出力する。発
光制御手段16は5、−の信yを受けて、レーザ駆動手
段15に類パル15 スの発光制御信号を出力す゛る。
この出力する短パルスの位相及びパルス幅は、半導体レ
ーザによって異なる値をとるものである。発光制御手段
16は、また、積分回路若しくはビーク検出回路である
14の積分或いは検出制御をも行なうものである。
ーザによって異なる値をとるものである。発光制御手段
16は、また、積分回路若しくはビーク検出回路である
14の積分或いは検出制御をも行なうものである。
第5図杜、この様子を示すパルス曲線を示すグラフであ
る。曲線30は、Xステップ発光を示し、曲線29は、
レーザ発光である。光電変換素子12の出力も、レーザ
発光の曲線29に相似している。
る。曲線30は、Xステップ発光を示し、曲線29は、
レーザ発光である。光電変換素子12の出力も、レーザ
発光の曲線29に相似している。
この光電変換素子12の出力が、積分−ビーク検出手段
14に入力され、制御手段16に従って積分又はピーク
ホールドされると、曲線33の波形になる。この信号は
、図示し“〔いないA/D変換手段を経て、画像メモリ
ー17に記憶される。
14に入力され、制御手段16に従って積分又はピーク
ホールドされると、曲線33の波形になる。この信号は
、図示し“〔いないA/D変換手段を経て、画像メモリ
ー17に記憶される。
画像メeリ−17を順次読み出し、CRT等の表示器1
8により、表示される。
8により、表示される。
[発明の効果]
本発明のレーザ走査顕微鏡は、
6
第1に、小型で、安定性の良い短波長レーザ光源を得る
ことができること、 第2に、更に、ステップ走査により、解像力の向上が成
されたことの利点を有するレーザ走査顕微鏡を改良が得
られること、 第3に、受光信号のS/N比の改善をもたらすことがで
きること、 などの、顕著な技術的な効果をもたら1゜
ことができること、 第2に、更に、ステップ走査により、解像力の向上が成
されたことの利点を有するレーザ走査顕微鏡を改良が得
られること、 第3に、受光信号のS/N比の改善をもたらすことがで
きること、 などの、顕著な技術的な効果をもたら1゜
第1図は、本発明のレーザ走査顕微鏡の一例の光学系構
成を示す模式構成図である。 第2図A、Bは、本発明のレーザ走査顕微鏡に用いる1
・−ザ光源例を示す模式構成図である。 第3図は、本発明のレーザ走を顕微鏡のレーザ光源の出
力パルスを示4図である。 第4図と第5図は、走査とレーザ出力との関係を示す図
である。 [主要部分の符けの説明コ ト・・・・ ・レーザ光源 7 3.401. ガルバノミラ 8 、、、、、、 対物レンズ 9、、、、、 試料 12、、、、、、 光電変換素子 13、、、、、、、走査駆動制御手段 14 、、、、、、、、積分/ビーク検出回路15、、
、、、、 レーザ駆動手段 16、、、、、 発光制御手段 17、、、、、、、、画像メモリ 19 、、、、、、、、半導体レーザ 20 、、、、、、、、レンズ群 22、、、、、 第2高調波発生素子24 、、、、
、、、、フィルタ 26.27.、、、、、、、ミラ
成を示す模式構成図である。 第2図A、Bは、本発明のレーザ走査顕微鏡に用いる1
・−ザ光源例を示す模式構成図である。 第3図は、本発明のレーザ走を顕微鏡のレーザ光源の出
力パルスを示4図である。 第4図と第5図は、走査とレーザ出力との関係を示す図
である。 [主要部分の符けの説明コ ト・・・・ ・レーザ光源 7 3.401. ガルバノミラ 8 、、、、、、 対物レンズ 9、、、、、 試料 12、、、、、、 光電変換素子 13、、、、、、、走査駆動制御手段 14 、、、、、、、、積分/ビーク検出回路15、、
、、、、 レーザ駆動手段 16、、、、、 発光制御手段 17、、、、、、、、画像メモリ 19 、、、、、、、、半導体レーザ 20 、、、、、、、、レンズ群 22、、、、、 第2高調波発生素子24 、、、、
、、、、フィルタ 26.27.、、、、、、、ミラ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、レーザ光源、このレーザ光源からの出力ビームを2
次元に偏向するビーム偏向系、偏向されたビームを試料
に集束する集束光学系、試料からの反射光又は透過光を
電気信号に変換する光電変換系とを有するレーザ走査顕
微鏡において、 該レーザ光源が短い幅のパルス状の光を出力するレーザ
光源であること、 該ビーム偏向系がステップ状に増減する高速度X−走査
とステップ状に増減するY−走査の2次元走査をなすた
めの走査駆動制御手段を有すること、 該レーザ光の出力とステップ状走査のステップとの位相
を合わせる発光制御手段を有することを特徴とする前記
レーザ走査顕微鏡。 2、前記のレーザ光源は、半導体レーザ、第2高調波発
生器(SHG)及びレーザ駆動手段とから本質的になり
、該半導体レーザは、レーザ駆動手段により出力される
短パルス駆動電流により、利得スイッチされ、短パルス
光を出力する半導体レーザであり、そして、この短パル
ス光を該第2高調波発生器を介して1/2光波長の短パ
ルス光として出力することを特徴とする請求項1に記載
のレーザ走査顕微鏡。 3、前記第2高調波発生器は、該半導体レーザの出力ビ
ーム基本波を平行にする第1のコリメータレンズ、該半
導体レーザの非点隔差を補正する1対の円柱レンズ、波
長を1/2に変換する第2高調波発生素子、該第2高調
波発生素子に、該ビームを集束する集束レンズ、1/2
波長のビームを平行にする第2のコリメータレンズ、1
/2波長の光を透過し、該基本波を不透過にする光フィ
ルターとからなることを特徴とする請求項2に記載のレ
ーザ走査顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32048889A JPH03181910A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | レーザ走査顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32048889A JPH03181910A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | レーザ走査顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03181910A true JPH03181910A (ja) | 1991-08-07 |
Family
ID=18122004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32048889A Pending JPH03181910A (ja) | 1989-12-12 | 1989-12-12 | レーザ走査顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03181910A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5691839A (en) * | 1993-04-15 | 1997-11-25 | Kowa Company Ltd. | Laser scanning optical microscope |
| WO1999059228A3 (de) * | 1998-05-08 | 2000-02-17 | Leica Microsystems | Verfahren zum betrieb einer laserlichtquelle |
| JP2001159734A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | レーザ走査顕微鏡 |
| JP2002048980A (ja) * | 2000-06-17 | 2002-02-15 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | 走査顕微鏡 |
| JP2006023382A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 光走査型観察装置 |
| EP1108227B1 (de) * | 1998-11-16 | 2008-01-02 | Leica Microsystems CMS GmbH | Verfahren zum betrieb eines konfokalen laser scanning mikroskops |
-
1989
- 1989-12-12 JP JP32048889A patent/JPH03181910A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5691839A (en) * | 1993-04-15 | 1997-11-25 | Kowa Company Ltd. | Laser scanning optical microscope |
| WO1999059228A3 (de) * | 1998-05-08 | 2000-02-17 | Leica Microsystems | Verfahren zum betrieb einer laserlichtquelle |
| DE19820575B4 (de) * | 1998-05-08 | 2012-03-29 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Verfahren zum Betrieb einer pulsierenden Laserlichtquelle |
| EP1108227B1 (de) * | 1998-11-16 | 2008-01-02 | Leica Microsystems CMS GmbH | Verfahren zum betrieb eines konfokalen laser scanning mikroskops |
| JP2001159734A (ja) * | 1999-09-24 | 2001-06-12 | Olympus Optical Co Ltd | レーザ走査顕微鏡 |
| JP2002048980A (ja) * | 2000-06-17 | 2002-02-15 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | 走査顕微鏡 |
| JP2006023382A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 光走査型観察装置 |
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