JPH0318242B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0318242B2 JPH0318242B2 JP56213243A JP21324381A JPH0318242B2 JP H0318242 B2 JPH0318242 B2 JP H0318242B2 JP 56213243 A JP56213243 A JP 56213243A JP 21324381 A JP21324381 A JP 21324381A JP H0318242 B2 JPH0318242 B2 JP H0318242B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic pole
- magnetic
- side magnetic
- coil
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はリング形状の磁気ヘツドに関する。
本発明の目的は記録磁界の垂直成分をより強く
発生させることであり、他の目的は製造工程を容
易にすることである。
発生させることであり、他の目的は製造工程を容
易にすることである。
従来リング形状の磁気ヘツドは第１図に示すよ
うに、バルク磁性体で形成された磁極を張り合せ
て作つている。このような磁気ヘツドに対して、
従来は記録媒体の面内方向に磁化する方法がとら
れている。しかし最近ではこの方法による記録密
度の限界から、記録媒体の垂直方向に磁化するい
わゆる垂直磁気記録なる方法が採用されつつあ
る。このような垂直磁気記録方式に対して、第１
図のような従来の磁気ヘツドでは、記録磁界の水
平成分が強く、さらにギヤツプ近傍以外からの漏
れ磁界が強い。従つて記録密度の低下とともに垂
直方向の磁界がヘツド面およびギヤツプ近傍に限
定され、このようなヘツドでは垂直磁気記録の目
的を十分に達成することはできない。従つて垂直
磁気記録のヘツドとしては第２図に示すような補
助磁極励磁形のヘツドが考案されている。このタ
イプのものは常に記録媒体をはさんで対になつて
移動させる必要があり、記録装置の構造が複雑と
なる。このような欠点から、垂直磁気記録用のヘ
ツドとして種々のものが考案されつつある。第３
図はギヤツプ近傍に従来のヘツドよりも強に磁界
を発生する薄膜タイプのリング状ヘツドである。
この場合には数回の薄膜形成およびエツチングが
必要となり、製造工程の複雑化および製造歩留り
の低下などの欠点がある。
うに、バルク磁性体で形成された磁極を張り合せ
て作つている。このような磁気ヘツドに対して、
従来は記録媒体の面内方向に磁化する方法がとら
れている。しかし最近ではこの方法による記録密
度の限界から、記録媒体の垂直方向に磁化するい
わゆる垂直磁気記録なる方法が採用されつつあ
る。このような垂直磁気記録方式に対して、第１
図のような従来の磁気ヘツドでは、記録磁界の水
平成分が強く、さらにギヤツプ近傍以外からの漏
れ磁界が強い。従つて記録密度の低下とともに垂
直方向の磁界がヘツド面およびギヤツプ近傍に限
定され、このようなヘツドでは垂直磁気記録の目
的を十分に達成することはできない。従つて垂直
磁気記録のヘツドとしては第２図に示すような補
助磁極励磁形のヘツドが考案されている。このタ
イプのものは常に記録媒体をはさんで対になつて
移動させる必要があり、記録装置の構造が複雑と
なる。このような欠点から、垂直磁気記録用のヘ
ツドとして種々のものが考案されつつある。第３
図はギヤツプ近傍に従来のヘツドよりも強に磁界
を発生する薄膜タイプのリング状ヘツドである。
この場合には数回の薄膜形成およびエツチングが
必要となり、製造工程の複雑化および製造歩留り
の低下などの欠点がある。
本発明は以上の例に対して、磁界分布の向上お
よび製造工程の簡略化を目指するものであり、以
下に先行例により詳細に説明する。第４図は本発
明の実施例で、４１はトレーリング側磁極でバル
ク基板４２上に形成されたパーマロイ等軟磁性体
の高透磁率薄膜である。４２はフエライトまたは
非磁性体の再板である。４３はヘツドギヤツプ、
４４は通常の線状コイル、４５はリーデイング側
磁極であり、フエライトなどのバルク基板であ
る。４６は張り合せ部であり、記録媒体は紙面左
方向に移動する。第５図は本発明の先行例であ
り、５１はトレーリング側磁極でバルク基板５２
上に形成されたパーマロイ等軟磁性体の高透磁率
薄膜５５はリーデイング側磁極で５２と同様軟磁
性体の高透磁率薄膜である。５２，５７は非磁性
体あるいはフエライト等軟磁性体である。５４は
通常の線状コイル、５６は張り合せ部である。第
６図は本発明の先例である４図および５図のヘツ
ドによる垂直方向の磁界強度Hyとギヤツプ中心
からのキヨリｘとの関係を表わしたもので、６１
が本発明の先例による磁界分布、６２が従のリン
グ状ヘツドによる磁界分布である。６３，６４，
６５はそれぞれリーデイング側磁極、トレーリン
グ側磁極およびギヤツプを示す。このような本発
明の先例によれば鋭い垂直方向の磁界を得ること
ができる。しかしこれらの先行例ではワイヤーコ
イルを用いているので磁束漏れが多く効率が悪い
といつた問題が残る。本発明はかかる問題点を解
決したものである。
よび製造工程の簡略化を目指するものであり、以
下に先行例により詳細に説明する。第４図は本発
明の実施例で、４１はトレーリング側磁極でバル
ク基板４２上に形成されたパーマロイ等軟磁性体
の高透磁率薄膜である。４２はフエライトまたは
非磁性体の再板である。４３はヘツドギヤツプ、
４４は通常の線状コイル、４５はリーデイング側
磁極であり、フエライトなどのバルク基板であ
る。４６は張り合せ部であり、記録媒体は紙面左
方向に移動する。第５図は本発明の先行例であ
り、５１はトレーリング側磁極でバルク基板５２
上に形成されたパーマロイ等軟磁性体の高透磁率
薄膜５５はリーデイング側磁極で５２と同様軟磁
性体の高透磁率薄膜である。５２，５７は非磁性
体あるいはフエライト等軟磁性体である。５４は
通常の線状コイル、５６は張り合せ部である。第
６図は本発明の先例である４図および５図のヘツ
ドによる垂直方向の磁界強度Hyとギヤツプ中心
からのキヨリｘとの関係を表わしたもので、６１
が本発明の先例による磁界分布、６２が従のリン
グ状ヘツドによる磁界分布である。６３，６４，
６５はそれぞれリーデイング側磁極、トレーリン
グ側磁極およびギヤツプを示す。このような本発
明の先例によれば鋭い垂直方向の磁界を得ること
ができる。しかしこれらの先行例ではワイヤーコ
イルを用いているので磁束漏れが多く効率が悪い
といつた問題が残る。本発明はかかる問題点を解
決したものである。
第７図は本発明の実施例であり、７１はトレー
リング側磁極で軟磁性体の高透磁率薄膜、７２は
非磁性体又はフエライト等の基板、７３はヘツド
ギヤツプを形成するための非磁性の薄膜、７５は
リーデイング側磁極、７６は薄膜コイルであり紙
面に垂直方向に磁化するいわゆる垂直電流が流れ
る。７７は両磁極の接合部である。この実施例で
はトレーリング側磁極の方に薄膜コイルを形成し
ているが、リーデイング側磁極の方に形成しても
よい。しかし前者の方がトレーリング側磁極の先
端に鋭い垂直方向の磁界を発生することがきる。
リング側磁極で軟磁性体の高透磁率薄膜、７２は
非磁性体又はフエライト等の基板、７３はヘツド
ギヤツプを形成するための非磁性の薄膜、７５は
リーデイング側磁極、７６は薄膜コイルであり紙
面に垂直方向に磁化するいわゆる垂直電流が流れ
る。７７は両磁極の接合部である。この実施例で
はトレーリング側磁極の方に薄膜コイルを形成し
ているが、リーデイング側磁極の方に形成しても
よい。しかし前者の方がトレーリング側磁極の先
端に鋭い垂直方向の磁界を発生することがきる。
以上本発明によればいかの如き効果を有する。
ａ トレーリング側磁極をフエライト等のバルク
基板上面に形成される高透磁率薄膜により構成
することにより、従来のリング状ヘツドに比べ
てギヤツプ位置に集中した強い磁力線を発生さ
せることができる。またコイルをトレーリング
側磁極の上面に薄膜により形成することによ
り、コイルに発生した磁界を効率良くトレーリ
ング側磁極に導き漏れ磁界を極力減じることが
できるので、トラーリング側磁極を高透磁率薄
膜により形成した構成と相俟つて一層強い磁力
線を発生させることができるものである。
基板上面に形成される高透磁率薄膜により構成
することにより、従来のリング状ヘツドに比べ
てギヤツプ位置に集中した強い磁力線を発生さ
せることができる。またコイルをトレーリング
側磁極の上面に薄膜により形成することによ
り、コイルに発生した磁界を効率良くトレーリ
ング側磁極に導き漏れ磁界を極力減じることが
できるので、トラーリング側磁極を高透磁率薄
膜により形成した構成と相俟つて一層強い磁力
線を発生させることができるものである。
ｂ リーデイング側磁極は、磁気回路がコイルを
貫通するようにトレーリング側磁極に張り合わ
せて構成したので、従来の薄膜ヘツドにあつた
ような何回もの薄膜形成・エツチング工程を軽
減し、より簡単な構成により性能の良い磁気ヘ
ツドを提供できるものである。またトレーリン
グ側磁極上面にコイルを形成する際に両者の間
に介在させる非磁性膜を、トレーリング側磁極
とリーデイング側磁極とのギヤツプ間にも共通
に介在させヘツドギヤツプを決定させているの
で、各々の薄膜を１回の薄膜形成工程で形成す
ることが可能であり、製造・構成を簡略化させ
低コストで高性能の磁気ヘツドを提供できるも
のである。
貫通するようにトレーリング側磁極に張り合わ
せて構成したので、従来の薄膜ヘツドにあつた
ような何回もの薄膜形成・エツチング工程を軽
減し、より簡単な構成により性能の良い磁気ヘ
ツドを提供できるものである。またトレーリン
グ側磁極上面にコイルを形成する際に両者の間
に介在させる非磁性膜を、トレーリング側磁極
とリーデイング側磁極とのギヤツプ間にも共通
に介在させヘツドギヤツプを決定させているの
で、各々の薄膜を１回の薄膜形成工程で形成す
ることが可能であり、製造・構成を簡略化させ
低コストで高性能の磁気ヘツドを提供できるも
のである。
第１図は従来の実施例の断面図。第２図は従来
の実施例の断面図。第３図は従来の実施例の断面
図。第４図は本発明の実施例の断面図。第５図は
本発明の実施例の断面図。第６図は磁界分布。第
７図は本発明の実施例の断面図。 １１……トレーリング側磁極、１３……ギヤツ
プ、１４……コイル、１５……リーデイング側磁
極、１６……張り合せ部、３１，３２……磁極、
３３……ギヤツプ、３４……コイル、２１……主
磁極、２２……記録媒体、２３……補助磁極、２
４……コイル。
の実施例の断面図。第３図は従来の実施例の断面
図。第４図は本発明の実施例の断面図。第５図は
本発明の実施例の断面図。第６図は磁界分布。第
７図は本発明の実施例の断面図。 １１……トレーリング側磁極、１３……ギヤツ
プ、１４……コイル、１５……リーデイング側磁
極、１６……張り合せ部、３１，３２……磁極、
３３……ギヤツプ、３４……コイル、２１……主
磁極、２２……記録媒体、２３……補助磁極、２
４……コイル。
Claims (1)
- １ トレーリング側磁極、リーデイング側磁極及
びコイルから成る磁気ヘツドにおいて、フエライ
ト等のバルク基板上面に高透磁率薄膜により前記
トレーリング側磁極を形成するとともに、前記ト
レーリング側磁極の上面に非磁性膜を介して薄膜
によりコイルを形成し、前記コイルを磁気回路が
貫通するように前記トレーリング側磁極とリーデ
イング側磁極を張り合わせ、且つ前記非磁性膜を
前記トレーリング側磁極と前記リーデイング側磁
極のギヤツプ間に介在させヘツドギヤツプを決定
してなることを特徴とする磁気ヘツド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21324381A JPS58115614A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21324381A JPS58115614A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58115614A JPS58115614A (ja) | 1983-07-09 |
| JPH0318242B2 true JPH0318242B2 (ja) | 1991-03-12 |
Family
ID=16635882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21324381A Granted JPS58115614A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58115614A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62501806A (ja) * | 1985-01-22 | 1987-07-16 | デイジタル イクイプメント コ−ポレ−シヨン | 垂直の磁気記録構成体 |
| JP2555031B2 (ja) * | 1986-07-02 | 1996-11-20 | 株式会社日立製作所 | 磁気ヘツド |
| JPS63231713A (ja) * | 1987-03-20 | 1988-09-27 | Hitachi Ltd | 磁気ヘツド |
| JPH052711A (ja) * | 1991-06-27 | 1993-01-08 | Nec Corp | 消去ヘツド |
| FR2688513B1 (fr) * | 1992-03-13 | 1996-04-19 | Commissariat Energie Atomique | Procede de realisation d'une tete magnetique de type perpendiculaire et tete obtenue par ce procede. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54103331A (en) * | 1978-02-01 | 1979-08-14 | Sony Corp | Production of magnetic head |
| JPS55157121A (en) * | 1979-05-19 | 1980-12-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Magnetic head core |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP21324381A patent/JPS58115614A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58115614A (ja) | 1983-07-09 |
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