JPH03183047A - 光磁気記録装置 - Google Patents

光磁気記録装置

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JPH03183047A
JPH03183047A JP1302369A JP30236989A JPH03183047A JP H03183047 A JPH03183047 A JP H03183047A JP 1302369 A JP1302369 A JP 1302369A JP 30236989 A JP30236989 A JP 30236989A JP H03183047 A JPH03183047 A JP H03183047A
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circuit
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哲 渡辺
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、光磁気ディスクに情報信号を記録する光磁
気記録装置に関するもので、特に、パルス照射型の磁界
変調方式の光磁気ディスク記録装置に係わる。
〔発明の概要〕
この発明は、基準クロックを基にした駆動パルスを用い
て光磁気ディスク上にビームを間欠的に照射するととも
に、変調磁界を印加するようにしたパルス照射型の磁界
変調方式の光磁気記録装置において、記録情報の変調方
式として、最小反転間隔T 11 i nと検出窓幅T
8との比N (N=T、、R/’r、 )が1より大き
いものを用いた場合には、変化点に対応した位置の駆動
パルスを間引くことにより、変化点での駆動パルスの間
隔を広くとれ、変化点で隣接するビット間で配向が急峻
に反転する磁化パターンを形成できるようにしたもので
ある。
この発明は、駆動パルスとして、基準クロックの整数倍
の周波数のものを用いることにより、変化点に対応した
位置の駆動パルスの間引きを行う際、間引間隔の設定の
分解能を向上するようにしたちのである。
〔従来の技術〕
磁界変調方式の光磁気ディスク記録/再生装置では、光
磁気ディスクの記録面にレーザービームが照射されると
ともに、記録データで変調された磁界が光磁気ディスク
に印加されてデータが記録される。このような磁界変調
方式では、過去のデータを消去せずに新たなデータを書
き込む所謂オーバーライドが可能である。
磁界変調方式の光磁気ディスク記録/再生装置としては
、一定のレーザービームを光磁気ディスクに照射しなが
ら、記録データで変調された磁界を光磁気ディスクに印
加していく連続照射型のものが提案されている。ところ
が、このような連続照射型の磁界変調方式の光磁気ディ
スク記録/再生装置では、隣接するビット間で配向が急
峻に反転する磁化パターンを形成しすらい。
すなわち、光磁気ディスクでは、レーザービームの照射
期間にその垂直磁化膜がキュリー温度T。以上まで暖め
られ、外部磁界が印加され、その垂直磁化膜がキュリー
温度Tc以下に冷却される時に、垂直磁化膜の磁界の配
向が確定する。したがって、隣接するビット間で配向が
急峻に反転する磁化パターンを形成するためには、垂直
磁化膜がキュリー温度T、以下に冷却されるまで、外部
磁界を飽和レベル以上に維持しておく必要がある。
連続照射型の磁界変調方式の光磁気ディスク記録/再生
装置では、ビットを形成した部分がビームスポットから
外れるまでディスクが回転されてからビットが冷却され
るので、形成したビットの部分の垂直磁化膜がキュリー
温度T、以下に冷却されて垂直磁化膜の磁界の配向が確
定する前に、コードデータの間に相当する外部磁界が与
えられる。このため、記録データが反転していると、隣
接するビット間で磁化の配向が定まらない部分が生じ易
い。
つまり、連続照射型の磁界変調方式の光磁気ディスク記
録/再生装置では、第5図Aに示すように、一定のレー
ザービームが光磁気ディスクに照射される。そして、第
5図Bに示すように、記録データで変調された磁界が光
磁気ディスクに印加される。なお、Hは磁気飽和レベル
を示す。
このように、レーザービームを連続して照射すると、垂
直磁化膜がキュリー温度T、以下まで冷却される前に、
データの変化点の外部磁界が印加されるので、第5図C
に示すように、隣接するビット間に、配向が定まらない
部分AIOが生じる。
そこで、所定の基準クロックを基にしたタイミングでレ
ーザービームを光磁気ディスクに間欠的に照射し、これ
に同期して記録データで変調された磁界を印加するよう
にしたパルス照射型の磁界変調方式の光磁気ディスク記
録/再生装置が提案されている。このようなパルス照射
型の磁界変調方式の光磁気ディスク記録/再生装置では
、レーサービームが間欠的に照射されるので、垂直磁化
膜がキュリー温度Tc以下に冷却されて垂直磁化膜の磁
界の配向が確定するまで、外部磁界を飽和レベル以上に
できる。このため、隣接するビット間で配向が急峻に反
転する磁化パターンを形成することかできる。
つまり、パルス照射型の磁界変調方式の光磁気ディスク
記録/再生装置では、第6図Aに示すように、レーザー
ビームが間欠的に照射される。そして、第6図Bに示す
ように、記録データで変調された磁界が光磁気ディスク
印加される。
この場合、光磁気ディスクにレーザービームが照射され
てからその垂直磁化膜の温度がキュリー温度Tc以下に
なるまでの期間TAに印加される外部磁界により、その
垂直磁化膜の磁界の配向が確定する。垂直磁化膜の温度
がキュリー温度Tc以下まで冷却された後では、光磁気
ディスクの垂直磁化膜の磁界の配向は変化しない。
第6図Bに示すように、パルス照射型の磁界変調方式の
光磁気ディスク記録/再生装置では、期間T^において
、飽和レベルH以上の外部磁界が印加される。このため
、第6図Cに示すように、隣接するビット間で配向が急
峻に反転する磁化パターンを形成することができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、上述の従来のパルス照射型の磁界変調方式の
光磁気ディスク記録/再生装置において、1チャンネル
ビット分のピットを形成するために最低限必要とされる
駆動パルスの数は、変調方式によって決まってくる。す
なわち、1チャンネルビット分のビットを形成するため
に最低限必要なパルス数は、変調方式の最小反転間隔T
 m * nと検出窓幅T、4との比Nにより決まる。
例えば、最小反転間隔T m ! nが(T、□7=T
)、検出窓幅T。が(Tw =T)(Tはチャンネルビ
ット間隔)のN RZ I (Non Return 
to Invert)を用いた場合、1チャンネルビッ
ト分のピ・ントを形成するために最低限必要とされる駆
動パルスの数は1である。また、例えば最小反転間隔T
 m i nが(T、i、、=1.57) 、検出窓幅
T8が(Tい=0.57)の2−7変調を用いた場合に
は、1チャンネルビット分のピットを形成するために最
低限必要とされる駆動パルスの数は3である。
したがって、記録密度が同じでも、変調方式が変わると
、必要とされる駆動パルスの間隔が変わってくる。すな
わち、変調方式として2−7変調を用いた場合、NRZ
Iを用いた場合に比べて、駆動パルスの間隔を1/2に
する必要がある。
上述のパルス照射型の磁界変調方式の光磁気ディスク記
録/再生装置において、駆動パルスの間隔が光磁気ディ
スクの熱応答性で決まる所定間隔以上短くなると、垂直
磁化膜がキュリー温度T。
以下に冷却されて磁界の向が確定する前に、次の駆動パ
ルスによりレーザービームが照射されることになる。こ
のため、上述の従来のパルス照射型の磁界変調方式の光
磁気ディスク記録/再生装置では、変調方式がNRZI
から2−7変調に変わって駆動パルスの間隔が短くなる
と、隣接するピット間で配向が急峻に反転する磁化パタ
ーンを形成できなくなるという問題が生じる。
光磁気ディスクの熱応答性を改善して、2−7変調の時
にも隣接するピット間で配向が急峻に反転する磁化パタ
ーンを形成できるようにすることも考えられるが、光磁
気ディスクの熱応答性の改善には限界がある。
したがって、この発明の目的は、変調方式に係わらず、
隣接するビット間で配向が急峻に反転する磁化パターン
を形成できる光磁気記録装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
この発明は、基準クロックを基にした駆動パルスを用い
て光磁気ディスク上にビームを間欠的に照射するととも
に、変調磁界を印加するようにした光磁気記録装置にお
いて、最小反転間隔T Lm i Rと検出窓幅T8と
の比N (N = T−t−/ Tw )が1より大き
い変調方式を用いて記録する場合には、変化点に対応し
た位置の駆動パルスを間引くようにしたことを特徴とす
る光磁気記録装置である。
また、この発明では、駆動パルスとして、基準クロック
の整数倍の周波数のものを用いるようにしている。
〔作用〕
記録データを変調する際の変調方式として、最小反転間
隔T m i、と検出窓幅T。との比N (N=T−t
−/Tw)が1より大きい変調方式を用し)た場合には
、駆動パルス発生回路19で、変化点に対応した位置の
レーザー駆動パルスLPが間引かれる。このため、変調
方式が変わっても、隣接するビット間で配向が急峻に反
転する磁化パターンを形成できる。
基準クロックS0をm倍してレーザー駆動パルスLPを
形成するようにすると、データの変化点に対応する位置
での駆動パルスの間引きの分解能を向上でき、光磁気デ
ィスク1の温度特性及び熱特性に応じたパルス間隔が設
定できる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
第1図は、この発明の一実施例を示すものである。第1
図において、1は光磁気ディスクである。
光磁気ディスク1は、スピンドルモータ2により所定の
回転速度で回転される。
光磁気ディスク1には、所定の角間隔で配置されたサー
ボ領域に、サーボパターンが予め形成されている。この
サーボパターンから得られる再生信号に基づいて、基準
クロックsexを得ることが可能である。
3はデータ入力端子である。データ入力端子3に、記録
データが供給される。この記録データが変調回路4に供
給される。変調回路4で、入力端子3からのデータが所
定の変調方式で変調される。
変調方式としては、2−7変調、NRZI等を用いるこ
とができる。
変調回路4の出力がタイミング設定回路5、ヘッド駆動
回路6を介して磁気ヘッド7に供給されるとともに、変
化点検出回路8に供給される。変化点検出回路8は、変
調回路4の出力がローレベルからハイレベル、又は ハ
イレベルからローレベルに変化する変化点を検出するも
のである。変化点検出回路8の出力が駆動パルス発生回
路19に供給される。
なお、タイミング設定回路5は、変調回路4がら出力さ
れるコードデータのタイミングと、レーザーダイオード
11の照射されるタイミングとを、光磁気ディスクlの
温度特性及び熱特性に応じて設定するものである。
磁気ヘッド7は、光磁気ディスクlに対向して配設され
る。磁気ヘッド7には、タイミング設定回路5、ヘッド
駆動回路6を介された変調回路4の出力が供給される。
磁気ヘッド7からは、変調回路4の出力に基づいた変調
磁界が発生され、この変調磁界が光磁気ディスク1に印
加される。
11はレーザーダイオードである。レーザーダイオード
11には、レーザー駆動回路1oを介してレーザー駆動
パルスLPが供給される。このレーザー駆動パルスLP
により、レーザーダイオード11からレーザービームが
間欠的に出力される。
レーザーダイオード11から照射されるレーザービーム
は、コリメータレンズ12を介して平行光線に整えられ
、偏光ビームスプリッタ13、対物レンズ14を介して
光磁気ディスク1上に集光される。光磁気ディスクlの
反射光が対物レンズ14、偏光ビームスプリッタ13、
集光レンズ15を介して、フォトダイオード16で受光
される。
フォトダイオード16の出力がクロック発生回路17に
供給されるとともに、信号処理回路18に供給される。
前述したように、光磁気ディスク1には、所定の角間隔
で配置されたサーボ領域に、サーボパターンが予め形成
されている。この光磁気ディスクlのサーボ領域のサー
ボパターンから得られる再生信号から、クロック発生回
路17で、基準クロックsexが形成される。この基準
クロックSC+tが変調回路4、信号処理回路1Bに供
給されるとともに、駆動パルス発生回路19に供給され
る。
駆動パルス発生回路19は、この基準クロックSCKに
基づいて、レーザー駆動パルスLPを形成する。また、
駆動パルス発生回路19では、変調回路4で記録データ
を変調する際の変調方式として、最小反転間隔T * 
i nと検出窓幅T。との比N(N=T、、イ/Tw)
が1より大きい変調方式を用いた場合には、変化点に対
応した位置のレーザー駆動パルスLPの間引きを行う。
すなわち、NRZIでは、最小反転間隔Tw.lLRと
検出窓幅T8との比Nは、 N=T、i、/T。
=IT/IT=1 である、このように、最小反転間隔T a i nと検
出窓幅Twとの比Nが1の変調方式の場合には、レーザ
ー駆動パルスLPの間引きは行われない。
2−7変調では、最小反転間隔Tw.、と検出窓幅Tk
4との比Nは、 N=T、ill/T、4 −1.5710.57=3 である。また、1−7変調では、最小反転間隔T、iと
検出窓幅T。との比Nは、 N=T、i/’r。
=1.33Tw0.67T =2 である。このように、最小反転間隔T m i nと検
出窓幅Ttnとの比Nが1より大きい変調方式の場合に
は、変化点に対応した位置のレーザー駆動パルスLPが
nパルス(Nun)間引かれる。
駆動パルス発生回路19からのレーザー駆動パルスLP
がレーザー駆動回路10を介してレーザーダイオード1
1に供給され、このレーザー駆動パルスLPに応じて、
レーザーダイオード11が間欠的に発光される。
レーサータイオード11からのレーザービームは、前述
したように、コリメータレンズ12、偏光ビームスプリ
ッタ13、対物レンズ14を介して光磁気ディスク1上
に集光される。
光磁気ディスクl上にレーザービームが集光されると、
その部分の温度が上昇する。光磁気ディスク1の垂直磁
化膜の温度がキュリー温度Tc以上まで上昇されると、
その垂直磁化膜の保磁力が急激に減少する。したがって
、磁気ヘッド7からの磁界により、光磁気ディスク1の
垂直磁化膜の磁化方向が配向される。このようにして、
光磁気ディスク1にデータが記録される。
この発明の一実施例では、上述のように、変調回路4で
記録データを変調する際の変調方式として、最小反転間
隔Tw.7と検出窓幅Tt4との比N(N=Tmtn 
/’r、 >が1より大きい変調方式を用いた場合には
、駆動パルス発生回路19で、変化点に対応した位置の
レーザー駆動パルスLPが間引かれる。このため、1チ
ャンネルビット分のビットを形成するために最低限必要
なパルス数が多い変調方式を用いた場合でも、隣接する
ピット間で配向が急峻に反転する磁化パターンを形成す
ることが可能である。
このことについて、以下に説明する。
第2図Aは、変調方式としてNRZIを用いた場合の基
準クロックS0を示し、第2図Bは、変調方式としてN
RZIを用いた場合の変調回路4から出力されるコード
データを示す。
NRZIでは、チャンネルビット間隔をTとすると、最
小反転間隔T a inが(T、i、=T)で、検出窓
幅T8は(T、=T)になる。したがって、最小反転間
隔T a i nと検出窓幅T8との比Nが1である。
この場合、駆動パルス発生回路lってのパルスの間引は
行われない。
この基準クロックsetを基にして、駆動パルス発生回
路19で、第2図りに示すようなレーザー駆動パルスL
Pが形成される。変調回路4からのコードデータは、タ
イミング設定回路5で、第2図Cに示すように、光磁気
ディスク1の温度特性及び熱特性に応じたタイミングで
遅延される。
第2図りに示すレーザー駆動パルスLPが駆動パルス発
生回路19から出力される期間、レーザーダイオード1
1からのレーザービームが光磁気ディスク1上に照射さ
れる。そして、磁気ヘッド7に、第2図Cに示すような
コードデータが供給され、このコードデータに基づく磁
界が磁気ヘッド7から光磁気ディスクlに印加される。
これにより、第2図Eに示すようなピットが光磁気ディ
スクエ上に形成される。
この場合、レーザー駆動パルスLPの間隔が光磁気ディ
スク1の熱応答性で決まる所定期間より長ければ、光磁
気ディスク1にレーザービームが照射されてからその垂
直磁化膜がキュリー温度T、まで冷却される間では、飽
和レベル以上の外部磁界が与えられることになる。した
がって、第2図已に示すように、データが反転している
場合にも、隣接するピット間で配向が急峻に反転する磁
化パターンを形成することができる。
第3図Aは、変調方式として2−7変調を用いた場合の
基準クロックSCXを示し、第3図Bは、変調方式とし
て2−7変調を用いた場合に変調回路4から出力される
コードデータを示す。
2−7変調では、チャンネルビット間隔をTとすると、
最小反転間隔T m l mが1.5Tで、検出窓幅T
、は0,5Tになる。したがって、最小反転間隔T s
 i nと検出窓幅T。との比Nが3になる。
この場合、前述したように、駆動パルス発生回路19か
ら出力されるレーザー駆動パルスLPがデータの変化点
に対応する位置で間引かれる。
すなわち、第3図Aに示す基準クロックSetを基にし
て、第3図りに示すようなレーザー駆動パルスLP’が
形成される。この駆動パルスLP’は、第3図Eに示す
ように、データの変化点に対応する位置で、lパルスづ
つ間引かれる。すなわち、第3図りにおけるパルスP1
、P2、P3、P4・・・が間引かれる。
変調回路4からのコードデータは、タイミング設定回路
5で、第3図Cに示すように、光磁気ディスクの温度特
性及び熱特性に応じたタイミングで遅延される。
第3図Eに示すレーザー駆動パルスLPが駆動パルス発
生回路19から出力される期間、レーザーダイオード1
1からレーザービームが照射される。そして、磁気ヘッ
ド7に、第3図Cに示すようなコードデータが供給され
、このコードデータに基づく磁界が磁気ヘッド7から光
磁気ディスク1に印加される。
これにより、第3図Fに示すようなピットが光磁気ディ
スク1に形成される。この場合、NRZIで変調した時
と同様の記録密度であれば、第3図Fに示すように、デ
ータが反転している場合にも、隣接するピット間で配向
が急峻に反転する磁化パターンを形成することができる
つまり、データの変化点に対応する位置でのレーザー駆
動パルスLPの間引きを行なうと、データが反転する時
に関しては、第3図Eに示すように、レーザー駆動パル
スLPの間隔が延びる。この時のレーザー駆動パルスL
Pの間隔は、NRZIでデータを記録する場合のレーザ
ー駆動パルスLPの間隔と等しい、したがって、NRZ
Iで変調した時と同様の記録密度であれば、隣接するピ
ット間で配向が急峻に反転する磁化パターンを形成する
ことができる。
もし、2−7変調でデータを記録する場合に、上述のよ
うなデータの変化点に対応する位置での駆動パルスの間
引きを行わないとすると、このように、隣接するビット
間で配向が急峻に反転する磁化パターンを形成すること
はできない。
すなわち、第3図りに示すような変化点での間引を行わ
ない時のレーザー駆動パルスLP’をレーザーダイオー
ド19に供給してデータの記録を行ったとする。このよ
うにした場合、駆動パルスの間隔は、NRZIで記録し
た場合の1/2になる。
このため、形成されたビットがキューリー温度T。点以
下まで下降される前に、次の駆動パルスが与えられるこ
とになる。したがって、第3図Gに示すように、ビット
間で磁化の配向が定まらない期間A1が生じる。
なお、変化点のレーザーパルスをいくつ間引くかは、記
録データのレートと光磁気ディスク1の温度特性及び熱
特性に応じて設定される。
第4図は、この発明の他の実施例を示すものである。こ
の実施例では、クロック発生回路17から出力される基
準クロック5ellをm倍(mは整数)する逓倍回路2
0が設けられている。そして、m倍の基準クロックm5
cxが駆動パルス発生回路19に供給される。
このように、基準クロックSCKをm倍すると、データ
の変化点に対応する位置での駆動パルスの間引きの分解
能を向上できる。
つまり、例えば最小反転間隔T m i nと検出窓幅
T、との比Nが(N=3)の2−7変調を用いるとする
。このような変調方式の場合、基準クロック5ellを
用いてレーザー駆動パルスLPを形成すると、1チャン
ネルビット分(1,5T)のピットを形成するために必
要なレーザー駆動パルスLPの数は3である。したがっ
て、間引きのやり方としては、この3つのパルスのうち
の1パルスを変化点で間引くか、3つのパルスのうちの
2パルスを変化点で間引くかの2通りである。
基準クロックS0を例えば2倍すると、1チャンネルビ
ット分(1,5T)のビットを形成するために必要なレ
ーザー駆動パルスLPの数が6になる。したがって、間
引きのやり片としては、6つのパルスのうちの1パルス
を変化点で間引く、6つのパルスのうちの2パルスを変
化点で間引く、6つのパルスのうちの3パルスを変化点
で間引く、6つのパルスのうちの4パルスを変化点で間
引く、6つのパルスのうちの5パルスを変化点で間引く
の5通りになる。
このため、変化点でのレーザー駆動パルスLPのパルス
間隔を、光磁気ディスク1の温度特性及び熱特性に応じ
た最適な間隔に設定できる。
〔発明の効果〕
この発明によれば、記録データを変調する際の変調方式
として、最小反転間隔T wh i nと検出窓幅Tw
との比N (N = T、i−/T41 )が1より大
きい変調方式を用いた場合には、駆動パルス発生回路1
9で、変化点に対応した位置のレーザー駆動パルスLP
が間引かれる。このため、変調方式が変わっても、隣接
するビット間で配向が急峻に反転する磁化パターンを形
成できる。
また、この発明によれば、基準クロックSCKをm倍し
てレーザー駆動パルスLPを形成するようにしている。
このため、データの変化点に対応する位置での駆動パル
スの間引きの分解能を向上でき、光磁気ディスク1の温
度特性及び熱特性に応じたパルス間隔が設定できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例のブロック図、第2図及び
第3図はこの発明の一実施例の説明に用いるタイごング
図、第4図はこの発明の他の実施例のブロック図、第5
図及び第6図は従来の磁界変調方式の光磁気ディスク記
録装置の説明に用いるタイミング図である。 図面における主要な符号の説明 1:光磁気ディスク、4:変調回路。 8:変化点検出回路、17:クロック発生回路。 19:駆動パルス発生回路。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基準クロックを基にした駆動パルスを用いて光磁
    気ディスク上にビームを間欠的に照射するとともに、変
    調磁界を印加するようにした光磁気記録装置において、 最小反転間隔T_m_i_nと検出窓幅T_wとの比N
    (N=T_m_i_n/T_w)が1より大きい変調方
    式を用いて記録する場合には、変化点に対応した位置の
    上記駆動パルスを間引くようにしたことを特徴とする光
    磁気記録装置。
  2. (2)上記駆動パルスとして、基準クロックの整数倍の
    周波数のものを用いるようにした請求項1記載の光磁気
    記録装置。
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