JPH03183654A - 酸化物超電導体の製造方法 - Google Patents
酸化物超電導体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03183654A JPH03183654A JP1319663A JP31966389A JPH03183654A JP H03183654 A JPH03183654 A JP H03183654A JP 1319663 A JP1319663 A JP 1319663A JP 31966389 A JP31966389 A JP 31966389A JP H03183654 A JPH03183654 A JP H03183654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- oxide superconductor
- oxide
- substrate
- housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 23
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 16
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 11
- 239000013077 target material Substances 0.000 claims description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 9
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/60—Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment
Landscapes
- Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は酸化物超電導体の製造方法に関し、特にその特
性向上のため、荷重印加状態で酸化物超電導体の製造を
行なう際の改良に関する。
性向上のため、荷重印加状態で酸化物超電導体の製造を
行なう際の改良に関する。
[従来の技術]
酸化物超電導体を得る場合には、一般にそれをバルクと
して得るか、あるいはまた基板上に形成された薄膜とし
て得るかの相違があるが、バルクとして得る場合には、
あらかじめ超電導体粉末をプレス成形した後、酸素ある
いは大気雰囲気中で焼結する工程が採られ、また、適当
なる基板上にgill!として得る場合には、高周波ス
パッタ法、蒸着法、MBE法等が採用されている。
して得るか、あるいはまた基板上に形成された薄膜とし
て得るかの相違があるが、バルクとして得る場合には、
あらかじめ超電導体粉末をプレス成形した後、酸素ある
いは大気雰囲気中で焼結する工程が採られ、また、適当
なる基板上にgill!として得る場合には、高周波ス
パッタ法、蒸着法、MBE法等が採用されている。
しかし、このようにして製造される酸化物超電導体も、
それが超電導状態になる臨界温度が実用的な冷却媒体で
ある液体窒素の液化温度近くであるために十分な塩度マ
ージンが採れないことや、組成の均一性が悪いという欠
点があり、特に電力分野への応用等も考えると、その臨
界電流密度は実用レベルに遠く及ばない。
それが超電導状態になる臨界温度が実用的な冷却媒体で
ある液体窒素の液化温度近くであるために十分な塩度マ
ージンが採れないことや、組成の均一性が悪いという欠
点があり、特に電力分野への応用等も考えると、その臨
界電流密度は実用レベルに遠く及ばない。
一方、こうした中にあっても、荷重を印加しながら焼結
すると、製造された酸化物超電導体の最終的な特性が向
上し得ること自体は従来からも分かっており、したがっ
てすでに、この知見に従っていわゆるホット・プレス法
というものが提案されている。
すると、製造された酸化物超電導体の最終的な特性が向
上し得ること自体は従来からも分かっており、したがっ
てすでに、この知見に従っていわゆるホット・プレス法
というものが提案されている。
これはつまり、焼結試料に対し、おもりを持つ機械的な
荷重装置によって意図的に°゛重さ”を加えながら焼結
する方法である。
荷重装置によって意図的に°゛重さ”を加えながら焼結
する方法である。
[発明が解決しようとする課題]
確かに、上記したホット・プレス法によると、そうでな
い場合よりは高い臨界電流密度が得られている。しかし
、それでも未だ満足なレベルとはなっていないし、何よ
りも、この方法を実現するための装置系自体に問題があ
る。
い場合よりは高い臨界電流密度が得られている。しかし
、それでも未だ満足なレベルとはなっていないし、何よ
りも、この方法を実現するための装置系自体に問題があ
る。
すなわち、おもりを用いるにしろ、おもりに代えて油圧
系等のプレス機構を用いるにしろ、試料に対して重さを
加える装置は極めて大型になり、かつ、均一に荷重を加
えるための工夫が必要である。バランスを掛けば、この
ホット・プレス法を通用した意味がなくなることもある
。
系等のプレス機構を用いるにしろ、試料に対して重さを
加える装置は極めて大型になり、かつ、均一に荷重を加
えるための工夫が必要である。バランスを掛けば、この
ホット・プレス法を通用した意味がなくなることもある
。
また、焼結される酸化物超電導体の配向性が改善し、結
晶が良好に揃うと高い臨界電流密度が得られる傾向にあ
るが、このホット・プレス法におけるように、単に重さ
を加えればそれらが改善されるという保証はない。
晶が良好に揃うと高い臨界電流密度が得られる傾向にあ
るが、このホット・プレス法におけるように、単に重さ
を加えればそれらが改善されるという保証はない。
本発明はこのような従来の実情に鑑みて成されたもので
、製造された酸化物超電導体の配向性、結晶性を良好に
し、もって臨界電流密度を向上させるために製造の過程
で荷重を必要とする場合にも、簡単な装置系でそうした
要求に応え得る新たなる製造方法を提供せんとするもの
である。
、製造された酸化物超電導体の配向性、結晶性を良好に
し、もって臨界電流密度を向上させるために製造の過程
で荷重を必要とする場合にも、簡単な装置系でそうした
要求に応え得る新たなる製造方法を提供せんとするもの
である。
[課題を解決するための手段]
本発明は上記目的を達成するため、まず、超電導粉末試
料または超電導粉末をプレス成形した試料、あるいは基
板上に成膜した酸化物超電導試料を酸素または大気雰囲
気中で熱処理することにより、バルク状または薄膜状の
酸化物超電導体を製造する場合における改良として、当
該熱処理時には、試料に対し遠心力による高重力場を印
加した状態で行なうという製造方法を提案する。
料または超電導粉末をプレス成形した試料、あるいは基
板上に成膜した酸化物超電導試料を酸素または大気雰囲
気中で熱処理することにより、バルク状または薄膜状の
酸化物超電導体を製造する場合における改良として、当
該熱処理時には、試料に対し遠心力による高重力場を印
加した状態で行なうという製造方法を提案する。
ここで、超電導粉末試料または超電導粉末をプレス成形
した試料からバルク状の酸化物超電導体試料を得る場合
には、上記熱処理はいわゆる焼結処理となり、一方、あ
らかじめ基板上に成膜された薄膜状の酸化物U電導体試
料に対する熱処理は、これに酸素を取り込ませるために
行なわれるいわゆるポスト・アニーリングとしての加熱
処理となる。
した試料からバルク状の酸化物超電導体試料を得る場合
には、上記熱処理はいわゆる焼結処理となり、一方、あ
らかじめ基板上に成膜された薄膜状の酸化物U電導体試
料に対する熱処理は、これに酸素を取り込ませるために
行なわれるいわゆるポスト・アニーリングとしての加熱
処理となる。
さらに本発明では、得るべき酸化物超電導体の組成に応
じた適当なる材料を高周波スパッタ法によりスパッタし
、基板上に酸化物超電導体を堆積させることにより、薄
膜状の酸化物超電導体を製造する場合における改良とし
ても、基板及びその上に堆積されて行く酸化物超電導体
に対し、遠心力による高重力場を印加した状態でターゲ
ット材料をスパッタリングするという手法を提案する。
じた適当なる材料を高周波スパッタ法によりスパッタし
、基板上に酸化物超電導体を堆積させることにより、薄
膜状の酸化物超電導体を製造する場合における改良とし
ても、基板及びその上に堆積されて行く酸化物超電導体
に対し、遠心力による高重力場を印加した状態でターゲ
ット材料をスパッタリングするという手法を提案する。
[作 用]
上記のように、本発明によると、焼結やアニリング等の
熱処理の場合にも高周波スパッタリングの場合にも、処
理されつつある試料に対して印加すべき高荷重は、遠心
力に基づく高重力場により得ている。
熱処理の場合にも高周波スパッタリングの場合にも、処
理されつつある試料に対して印加すべき高荷重は、遠心
力に基づく高重力場により得ている。
そのため、当該遠心力の大きさに応じて製造される酸化
物超電導体の密度を高め得るだ1すではなく、当該製造
中には試料の内部ないし全質量部分に対して極めて均一
かつwE続的に安定な高荷重を印加し得るので、配向性
、結晶性をも良好にすることができる。当然、従来のホ
ット・プレス法が有していた高臨界電流密度化という利
点は本発明においても同様に得ることができ、上記の物
理的特性とあいまってさらに優れた特性となる。
物超電導体の密度を高め得るだ1すではなく、当該製造
中には試料の内部ないし全質量部分に対して極めて均一
かつwE続的に安定な高荷重を印加し得るので、配向性
、結晶性をも良好にすることができる。当然、従来のホ
ット・プレス法が有していた高臨界電流密度化という利
点は本発明においても同様に得ることができ、上記の物
理的特性とあいまってさらに優れた特性となる。
方、遠心力を発生するための装置系自体、つまりは本発
明を実現するための装置系自体は、公知既存の技術をし
ても極めて簡単、かつ小型に得ることができるし、さら
には必要な“重み°゛が変わっても、本方法を実現する
装置では、装置系自体の大きさやおもりの変更等は要し
ない。遠心力は、これを発生させるための試料ないし基
板支持部分の回転角速度によって、要すれば任意無段階
に得ることができるからである。
明を実現するための装置系自体は、公知既存の技術をし
ても極めて簡単、かつ小型に得ることができるし、さら
には必要な“重み°゛が変わっても、本方法を実現する
装置では、装置系自体の大きさやおもりの変更等は要し
ない。遠心力は、これを発生させるための試料ないし基
板支持部分の回転角速度によって、要すれば任意無段階
に得ることができるからである。
[実 施 例]
第1A、B図には、本発明に従い、焼結によってバルク
状の酸化物超電導体を得る場合の装置構成例が示されて
いる。
状の酸化物超電導体を得る場合の装置構成例が示されて
いる。
まず、内部に周方向及び半径方向に広さを持つ空間部1
1を周方向に複数個有するセラミックス製のハウジング
10がある。第1八図中、B−B線に沿う一部断面図が
第1B図であるが、この第1B図には上記した複数の空
間部11の一つが拡大して示されている。
1を周方向に複数個有するセラミックス製のハウジング
10がある。第1八図中、B−B線に沿う一部断面図が
第1B図であるが、この第1B図には上記した複数の空
間部11の一つが拡大して示されている。
ハウジング10は、後述の試料15の出し入れのため、
二つのハウジング半体IL、、IL2を軸方向に取外し
可能に嵌合させて構成されるが、各半体10−. 、1
0−2はそれぞれ、適当な深さを持つ円形のお盆状にな
っていて、それらの開口縁相互を軸方向に嵌合させるこ
とにより、上記した空間部11が形成される。もちろん
、公知技術により、合せ縁間には適当なシールを施し、
捩じ止め等により組立てる。
二つのハウジング半体IL、、IL2を軸方向に取外し
可能に嵌合させて構成されるが、各半体10−. 、1
0−2はそれぞれ、適当な深さを持つ円形のお盆状にな
っていて、それらの開口縁相互を軸方向に嵌合させるこ
とにより、上記した空間部11が形成される。もちろん
、公知技術により、合せ縁間には適当なシールを施し、
捩じ止め等により組立てる。
空間部ll内には第1B図の方に特に良く示されている
ように、周方向の両側縁が一対の板状セラミック・ヒー
タ12,12で挟まれ、断面が台形ブロック状で高熱伝
導率の高温試料台13があり、この試料台13にはまた
、軸方向に細長く潰れた楕円形の透孔が穿たれていて、
この中に焼結すべき試料15が収められている。
ように、周方向の両側縁が一対の板状セラミック・ヒー
タ12,12で挟まれ、断面が台形ブロック状で高熱伝
導率の高温試料台13があり、この試料台13にはまた
、軸方向に細長く潰れた楕円形の透孔が穿たれていて、
この中に焼結すべき試料15が収められている。
試料15としては、最近までに提示されている酸化物超
電導体であれば何でも良いが、例えば代表的にはYBa
2Cu3粉末をあらかじめプレス成形したものが挙げら
れる。
電導体であれば何でも良いが、例えば代表的にはYBa
2Cu3粉末をあらかじめプレス成形したものが挙げら
れる。
試料台13には、試料15に適した加熱温度を監視する
ため、温度センサ14が備えられている。
ため、温度センサ14が備えられている。
空間部11にあって上記のような各構成要素を収めた残
りの部分には、必要に応じ、断熱材16が充填されてい
る。
りの部分には、必要に応じ、断熱材16が充填されてい
る。
セラミック・ハウジング10の中心は、回転軸17に固
定され、この回転軸17はモータ等の回転駆動装置18
により回転駆動される。
定され、この回転軸17はモータ等の回転駆動装置18
により回転駆動される。
また、両手体1o−+ 、 to−2を合せることによ
り組立てられたセラミック・ハウジング10の内部に収
められているセラミック・ヒータ12 、12に対して
の供給電力は、外部に設けたヒータ用電源19から公知
構造のスリップ・リング部20を介し、回転軸17の軸
心内部を通るリード線21 、21を経て与えられ、逆
に試料台13に付されている温度センサ14からの検出
温度信号は、回転軸1フの内部に通るリード線からスリ
ップ・リング部20を介して本装置系の制御を行なう制
御装置22に与えられる。
り組立てられたセラミック・ハウジング10の内部に収
められているセラミック・ヒータ12 、12に対して
の供給電力は、外部に設けたヒータ用電源19から公知
構造のスリップ・リング部20を介し、回転軸17の軸
心内部を通るリード線21 、21を経て与えられ、逆
に試料台13に付されている温度センサ14からの検出
温度信号は、回転軸1フの内部に通るリード線からスリ
ップ・リング部20を介して本装置系の制御を行なう制
御装置22に与えられる。
なお、この実施例では、温度センサ14にいわゆる白金
センナを使用しているため、外部に設けられた定電流源
14°からスリップ・リング部20を介し、これにバイ
アス電流が供給されている。
センナを使用しているため、外部に設けられた定電流源
14°からスリップ・リング部20を介し、これにバイ
アス電流が供給されている。
このような装置系において、制御装置22の指令の下、
試料15に対して焼結に最適な温度が印加されるように
ヒータ用電源19の出力電流値を制御し、電気量対熱量
変換型のヒータとしてのセラミック・ヒータにより試料
13が当該最適温度に加熱された′極悪を保ちながら、
かつ、必要な大きさの高重力場が得られるように、制御
装置22によってモータ18の回転速度を規定すれば、
試料13には遠心力により最適な大きさの高重力場が印
加された状態で所期の焼結処理を施すことができる。
試料15に対して焼結に最適な温度が印加されるように
ヒータ用電源19の出力電流値を制御し、電気量対熱量
変換型のヒータとしてのセラミック・ヒータにより試料
13が当該最適温度に加熱された′極悪を保ちながら、
かつ、必要な大きさの高重力場が得られるように、制御
装置22によってモータ18の回転速度を規定すれば、
試料13には遠心力により最適な大きさの高重力場が印
加された状態で所期の焼結処理を施すことができる。
遠心力は、原理的にも試料13に対し、極めて均一な荷
重を与え、したがって試料13の配向性、結晶性は極め
て良好になる。当然、物理的な焼結密度も増し、電気的
な意味での臨界電流密度も向上する。
重を与え、したがって試料13の配向性、結晶性は極め
て良好になる。当然、物理的な焼結密度も増し、電気的
な意味での臨界電流密度も向上する。
なお、本発明者の実験では、回転軸17に開いている軸
方向透孔を介し、上記の焼結は酸素の供給下で行なった
が、大気雰囲気で良いこともある。
方向透孔を介し、上記の焼結は酸素の供給下で行なった
が、大気雰囲気で良いこともある。
また、本発明では製造中に試料に対して必要なだけの高
荷重を印加し得るので、あらかじめプレス成形されてい
る試料を用いる必要も原則的にはない。確かに、あらか
じめプレス成形されていれば、試料台への取付は作業等
は容易になるが、例えばジルコニアとか窒化硅素、炭化
硅素等、熱処理に耐え得る安定な材料であれば、これで
適当な枠ないし箱を作り、この中に酸化物超電導粉末を
収めることにより、装置内への取付けは容易になるので
、こうすればプレス成形を省略することができ、にもか
かわらず、先のようにプレス成形を経て焼結したときと
同様の効果が得られる。
荷重を印加し得るので、あらかじめプレス成形されてい
る試料を用いる必要も原則的にはない。確かに、あらか
じめプレス成形されていれば、試料台への取付は作業等
は容易になるが、例えばジルコニアとか窒化硅素、炭化
硅素等、熱処理に耐え得る安定な材料であれば、これで
適当な枠ないし箱を作り、この中に酸化物超電導粉末を
収めることにより、装置内への取付けは容易になるので
、こうすればプレス成形を省略することができ、にもか
かわらず、先のようにプレス成形を経て焼結したときと
同様の効果が得られる。
第2図は、本発明の方法を実現するための装置構成の他
の例で、第1図示装置に比し、大きさ自体は少し大きく
なるかも知れないが、回転部分に対する配線構造が一層
、簡単になっている。
の例で、第1図示装置に比し、大きさ自体は少し大きく
なるかも知れないが、回転部分に対する配線構造が一層
、簡単になっている。
この実施例でも、第一の実施例で用いた各構成要素に付
した符号は対応するものに同一のものを付しておくが、
少なくとも試料15を加熱する加熱源としてのヒータ1
2.・・・・・はセラ主ツタ・ハウジング10の外部に
出されている。
した符号は対応するものに同一のものを付しておくが、
少なくとも試料15を加熱する加熱源としてのヒータ1
2.・・・・・はセラ主ツタ・ハウジング10の外部に
出されている。
すなわち、周方向の数カ所の内部空間部11に、この場
合、断熱材を用いずに試料台13を介して試料15を保
持しているセラミック・ハウジングIO(同様に試料の
出し入れのため、軸方向に突き合せの半体10−+ 、
10−2で構成されている)に対し、それに触れるこ
とはないがその周囲を取囲むように固定のヒータ・ブロ
ック23が設けられ、これにヒータ12.・・・・・が
備えられている。ただしもちろん、この設置位置は、ハ
ウジング10内の試料15に近い位置、したがってハウ
ジング周縁部近傍に集中的に配される。
合、断熱材を用いずに試料台13を介して試料15を保
持しているセラミック・ハウジングIO(同様に試料の
出し入れのため、軸方向に突き合せの半体10−+ 、
10−2で構成されている)に対し、それに触れるこ
とはないがその周囲を取囲むように固定のヒータ・ブロ
ック23が設けられ、これにヒータ12.・・・・・が
備えられている。ただしもちろん、この設置位置は、ハ
ウジング10内の試料15に近い位置、したがってハウ
ジング周縁部近傍に集中的に配される。
このような装置系によっても、あらかじめプレス成形さ
れた酸化物超電導試料15を焼結する際には、当然、本
図では図示を省略した制御装置22(第1図参照)によ
りモータ18を適当なる速度で回転させ、かつヒータ1
2.・・・・・に適当なる電力を与えることにより、ハ
ウジング10の壁面を通じて間接的にであるが試料15
を適当なる温度に加熱することができる。
れた酸化物超電導試料15を焼結する際には、当然、本
図では図示を省略した制御装置22(第1図参照)によ
りモータ18を適当なる速度で回転させ、かつヒータ1
2.・・・・・に適当なる電力を与えることにより、ハ
ウジング10の壁面を通じて間接的にであるが試料15
を適当なる温度に加熱することができる。
したがって簡単な装置系で必要な高重力場を与えた状態
での焼結が可能となり、高密度で結晶性、配向性が良く
、臨界電流密度も実用レベルないしそれに十分近い値に
まで向上した酸化物超電導体を得ることができる。
での焼結が可能となり、高密度で結晶性、配向性が良く
、臨界電流密度も実用レベルないしそれに十分近い値に
まで向上した酸化物超電導体を得ることができる。
しかるに、第1図示の装置系と比すと、この第2図示装
置の場合、ハウジング内部から電気的に引き出す情報は
、基本的には試料台】3に付されて転軸17に付すスリ
ップリング構造が簡単になり、故障要因も低下する。
置の場合、ハウジング内部から電気的に引き出す情報は
、基本的には試料台】3に付されて転軸17に付すスリ
ップリング構造が簡単になり、故障要因も低下する。
また、焼結すべき材料によっては大きくヒータ12、・
・・・・の熱量を変更しなければならない場合にも、こ
の第2図示装置構成であれば、ヒータ・ブロック23の
交換だけでそうした大幅な要求熱量の変更にも対応する
ことができる。
・・・・の熱量を変更しなければならない場合にも、こ
の第2図示装置構成であれば、ヒータ・ブロック23の
交換だけでそうした大幅な要求熱量の変更にも対応する
ことができる。
以上、最終的にバルク状の酸化物超電導体を製造する場
合に本発明方法を適用した実施例について述べてきたが
、本発明方法は、冒頭に述べた高周波スパッタ法、蒸着
法、MBE法等、各種従来法により基板上に薄膜状に形
成された酸化物超電導体に対し、いわゆるポスト・アニ
ーリングとしての熱処理を施す場合にも同様に適用する
ことができる。
合に本発明方法を適用した実施例について述べてきたが
、本発明方法は、冒頭に述べた高周波スパッタ法、蒸着
法、MBE法等、各種従来法により基板上に薄膜状に形
成された酸化物超電導体に対し、いわゆるポスト・アニ
ーリングとしての熱処理を施す場合にも同様に適用する
ことができる。
すなわち、成膜された酸化物超電導体を基板ごと、試料
として第1.2図示装置の試料台13に固定し、処理室
(空間部11)内への酸素の導入の下、遠心力による高
重力場でヒータ12に9より加熱杭■申ナカLギ 間伐
Lマ自屏り配商社 鈷且社か桿冨しながら所期のアニー
リングを行なうことができ、最終的に製造される酸化物
超電導体の物理的、電気的特性を改善することができる
。
として第1.2図示装置の試料台13に固定し、処理室
(空間部11)内への酸素の導入の下、遠心力による高
重力場でヒータ12に9より加熱杭■申ナカLギ 間伐
Lマ自屏り配商社 鈷且社か桿冨しながら所期のアニー
リングを行なうことができ、最終的に製造される酸化物
超電導体の物理的、電気的特性を改善することができる
。
さらに本発明は、熱処理のみならず、高周波スパッタリ
ングにより適当な基板上に薄膜状の酸化物超電導体を製
造する場合にも適用することができる。
ングにより適当な基板上に薄膜状の酸化物超電導体を製
造する場合にも適用することができる。
第3図はそのような場合に適当な装置系の一構成例を示
している。
している。
やはり先の実施例中におけると対応する構成要素には同
一の符号を付して説明するが、ハウジング10は同様に
適当なるセラミックス製で、軸方向に互いに突き合せる
ことで内部を閉ざす一対の半体10−+ 、 10−2
から構成されている。
一の符号を付して説明するが、ハウジング10は同様に
適当なるセラミックス製で、軸方向に互いに突き合せる
ことで内部を閉ざす一対の半体10−+ 、 10−2
から構成されている。
内部空間ll内にはハウジング周壁部の内面において周
方向に数カ所、断熱材16を介してヒータ12を内蔵し
た基板支持台24が備えられ、この上に基板25が据え
付けられている。
方向に数カ所、断熱材16を介してヒータ12を内蔵し
た基板支持台24が備えられ、この上に基板25が据え
付けられている。
ハウジングはその回転軸(中心軸)17の一端側でモー
タ等を含む回転駆動装置18により回転駆動を受は得る
ようになっているが、他端側の中空部には磁性流体シー
ル26を介し、高周波電極27が中心軸に沿い、軸方向
に固定的に嵌入している。
タ等を含む回転駆動装置18により回転駆動を受は得る
ようになっているが、他端側の中空部には磁性流体シー
ル26を介し、高周波電極27が中心軸に沿い、軸方向
に固定的に嵌入している。
高周波電Fi27のハウジング内嵌大端の外周面部はス
パッタリング対象となる材料、すなわちターゲット材料
28の支持台ともなっている。
パッタリング対象となる材料、すなわちターゲット材料
28の支持台ともなっている。
また、当該回転軸17は磁性流体シール29を介して真
空引き装置30内にも嵌入し、当該真空引き装置30は
公知のメカニズムにより、回転軸17の中空中心部を介
してハウジング10内の空間部11を所望の真空度に引
くことができると共に、Arガス等、スパッタリング環
境に適当なガスを当該空間部ll内に送給することがで
きる。
空引き装置30内にも嵌入し、当該真空引き装置30は
公知のメカニズムにより、回転軸17の中空中心部を介
してハウジング10内の空間部11を所望の真空度に引
くことができると共に、Arガス等、スパッタリング環
境に適当なガスを当該空間部ll内に送給することがで
きる。
基板支持台25に据えられたヒータ12への電力供給線
路や温度センサ13からの情報取出線路は、この真空引
き装置30側に嵌入した回転軸外周面に設けられている
スリップリング部20を介し、図示していない制御装置
(第1図参照)に接続する。
路や温度センサ13からの情報取出線路は、この真空引
き装置30側に嵌入した回転軸外周面に設けられている
スリップリング部20を介し、図示していない制御装置
(第1図参照)に接続する。
このような装置構造であれば、回転駆動装置18により
ハウジング10を所望の速度で回転させた状態下、すな
わち遠心力に伴う高重力場環境下において、高周波電極
17と接地間に所定の大きさの高周波電力を印加するこ
とでハウジング内の空間部11を反応室としてこの中に
プラズマを生起させ、励起イオンによりターゲット材料
のスパッタリングを行なうことにより、基板25の上に
所望の酸化物超電導体薄膜を堆積させることができる。
ハウジング10を所望の速度で回転させた状態下、すな
わち遠心力に伴う高重力場環境下において、高周波電極
17と接地間に所定の大きさの高周波電力を印加するこ
とでハウジング内の空間部11を反応室としてこの中に
プラズマを生起させ、励起イオンによりターゲット材料
のスパッタリングを行なうことにより、基板25の上に
所望の酸化物超電導体薄膜を堆積させることができる。
このようにして基板25上に堆積、形成された酸化物超
電導体薄膜も、常に十分な高重力場が継続的に与えられ
た状態で成膜されたため、臨界電流密度その他、超電導
体特性に優れたものとなる。
電導体薄膜も、常に十分な高重力場が継続的に与えられ
た状態で成膜されたため、臨界電流密度その他、超電導
体特性に優れたものとなる。
なお、第1.2図装置に従い、熱処理を行なう場合にも
、加熱源としては図示されているヒータの外、レーザや
赤外線も考えることができ、これらを試料に対して直接
に照射しても良い。
、加熱源としては図示されているヒータの外、レーザや
赤外線も考えることができ、これらを試料に対して直接
に照射しても良い。
[効 果コ
以上のように、本発明によると、遠心力を利用して高重
力場を発生させ、この高重力場下で酸化物超電導体を焼
結またはアニーリングするか、あるいは高周波スパッタ
リング法によって基板上の堆積ないし成膜が可能となる
ので、物理的に高密度で結晶性、配向性の良好な酸化物
超電導体を確実に得ることができ、その臨界電流密度も
実用レベルないしそれに極めて近い値にまで高めること
ができる。
力場を発生させ、この高重力場下で酸化物超電導体を焼
結またはアニーリングするか、あるいは高周波スパッタ
リング法によって基板上の堆積ないし成膜が可能となる
ので、物理的に高密度で結晶性、配向性の良好な酸化物
超電導体を確実に得ることができ、その臨界電流密度も
実用レベルないしそれに極めて近い値にまで高めること
ができる。
また、高重力場の発生に遠心力を利用しているため、本
発明方法を実現するための装置系自体は既存の機械加工
、組立て技術をして簡単に構成することができ、同じよ
うに高荷重を印加する従来のホット・プレス法に比して
も、装置構成はずっと簡単、小型なもので済む。
発明方法を実現するための装置系自体は既存の機械加工
、組立て技術をして簡単に構成することができ、同じよ
うに高荷重を印加する従来のホット・プレス法に比して
も、装置構成はずっと簡単、小型なもので済む。
特に、必要な荷重が変わっても、本発明のように遠心力
を利用するのであれば、結局は酸化物超電導試料または
酸化物超電導体を堆積させる基板の回転角速度を調整す
るだけで済み、大きさの異なるおもりを用意したりする
必要がなく、かつまた試料に対する極めて均一な荷重状
態も、特殊、微妙な調整手段によることなく、簡単に実
現することができる。
を利用するのであれば、結局は酸化物超電導試料または
酸化物超電導体を堆積させる基板の回転角速度を調整す
るだけで済み、大きさの異なるおもりを用意したりする
必要がなく、かつまた試料に対する極めて均一な荷重状
態も、特殊、微妙な調整手段によることなく、簡単に実
現することができる。
Claims (4)
- (1)酸化物超電導粉末試料または酸化物超電導粉末を
プレス成形した試料、あるいは基板上に成膜した酸化物
超電導試料を酸素または大気雰囲気中で熱処理すること
により、バルク状または薄膜状の酸化物超電導体を製造
する方法であって; 上記熱処理は、該試料に対し、遠心力による高重力場を
印加した状態で行なうこと; を特徴とする酸化物超電導体の製造方法。 - (2)上記熱処理のための加熱源は、上記試料を収めた
ハウジングの内部にあって該試料の近傍に設けられ、該
ハウジングの回転に伴って該試料と一緒に回転する電気
量対熱量変換型のヒータであること; を特徴とする請求項(1)に記載の酸化物超電導体の製
造方法。 - (3)上記熱処理のための加熱源は、上記試料を収めて
回転するハウジングの外部にあって該ハウジングに触れ
ることなくこれを取囲むように固定的に設けられた電気
量対熱量変換型のヒータであること: を特徴とする請求項(1)に記載の酸化物超電導体の製
造方法。 - (4)得るべき酸化物超電導体の組成に応じた適当なる
ターゲット材料を高周波スパッタ法によりスパッタし、
基板上に酸化物超電導体を堆積させることにより、該基
板の上に薄膜状の酸化物超電導体を製造する方法であっ
て; 上記ターゲット材料のスパッタリングは、上記基板及び
その上に堆積されて行く酸化物超電導体に対し、遠心力
による高重力場を印加した状態で行なわれること; を特徴とする酸化物超電導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319663A JP2600085B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 酸化物超電導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1319663A JP2600085B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 酸化物超電導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03183654A true JPH03183654A (ja) | 1991-08-09 |
| JP2600085B2 JP2600085B2 (ja) | 1997-04-16 |
Family
ID=18112811
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1319663A Expired - Lifetime JP2600085B2 (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 酸化物超電導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2600085B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5635241A (en) * | 1994-06-30 | 1997-06-03 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method for producing thin film and apparatus therefor |
| JP2004337827A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Nikko Keisoku:Kk | 高重力場における電極反応装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5895675A (ja) * | 1981-11-28 | 1983-06-07 | トヨタ自動車株式会社 | 炭化珪素/金属複合管およびその製造方法 |
| JPS62177183A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-08-04 | Dai Ichi High Frequency Co Ltd | 金属管等の内面に金属ライニングを施す方法 |
| JPS63236753A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 超電導セラミツクスの作製方法 |
| JPS6414814A (en) * | 1987-03-19 | 1989-01-19 | Nippon Telegraph & Telephone | Manufacture of oxide superconductive thin film |
| JPH01172503A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-07 | Inst Problem Nadezhnosti I Dolgovechnost Mash An Belouross Ssr | 被加工物表面に粉末コーディングを行う方法 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP1319663A patent/JP2600085B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5895675A (ja) * | 1981-11-28 | 1983-06-07 | トヨタ自動車株式会社 | 炭化珪素/金属複合管およびその製造方法 |
| JPS62177183A (ja) * | 1986-01-29 | 1987-08-04 | Dai Ichi High Frequency Co Ltd | 金属管等の内面に金属ライニングを施す方法 |
| JPS6414814A (en) * | 1987-03-19 | 1989-01-19 | Nippon Telegraph & Telephone | Manufacture of oxide superconductive thin film |
| JPS63236753A (ja) * | 1987-03-25 | 1988-10-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 超電導セラミツクスの作製方法 |
| JPH01172503A (ja) * | 1987-12-26 | 1989-07-07 | Inst Problem Nadezhnosti I Dolgovechnost Mash An Belouross Ssr | 被加工物表面に粉末コーディングを行う方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5635241A (en) * | 1994-06-30 | 1997-06-03 | Agency Of Industrial Science And Technology | Method for producing thin film and apparatus therefor |
| JP2004337827A (ja) * | 2003-05-16 | 2004-12-02 | Nikko Keisoku:Kk | 高重力場における電極反応装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2600085B2 (ja) | 1997-04-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5630881A (en) | Thin-film forming apparatus with magnetic bearings and a non-contact seal and drive | |
| US5348774A (en) | Method of rapidly densifying a porous structure | |
| US5350275A (en) | Turbomolecular pump having vanes with ceramic and metallic surfaces | |
| TW495827B (en) | A cylindrical carriage sputtering system | |
| US5558721A (en) | Vapor phase growth system and a gas-drive motor | |
| KR100517583B1 (ko) | 진공처리장치 및 그 처리대 | |
| US20090078202A1 (en) | Substrate heater for material deposition | |
| JP2600085B2 (ja) | 酸化物超電導体の製造方法 | |
| JP2002303293A (ja) | ターボ分子ポンプ | |
| JPH07216551A (ja) | 回転する表面上の基材に堆積させる装置と方法 | |
| JP3036895B2 (ja) | スパッタ装置 | |
| JPH0997765A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3559641B2 (ja) | 真空容器内の加熱方法及び加熱機構 | |
| JP3441002B2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| JP2509813B2 (ja) | 真空内処理方法及びその装置 | |
| Abe et al. | A high gravity chemical vapor deposition apparatus | |
| KR19990061759A (ko) | 마이크로웨이브를 사용한 박막 형성 장치 및 그 방법 | |
| US5635241A (en) | Method for producing thin film and apparatus therefor | |
| US6030510A (en) | Hot reflow sputtering method and apparatus | |
| JPH07258825A (ja) | セラミック被膜被覆材並びにその製造方法及び装置 | |
| JPS63117418A (ja) | Cvd装置 | |
| Tsai et al. | Graphite sublimation tests for target development for the muon collider/neutrino factory | |
| JPS63114976A (ja) | 基板電極機構 | |
| JPS6010617A (ja) | プラズマcvd装置における基体加熱方法 | |
| JPH093650A (ja) | 薄膜気相成長装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |