JPH03183684A - 単結晶引上げ方法 - Google Patents
単結晶引上げ方法Info
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- JPH03183684A JPH03183684A JP32137989A JP32137989A JPH03183684A JP H03183684 A JPH03183684 A JP H03183684A JP 32137989 A JP32137989 A JP 32137989A JP 32137989 A JP32137989 A JP 32137989A JP H03183684 A JPH03183684 A JP H03183684A
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- single crystal
- crystal
- pulling
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業−1−の利用分野]
木登門は、チョクラルスキー法(CZ法)による単結晶
体の製造において、生産性および歩留の向上を図るとと
もに、製品の多品秤化、大径化に対応するための方法に
関するものである。
体の製造において、生産性および歩留の向上を図るとと
もに、製品の多品秤化、大径化に対応するための方法に
関するものである。
[従来の技術〕
シリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素などの単結晶の
製造方法として、坩堝内の融液から結晶を成長させつつ
引上げるCZ法が広く行なわれている。
製造方法として、坩堝内の融液から結晶を成長させつつ
引上げるCZ法が広く行なわれている。
ところで近年、上記のような半導体単結晶体の需要の高
まりと、デバイスメーカーにおける生産性向上のため、
引上げられて製造される単結晶体も急激に大径化してき
ている傾向にある。しかしながら、このような大径化は
、結晶育成の面から工業的に難しいものである以外に、
デバイスメーカーにおける製造プロセス、特に酸化など
の熱処理プロセスの面からも困難なところがあり、その
技術的レベルは各メーカーによってさまざまである。ま
たこのようにC2法によって得られた単結T+の用途は
、MOS、バイポーラLSIをはじめトランジスタやダ
イオード等多岐に及んでいる。
まりと、デバイスメーカーにおける生産性向上のため、
引上げられて製造される単結晶体も急激に大径化してき
ている傾向にある。しかしながら、このような大径化は
、結晶育成の面から工業的に難しいものである以外に、
デバイスメーカーにおける製造プロセス、特に酸化など
の熱処理プロセスの面からも困難なところがあり、その
技術的レベルは各メーカーによってさまざまである。ま
たこのようにC2法によって得られた単結T+の用途は
、MOS、バイポーラLSIをはじめトランジスタやダ
イオード等多岐に及んでいる。
このような点から、上記したようなシリコン単結晶体は
、その大きさの面でも種々のものが必要とされているの
が現状である。
、その大きさの面でも種々のものが必要とされているの
が現状である。
CZ法によりシリコン単結晶を得ようとする場合、第3
図に示すように、石英坩堝1内に多結晶シリコン原料お
よび必要に応じて所定のドーパントを所定量装填し、こ
の原料を筒状のヒーター2からの加熱によって溶解して
、シリコン融液3とし、そして引にげワイヤ4の先端に
取付は金具5によって固定された挿結晶6を、この融液
3に浸け、所定速度で引」二げることにより秤結晶6の
先端に結晶を成長させることで行なわれるが、従来、そ
の単結晶引上げ操作は、先端に成長していく結晶の径を
絞る操作により無転位化させた後、漸次用」二げ速度を
減少させであるいは融液温度を低くして成長結晶を所望
の直径まで拡径して行き、さらに所望の直径となったら
引上げ速度あるいは融液温度を適宜制御しながら、この
直径を保ちつつ所定の長さだけ結晶を成長させ、その後
漸次引上げ速度を増加させであるいは融液温度を高くし
て成長結晶を縮径させ、最終的に融液3の液面から成長
じた単結晶体7を離すことにより行なわれていた。
図に示すように、石英坩堝1内に多結晶シリコン原料お
よび必要に応じて所定のドーパントを所定量装填し、こ
の原料を筒状のヒーター2からの加熱によって溶解して
、シリコン融液3とし、そして引にげワイヤ4の先端に
取付は金具5によって固定された挿結晶6を、この融液
3に浸け、所定速度で引」二げることにより秤結晶6の
先端に結晶を成長させることで行なわれるが、従来、そ
の単結晶引上げ操作は、先端に成長していく結晶の径を
絞る操作により無転位化させた後、漸次用」二げ速度を
減少させであるいは融液温度を低くして成長結晶を所望
の直径まで拡径して行き、さらに所望の直径となったら
引上げ速度あるいは融液温度を適宜制御しながら、この
直径を保ちつつ所定の長さだけ結晶を成長させ、その後
漸次引上げ速度を増加させであるいは融液温度を高くし
て成長結晶を縮径させ、最終的に融液3の液面から成長
じた単結晶体7を離すことにより行なわれていた。
このように従来、CZ法においては一回の引」二げ操作
によって、一種の直径を有するものしか作製しておらず
、前記したような単結晶の少量多品種化に対応できない
ものであった。
によって、一種の直径を有するものしか作製しておらず
、前記したような単結晶の少量多品種化に対応できない
ものであった。
また、このような従来の単結晶引上げ方法では前記した
ような単結晶体の大iソ化は、引」こげ装置d自体の構
成、特に引上げチャンバーの直径によっても限度があり
、このような単結晶の大径化には引」二げ装置自体を変
更する必要が生じ、設備投資の而からも問題であった。
ような単結晶体の大iソ化は、引」こげ装置d自体の構
成、特に引上げチャンバーの直径によっても限度があり
、このような単結晶の大径化には引」二げ装置自体を変
更する必要が生じ、設備投資の而からも問題であった。
[光用が解決しようとする課題]
従って、本発明は単結晶用」二げ方法において、単結晶
の少量多品種化に対応することを目的とするものである
。本発明はまた既在の袋式においてより大径化された単
結晶の製造を可能とすることを目的とするものである。
の少量多品種化に対応することを目的とするものである
。本発明はまた既在の袋式においてより大径化された単
結晶の製造を可能とすることを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
本発明の単結晶引上げ方法は、坩堝内の融液に抽結晶を
接触させ引上げて単結晶体を成長させる単桔l’rl引
」−げ方法において、所望する第1の直径を6する単結
晶部分を所望の長さだけ成長させた後、引上げ速度もし
くは融液温度の少なくともいずれかを変化させて引上げ
操作を持続し、前記第1の直径とは異なる第2の直径を
有する単結晶部分を連続的に成長させることを特徴とす
る。
接触させ引上げて単結晶体を成長させる単桔l’rl引
」−げ方法において、所望する第1の直径を6する単結
晶部分を所望の長さだけ成長させた後、引上げ速度もし
くは融液温度の少なくともいずれかを変化させて引上げ
操作を持続し、前記第1の直径とは異なる第2の直径を
有する単結晶部分を連続的に成長させることを特徴とす
る。
本発明はまた、坩堝には、単結晶用」二げ撮作時におい
て、連続的ないしは断続的に原料が補給されるものであ
る上記単結晶引上げ方法を示すものである。
て、連続的ないしは断続的に原料が補給されるものであ
る上記単結晶引上げ方法を示すものである。
[作用コ
本発明の単結晶引上げ方法においては、単結晶引上げ操
作途中で、引上げ速度もしくは融液温度の少なくともい
ずれかを変化させることにより、成長させる結晶体を途
中で拡径ないし縮径できるために、1回の引上げ操作に
おいて2秤ないしはそれ以上の直径を有する単結晶体を
得ることができ、需要者のニーズに応じて多晶種の単結
晶体を少量でも供給できるものとなる。
作途中で、引上げ速度もしくは融液温度の少なくともい
ずれかを変化させることにより、成長させる結晶体を途
中で拡径ないし縮径できるために、1回の引上げ操作に
おいて2秤ないしはそれ以上の直径を有する単結晶体を
得ることができ、需要者のニーズに応じて多晶種の単結
晶体を少量でも供給できるものとなる。
なお、本発明において、坩堝内の融液および連続的ない
しは断続的に補給する原料は、多結晶原料のみでもよく
、また多結晶原料にドーパントを加えたものでもよい。
しは断続的に補給する原料は、多結晶原料のみでもよく
、また多結晶原料にドーパントを加えたものでもよい。
[実施例]
以下、本発明の方法を図面に基づきより詳細に説明する
。
。
第1図は、本発明の単結171 JトLげ方法の一実施
例により、直径8インチの第1直径部分と直径6インチ
の第2直径部分を連続的に引」−げた場合における製造
王程を模式的に示すものである。
例により、直径8インチの第1直径部分と直径6インチ
の第2直径部分を連続的に引」−げた場合における製造
王程を模式的に示すものである。
本発明の単結晶用」二げ方法において、所望する第1の
直径を有する単結晶部分を所望の長さまで成長させる手
順は、従来の単結17i’置1上げ方法におけるものと
同様である。すなわち、まず、単結晶引上げ装置の石英
坩堝1内に多結晶シリコン原料および必要に応じて例え
ばリン、硼素、アンチモンまたは砒素などの所定のドー
パントを装填し、この原料を筒状のヒーター2によって
溶解し、シリコン融液3とする。そして引上げワイヤ4
の先端に取付は金具5によって固定された挿結晶6を、
この融液3に浸け、種結晶6を引上げて種結晶先端に結
晶を成長させる。先端に成長していく結晶の径を絞る操
作により無転位化させた後、漸次引上げ速度を減少させ
であるいは融液温度を低くして成長結晶を所望する第1
の直径、この実施例においては8インチまで拡径して行
き、所望の直径となったら引」二げ速度あるいは融液温
度を適宜制御しながら、この直径を保ちつつ所定の長さ
だけ結晶を成長させる。
直径を有する単結晶部分を所望の長さまで成長させる手
順は、従来の単結17i’置1上げ方法におけるものと
同様である。すなわち、まず、単結晶引上げ装置の石英
坩堝1内に多結晶シリコン原料および必要に応じて例え
ばリン、硼素、アンチモンまたは砒素などの所定のドー
パントを装填し、この原料を筒状のヒーター2によって
溶解し、シリコン融液3とする。そして引上げワイヤ4
の先端に取付は金具5によって固定された挿結晶6を、
この融液3に浸け、種結晶6を引上げて種結晶先端に結
晶を成長させる。先端に成長していく結晶の径を絞る操
作により無転位化させた後、漸次引上げ速度を減少させ
であるいは融液温度を低くして成長結晶を所望する第1
の直径、この実施例においては8インチまで拡径して行
き、所望の直径となったら引」二げ速度あるいは融液温
度を適宜制御しながら、この直径を保ちつつ所定の長さ
だけ結晶を成長させる。
しかして、本発明の単粘品引」こげ方法においては、こ
のような所望する第1の直径を有する第1直径部分7a
を成長させた後、成長結晶の直径を変更し、第2の結晶
体を連続的に成長させるものである。成長結晶の直径の
変更は、従来の単結晶引上げ方法における引上げ初期な
いしは引上げ末期における操作と回様な手法により行な
われる。
のような所望する第1の直径を有する第1直径部分7a
を成長させた後、成長結晶の直径を変更し、第2の結晶
体を連続的に成長させるものである。成長結晶の直径の
変更は、従来の単結晶引上げ方法における引上げ初期な
いしは引上げ末期における操作と回様な手法により行な
われる。
すなわち、第1直径部分7aを所望の長さ成長させた後
、引上げ速度もしくは融液温度の少なくともいずれかを
単結晶体7が所望する第2の直径になるまで変化させる
ものである。この実施例においては、直径8インチの第
1直径部分7aから直径6インチの第2直径部分7bへ
と縮径するものであるために、漸次引上げ速度を増加さ
せであるいは融液温度を高くして行く。このようにして
単結晶体7が所望する第2の直径である6インチとなっ
たら、引上げ速度あるいは融液温度を適宜制御しながら
、この直径を保ちつつ第2直径部分7bとして所定の長
さだけ単結晶体7を成長させる。
、引上げ速度もしくは融液温度の少なくともいずれかを
単結晶体7が所望する第2の直径になるまで変化させる
ものである。この実施例においては、直径8インチの第
1直径部分7aから直径6インチの第2直径部分7bへ
と縮径するものであるために、漸次引上げ速度を増加さ
せであるいは融液温度を高くして行く。このようにして
単結晶体7が所望する第2の直径である6インチとなっ
たら、引上げ速度あるいは融液温度を適宜制御しながら
、この直径を保ちつつ第2直径部分7bとして所定の長
さだけ単結晶体7を成長させる。
その後は、従来の単結晶用」こげ方法におけるように、
漸次引上げ速度を増加させであるいは融液温度を高くし
て成長結晶を縮径させ、最終的に融液3の液面から成長
した結晶体7を離すことにより拮品成長を終了させるこ
とも、さらに単結晶体7の直径を上記と同様に変更して
単結晶体の製造を連続することも可能である。
漸次引上げ速度を増加させであるいは融液温度を高くし
て成長結晶を縮径させ、最終的に融液3の液面から成長
した結晶体7を離すことにより拮品成長を終了させるこ
とも、さらに単結晶体7の直径を上記と同様に変更して
単結晶体の製造を連続することも可能である。
なお、この実施例においては、このような単桔W1引上
げ操作中において、石英坩堝1内へは、原料供給ホッパ
ー8から多結晶シリコン原料および必要に応じて所定の
割合で配合されたドーパントが、融液3より単結晶体と
して析出減少した量に応じて、連続的にあるいは断続的
に補給されている。この結果、坩堝1内の融液3の量お
よび該融液中のドーパント濃度はほぼ一定に保たれ、安
定した単結晶成長が連続的に行なわれ得るものである。
げ操作中において、石英坩堝1内へは、原料供給ホッパ
ー8から多結晶シリコン原料および必要に応じて所定の
割合で配合されたドーパントが、融液3より単結晶体と
して析出減少した量に応じて、連続的にあるいは断続的
に補給されている。この結果、坩堝1内の融液3の量お
よび該融液中のドーパント濃度はほぼ一定に保たれ、安
定した単結晶成長が連続的に行なわれ得るものである。
第2図は、本発明の単結晶用」二げ方法の別の実施例に
より、直径8インチの第1直径部分7aと直径10イン
チの第2直径部分7bを1つの単結晶体7として連続的
に引」二げた場合における製造工程を模式的に示すもの
である。
より、直径8インチの第1直径部分7aと直径10イン
チの第2直径部分7bを1つの単結晶体7として連続的
に引」二げた場合における製造工程を模式的に示すもの
である。
この実施例における場合の単結晶引上げ操作は、第2直
iソ部分7bを成長させるに際し、第1直径部分7aを
所望の長さ成長させた後に、直?そ8インチから直径1
0インチへと拡径するために、漸次引上げ速度を減少さ
せであるいは融液温度を低くして行く以外は、前記第1
の実施例におけるものとほぼ同様に行なわれる。
iソ部分7bを成長させるに際し、第1直径部分7aを
所望の長さ成長させた後に、直?そ8インチから直径1
0インチへと拡径するために、漸次引上げ速度を減少さ
せであるいは融液温度を低くして行く以外は、前記第1
の実施例におけるものとほぼ同様に行なわれる。
この実施例におけるように、第1直径部分7aから拡径
して第2直径部分7bを得る場合、図示するように引上
げチャンバー9の直径よりも第2直径部分7bの直径が
大きい場合であっても、この第2直径部分7bの上部が
溶融チャンバー10内に在住する状態でその下部を縮径
し融液3の液面から離して、引−ヒげ操作を完了すれば
、(その後の取出しの際に溶融チャンバー10側も解放
しなければならないという難点はあるが)大径化された
単結晶部分を得ることができる。このように本発明の方
法の一態様によれば、既Hの引上げ装置によってもより
大径化された単結晶を調製し得るものである。
して第2直径部分7bを得る場合、図示するように引上
げチャンバー9の直径よりも第2直径部分7bの直径が
大きい場合であっても、この第2直径部分7bの上部が
溶融チャンバー10内に在住する状態でその下部を縮径
し融液3の液面から離して、引−ヒげ操作を完了すれば
、(その後の取出しの際に溶融チャンバー10側も解放
しなければならないという難点はあるが)大径化された
単結晶部分を得ることができる。このように本発明の方
法の一態様によれば、既Hの引上げ装置によってもより
大径化された単結晶を調製し得るものである。
[発明の効果]
以上述べたように本発明によれば、坩堝内で原料を溶解
して融液を形成し、この融液に種結晶を接触させて引上
げて単結晶を成長させる単結晶引上げ方法において、所
望の第1の直径をh゛する単結晶部分を所望の長さだけ
成長させた後、引上げ速度もしくは融液温度の少なくと
もいずれかを変化させて引上げ操作を持続し、前記第1
の直径とは異なる第2の直径を有する単結晶部分を連続
的に成長させるものであるから、1回の引−Lげ操作に
よって、2秤以上の直径ををする部R,を容易に作り分
けることができ、単粘品体の生産性が向コニし、製品の
少量多品種化に対応できるものとなる。
して融液を形成し、この融液に種結晶を接触させて引上
げて単結晶を成長させる単結晶引上げ方法において、所
望の第1の直径をh゛する単結晶部分を所望の長さだけ
成長させた後、引上げ速度もしくは融液温度の少なくと
もいずれかを変化させて引上げ操作を持続し、前記第1
の直径とは異なる第2の直径を有する単結晶部分を連続
的に成長させるものであるから、1回の引−Lげ操作に
よって、2秤以上の直径ををする部R,を容易に作り分
けることができ、単粘品体の生産性が向コニし、製品の
少量多品種化に対応できるものとなる。
第1図は本発明の単結品用上げ方法の一実施例における
製造工程を模式的に示す図、?S2図は本発明の単粘晶
引上げ方法の別の実施例における製造工程を模式的に示
す因であり、また第3図は従来の単結品用上げ方法にお
ける製造工程を模式的に示す図である。 1・・・石英坩堝、2・・・ヒーター、3・・・融液、
4・・・引りげワイヤ、5・・・取付は金具、6・・・
秤結晶、7・・・単結金体、7a・・・単結金体の第1
直径部分、7b・・・単粘品体の第2直径部分、 8・・・原料供給ホッパー、9・・・引」二げチャンバ
ー10・・・溶融チャンバー 特許出踊人 新日本製鐵株式會社、代理人
弁理士 八 ■1 幹 雄(他1名)図面の
浄書(内容に変更なしム
製造工程を模式的に示す図、?S2図は本発明の単粘晶
引上げ方法の別の実施例における製造工程を模式的に示
す因であり、また第3図は従来の単結品用上げ方法にお
ける製造工程を模式的に示す図である。 1・・・石英坩堝、2・・・ヒーター、3・・・融液、
4・・・引りげワイヤ、5・・・取付は金具、6・・・
秤結晶、7・・・単結金体、7a・・・単結金体の第1
直径部分、7b・・・単粘品体の第2直径部分、 8・・・原料供給ホッパー、9・・・引」二げチャンバ
ー10・・・溶融チャンバー 特許出踊人 新日本製鐵株式會社、代理人
弁理士 八 ■1 幹 雄(他1名)図面の
浄書(内容に変更なしム
Claims (2)
- (1)坩堝内の融液に種結晶を接触させ引上げて単結晶
体を成長させる単結晶引上げ方法において、所望する第
1の直径を有する単結晶部分を所望の長さだけ成長させ
た後、引上げ速度もしくは融液温度の少なくともいずれ
かを変化させて引上げ操作を持続し、前記第1の直径と
は異なる第2の直径を有する単結晶部分を連続的に成長
させることを特徴とする単結晶引上げ方法。 - (2)坩堝には、単結晶引上げ操作時において、連続的
ないしは断続的に原料が補給されるものである請求項1
に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32137989A JPH03183684A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 単結晶引上げ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32137989A JPH03183684A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 単結晶引上げ方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03183684A true JPH03183684A (ja) | 1991-08-09 |
Family
ID=18131903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32137989A Pending JPH03183684A (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 単結晶引上げ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03183684A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0421585A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Osaka Titanium Co Ltd | 単結晶引上方法 |
| CN103290470A (zh) * | 2013-05-21 | 2013-09-11 | 杭州海纳半导体有限公司 | 直径转变的直拉单晶硅生长方法 |
| CN103343385A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-10-09 | 浙江长兴众成电子有限公司 | 一种异形尺寸的直拉单晶硅及其生长方法 |
| US12297560B2 (en) | 2019-12-24 | 2025-05-13 | Sumco Corporation | Method for manufacturing monocrystalline silicon by the Czochralski process by pulling a first straight body having a first diameter and a second straight body having a second diameter larger than the first diameter |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP32137989A patent/JPH03183684A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0421585A (ja) * | 1990-05-16 | 1992-01-24 | Osaka Titanium Co Ltd | 単結晶引上方法 |
| CN103290470A (zh) * | 2013-05-21 | 2013-09-11 | 杭州海纳半导体有限公司 | 直径转变的直拉单晶硅生长方法 |
| CN103343385A (zh) * | 2013-06-28 | 2013-10-09 | 浙江长兴众成电子有限公司 | 一种异形尺寸的直拉单晶硅及其生长方法 |
| US12297560B2 (en) | 2019-12-24 | 2025-05-13 | Sumco Corporation | Method for manufacturing monocrystalline silicon by the Czochralski process by pulling a first straight body having a first diameter and a second straight body having a second diameter larger than the first diameter |
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