JPH03183904A - 物体の形状の検知 - Google Patents
物体の形状の検知Info
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- JPH03183904A JPH03183904A JP1292100A JP29210089A JPH03183904A JP H03183904 A JPH03183904 A JP H03183904A JP 1292100 A JP1292100 A JP 1292100A JP 29210089 A JP29210089 A JP 29210089A JP H03183904 A JPH03183904 A JP H03183904A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/25—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures by projecting a pattern, e.g. one or more lines, moiré fringes on the object
- G01B11/2518—Projection by scanning of the object
- G01B11/2522—Projection by scanning of the object the position of the object changing and being recorded
Landscapes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Lenses (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は物体の像を形成する方法に関する。該物体の一
部は他の部分と比べて像形成システムから実質的に遠く
離れている。
部は他の部分と比べて像形成システムから実質的に遠く
離れている。
(発明の背景)
建物を撮影する場合に最初に生じる問題は、修正なしで
は建物の頂部が余りにも小さく尖って見えることである
。本発明は、汎用的なものであるが、特に、物体上に入
射ビームを走査または投射することにより、物体の形状
を検知することに応用し得る。ここで、入射ビームは該
ビームに沿って見ると細長くて幅が狭く、それによって
該ビームはある線に沿って物体に投射される。線繊は入
組ビームの・I’ +fiiに対し−C実質的な角度を
なすある軸に沿って像が形成される(ビームの平面はビ
ームの最小寸法に垂直な平面である)。言い換えれば、
連続的であるかまたは走査されるかの何れであれ、物品
上に入射する薄いシート状の光(幅の狭いビーム〉を用
いて、形状が検知される;ビームの軸から離れて、すな
わち片側から観察することにより物体の断面形状または
輪郭を知ることができる。物体自体はビームに対して回
転することができるので、その表面全体が観察される像
形成システムは、ビームが物品に投射される点の像を形
成するのに用いられる。このような方法は、 GOA−
2103355(米国特許第4.529.305号と同
等)に開示されている。通常、可視光が用いられるが、
少なくとも理論的には赤外光または紫外光などの他の光
を用いることができる。
は建物の頂部が余りにも小さく尖って見えることである
。本発明は、汎用的なものであるが、特に、物体上に入
射ビームを走査または投射することにより、物体の形状
を検知することに応用し得る。ここで、入射ビームは該
ビームに沿って見ると細長くて幅が狭く、それによって
該ビームはある線に沿って物体に投射される。線繊は入
組ビームの・I’ +fiiに対し−C実質的な角度を
なすある軸に沿って像が形成される(ビームの平面はビ
ームの最小寸法に垂直な平面である)。言い換えれば、
連続的であるかまたは走査されるかの何れであれ、物品
上に入射する薄いシート状の光(幅の狭いビーム〉を用
いて、形状が検知される;ビームの軸から離れて、すな
わち片側から観察することにより物体の断面形状または
輪郭を知ることができる。物体自体はビームに対して回
転することができるので、その表面全体が観察される像
形成システムは、ビームが物品に投射される点の像を形
成するのに用いられる。このような方法は、 GOA−
2103355(米国特許第4.529.305号と同
等)に開示されている。通常、可視光が用いられるが、
少なくとも理論的には赤外光または紫外光などの他の光
を用いることができる。
本発明は、任意の適切な物体および断面形状に(例えば
1機械部品の断面形状/輪郭測定に)用いることができ
る。本発明は、特に、スクリューギヤー、タービンブレ
ードおよびプラスチックの金型のように、マイクロメー
ターを用いる測定が困難な物体および非接触法を必要と
するこわれやすい物体に対して有用である。しかし1本
発明は。
1機械部品の断面形状/輪郭測定に)用いることができ
る。本発明は、特に、スクリューギヤー、タービンブレ
ードおよびプラスチックの金型のように、マイクロメー
ターを用いる測定が困難な物体および非接触法を必要と
するこわれやすい物体に対して有用である。しかし1本
発明は。
宝石(特にダイヤモンド)用に開発され、特に(四部を
有する大型の石(例えば、 10ct (2g)程度よ
り大きい重量のもの)に適している。本発明は。
有する大型の石(例えば、 10ct (2g)程度よ
り大きい重量のもの)に適している。本発明は。
装着され、かつ回転される物体の形状を決定するのに用
いることができる。
いることができる。
一般に、物体を幾何学的に再現する像を得るには、像形
成システムの対物レンズは物体の垂線に対して傾斜して
いなければならず、また像形成平面は対物レンズに対し
て、および物体の垂線に対して傾斜していなければなら
ない。このような配置は、写真術においては周知である
。カメラに傾動ベローズを用いる場合には、シャイムプ
ルーグ(Scheimpf lug)の条件により、像
平面の角度が決まる1、この像形成方式には問題がある
。光は大きな入射角で像形成システムに入射し1反射に
よって大部分が失なわれる。また、システムの持つ光学
上の制約のために9倍率を変化させること(例えば、ダ
イヤモンドの凹部を詳細iこ調べる際に必要となる倍率
の変更)が困難である。
成システムの対物レンズは物体の垂線に対して傾斜して
いなければならず、また像形成平面は対物レンズに対し
て、および物体の垂線に対して傾斜していなければなら
ない。このような配置は、写真術においては周知である
。カメラに傾動ベローズを用いる場合には、シャイムプ
ルーグ(Scheimpf lug)の条件により、像
平面の角度が決まる1、この像形成方式には問題がある
。光は大きな入射角で像形成システムに入射し1反射に
よって大部分が失なわれる。また、システムの持つ光学
上の制約のために9倍率を変化させること(例えば、ダ
イヤモンドの凹部を詳細iこ調べる際に必要となる倍率
の変更)が困難である。
(発明の構成)
本発明によれば、物体の像は目折格子手段上に形成され
3回折格子は像形成システムを用いて検視される。さら
に詳しくは、入射ビームは、該入射ビームに沿って見る
と細長くて幅が狭く、ある線に沿って物体に当たるよう
に走査または投射され得る。この線の像は、入射ビーム
の平面に対して実質的な角度をなす軸に沿って形成され
る。本発明は、物体の像を形成する装置にも関する。該
装置は9回折格子手段と1回折格子手段上に物体の像を
形成する第1の像形成システムと第1の像(すなわち9
回折格子手段上の像)の像を形成する第2の像形成シス
テムとを有する。
3回折格子は像形成システムを用いて検視される。さら
に詳しくは、入射ビームは、該入射ビームに沿って見る
と細長くて幅が狭く、ある線に沿って物体に当たるよう
に走査または投射され得る。この線の像は、入射ビーム
の平面に対して実質的な角度をなす軸に沿って形成され
る。本発明は、物体の像を形成する装置にも関する。該
装置は9回折格子手段と1回折格子手段上に物体の像を
形成する第1の像形成システムと第1の像(すなわち9
回折格子手段上の像)の像を形成する第2の像形成シス
テムとを有する。
本発明は1反射または屈折した光を像形成システムへ通
過させる指向性スクリーンとして1回折格子(または同
等のもの)を用いる。回折格子は方向の可変な鏡の機能
を持ち、適切な像形成システムは回折格子の後方で用い
られ得る。
過させる指向性スクリーンとして1回折格子(または同
等のもの)を用いる。回折格子は方向の可変な鏡の機能
を持ち、適切な像形成システムは回折格子の後方で用い
られ得る。
通′、(:ζ′、物体の像(よ、 1iJI 4Ji格
〕′上に形成される。
〕′上に形成される。
通常用いられるのは回折格子の■次ビームである。
回折格子は1反射または透過回折されたビームが最後の
像形成システムに対して正確な角度をなすように、方向
を定められる。回折格子は1通常。
像形成システムに対して正確な角度をなすように、方向
を定められる。回折格子は1通常。
最後の像形成システムに対して垂直である。回折格子に
対する入射円錐角は1回折角よりも小さくなければなら
ない。光の大部分(例えば、80〜90%)が例えば1
次ビー1、となるように配置されブレーズ(blaze
)または同調(tune)された回折格子を用いること
ができる。2次、3次、または4次ビームを得るために
ブレーズすることもできる。
対する入射円錐角は1回折角よりも小さくなければなら
ない。光の大部分(例えば、80〜90%)が例えば1
次ビー1、となるように配置されブレーズ(blaze
)または同調(tune)された回折格子を用いること
ができる。2次、3次、または4次ビームを得るために
ブレーズすることもできる。
回折格子を用いれれは、像形成システムへの入射を垂直
にすることができるので、より多くの光を像形成システ
ムへ通過させ得る。したがって。
にすることができるので、より多くの光を像形成システ
ムへ通過させ得る。したがって。
了パーチャを最大にすることができ1反射による著しい
損失が回避される。回折格子は収差を生じることなく同
じ像の品質を維持する。さらに9倍率は単にレンズ系を
交換するだけで簡単に変える2−とができる。あるいは
、ズームを用いることができる。像のサイズまたは解像
度(あるいはその両方)を変えることもできる。
損失が回避される。回折格子は収差を生じることなく同
じ像の品質を維持する。さらに9倍率は単にレンズ系を
交換するだけで簡単に変える2−とができる。あるいは
、ズームを用いることができる。像のサイズまたは解像
度(あるいはその両方)を変えることもできる。
適切な仕様の回折格子または同等品を用いることができ
る。回折格子はホロクラフィー用のものでも良い。回折
格子と実質的に同じかまたは実際上同じ効果を有する装
置も、それが適切な像を形成するのに充分な平面性を有
する限り、用いることができる。回折格子または同等品
における間隔のピッチは、検査される物体に必要な解像
度よりも小さくなければならない。例えば、高解像度の
検査用には解像度が10μの格子が用いられ、低解像度
の検査用には解像度が50μの格子が用いられる。
る。回折格子はホロクラフィー用のものでも良い。回折
格子と実質的に同じかまたは実際上同じ効果を有する装
置も、それが適切な像を形成するのに充分な平面性を有
する限り、用いることができる。回折格子または同等品
における間隔のピッチは、検査される物体に必要な解像
度よりも小さくなければならない。例えば、高解像度の
検査用には解像度が10μの格子が用いられ、低解像度
の検査用には解像度が50μの格子が用いられる。
いずれの適切な光学的技法も用いることができる。例え
ば、物体からの光は、同時に複数の分析(別々のビーム
による異なる分析)に供することができる。これらの複
数の分析は1例えば、2つまたはそれ以−Lの波長を用
いた2つまたはそれ以上の像形成システム、あるいは1
つまたはそれ以上のビームスプリッタ−1ならびに2つ
またはそれ以上の回折格子を用いて(例えば、可視光お
よび近赤外光を用いて)実施することができる。
ば、物体からの光は、同時に複数の分析(別々のビーム
による異なる分析)に供することができる。これらの複
数の分析は1例えば、2つまたはそれ以−Lの波長を用
いた2つまたはそれ以上の像形成システム、あるいは1
つまたはそれ以上のビームスプリッタ−1ならびに2つ
またはそれ以上の回折格子を用いて(例えば、可視光お
よび近赤外光を用いて)実施することができる。
いかなる適切な光も使用することができる。好ましい光
は、近赤外光および可視光である。
は、近赤外光および可視光である。
(実施例)
本発明は、ダイヤモンドの形状を求める場合の光学系模
式図である添付の図面を参照して、下記の実施例によっ
て詳述される。
式図である添付の図面を参照して、下記の実施例によっ
て詳述される。
ダイヤモンド1はトップ2に取付けられている。
トップ2は、互いに直交する3つの軸のいずれかの回り
にダイヤモンド1を移動させることのできる機構3によ
り支持されている。ダイヤモンド1は光源4により照明
される。光源4は入射ビームを発生する。入射ビームは
該ビームに沿って見ると細長くて幅が狭いか、またはあ
る線に沿って走査されるスポットの形状を有する。いず
れの場合にも、ビームはある線に沿ってダイヤモンド1
に投射される。入射ビームの平面に対して実質的な角度
αをなす軸に沿って、この線の像を形成させることによ
り、ダイヤモンド1の線絵に沿った形状または輪郭を知
ることができる。この技法は6B八−21033551
こ3己載されている。
にダイヤモンド1を移動させることのできる機構3によ
り支持されている。ダイヤモンド1は光源4により照明
される。光源4は入射ビームを発生する。入射ビームは
該ビームに沿って見ると細長くて幅が狭いか、またはあ
る線に沿って走査されるスポットの形状を有する。いず
れの場合にも、ビームはある線に沿ってダイヤモンド1
に投射される。入射ビームの平面に対して実質的な角度
αをなす軸に沿って、この線の像を形成させることによ
り、ダイヤモンド1の線絵に沿った形状または輪郭を知
ることができる。この技法は6B八−21033551
こ3己載されている。
」1記の線の形状を調べるには、2つの像形成システム
が用いられる。第1の像形成システムは。
が用いられる。第1の像形成システムは。
アパーチャアを介して設けられた2つのレンズ5および
6で表される。この像形成システムは線の像(すなわち
、調べるべき物体の像)を回折格子8上に形成する。回
折格子8は第1の像形成システムのレンズ5および6の
光学軸に対して、シャイムプルーグ(Scheimpf
lug)の条件により決まるある角度をなす。また1
回折格子8への入射角は。
6で表される。この像形成システムは線の像(すなわち
、調べるべき物体の像)を回折格子8上に形成する。回
折格子8は第1の像形成システムのレンズ5および6の
光学軸に対して、シャイムプルーグ(Scheimpf
lug)の条件により決まるある角度をなす。また1
回折格子8への入射角は。
回折格子8の1次ビームに対応している。回折格子8上
の像はレンズ9で表される第2の像形成シ0 ステムによって検視される。その像は検出器■0上に形
成される。検出器10としては1例えばTVカメラまた
はCCDアレーを用いることができる。この図では、検
出器10はマイクロプロセッサ−11に接続されている
。また、マイクロプロセッサ−11は。
の像はレンズ9で表される第2の像形成シ0 ステムによって検視される。その像は検出器■0上に形
成される。検出器10としては1例えばTVカメラまた
はCCDアレーを用いることができる。この図では、検
出器10はマイクロプロセッサ−11に接続されている
。また、マイクロプロセッサ−11は。
第1および/または第2の像形成システム、機構3およ
び光源4に接続され得る。マイクロプロセッサ−11は
、ダイヤモンド1が機構3により回転されるにつれて、
そのすべての形状を図形化するために、現在周知の方法
でブロクラミングされる。
び光源4に接続され得る。マイクロプロセッサ−11は
、ダイヤモンド1が機構3により回転されるにつれて、
そのすべての形状を図形化するために、現在周知の方法
でブロクラミングされる。
ある配置では、光源4は2種類のビームを出射すること
ができる。すなわち1幅10μ、長さ3mmの高解像度
ビームと1幅50μ、長さ10mmの低解像度ビームで
ある。多くのダイヤモンドは、3mm以上の長さを有す
るので、高解像度ビームはダイヤモンド1の長さ方向の
一部しか照明できない。しかし、光源4は、ビームをダ
イヤモンド■の長さに一致させるために、ある種のズー
ム機構を備えることができる。高解像度と低解像度とを
切り換えるために、第1の像形成システムは、高解像度
ビ1 ムを用いるか低解像度ビームを用いるかにかかわらず5
回折格子8上の像サイズをほぼ同じにする目的で1回折
格子8上の倍率として1:1または2:1あるいは4:
1を選択し得るように配置することができる(またはズ
ームシステムを用いることができる)。また、第2の像
形成システム9に2種類の倍率を与えるか、またはズー
ム機構を装備することも可能である。これらのすべての
方式は、コンピューターのマイクロプロセッサ11の制
御下に置くことができる。ある自動システムでは、低解
像度ビームの使用は凹部が検出されるまでに限られる。
ができる。すなわち1幅10μ、長さ3mmの高解像度
ビームと1幅50μ、長さ10mmの低解像度ビームで
ある。多くのダイヤモンドは、3mm以上の長さを有す
るので、高解像度ビームはダイヤモンド1の長さ方向の
一部しか照明できない。しかし、光源4は、ビームをダ
イヤモンド■の長さに一致させるために、ある種のズー
ム機構を備えることができる。高解像度と低解像度とを
切り換えるために、第1の像形成システムは、高解像度
ビ1 ムを用いるか低解像度ビームを用いるかにかかわらず5
回折格子8上の像サイズをほぼ同じにする目的で1回折
格子8上の倍率として1:1または2:1あるいは4:
1を選択し得るように配置することができる(またはズ
ームシステムを用いることができる)。また、第2の像
形成システム9に2種類の倍率を与えるか、またはズー
ム機構を装備することも可能である。これらのすべての
方式は、コンピューターのマイクロプロセッサ11の制
御下に置くことができる。ある自動システムでは、低解
像度ビームの使用は凹部が検出されるまでに限られる。
この光が凹部には入らない場合があるからである。次い
で、マイクロプロセッサ−11は、凹部を図形化するた
めに、システム全体を高解像度ビーム用に切り換える。
で、マイクロプロセッサ−11は、凹部を図形化するた
めに、システム全体を高解像度ビーム用に切り換える。
以下に本発明の具体的例について説明する。
用いられる光源は、オムニクローム(Omn ichr
ome)製の空冷アルゴンイオン50m1llレーザー
(最初の実験に用いられた)、または米国のスペクトラ
・フィジックス(Spectra Physics)製
のfleNe 15+y+Wし2 一ザーである。アルゴンイオンレーザ−の場合。
ome)製の空冷アルゴンイオン50m1llレーザー
(最初の実験に用いられた)、または米国のスペクトラ
・フィジックス(Spectra Physics)製
のfleNe 15+y+Wし2 一ザーである。アルゴンイオンレーザ−の場合。
好ましい波長は514.5nmである。ただし、 4
88nmのような他の波長を用いることもできる。tl
eNeレーザーが用いられる場合、波長は632.8n
mである。
88nmのような他の波長を用いることもできる。tl
eNeレーザーが用いられる場合、波長は632.8n
mである。
レンズ5および6は、スピントラ−・アンド・ホイヤー
社(Spindler & Hoyer Gmb)l)
製で品番は322239である;レンズ5および6の焦
点距離の比は、 IX、 2X、および3×の倍率
を選ぶために変えることができる。
社(Spindler & Hoyer Gmb)l)
製で品番は322239である;レンズ5および6の焦
点距離の比は、 IX、 2X、および3×の倍率
を選ぶために変えることができる。
了パーチャフは、直径が5〜20mmの可変アイリスで
ある。
ある。
回折格子は、アメリカンホログラフィック社(Amer
ican Holographic Inc、)製のホ
ログラフィック格子である。この回折格子は、波長50
0nm用(アルゴンイオンレーザ−用)に最適化され、
光束密度が1500本/mmであり、かつサイズが30
mm x 30mm X 6 mmのホログラフィック
格子である。HeNeレーザーの波長の場合には1回折
点の位置が変化するので、別の回折格子が必要となる。
ican Holographic Inc、)製のホ
ログラフィック格子である。この回折格子は、波長50
0nm用(アルゴンイオンレーザ−用)に最適化され、
光束密度が1500本/mmであり、かつサイズが30
mm x 30mm X 6 mmのホログラフィック
格子である。HeNeレーザーの波長の場合には1回折
点の位置が変化するので、別の回折格子が必要となる。
角度αおよび回折格子の角度位置もまた。使用波長が異
なる3 ので相違する。
なる3 ので相違する。
像形成システム9のレンズは2つの焦点距離を有する。
すなわち1回折格子8から240n+mの位置での12
0mm (倍率は1×)と1回折格子8から60+nm
の位置での60mm (倍率は8×)きである。倍率の
変更は、像形成システムの光路に様々なレンズを入れた
り、あるいは光路からレンズを出したりすることによっ
て行われる。
0mm (倍率は1×)と1回折格子8から60+nm
の位置での60mm (倍率は8×)きである。倍率の
変更は、像形成システムの光路に様々なレンズを入れた
り、あるいは光路からレンズを出したりすることによっ
て行われる。
検出器10ハCCDTvカメラまたハヒジコン(Vid
icon)TVカメラである。
icon)TVカメラである。
各部分の距離はダイヤモンド1からレンズ5までが14
0mm ;レンズ5からアパーチャアまでが140mm
: 7パーチヤ7からレンズ6までが140mm ;
そしてレンズ6から回折格子8までが140mmである
。
0mm ;レンズ5からアパーチャアまでが140mm
: 7パーチヤ7からレンズ6までが140mm ;
そしてレンズ6から回折格子8までが140mmである
。
本発明は、上では単に実施例に基づいて記載されたにす
ぎず1本発明の精神を逸脱することなく改変することが
できる。
ぎず1本発明の精神を逸脱することなく改変することが
できる。
(発明の要約)
物体の像を形成し、その形状を検知する本発明の装置で
は、ダイヤモンド、特に凹部を有する大4 きなダイヤモンドの外形を決定するために、細長く幅の
狭いビー1、がダイヤモンド−11に投射されろ。
は、ダイヤモンド、特に凹部を有する大4 きなダイヤモンドの外形を決定するために、細長く幅の
狭いビー1、がダイヤモンド−11に投射されろ。
この際、ダイヤモンドをビームに垂直な軸の回りに回転
させる。そして、像形成システムを用いることにより、
ビームがダイヤモンドに投射される線の片側から像が形
成される。この像は回折格子上に形成される。回折格子
は、その1次ビームを利用するために、シャイムプルー
グの条件に従って傾斜し−Cいる。回折格子上の像は第
2の像形1戊システムを用いて検視される。本発明の装
置によれば、物体から光の捕捉が実質的に改善される。
させる。そして、像形成システムを用いることにより、
ビームがダイヤモンドに投射される線の片側から像が形
成される。この像は回折格子上に形成される。回折格子
は、その1次ビームを利用するために、シャイムプルー
グの条件に従って傾斜し−Cいる。回折格子上の像は第
2の像形1戊システムを用いて検視される。本発明の装
置によれば、物体から光の捕捉が実質的に改善される。
この装置は、外形を決定するシステム以外のシステムに
も適用され得る。
も適用され得る。
第1図は物体の形状を検知する本発明の装置の一例を示
す模式図である。 1・・・物体、4・・・光源、5.6・・・レンズ(第
1の像形成システム)、7・・・アパーチャ、8・・・
回折格子、9・・・レンズ(第2の像形成システム)、
10・・・検出器。 (5
す模式図である。 1・・・物体、4・・・光源、5.6・・・レンズ(第
1の像形成システム)、7・・・アパーチャ、8・・・
回折格子、9・・・レンズ(第2の像形成システム)、
10・・・検出器。 (5
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、像形成システムを用いて物体の像を形成することを
包含し、該物体の一部が他の部分と比べて該像形成シス
テムから実質的に遠く離れており、該物体の像が第1の
像形成システムを用いて回折格子手段上に形成され、該
回折格子手段が第2の像形成システムを用いて検視され
る、像形成方法。 2、次の工程をさらに包含する、請求項1に記載の方法
:前記物体上に入射ビームを走査または投射すること;
ただし、該入射ビームは該入射ビームに沿って見ると細
長くて幅が狭く、それによって該ビームはある線に沿っ
て該物体に投射される;および該入射ビームの平面に対
して実質的な角度をなすある軸に沿って該線の像を形成
すること。 3、前記回折格子手段の1次ビームが用いられる、請求
項1または2に記載の方法。 4、前記回折格子手段が、前記物体からの光の光学軸に
対して、シャイムプルーグ条件に従うある角度をなし、
かつ最終的な像を形成する像形成システムの光学軸に垂
直である、請求項1から3のいずれかに記載の方法。 5、前記物体が宝石である、請求項1から4のいずれか
に記載の方法。 6、物体の像を形成する装置であって、物体の像を形成
する像形成システムと、回折格子手段と、該回折格子手
段上に該物体の像を形成する第1の像形成システムと、
該回折格子手段上に該像の像を形成する第2の像形成シ
ステムとを有し、該物体の一部が他の部分と比べて該像
形成システムから実質的に遠く離れている、像形成装置
。 7、前記回折格子手段が、前記第1の像形成システムの
光学軸に対して、シャイムプルーグ条件に従うある角度
をなし、かつ前記第2の像形成システムの光学軸に対し
て垂直である、請求項7に記載の装置。 8、物体の形状を検知する装置であって、該物体上に入
射ビームを走査または投射する手段と組み合せて用いら
れ;ただし、該入射ビームは該入射ビームに沿って見る
と細長くて幅が狭く、それによって該入射ビームはある
線に沿って該物体に投射され;該入射ビームの平面に対
して実質的な角度をなすある軸に沿って該線の像を形成
する像形成システムと、該像形成システムの前方に設け
られた回折格子手段とを有する、検知装置。 9、前記物体上にビームを走査または投射する手段をさ
らに有し、該ビームが該ビームに沿って見ると細長く幅
が狭い、請求項7に記載の装置。 10、前記回折格子手段の1次ビームが用いられる、請
求項6から9のいずれかに記載の装置。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705957A (en) * | 1995-04-27 | 1998-01-06 | Seiko Epson Corporation | Temperature-compensated piezoelectric oscillator |
Families Citing this family (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3204406B2 (ja) * | 1991-10-30 | 2001-09-04 | 株式会社ニコン | 面位置検出方法及び装置、半導体露光装置、並びに前記方法を用いた露光方法 |
| FR2685764B1 (fr) * | 1991-12-30 | 1995-03-17 | Kreon Ind | Capteur optique compact et a haute resolution pour l'analyse de formes tridimensionnelles. |
| DE4413758C2 (de) * | 1993-04-21 | 1998-09-17 | Fraunhofer Ges Forschung | Vorrichtung und Verfahren zur Prüfung der Gestalt einer Oberfläche eines zu vermessenden Objektes |
| US6141105A (en) * | 1995-11-17 | 2000-10-31 | Minolta Co., Ltd. | Three-dimensional measuring device and three-dimensional measuring method |
| US6873340B2 (en) | 1997-05-15 | 2005-03-29 | Visimatix, Inc. | Method and apparatus for an automated reference indicator system for photographic and video images |
| AU8492998A (en) * | 1997-07-16 | 1999-02-10 | Diversified Scientific, Inc. | Method for acquiring, storing and analyzing crystal images |
| USD427243S (en) * | 1997-12-15 | 2000-06-27 | Visimatix, Inc. | Reference indicator patch for use in an automated reference indicator system for photographic and video images |
| US6020954A (en) | 1997-12-18 | 2000-02-01 | Imagestatistics, Inc. | Method and associated apparatus for the standardized grading of gemstones |
| US6980283B1 (en) | 1997-12-18 | 2005-12-27 | Imagestatistics, Inc. | Method and associated apparatus for the standardized grading of gemstones |
| DE19911419A1 (de) * | 1998-03-16 | 1999-10-14 | Cyberoptics Corp | Digitales Bereichssensorsystem |
| IL126809A (en) * | 1998-10-29 | 2001-08-26 | Sarin Technologies Ltd | Apparatus and method of examining the shape of gemstones |
| US7214540B2 (en) * | 1999-04-06 | 2007-05-08 | Uab Research Foundation | Method for screening crystallization conditions in solution crystal growth |
| US7244396B2 (en) | 1999-04-06 | 2007-07-17 | Uab Research Foundation | Method for preparation of microarrays for screening of crystal growth conditions |
| US20020164812A1 (en) * | 1999-04-06 | 2002-11-07 | Uab Research Foundation | Method for screening crystallization conditions in solution crystal growth |
| US7250305B2 (en) | 2001-07-30 | 2007-07-31 | Uab Research Foundation | Use of dye to distinguish salt and protein crystals under microcrystallization conditions |
| US7247490B2 (en) | 1999-04-06 | 2007-07-24 | Uab Research Foundation | Method for screening crystallization conditions in solution crystal growth |
| US6208412B1 (en) | 1999-06-14 | 2001-03-27 | Visteon Global Technologies, Inc. | Method and apparatus for determining optical quality |
| US6100990A (en) * | 1999-06-14 | 2000-08-08 | Ford Motor Company | Method and apparatus for determining reflective optical quality using gray-scale patterns |
| US6630006B2 (en) * | 1999-06-18 | 2003-10-07 | The Regents Of The University Of California | Method for screening microcrystallizations for crystal formation |
| AU779164B2 (en) * | 1999-11-05 | 2005-01-06 | Imagestatistics, Inc. | Method and associated apparatus for the standardized grading of gemstones |
| US6603561B2 (en) | 2001-02-20 | 2003-08-05 | Thomas D. Ditto | Chromatic diffraction range finder |
| US7670429B2 (en) | 2001-04-05 | 2010-03-02 | The California Institute Of Technology | High throughput screening of crystallization of materials |
| AT410602B (de) * | 2001-12-12 | 2003-06-25 | Swarovski & Co | Verfahren zur vermessung der oberfläche eines geschliffenen schmucksteines |
| US7436498B2 (en) * | 2005-06-08 | 2008-10-14 | Sarin Technologies Ltd. | Apparatus for determining the shape of a gemstone |
| JP2012225700A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Mitsutoyo Corp | 形状測定装置 |
| US11574282B2 (en) | 2019-12-20 | 2023-02-07 | International Business Machines Corporation | Optimal cargo space utilization based on detection of items |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767815A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-24 | Mitsuhiro Ueda | Measuring method for position of reflector using light |
| JPS5880505A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-05-14 | インタ−ナシヨナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−シヨン | 光学装置 |
| JPS63142210A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-14 | Raitoron Kk | 距離測定方法及びその装置 |
Family Cites Families (40)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US751347A (en) * | 1904-02-02 | -scheimpflug | ||
| FR1534762A (fr) * | 1967-05-18 | 1968-08-02 | Cilas | Procédé et dispositif de palpage optique |
| DE1673927A1 (de) * | 1968-02-09 | 1971-08-12 | Philips Patentverwaltung | Verfahren und Anordnung zur Wiedererkennung eines Koerpers oder seiner Position und Orientierung im Raum |
| GB1184633A (en) * | 1968-02-16 | 1970-03-18 | Trw Inc | Image Spectrophotometer. |
| DE2113522C3 (de) * | 1971-03-19 | 1974-05-09 | Siemens Ag | Verfahren zuna berühningsfreien Messen eines Oberflächenprofils |
| BE789234A (fr) * | 1971-09-29 | 1973-01-15 | Colorant Schmuckstein G M B H | Procede et dispositif pour l'enregistrement des qualites de pierres de bijouterie |
| BE789819A (fr) * | 1971-10-08 | 1973-02-01 | Western Electric Co | Procede et dispositif pour mesurer une dimension d'une piece |
| US3758188A (en) * | 1972-06-06 | 1973-09-11 | American Optical Corp | Image-transmitting optical system |
| GB1416568A (en) * | 1972-10-20 | 1975-12-03 | Wilson S S | Method of and apparatus for evaluating registering and identifying gemstones |
| US3879131A (en) * | 1974-02-06 | 1975-04-22 | Bell Telephone Labor Inc | Photomask inspection by real time diffraction pattern analysis |
| US3943278A (en) * | 1974-08-22 | 1976-03-09 | Stanford Research Institute | Surface deformation gauging system by moire interferometry |
| US4202630A (en) * | 1975-01-15 | 1980-05-13 | Fuji Photo Optical Co., Ltd. | Method of and apparatus for recording surface irregularity of object |
| US4017188A (en) * | 1975-02-26 | 1977-04-12 | The Bendix Corporation | Surface profile measuring device and method |
| SE404549B (sv) * | 1976-12-07 | 1978-10-09 | Hard Av Segerstad Sverker | Anordning for faststellande av konditionen hos en yta eller inhomogeniteter i en transparent volym |
| US4158507A (en) * | 1977-07-27 | 1979-06-19 | Recognition Equipment Incorporated | Laser measuring system for inspection |
| US4168908A (en) * | 1977-12-30 | 1979-09-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Precision pointing and tracking control system |
| DE2929694A1 (de) * | 1979-07-21 | 1981-02-12 | Roland Man Druckmasch | Vorrichtung zum messen des anstelldruckes zwischen zwei schmitzringen |
| US4336989A (en) * | 1979-11-29 | 1982-06-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Focusing screen |
| HU182123B (en) * | 1980-04-17 | 1983-12-28 | Budapesti Mueszaki Egyetem | Method and apparatus for mesuring the physical characteristics of materials in motion using coherent light source with heterodyn sensing of the reflected or scattered light from the materials |
| GB2081439B (en) * | 1980-06-04 | 1984-08-08 | Gersan Ets | Examining a gem stone |
| GB2080712B (en) * | 1980-06-04 | 1983-12-21 | Gersan Ets | Centering and working gem stones |
| EP0042361A1 (de) * | 1980-06-17 | 1981-12-23 | GRETAG Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur maschinellen Identifikation von Edelsteinen |
| EP0048346A1 (en) * | 1980-09-23 | 1982-03-31 | The University Of Birmingham | Automatic measurement of areas |
| US4455087A (en) * | 1981-04-06 | 1984-06-19 | Hamamatsu Systems Inc. | Monochromatic imaging apparatus |
| GB2096793B (en) * | 1981-04-06 | 1985-02-20 | Gersan Ets | Visually examining a gem stone |
| GB2103355B (en) * | 1981-08-03 | 1985-08-07 | Gersan Ets | Examining a gemstone |
| WO1984001028A1 (en) * | 1982-09-04 | 1984-03-15 | Arne Bergstroem | Image monochromator |
| US4630925A (en) * | 1982-11-01 | 1986-12-23 | Hamamatsu Corp. | Compact temporal spectral photometer |
| US4564295A (en) * | 1983-03-07 | 1986-01-14 | New York Institute Of Technology | Apparatus and method for projection moire topography |
| GB2140503B (en) * | 1983-05-27 | 1987-03-18 | Graham Frank Loft | Ejectors in i.c. engine exhaust systems |
| JPS6042606A (ja) * | 1983-08-04 | 1985-03-06 | ナノメトリツクス・インコ−ポレ−テツド | 光学的寸法測定装置 |
| US4657394A (en) * | 1984-09-14 | 1987-04-14 | New York Institute Of Technology | Apparatus and method for obtaining three dimensional surface contours |
| SE447848B (sv) * | 1985-06-14 | 1986-12-15 | Anders Bengtsson | Instrument for metning av ytors topografi |
| US4678324A (en) * | 1985-12-04 | 1987-07-07 | Thomas De Witt | Range finding by diffraction |
| GB8603563D0 (en) * | 1986-02-13 | 1986-03-19 | Pilkington Brothers Plc | Surface measurement |
| US4758093A (en) * | 1986-07-11 | 1988-07-19 | Robotic Vision Systems, Inc. | Apparatus and method for 3-D measurement using holographic scanning |
| IE862086L (en) * | 1986-08-05 | 1988-02-05 | Bramleigh Ass Ltd | Glass inspection |
| US4786815A (en) * | 1987-02-12 | 1988-11-22 | K. J. Law Engineers, Inc. | Non-contact sensor with particular utility for measurement of road profile |
| CA1297285C (en) * | 1987-04-17 | 1992-03-17 | Kevin G. Harding | High accuracy structured light profiler |
| US4875777A (en) * | 1987-09-30 | 1989-10-24 | Industrial Technology Institute | Off-axis high accuracy structured light profiler |
-
1988
- 1988-11-09 GB GB888826224A patent/GB8826224D0/en active Pending
-
1989
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- 1989-11-09 GB GB8925307A patent/GB2226133B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5767815A (en) * | 1980-10-16 | 1982-04-24 | Mitsuhiro Ueda | Measuring method for position of reflector using light |
| JPS5880505A (ja) * | 1981-10-23 | 1983-05-14 | インタ−ナシヨナル ビジネス マシ−ンズ コ−ポレ−シヨン | 光学装置 |
| JPS63142210A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-14 | Raitoron Kk | 距離測定方法及びその装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5705957A (en) * | 1995-04-27 | 1998-01-06 | Seiko Epson Corporation | Temperature-compensated piezoelectric oscillator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0368647B1 (en) | 1993-08-11 |
| DE68908347T2 (de) | 1993-11-25 |
| IE893612L (en) | 1990-05-09 |
| EP0368647A2 (en) | 1990-05-16 |
| US5076698A (en) | 1991-12-31 |
| AU619056B2 (en) | 1992-01-16 |
| EP0368647A3 (en) | 1990-12-19 |
| IE62699B1 (en) | 1995-02-22 |
| AU4443489A (en) | 1990-05-17 |
| DE68908347D1 (de) | 1993-09-16 |
| GB8826224D0 (en) | 1988-12-14 |
| IL92228A (en) | 1992-07-15 |
| CA2002547C (en) | 2002-01-08 |
| GB2226133B (en) | 1993-05-05 |
| GB2226133A (en) | 1990-06-20 |
| CA2002547A1 (en) | 1990-05-09 |
| GB8925307D0 (en) | 1989-12-28 |
| IL92228A0 (en) | 1990-07-26 |
| ZA898492B (en) | 1990-08-29 |
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