JPH03188061A - 新規な２２―オキサビタミンｄ誘導体 - Google Patents
新規な２２―オキサビタミンｄ誘導体Info
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- JPH03188061A JPH03188061A JP32548889A JP32548889A JPH03188061A JP H03188061 A JPH03188061 A JP H03188061A JP 32548889 A JP32548889 A JP 32548889A JP 32548889 A JP32548889 A JP 32548889A JP H03188061 A JPH03188061 A JP H03188061A
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- hydroxy
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
工業」！」Ｕ旧七１
本発明は新規な２２−オキサビタミンＤ誘導体に関する
。本発明の化合物は腫瘍細胞の分化誘導能を宵し、医薬
、例えば抗腫瘍剤として有用である。
。本発明の化合物は腫瘍細胞の分化誘導能を宵し、医薬
、例えば抗腫瘍剤として有用である。
近年ビタミンＤ類の生理活性が逐次明らかにされてきて
いる。ビタミンＤ類、例えば１α、２５−ジヒドロキシ
ビタミンＤ３は小腸からのカルシウムの吸収、Ｎ瘍細胞
の分化誘導能および免疫調節作用等、多岐に亘って生理
活性を示すことが知られている。しかしながらこの化合
物は長期かつ連続的な投与により高カルシウム血症を起
こすという難点を有しており、例えば抗腫瘍剤、抗リウ
マチ剤としての使用には不適である。このため最近これ
らビタミンＤ類の作用の分離を目的として数多くのビタ
ミンＤ誘導体が合成され、その生理活性が検討されてい
る。その中の化合物の一つとして特開昭Ｇｌ −２１１
ｉ７５５０号公報に記載されている、１α、３β−ジヒ
ドロキシ−２０（Ｓ） −（３−ヒドロキシ−３−メチ
ルブチルオキシ−９，！０−セコプレグナー５． ７．
１０（１９）−トリエンがある。本発明者はこの化合物
と同種２２位の炭素原子が酸素原子に入れかわった２２
−オキソビタミンＤ類について種々検討した結果、この
化合物の２４−ホモ体、２４−ノル体および２８．２７
−ジホモ体の中に、この化合物より腫瘍細胞の分化誘導
能が数倍強力な化合物があることを見い出した。本発明
はこの知見に基づいて完成したものである。
いる。ビタミンＤ類、例えば１α、２５−ジヒドロキシ
ビタミンＤ３は小腸からのカルシウムの吸収、Ｎ瘍細胞
の分化誘導能および免疫調節作用等、多岐に亘って生理
活性を示すことが知られている。しかしながらこの化合
物は長期かつ連続的な投与により高カルシウム血症を起
こすという難点を有しており、例えば抗腫瘍剤、抗リウ
マチ剤としての使用には不適である。このため最近これ
らビタミンＤ類の作用の分離を目的として数多くのビタ
ミンＤ誘導体が合成され、その生理活性が検討されてい
る。その中の化合物の一つとして特開昭Ｇｌ −２１１
ｉ７５５０号公報に記載されている、１α、３β−ジヒ
ドロキシ−２０（Ｓ） −（３−ヒドロキシ−３−メチ
ルブチルオキシ−９，！０−セコプレグナー５． ７．
１０（１９）−トリエンがある。本発明者はこの化合物
と同種２２位の炭素原子が酸素原子に入れかわった２２
−オキソビタミンＤ類について種々検討した結果、この
化合物の２４−ホモ体、２４−ノル体および２８．２７
−ジホモ体の中に、この化合物より腫瘍細胞の分化誘導
能が数倍強力な化合物があることを見い出した。本発明
はこの知見に基づいて完成したものである。
の
本発明は下記一般式（Ｉ）で示される２２−オキサビタ
ミンＤ誘導体に関する。
ミンＤ誘導体に関する。
（式中ｎは１〜５であり、ｍ＋ ｍ’は０〜２である。
但しｎが２でｒｒｌ＋ ｍ′が共に０の場合を除く）
本発明の一般式（Ｉ）で示される化合物として具体的に
は、例えば以下の通りである。
は、例えば以下の通りである。
ａ−１αｔ３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ） −（２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピルオキシ）−９゜！０−
セコプレグナー５． ７．１０ （１９） −）リエン
ｂ、ｔα、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（４−ヒ
ドロキシ−４−メチルペンチルオキシ）−９゜１０、セ
コプレグナ−５，７，１０（１９） −）リエンｃ −
１αｔ ３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ） −（５−
ヒドロキシ−５−メチルへキシルオキシ）−９゜ＩＯ−
セコプレグナ−５，７，１０（１９） −）リエンｄ、
１α、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（５−ヒドロ
キシ−５−メチルへブチルオキシ）−〇、ＩＯ−セコプ
レグナー５． ７．１０ （１９） −）リエン ｅ、１α、３β−ジヒドロキシ−２０（ｓ）−（８−ヒ
ドロキシ−６−メチルへブチルオキシ）−〇、ＩＯ−セ
コプレグナー５． ７．１０ （１９） −）リエン ｆ、１α、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（３−エ
チル−３−ヒドロキシペンチルオキシ）−９、ＩＯ−セ
コプレグナ−５，７，１０（１９） −）リエン ｇ、１α、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ） −（３−
ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルへキシルオキシ）−９，
１０−セコプレグナ−５，７，１０（１Ｂ）−トリエン これらの化合物の中で、その生理活性の強さから化合物
すおよびｆが最も好ましい。
ヒドロキシ−２−メチルプロピルオキシ）−９゜！０−
セコプレグナー５． ７．１０ （１９） −）リエン
ｂ、ｔα、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（４−ヒ
ドロキシ−４−メチルペンチルオキシ）−９゜１０、セ
コプレグナ−５，７，１０（１９） −）リエンｃ −
１αｔ ３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ） −（５−
ヒドロキシ−５−メチルへキシルオキシ）−９゜ＩＯ−
セコプレグナ−５，７，１０（１９） −）リエンｄ、
１α、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（５−ヒドロ
キシ−５−メチルへブチルオキシ）−〇、ＩＯ−セコプ
レグナー５． ７．１０ （１９） −）リエン ｅ、１α、３β−ジヒドロキシ−２０（ｓ）−（８−ヒ
ドロキシ−６−メチルへブチルオキシ）−〇、ＩＯ−セ
コプレグナー５． ７．１０ （１９） −）リエン ｆ、１α、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（３−エ
チル−３−ヒドロキシペンチルオキシ）−９、ＩＯ−セ
コプレグナ−５，７，１０（１９） −）リエン ｇ、１α、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ） −（３−
ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルへキシルオキシ）−９，
１０−セコプレグナ−５，７，１０（１Ｂ）−トリエン これらの化合物の中で、その生理活性の強さから化合物
すおよびｆが最も好ましい。
本発明のこれらの化合物はいずれも新規化合物であり、
特開昭Ｇｌ−２８７５５０号記載の１α、３β−ビス（
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−プレグナ−
５，７−ジニンー２０（Ｓ）−オールを出発物質として
製造される。以下その製法の１例を式示する。
特開昭Ｇｌ−２８７５５０号記載の１α、３β−ビス（
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）−プレグナ−
５，７−ジニンー２０（Ｓ）−オールを出発物質として
製造される。以下その製法の１例を式示する。
（式中Ｒはｔｅｒｔ−プチルジメチルシＩＪ ）し基を
ボす） このようにして得られた本発明の化合物＆ｔｉｉｉｍ細
胞の分化誘導能を有し、抗ｉｉｍ剤等の医薬として有用
である。
ボす） このようにして得られた本発明の化合物＆ｔｉｉｉｍ細
胞の分化誘導能を有し、抗ｉｉｍ剤等の医薬として有用
である。
実ｊ％１Ｎ
ＨＬ−ＧＯ細胞株（ヒト骨髄性白血病細胞株）は、１０
％牛脂児血清、２０ｇｇ／ｌｌゲンタミシンを含むＲＰ
ＭＩ−１８４０培地で５％Ｃ０２下、３７℃で培養した
。この細胞（Ｉ Ｘ １０’ ）は２４ｔｅｌｌ平底プ
レートの１１中で培養し、本発明の化合物および対象と
して用いた１α、２５−ジヒドロキシビタミンＤ３ （
１α、 ２５− （ＯＨ） ２ Ｄ３ ）はエタノール
に溶解し、最終エタノール濃度が００１％以下となるよ
うに加えた。
％牛脂児血清、２０ｇｇ／ｌｌゲンタミシンを含むＲＰ
ＭＩ−１８４０培地で５％Ｃ０２下、３７℃で培養した
。この細胞（Ｉ Ｘ １０’ ）は２４ｔｅｌｌ平底プ
レートの１１中で培養し、本発明の化合物および対象と
して用いた１α、２５−ジヒドロキシビタミンＤ３ （
１α、 ２５− （ＯＨ） ２ Ｄ３ ）はエタノール
に溶解し、最終エタノール濃度が００１％以下となるよ
うに加えた。
スーパーオキサイド（０２″″）の産生はＪｏｈｎｓｔ
ｏｎ、 Ｒ，Ｂ、、Ｊ ｒ 、（Ｊ、 Ｅｘｐ、 Ｍａ
ｄ、、 １４８： １１５）の方法に従った。４日間
９本発明の化合物と培養して分化誘導された細胞は、１
．５ｍｌの８０ｇＭ ｆｅｒｒｉｃｙｔｏｃｈｒｏｍ
ｅ Ｃ（Ｔｙｐｅ ｍ、 Ｓｉｇｍａ）を含むＯ０Ｉ
％ｇｅｌａｔｉｎ （Ｓ ｉｇｍａ）含有 ）（ａｎ
ｋｓ’ Ｂａ１ａｎｃｅｄＳａｌｔ ５ｏｌｕｔｉｏｎ
（ＧＨＢＳＳ）溶液に懸濁した。その反応は５００
ｎｇ／ｍｌのＰｈｏｒｂｏｌ ｍｙｒｉｓｔａｔｅａ
ｃｅｔａｔｅ （Ｐ Ｍ Ａ ）の添加により開始し、
３７℃１時間培養した。培養終了後、培養上清は４℃、
１８００ｒｐ■、５分の遠心により得られ、日立二波
長分光光度計により、吸光度５５Ｇ−５４０ｎｍを測定
した。分子吸光係数は１９．Ｉ Ｘ １０３ｃ「”を用
いて計算した。
ｏｎ、 Ｒ，Ｂ、、Ｊ ｒ 、（Ｊ、 Ｅｘｐ、 Ｍａ
ｄ、、 １４８： １１５）の方法に従った。４日間
９本発明の化合物と培養して分化誘導された細胞は、１
．５ｍｌの８０ｇＭ ｆｅｒｒｉｃｙｔｏｃｈｒｏｍ
ｅ Ｃ（Ｔｙｐｅ ｍ、 Ｓｉｇｍａ）を含むＯ０Ｉ
％ｇｅｌａｔｉｎ （Ｓ ｉｇｍａ）含有 ）（ａｎ
ｋｓ’ Ｂａ１ａｎｃｅｄＳａｌｔ ５ｏｌｕｔｉｏｎ
（ＧＨＢＳＳ）溶液に懸濁した。その反応は５００
ｎｇ／ｍｌのＰｈｏｒｂｏｌ ｍｙｒｉｓｔａｔｅａ
ｃｅｔａｔｅ （Ｐ Ｍ Ａ ）の添加により開始し、
３７℃１時間培養した。培養終了後、培養上清は４℃、
１８００ｒｐ■、５分の遠心により得られ、日立二波
長分光光度計により、吸光度５５Ｇ−５４０ｎｍを測定
した。分子吸光係数は１９．Ｉ Ｘ １０３ｃ「”を用
いて計算した。
その結果を次長に示す。表中の数値は分化された細胞の
％と考えられる。
％と考えられる。
表
実施例１
ｉ）１αｌ ３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−プレグナ−５，７−ジニンー２０（Ｓ）
−オール５６１ｍｇｔ ｔ−Ｂｕｏｋ （９０％）
１．２３ｇ、ジベンゾ−１８−クラウン−６２５０−ｇ
およびインブチレンオキサイド２．５１をキシレン３０
１に溶解し、アルゴン気流下、１００℃で２時間撹拌す
る。
リルオキシ）−プレグナ−５，７−ジニンー２０（Ｓ）
−オール５６１ｍｇｔ ｔ−Ｂｕｏｋ （９０％）
１．２３ｇ、ジベンゾ−１８−クラウン−６２５０−ｇ
およびインブチレンオキサイド２．５１をキシレン３０
１に溶解し、アルゴン気流下、１００℃で２時間撹拌す
る。
反応混合物をトルエンで希釈し、水、飽和食塩水で順次
洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留
去して得られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラ
フィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：
１）で精製し、無色結晶性の１α、３β−ビス（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ） −２０（Ｓ） −
（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルオキシ）プレグ
ナ−５，７−ジエン３００ｍｇを得る。Ｉ Ｒ（ｎｅａ
ｔ） ｃｍ″″１ ： ３６００゜３４７５、１４Ｇ５
．１３８０．１２５０．１０９Ｇ、 ＭＳ （ｍ／ｚ）
： ｆｉ３２ （Ｍ＋ ） 、 ４４２ （１００
％）■）前記ｉ）で得たエーテル体２９５ｍｇおよびｎ
−Ｂｕ４ＮＦ （１ｍｏｌ ／１ｉｎＴＨＦ）４．７ｍ
ｌをＴＨＦ４．７−１に溶解し、１８時間加熱還流する
。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、１０％ＨＣＩ
水、飽和Ｎ ａ ＨＣ０３水および飽和Ｎａｃ１で順次
洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留
去して得られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色結晶性の１α、３β−ジヒドロキ
ン−２０（Ｓ）−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
ルオキシ）プレグナ−５，７−ジエン１４２．を得る。
洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留
去して得られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラ
フィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：
１）で精製し、無色結晶性の１α、３β−ビス（ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ） −２０（Ｓ） −
（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルオキシ）プレグ
ナ−５，７−ジエン３００ｍｇを得る。Ｉ Ｒ（ｎｅａ
ｔ） ｃｍ″″１ ： ３６００゜３４７５、１４Ｇ５
．１３８０．１２５０．１０９Ｇ、 ＭＳ （ｍ／ｚ）
： ｆｉ３２ （Ｍ＋ ） 、 ４４２ （１００
％）■）前記ｉ）で得たエーテル体２９５ｍｇおよびｎ
−Ｂｕ４ＮＦ （１ｍｏｌ ／１ｉｎＴＨＦ）４．７ｍ
ｌをＴＨＦ４．７−１に溶解し、１８時間加熱還流する
。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、１０％ＨＣＩ
水、飽和Ｎ ａ ＨＣ０３水および飽和Ｎａｃ１で順次
洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留
去して得られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラ
フィーで精製し、無色結晶性の１α、３β−ジヒドロキ
ン−２０（Ｓ）−（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピ
ルオキシ）プレグナ−５，７−ジエン１４２．を得る。
Ｉ Ｒ（ｎｕｊｏｌ）ｃ ｍ−１：３３５０、 １１フ
０． １１５０． １０９０． １０５Ｇ。
０． １１５０． １０９０． １０５Ｇ。
ＭＳ （ｍ／ ｚ） ： ４Ｇ４ （Ｍ”
） 、 フ２（１００％）１１１）前記１１）で
得た５、７−ジエン体１３３■をＴ ＨＦ ３１０ｍ１
に溶解し、水冷下、アルゴンガスをバブリングしながら
４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフィルターを用い５分
間光照射。次いでアルゴン気流下２時間加熱還流。減圧
下溶媒を留去して得られる残渣を以下の精製工程に付し
た。
） 、 フ２（１００％）１１１）前記１１）で
得た５、７−ジエン体１３３■をＴ ＨＦ ３１０ｍ１
に溶解し、水冷下、アルゴンガスをバブリングしながら
４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフィルターを用い５分
間光照射。次いでアルゴン気流下２時間加熱還流。減圧
下溶媒を留去して得られる残渣を以下の精製工程に付し
た。
■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル
、ジクロルメタン：エタノール：１２．５ ：１） ■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル
、ｎ−へキサン：酢酸エチル＝１：８）■プレパラティ
ブＴＬＣ（シリカゲル、ジクロルメタン：エタノール＝
１２．５： １．４回展開）。
、ジクロルメタン：エタノール：１２．５ ：１） ■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル
、ｎ−へキサン：酢酸エチル＝１：８）■プレパラティ
ブＴＬＣ（シリカゲル、ジクロルメタン：エタノール＝
１２．５： １．４回展開）。
無色泡状の１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ）−（
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルオキシ）−９，１
０−セフアンドロスタ−５，７，１０（１９）トリｘ
７１７．８ｍｇを得る。’Ｈ−ＮＭＲδ： ０．５３（
３Ｈ，ｓ）、１．１６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
２−ヒドロキシ−２−メチルプロピルオキシ）−９，１
０−セフアンドロスタ−５，７，１０（１９）トリｘ
７１７．８ｍｇを得る。’Ｈ−ＮＭＲδ： ０．５３（
３Ｈ，ｓ）、１．１６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６Ｈｚ）。
１．１９（６Ｈ，ｓ）、３．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ ８
．４Ｈｚ） 、 ３．２４〜３．４８（ＩＨ，ｂ ｒ）
、 ３．３９（ＩＨ。
．４Ｈｚ） 、 ３．２４〜３．４８（ＩＨ，ｂ ｒ）
、 ３．３９（ＩＨ。
ｄ、 Ｊ＝８．４ Ｈｚ） 、 ４．２０〜４．３２
（ＩＨ，ｂ ｒ） 。
（ＩＨ，ｂ ｒ） 。
４．４０〜４．５２（ＩＨ，ｂ ｒ） 、 ４．９９（
ＩＨ，Ｓ） 。
ＩＨ，Ｓ） 。
５．３３（ＩＨ，Ｓ）、６．０３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１
．４Ｈｚ）、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｕ、４Ｈｚ）。
．４Ｈｚ）、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｕ、４Ｈｚ）。
ＭＳ （ｍ／２） ： ４０４ （Ｍ” ） 、 ７
２（１００％）、ＵＶλｗａｘ ｎｉｅ： ２Ｇ
３． λｗｉｎ：２２７実施例２ ■） １α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−プレグナ−５，７−ジニンー２０（Ｓ）
−オール１２６ｑ、Ｎ ａ Ｈ（８０％） １２０ｇ
、２−（３−クロロプロピル）−２−メチル−１゜３−
ジオキソランおよびキシレン２３１の混合物を窒素気流
下、１８時間加熱還流、冷後反応混合物を飽和Ｎａｃｌ
水に加え、酢酸エチル抽出。硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧下溶媒を留去して得られる残渣を、フラッシュ会
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル＝９：１）に付し無色油状の１α、３β−
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ） −２
０（Ｓ） −［４−（１，３−ジオキソラン−２−イル
）−ペンチルオキシ−プレグナ−５，７−ジエン３７０
■を得る。このものは更に精製することなく、以下の反
応に用いた。Ｉ Ｒ（ＣＨＣ１３） ｃｍ−’ ：
２９６０．２９３５．２８９０．２８８５． ＭＳ （
ｍ／ｚ） ： ６８８ （Ｍ” ）、８５（１００％
）。
２（１００％）、ＵＶλｗａｘ ｎｉｅ： ２Ｇ
３． λｗｉｎ：２２７実施例２ ■） １α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ）−プレグナ−５，７−ジニンー２０（Ｓ）
−オール１２６ｑ、Ｎ ａ Ｈ（８０％） １２０ｇ
、２−（３−クロロプロピル）−２−メチル−１゜３−
ジオキソランおよびキシレン２３１の混合物を窒素気流
下、１８時間加熱還流、冷後反応混合物を飽和Ｎａｃｌ
水に加え、酢酸エチル抽出。硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧下溶媒を留去して得られる残渣を、フラッシュ会
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル＝９：１）に付し無色油状の１α、３β−
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ） −２
０（Ｓ） −［４−（１，３−ジオキソラン−２−イル
）−ペンチルオキシ−プレグナ−５，７−ジエン３７０
■を得る。このものは更に精製することなく、以下の反
応に用いた。Ｉ Ｒ（ＣＨＣ１３） ｃｍ−’ ：
２９６０．２９３５．２８９０．２８８５． ＭＳ （
ｍ／ｚ） ： ６８８ （Ｍ” ）、８５（１００％
）。
ｉｉ）前記ｉ）で得た粗エーテル体３７０ｍｇ、 Ａａ
ｂｅｒｌＦｓｔ１５１３５ｇおよびメタノール５０１の
混合物を窒素気流下、室温で１８時間撹拌。反応混合物
を濾過後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣を、フラ
ッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−
ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、無色油状の１
α−ｔｅｒｔ、ブチルジメチルシリルオキシ−３β−ヒ
ドロキシ−２０（Ｓ）−（４−オキソペンチルオキシ）
プレグナ−５，７−ジエン９５■を得た。ＭＳ （ｍ／
２）： ４７３（Ｍ＋−ｔ−Ｂ ｕ ） 、 ８５（
１００％）。
ｂｅｒｌＦｓｔ１５１３５ｇおよびメタノール５０１の
混合物を窒素気流下、室温で１８時間撹拌。反応混合物
を濾過後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣を、フラ
ッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−
ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）に付し、無色油状の１
α−ｔｅｒｔ、ブチルジメチルシリルオキシ−３β−ヒ
ドロキシ−２０（Ｓ）−（４−オキソペンチルオキシ）
プレグナ−５，７−ジエン９５■を得た。ＭＳ （ｍ／
２）： ４７３（Ｍ＋−ｔ−Ｂ ｕ ） 、 ８５（
１００％）。
＋１１）前記１１）で得たケトン体をＴＨＦ５ｍｌに溶
解し、−１０℃、窒素気流下にて、メチルマグネシウム
ブロマイド（３ｍｏｌ／ ｌ １ｎｚ−チル） ０．５
ｍｌを滴下し、同温度で２０分間撹拌、次いで室温で
３時間撹拌。水冷下、反応混合物に飽和ＮＨ４Ｃｌ水を
加えジクロルメタン抽出し、飽和ＮａＣ１水で洗浄。
解し、−１０℃、窒素気流下にて、メチルマグネシウム
ブロマイド（３ｍｏｌ／ ｌ １ｎｚ−チル） ０．５
ｍｌを滴下し、同温度で２０分間撹拌、次いで室温で
３時間撹拌。水冷下、反応混合物に飽和ＮＨ４Ｃｌ水を
加えジクロルメタン抽出し、飽和ＮａＣ１水で洗浄。
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得ら
れる残渣をフラッシュ赤カラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２．６：１）で
精製し、無色油状の１α−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−３β−ヒドロキシ−２０（Ｓ）−（４−ヒ
ドロキシ−４−メチルペンチルオキシ）プレグナ−５，
７−ジエン３９■を得る。
れる残渣をフラッシュ赤カラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２．６：１）で
精製し、無色油状の１α−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシ−３β−ヒドロキシ−２０（Ｓ）−（４−ヒ
ドロキシ−４−メチルペンチルオキシ）プレグナ−５，
７−ジエン３９■を得る。
Ｉ Ｒ（ＣＤＣ１３） ｃｍ−１： ３Ｇ５０．３００
０．２９６０゜２９１０、２８３０．１０８０．１０５
５． ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ５４Ｂ（Ｍ” ） 、
１０１ （１００％）。
０．２９６０゜２９１０、２８３０．１０８０．１０５
５． ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ５４Ｂ（Ｍ” ） 、
１０１ （１００％）。
ｉｖ）前記１１１）で得た５、７−ジエン体３３ｇをエ
タノール４００１に溶解し、水冷下、アルゴンガスをバ
ブリングしながら、４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフ
ィルターを用い、１．５分間光照射。減圧下溶媒を留去
して得られる残渣をＴＨＦ１５ｍｌに溶解し、窒素気流
下、１．５時間加熱還流する。冷機ｎ−Ｂｕ４ ＮＦ
（１ｍｏｌ ／１ １ｎＴＨＦ） ０．８ｍ
ｌを加え、アルゴン気流下、１７時間室温撹拌。反応混
合物を飽和ＮａＣ１水に加え、酢酸エチル抽出、飽和１
’Ｊａｃｌ水洗浄。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去して得られる残液をフラッシュ・カラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル＝１：５）で精製し無色泡状の１α、３β−ジヒドロ
キン−２０（Ｓ） −（４−ヒドロキシ−４−メチルペ
ンチルオキシ！０ーセコプレグナー５． ７． １０
（１９） −）リエン３．４ｍｇを得る。’Ｈ−ＮＭＲ
δ：０．５３（３Ｈ，ｓ）、１．１７ （３Ｈ−ｄ−Ｊ
＝ Ｇ、ＩＨｚ） 、１．２２ （８Ｈ１ＳＬ３．２
Ｂ （２Ｈ，ｍ） 、３．５９ （ＩＨ，ｍ） 、４．
２３（ＩＨ，ｍ） 、４．４３（ＩＨ，ｍ） 、５．０
０（ＩＨ。
タノール４００１に溶解し、水冷下、アルゴンガスをバ
ブリングしながら、４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフ
ィルターを用い、１．５分間光照射。減圧下溶媒を留去
して得られる残渣をＴＨＦ１５ｍｌに溶解し、窒素気流
下、１．５時間加熱還流する。冷機ｎ−Ｂｕ４ ＮＦ
（１ｍｏｌ ／１ １ｎＴＨＦ） ０．８ｍ
ｌを加え、アルゴン気流下、１７時間室温撹拌。反応混
合物を飽和ＮａＣ１水に加え、酢酸エチル抽出、飽和１
’Ｊａｃｌ水洗浄。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去して得られる残液をフラッシュ・カラムクロ
マトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル＝１：５）で精製し無色泡状の１α、３β−ジヒドロ
キン−２０（Ｓ） −（４−ヒドロキシ−４−メチルペ
ンチルオキシ！０ーセコプレグナー５． ７． １０
（１９） −）リエン３．４ｍｇを得る。’Ｈ−ＮＭＲ
δ：０．５３（３Ｈ，ｓ）、１．１７ （３Ｈ−ｄ−Ｊ
＝ Ｇ、ＩＨｚ） 、１．２２ （８Ｈ１ＳＬ３．２
Ｂ （２Ｈ，ｍ） 、３．５９ （ＩＨ，ｍ） 、４．
２３（ＩＨ，ｍ） 、４．４３（ＩＨ，ｍ） 、５．０
０（ＩＨ。
ｔ、Ｊ＝ １．７Ｈｚ） 、５．３３ （ＩＨ−ｔ−
Ｊ＝１．７Ｈｚ） 、ｌｌｉ、０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１
１．４Ｈｚ） 、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１．４Ｈ
ｚ）、ＭＳ （ｍ／ｚ）：１０１［（ＣＨ２）３ ＣＭ
ｅ２０Ｈ］ 、８３（１００％）。ＵＶ λ■ａｘ
ｎ鵬 ： ２Ｇ３、 λ鵬ｉｎ ｎ■：２２７
゜実施例３ ｉ）１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−プレグナ−５，７−ジエン−２０（Ｓ）−
オール１．２０ｇ１ＮａＨ（６０％） ２９５．．２
−（４−ブロムブチル）−２−メチル−１，３−シオキ
ソランｔ、ｅｅｇおよびキシレン６０１の混合物を窒素
気流下、１６時間加熱還流。冷徹、反応混合物を冷飽和
ＮａＣ１水に加え、ジクロルメタン抽出。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣を、
フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝ ５．７： １）で精製し
、無色プリズム晶の１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２０（Ｓ）−［：５− （１
，３−ジオキソラン−２−イル）−へキシルオキン］プ
レグナ−５，７−ジエン１．４８ｇを得る。融点９８．
５〜１００℃、ＭＳ （ｍ／ ｚ） ： ７０２ （
Ｍ” ） 、９９（１００％）。
Ｊ＝１．７Ｈｚ） 、ｌｌｉ、０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１
１．４Ｈｚ） 、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１１．４Ｈ
ｚ）、ＭＳ （ｍ／ｚ）：１０１［（ＣＨ２）３ ＣＭ
ｅ２０Ｈ］ 、８３（１００％）。ＵＶ λ■ａｘ
ｎ鵬 ： ２Ｇ３、 λ鵬ｉｎ ｎ■：２２７
゜実施例３ ｉ）１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−プレグナ−５，７−ジエン−２０（Ｓ）−
オール１．２０ｇ１ＮａＨ（６０％） ２９５．．２
−（４−ブロムブチル）−２−メチル−１，３−シオキ
ソランｔ、ｅｅｇおよびキシレン６０１の混合物を窒素
気流下、１６時間加熱還流。冷徹、反応混合物を冷飽和
ＮａＣ１水に加え、ジクロルメタン抽出。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣を、
フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝ ５．７： １）で精製し
、無色プリズム晶の１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−２０（Ｓ）−［：５− （１
，３−ジオキソラン−２−イル）−へキシルオキン］プ
レグナ−５，７−ジエン１．４８ｇを得る。融点９８．
５〜１００℃、ＭＳ （ｍ／ ｚ） ： ７０２ （
Ｍ” ） 、９９（１００％）。
１１）前記ｉ）で得たエーテル体１．４８ｇ１Ａｍｂｅ
ｒｌｔｓｔ１５５４０ｗ、Ｔ ＨＦ ３５ｉ＋１および
メタノール６０１の混合物を窒素気流下、室温で２３時
間撹拌。反応混合物を濾過後、減圧下溶媒を留去して得
られる残渣を、フラッシュ・カラムクロマトグラフィー
（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２＝１）に
付し、無色油状の１α−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−３β−ヒドロキシ−２０（Ｓ）−（５−オキ
ソ−へキシルオキシ）プレグナ−５゜７−ジエン９７０
．を得る。このものは更に精製することなく以下の反応
に用いた。
ｒｌｔｓｔ１５５４０ｗ、Ｔ ＨＦ ３５ｉ＋１および
メタノール６０１の混合物を窒素気流下、室温で２３時
間撹拌。反応混合物を濾過後、減圧下溶媒を留去して得
られる残渣を、フラッシュ・カラムクロマトグラフィー
（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２＝１）に
付し、無色油状の１α−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ−３β−ヒドロキシ−２０（Ｓ）−（５−オキ
ソ−へキシルオキシ）プレグナ−５゜７−ジエン９７０
．を得る。このものは更に精製することなく以下の反応
に用いた。
１１１）前記１１）で得たケトン体３００■をＴＨＦ。
ｍｌに溶解し、水冷、窒素気流下にて、メチルマグネシ
ウムブロマイド（３■ｏｆ／ｌ ｉｎエーテル）１．６
履１のＴＨＦ５ｍｌ溶液に滴下し、３０分間撹拌、次い
で室温で４０分間撹拌。水冷下、反応混合物に飽和ＮＨ
４Ｃｌ水を加えジクロルメタン抽出し、飽和ＮａＣ１水
で洗浄。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去
して得られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル、ｎ−へキサン：酢酸エチル＝４ ：
３）で精製し、無色油状の１α−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−３β−ヒドロキシ−２０（Ｓ）−
（５−ヒドロキシ−５−メチルへキシルオキシ）プレグ
ナ−５，７−ジエンを得る。ＩＨ−ＮＭＲδ： ０．０
７ （３Ｈ。
ウムブロマイド（３■ｏｆ／ｌ ｉｎエーテル）１．６
履１のＴＨＦ５ｍｌ溶液に滴下し、３０分間撹拌、次い
で室温で４０分間撹拌。水冷下、反応混合物に飽和ＮＨ
４Ｃｌ水を加えジクロルメタン抽出し、飽和ＮａＣ１水
で洗浄。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去
して得られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル、ｎ−へキサン：酢酸エチル＝４ ：
３）で精製し、無色油状の１α−ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリルオキシ−３β−ヒドロキシ−２０（Ｓ）−
（５−ヒドロキシ−５−メチルへキシルオキシ）プレグ
ナ−５，７−ジエンを得る。ＩＨ−ＮＭＲδ： ０．０
７ （３Ｈ。
ｓ ） 、０．１２ （３Ｈ，Ｓ） 、０．Ｇｌ （３
Ｈ，ｓ ）、０．８８（９Ｈ９Ｓ） 、０．８９（３Ｈ
−ｓ） 、１．１５（３Ｈ−ｄ、 Ｊ＝６．１
Ｈｚ） 、 １．２１ （８Ｈ，Ｓ ） 、
３．２３（２Ｈ，ｍ） 、３．５５（ＩＨ，ｍ） 、３
．７３（ＩＨ。
Ｈ，ｓ ）、０．８８（９Ｈ９Ｓ） 、０．８９（３Ｈ
−ｓ） 、１．１５（３Ｈ−ｄ、 Ｊ＝６．１
Ｈｚ） 、 １．２１ （８Ｈ，Ｓ ） 、
３．２３（２Ｈ，ｍ） 、３．５５（ＩＨ，ｍ） 、３
．７３（ＩＨ。
ｂｒｓ ）、３．９９ （Ｉ Ｈ，ｍ） 、５．３３
（Ｉ Ｈ，ｂｒｔ）、５゜６０ （Ｉ Ｈ，ｂｒｄ）。
（Ｉ Ｈ，ｂｒｔ）、５゜６０ （Ｉ Ｈ，ｂｒｄ）。
ｉｖ）前記１１１）で得たエーテル体１２０■およびｎ
−Ｂｕ４ ＮＦ （１ｍｏｌ／Ｉ １ｎＴＨＦ） ２
．２ｍｌをＴＨＦｌｏｍｌに溶解し、１１時間加熱還流
。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和ＮａＨＣ
Ｏ３水、飽和ＮａＣｌ水で順次洗浄。硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣をフラッ
シュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エ
チル）で精製し、無色油状の１α、３β−ジヒドロキン
−２０（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−５−メチルへキシル
オキシ）プレグナ−５，７−ジエン６８■を得るＯ
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） Ｃ＠−１： ３４８０．２９７０
１２９４０１２８７０．１６５０．１４８Ｇ、１３７５
．１１５Ｇ、ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ４４６ （Ｍ”
） 、９７（１００％）■）前記ｉｖ）で得た５、７
−ジエン４５ｇ （０，０７ｉｎｏｆ）をエタノール２
００１に溶解し、水冷下、アルゴンガスをバブリングし
なから４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い３分間光照射し次いで窒素気流下、２時間加熱還流す
る。減圧下溶媒を留去して得られる残渣を以下の精製工
程に付す。■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝９：１）、
■プレパラティブＴＬＣ（シリカゲル、酢酸エチル、２
回展開）、白色泡杖の１α、３β−ジヒドロキン−２０
（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−５−メチルへキシルオキシ
）−９，１０−セコプレグナ−５，７，１０（１９）−
）ジエン６．８１ｇを得る。
−Ｂｕ４ ＮＦ （１ｍｏｌ／Ｉ １ｎＴＨＦ） ２
．２ｍｌをＴＨＦｌｏｍｌに溶解し、１１時間加熱還流
。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和ＮａＨＣ
Ｏ３水、飽和ＮａＣｌ水で順次洗浄。硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣をフラッ
シュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、酢酸エ
チル）で精製し、無色油状の１α、３β−ジヒドロキン
−２０（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−５−メチルへキシル
オキシ）プレグナ−５，７−ジエン６８■を得るＯ
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） Ｃ＠−１： ３４８０．２９７０
１２９４０１２８７０．１６５０．１４８Ｇ、１３７５
．１１５Ｇ、ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ４４６ （Ｍ”
） 、９７（１００％）■）前記ｉｖ）で得た５、７
−ジエン４５ｇ （０，０７ｉｎｏｆ）をエタノール２
００１に溶解し、水冷下、アルゴンガスをバブリングし
なから４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフィルターを用
い３分間光照射し次いで窒素気流下、２時間加熱還流す
る。減圧下溶媒を留去して得られる残渣を以下の精製工
程に付す。■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝９：１）、
■プレパラティブＴＬＣ（シリカゲル、酢酸エチル、２
回展開）、白色泡杖の１α、３β−ジヒドロキン−２０
（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−５−メチルへキシルオキシ
）−９，１０−セコプレグナ−５，７，１０（１９）−
）ジエン６．８１ｇを得る。
Ｈ−ＮＭＲδ： ０．５３ （３Ｈ，ｓ） 、１．１Ｇ
（３Ｈ。
（３Ｈ。
ｄ＝ Ｊ ＝ ６．１Ｈｚ） 、 １．２１
（８Ｈ−Ｓ） 、 ３．１７〜３゜２５ （２Ｈ
，ｍ） 、 ３．５１〜３．５８ （Ｉ Ｈ，ｍ）、４
．２３ （ＩＨ，ｍ） 、４・、４１ （ＩＨ，ｍＬ５
．００ （ＩＨ，ｂｒｔ）、５゜３３（ＩＨ，ｂｒｔ）
、ｓ、ｏ３（ＩＨ，ｄｔ Ｊ＝１０．９Ｈ２）、６．
３３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝ＩＯ，９Ｈｚ） 、ＭＳ （ｍ／
ｚ）： ４４Ｇ （Ｍ” ） 、９ｆｉ（１００％）
、ｕｖ２ｍｍｘ ｎｍ： ２８３、λ■ｉｎ ｎｍ
：２２７ 実施例４ １）前記実施例３１１）で得たケトン体３００ｍｇをＴ
ＨＦ５ｍｌに溶解し、水冷、窒素気流下、エチルマグネ
シウムブ０フィト（１，０１ｍｏｌ／ｌ １ｎＴＨＦ）
４．７１のＴＨＦ２ｍｌ溶液に滴下し、１．５時間撹拌
する。水冷下、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水を
加え、ジクロロメタンで抽出する。硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧上溶媒を留去して得られる残渣をフラッシ
ュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−へキ
サン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、無色油状の１α
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３β−ヒド
ロキシ−２０（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−５−メチルへ
ブチルオキシ）−プレグナ−５，７−ジエン９７ｍｇを
得る。
（８Ｈ−Ｓ） 、 ３．１７〜３゜２５ （２Ｈ
，ｍ） 、 ３．５１〜３．５８ （Ｉ Ｈ，ｍ）、４
．２３ （ＩＨ，ｍ） 、４・、４１ （ＩＨ，ｍＬ５
．００ （ＩＨ，ｂｒｔ）、５゜３３（ＩＨ，ｂｒｔ）
、ｓ、ｏ３（ＩＨ，ｄｔ Ｊ＝１０．９Ｈ２）、６．
３３（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝ＩＯ，９Ｈｚ） 、ＭＳ （ｍ／
ｚ）： ４４Ｇ （Ｍ” ） 、９ｆｉ（１００％）
、ｕｖ２ｍｍｘ ｎｍ： ２８３、λ■ｉｎ ｎｍ
：２２７ 実施例４ １）前記実施例３１１）で得たケトン体３００ｍｇをＴ
ＨＦ５ｍｌに溶解し、水冷、窒素気流下、エチルマグネ
シウムブ０フィト（１，０１ｍｏｌ／ｌ １ｎＴＨＦ）
４．７１のＴＨＦ２ｍｌ溶液に滴下し、１．５時間撹拌
する。水冷下、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水を
加え、ジクロロメタンで抽出する。硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧上溶媒を留去して得られる残渣をフラッシ
ュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−へキ
サン：酢酸エチル＝２：１）で精製し、無色油状の１α
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ−３β−ヒド
ロキシ−２０（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−５−メチルへ
ブチルオキシ）−プレグナ−５，７−ジエン９７ｍｇを
得る。
Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ｃ＊＋−１３３９０，２９６０，
２８８０，１４５５，１３Ｂ５，１２４５．１１４０．
１０８Ｇ、 １０４０゜ｉｔ）前記ｉ）で得たエーテル
体９７ｍｇ（０，１７ｍｍｏｌ）およびｎ−Ｂｕ４ＮＦ
（１ｍｏｌ／ｌ １ｎＴＨＦ） １．７１をＴＨＦ
５ｍｌに溶解し、窒素気流下、１３．５時間加熱還流す
る。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和炭酸水
素ナトＩＪウム水、飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去して得られる残渣
をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル
、ジクロロメタン：エタノール＝ ７．３： １）で精
製し、淡黄色油状の１α、３β−ジヒドロキン−２０（
Ｓ） −（５−ヒドロキシ−５−メチルへブチルオキシ
）プレグナ−５，７−ジエン５７ｍｇを得る。Ｉ Ｒ（
ｎｅａｔ）ａｍ−１： ３４３５．３０００．２９ＧＯ
１２９００，１４７５，１３９０，１３４５，１１６５
，１０７０，ＭＳ （ｍ／ ｚ） ： ４６０ （Ｍ
” ）、Ｅｉ８（１００％）。
２８８０，１４５５，１３Ｂ５，１２４５．１１４０．
１０８Ｇ、 １０４０゜ｉｔ）前記ｉ）で得たエーテル
体９７ｍｇ（０，１７ｍｍｏｌ）およびｎ−Ｂｕ４ＮＦ
（１ｍｏｌ／ｌ １ｎＴＨＦ） １．７１をＴＨＦ
５ｍｌに溶解し、窒素気流下、１３．５時間加熱還流す
る。反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水、飽和炭酸水
素ナトＩＪウム水、飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去して得られる残渣
をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカゲル
、ジクロロメタン：エタノール＝ ７．３： １）で精
製し、淡黄色油状の１α、３β−ジヒドロキン−２０（
Ｓ） −（５−ヒドロキシ−５−メチルへブチルオキシ
）プレグナ−５，７−ジエン５７ｍｇを得る。Ｉ Ｒ（
ｎｅａｔ）ａｍ−１： ３４３５．３０００．２９ＧＯ
１２９００，１４７５，１３９０，１３４５，１１６５
，１０７０，ＭＳ （ｍ／ ｚ） ： ４６０ （Ｍ
” ）、Ｅｉ８（１００％）。
１１１）前記１１）で得たジエン体２７膳ｇをエタノー
ル２００ｍ１に溶解し、水冷下アルゴンガスをノ（ブリ
ングしなから４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフィルタ
ーを用い、２分間光照射、次いで窒素気流下、１．５時
間加熱還流する。減圧上溶媒を留去して得られる残渣を
以下の精製工程に付す。■フラッシュ・カラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール
＝１０口）、■プレノ寸うティプＴＬＣ（シリカゲル、
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル。１ニア、３２回展開）。白
色泡状の１α。
ル２００ｍ１に溶解し、水冷下アルゴンガスをノ（ブリ
ングしなから４００Ｗ高圧水銀灯−バイコールフィルタ
ーを用い、２分間光照射、次いで窒素気流下、１．５時
間加熱還流する。減圧上溶媒を留去して得られる残渣を
以下の精製工程に付す。■フラッシュ・カラムクロマト
グラフィー（シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール
＝１０口）、■プレノ寸うティプＴＬＣ（シリカゲル、
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル。１ニア、３２回展開）。白
色泡状の１α。
３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ）−（５−ヒドロキシ−
５−メチルへブチルオキシ）−９，１０−セコプレグナ
−５，７，１０（１９）−トリエン２．６■ｇを得る。
５−メチルへブチルオキシ）−９，１０−セコプレグナ
−５，７，１０（１９）−トリエン２．６■ｇを得る。
ＩＨ−ＮＭＲδ： ０．５３ （３Ｈ，Ｓ ） 、０
．８８（３Ｈ，ｓ） 、０．８９（３Ｈ，ｔｔ Ｊ＝
： ７．ＧＨｚ）、ｒ、ｔｔ（３Ｈ１ｓ） 、ｔ、ｔｅ
（３Ｈ，ｄｓ Ｊ＝５４ Ｈ２） 、 ３．１６〜
３．２７ （２Ｈ，ｍ） 、 ３．５０〜３．５８
（ＩＨｌｍ） 、４．２３（ＩＨ，ｍ） 、４．４２
（ＩＨ，ｍ）、５．００（ＩＨ，ｂｒｔ ） 、５．３
３（ＩＨ，ｂｒｔ）、８．０２ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０
．５Ｈｚ）６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｔ０．５Ｈｚ）
、 ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ４６０ （Ｍ” ）Ｊ
Ｒ（１００％）、ＵＶλｗａｘ ｎｍ： ２８３．
λｍｉｘ ｎｍ：２２７実施例５ ｉ）１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−プレグナ−５，７−ジエンー２０（Ｓ）−
オール５６１鵬ｇ（１膳■ｏｌ）、水素化ナトリウム（
６０％） ２６８ｍｇ（７ｍ■ｏｌ）およびキシレン
２５ｍ１の混合物を、アルゴン気流下、２時間加熱還流
する。冷徹、６−メチル−６−ドリメチルシリルオキシ
ー１−ペンチルブロマイド２．３３ｇ （８，３曹■０
目の朴シン５１溶液を加え、１２時間加熱還流する。反
応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
層を飽和食塩水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧上溶媒を留去して得られる残渣を、フラッシュ・
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル：２５：１）に付し、無色油状物の粗１α
、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）−２０（Ｓ）−（６−）ジメチルシリルオキシ−６−
メチルへブチルオキシ）プレグナ−５，７−ジエン５８
０履ｇを得る。このエーテル体はさらに精製することな
く以下の反応に用いた。Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ｃ■−１
：目６５．１３８０．１３６５．１２５０．１０４５．
ＭＳ （ｍ／ｚ）： ６２８ （Ｍ” −ＨＯＳ
Ｉ Ｍｅ ３ ｔ−Ｂ ｕ ）、１３１（１００％）。
．８８（３Ｈ，ｓ） 、０．８９（３Ｈ，ｔｔ Ｊ＝
： ７．ＧＨｚ）、ｒ、ｔｔ（３Ｈ１ｓ） 、ｔ、ｔｅ
（３Ｈ，ｄｓ Ｊ＝５４ Ｈ２） 、 ３．１６〜
３．２７ （２Ｈ，ｍ） 、 ３．５０〜３．５８
（ＩＨｌｍ） 、４．２３（ＩＨ，ｍ） 、４．４２
（ＩＨ，ｍ）、５．００（ＩＨ，ｂｒｔ ） 、５．３
３（ＩＨ，ｂｒｔ）、８．０２ （ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１０
．５Ｈｚ）６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ｔ０．５Ｈｚ）
、 ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ４６０ （Ｍ” ）Ｊ
Ｒ（１００％）、ＵＶλｗａｘ ｎｍ： ２８３．
λｍｉｘ ｎｍ：２２７実施例５ ｉ）１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルオキシ）−プレグナ−５，７−ジエンー２０（Ｓ）−
オール５６１鵬ｇ（１膳■ｏｌ）、水素化ナトリウム（
６０％） ２６８ｍｇ（７ｍ■ｏｌ）およびキシレン
２５ｍ１の混合物を、アルゴン気流下、２時間加熱還流
する。冷徹、６−メチル−６−ドリメチルシリルオキシ
ー１−ペンチルブロマイド２．３３ｇ （８，３曹■０
目の朴シン５１溶液を加え、１２時間加熱還流する。反
応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル
層を飽和食塩水で洗浄する。硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧上溶媒を留去して得られる残渣を、フラッシュ・
カラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン
：酢酸エチル：２５：１）に付し、無色油状物の粗１α
、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）−２０（Ｓ）−（６−）ジメチルシリルオキシ−６−
メチルへブチルオキシ）プレグナ−５，７−ジエン５８
０履ｇを得る。このエーテル体はさらに精製することな
く以下の反応に用いた。Ｉ Ｒ（ｎｅａｔ） ｃ■−１
：目６５．１３８０．１３６５．１２５０．１０４５．
ＭＳ （ｍ／ｚ）： ６２８ （Ｍ” −ＨＯＳ
Ｉ Ｍｅ ３ ｔ−Ｂ ｕ ）、１３１（１００％）。
■）前記ｉ）で得たエーテル体５８０ｍｇおよびｎ−Ｂ
ｏ３ ＮＦ （１ｍｏｌ／ｌ ｉｎＴＨＦ）４０ｍ
ｌをＴＨＦ４０１に溶解し、２０時間加熱還流する。冷
徹、減圧下溶媒を留去して得られる残渣に水および酢酸
Ｘｆルを加え、酢酸エチル層を５％塩酸水、飽和炭酸水
素ナトリウム水および飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる
残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル、ジクロロメタン：エタノール：ｌＯ：１）で精製
し、無色結晶性の１α。
ｏ３ ＮＦ （１ｍｏｌ／ｌ ｉｎＴＨＦ）４０ｍ
ｌをＴＨＦ４０１に溶解し、２０時間加熱還流する。冷
徹、減圧下溶媒を留去して得られる残渣に水および酢酸
Ｘｆルを加え、酢酸エチル層を５％塩酸水、飽和炭酸水
素ナトリウム水および飽和食塩水で順次洗浄する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる
残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル、ジクロロメタン：エタノール：ｌＯ：１）で精製
し、無色結晶性の１α。
３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ）−（８−ヒドロキシ−
６−メチルへブチルオキシ）プレグナ−５゜７−ジエン
５４鵬ｇを得る。ＩＲ（ヌジョール）Ｃ「１： ３３５
０、＋１９５．１１４５．１１００１１０ＧＯ，ＭＳ
（ｍ／ｚ）： ４６０ （Ｍ＋ ） 、６８（１００
％）。
６−メチルへブチルオキシ）プレグナ−５゜７−ジエン
５４鵬ｇを得る。ＩＲ（ヌジョール）Ｃ「１： ３３５
０、＋１９５．１１４５．１１００１１０ＧＯ，ＭＳ
（ｍ／ｚ）： ４６０ （Ｍ＋ ） 、６８（１００
％）。
■）前記１１） テ得た５、７−ジエン体５４１ｇ（０
，１２ｍ ｍｏｌ）ヲＴＨＦ ３１Ｇｍｌに溶解し、水
冷下、アルゴンガスをバブリングしながら、４００Ｗ高
圧水銀灯−バイコールフィルターを用い、２５分間光照
射する。次いでアルゴンガス気流下、２時間加熱還流す
る。減圧下溶媒を留去して得られる残渣を以下の精製工
程に付した。■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー
（シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝ｌＯ：ｌ
） ■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、ジクロロ
メタン：エタノール＝８＝１．３回展開）。無色泡状の
１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ）−（６−ビトロ
キシ−６−メチルへブチルオキシ）−９，１０−セコプ
レグナ−５，７，夏０（１９）−トリエン ６．３鵬ｇ
を得る。
，１２ｍ ｍｏｌ）ヲＴＨＦ ３１Ｇｍｌに溶解し、水
冷下、アルゴンガスをバブリングしながら、４００Ｗ高
圧水銀灯−バイコールフィルターを用い、２５分間光照
射する。次いでアルゴンガス気流下、２時間加熱還流す
る。減圧下溶媒を留去して得られる残渣を以下の精製工
程に付した。■フラッシュ・カラムクロマトグラフィー
（シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝ｌＯ：ｌ
） ■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、ジクロロ
メタン：エタノール＝８＝１．３回展開）。無色泡状の
１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ）−（６−ビトロ
キシ−６−メチルへブチルオキシ）−９，１０−セコプ
レグナ−５，７，夏０（１９）−トリエン ６．３鵬ｇ
を得る。
Ｈ−ＮＭＲ８δ： ０．５３ （３Ｈ，Ｓ） 、 １
．１５ （３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ ６．２Ｈ２）、１．２１
（ＯＨ，Ｓ） 、３．１２〜３．２８ （２Ｈ，ｍ）
、３．４７〜３．６０ （Ｉ Ｈ，ｍ）、４．１Ｇ 〜
４．２８ （Ｉ Ｈ，ｂｒ）、４．３Ｇ 〜４．４８
（Ｉ Ｈ，ｂｒ）、５．００ （ＩＨ，Ｓ） 、５．３
３ （ＩＨ，Ｓ） 、［ｉ、０２ （ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝璽１．４Ｈｚ） 、 ６．３８（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝１１．４Ｈ２）、ＭＳ （ｍ／ｚ） ：
４ＧＯ（Ｍ” ） 、５ｓ（１００％） 、 ＵＶ
λｗａｘ ｎｍ： ２６２、 λｗｉｎ ｎｍ
： ２２７゜実施例６ １）１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルシリルオキシ
）−プレグナ−５，７−ジエン−２０（Ｓ）オール１０
０−ｇ（０，１８薦腸ｏｌ） 、エチルアクリレート１
腸１（９，１９腸■０１）、水酸化ナトリウム（９５％
） ２．８３ｇ （６２，５＋ｗ ｍｏｌ）ｎ−Ｂ
ｏ３ ＮＯＨ（１０％ ｉｎ 水）４滴、キシレン５
■１１および水５１の混合物を激しく室温で１３時間撹
拌する。反応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出し、飽
和食塩水で洗浄する。
．１５ （３Ｈ，ｄ、Ｊ＝ ６．２Ｈ２）、１．２１
（ＯＨ，Ｓ） 、３．１２〜３．２８ （２Ｈ，ｍ）
、３．４７〜３．６０ （Ｉ Ｈ，ｍ）、４．１Ｇ 〜
４．２８ （Ｉ Ｈ，ｂｒ）、４．３Ｇ 〜４．４８
（Ｉ Ｈ，ｂｒ）、５．００ （ＩＨ，Ｓ） 、５．３
３ （ＩＨ，Ｓ） 、［ｉ、０２ （ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝璽１．４Ｈｚ） 、 ６．３８（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝１１．４Ｈ２）、ＭＳ （ｍ／ｚ） ：
４ＧＯ（Ｍ” ） 、５ｓ（１００％） 、 ＵＶ
λｗａｘ ｎｍ： ２６２、 λｗｉｎ ｎｍ
： ２２７゜実施例６ １）１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルシリルオキシ
）−プレグナ−５，７−ジエン−２０（Ｓ）オール１０
０−ｇ（０，１８薦腸ｏｌ） 、エチルアクリレート１
腸１（９，１９腸■０１）、水酸化ナトリウム（９５％
） ２．８３ｇ （６２，５＋ｗ ｍｏｌ）ｎ−Ｂ
ｏ３ ＮＯＨ（１０％ ｉｎ 水）４滴、キシレン５
■１１および水５１の混合物を激しく室温で１３時間撹
拌する。反応混合物に水を加え酢酸エチルで抽出し、飽
和食塩水で洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得ら
れる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル、ｎ−へキサン：酢酸エチル：１９：１）で精
製し、無色油状の１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−２０（Ｓ）−（２−エトキシ
カルボニルエチルオキシ）プレグナ−５，７−ジエン７
２１１ｇを得る。ＭＳ （ｍ／ ｚ ） ： ＧＧ
Ｏ（Ｍ” ）、 ４７１（１００％）。
れる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シ
リカゲル、ｎ−へキサン：酢酸エチル：１９：１）で精
製し、無色油状の１α、３β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルオキシ）−２０（Ｓ）−（２−エトキシ
カルボニルエチルオキシ）プレグナ−５，７−ジエン７
２１１ｇを得る。ＭＳ （ｍ／ ｚ ） ： ＧＧ
Ｏ（Ｍ” ）、 ４７１（１００％）。
■）前記ｉ）で得たエステル体８３ｉ１ｇ（０，１１１
ｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解し、水冷、窒素気流下に
てエチルマグネシウムブロマイド（１，ｏ１ｍｏｌ／ｌ
Ｉｎジエチルエーテル） ２．３ｍｌを滴下し、４
０分間撹拌、次いで室温で３時間撹拌する。水冷下、反
応混合物に飽和塩化アンモニウム水を加え、ジクロロメ
タンで抽出し、飽和食塩水で洗浄する。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣をプレ
パラティブＴＬＣ（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝４．９：１）で精製し、無色油状の１α、３β−
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ） −２
０（Ｓ） −（３−エチル−３−ヒドロキシペンチルオ
キシ）プレグナ−５，７−ジエ７３Ｇｍｇを得る。ＭＳ
（ｍ／ｚ）： ６７４（Ｍ＋）、４８５（）００％
）。
ｍｏｌ）をＴＨＦ３ｍｌに溶解し、水冷、窒素気流下に
てエチルマグネシウムブロマイド（１，ｏ１ｍｏｌ／ｌ
Ｉｎジエチルエーテル） ２．３ｍｌを滴下し、４
０分間撹拌、次いで室温で３時間撹拌する。水冷下、反
応混合物に飽和塩化アンモニウム水を加え、ジクロロメ
タンで抽出し、飽和食塩水で洗浄する。硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下溶媒を留去して得られる残渣をプレ
パラティブＴＬＣ（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル＝４．９：１）で精製し、無色油状の１α、３β−
ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ） −２
０（Ｓ） −（３−エチル−３−ヒドロキシペンチルオ
キシ）プレグナ−５，７−ジエ７３Ｇｍｇを得る。ＭＳ
（ｍ／ｚ）： ６７４（Ｍ＋）、４８５（）００％
）。
目１）前記１１）で得たエーテル体１２３■ｇ （０，
１８鵬ｍｏｌ）およびｎ−Ｂｕ４ＮＦ （１ｍｏｌ／ｌ
１ｎＴＨＦ） ２■ｌをＴ ＨＦ ｆｏｗｌに溶解し
、１６時間加熱還流する。
１８鵬ｍｏｌ）およびｎ−Ｂｕ４ＮＦ （１ｍｏｌ／ｌ
１ｎＴＨＦ） ２■ｌをＴ ＨＦ ｆｏｗｌに溶解し
、１６時間加熱還流する。
反応混合物を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で洗浄す
る。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去して得
られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝２５：２）
で精製し、白色泡状の１α、３β−ジヒドロキン−２０
（Ｓ） −（３−エチル−３−ヒドロキシペンチルオキ
シ）プレグナ−５，７−ジエン６９ｍｇを７与る。Ｉ
Ｒ（ＣＤＣ１３）ｃｍ−” ： ３１１ｉ２０、３
５５５、３０００、２９７０、２８１０１１４８０．
ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ４４Ｂ （Ｍ” ） 、５
Ｂ（１００％）。
る。硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去して得
られる残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝２５：２）
で精製し、白色泡状の１α、３β−ジヒドロキン−２０
（Ｓ） −（３−エチル−３−ヒドロキシペンチルオキ
シ）プレグナ−５，７−ジエン６９ｍｇを７与る。Ｉ
Ｒ（ＣＤＣ１３）ｃｍ−” ： ３１１ｉ２０、３
５５５、３０００、２９７０、２８１０１１４８０．
ＭＳ （ｍ／ｚ） ： ４４Ｂ （Ｍ” ） 、５
Ｂ（１００％）。
Ｉｖ）前記１ｉｉ）で得たジエン体１９ｍｇ（０，０４
ｍ ｍｏｌ）をＴ ＨＦ ２００ｍ１に溶解し、水冷後
アルゴンガスをバブリングしなから４００Ｗ高圧水銀灯
−バイコールフィルターを用い、１分間光照射する。次
いで窒素気流下、３時間加熱還流する。減圧上溶媒を留
去して得られる残渣を以下の精製工程に付す。
ｍ ｍｏｌ）をＴ ＨＦ ２００ｍ１に溶解し、水冷後
アルゴンガスをバブリングしなから４００Ｗ高圧水銀灯
−バイコールフィルターを用い、１分間光照射する。次
いで窒素気流下、３時間加熱還流する。減圧上溶媒を留
去して得られる残渣を以下の精製工程に付す。
■プレパラティブＴＬＣ（シリカゲル、ジクロロメタン
：エタノール：１２：１）、■プレパラティブＴＬＣ（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール：２０＝１．
３回展開）、■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、ｎ
−へキサン：酢酸エチル＝１ ： ３） 、無色泡状の
１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ） −（３−エチ
ル−３−ヒドロキシペンチルオキシ）−９，１０−セコ
プレグナ−５，７゜１０（１９）−トリエン０．５Ｂを
得る。 ’Ｈ−ＮＭＲδ：０．５３（３Ｈ，Ｓ）、０．
８４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝ ７ＪＨｚ） 、０．８５（３Ｈ
，ｓ） 、０．８９（３Ｈ，ｔｌＪ： ７．６ＨＺ ）
、４．９８ （Ｉ Ｈ，ｂｒｔ）、５．３２ （Ｉ
Ｈ。
：エタノール：１２：１）、■プレパラティブＴＬＣ（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール：２０＝１．
３回展開）、■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、ｎ
−へキサン：酢酸エチル＝１ ： ３） 、無色泡状の
１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ） −（３−エチ
ル−３−ヒドロキシペンチルオキシ）−９，１０−セコ
プレグナ−５，７゜１０（１９）−トリエン０．５Ｂを
得る。 ’Ｈ−ＮＭＲδ：０．５３（３Ｈ，Ｓ）、０．
８４（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝ ７ＪＨｚ） 、０．８５（３Ｈ
，ｓ） 、０．８９（３Ｈ，ｔｌＪ： ７．６ＨＺ ）
、４．９８ （Ｉ Ｈ，ｂｒｔ）、５．３２ （Ｉ
Ｈ。
ｂｒｔ ）、６．００ （Ｉ Ｈ，ｄ、 Ｊ ＝１２
．ＯＨＺ ） 、８．３Ｇ（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１２．０Ｈ
ｚ）。
．ＯＨＺ ） 、８．３Ｇ（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１２．０Ｈ
ｚ）。
ＭＳ （ｍ／ ｚ ） ： ４４Ｂ （Ｍ” ） 、
ｆ１７（１００％）、ＵＶλｗａｘ ｎｍ ： ２６３
、λｗｉｎ ｎｍ ： ２２７゜実施例７ １）前記実施例Ｅ３ｉ）で得たエステル体８００ｗ＋ｇ
（１，２１ｍ ｍｏｌ）をＴ ＨＦ ２０ｍ１に溶解し
、水冷、窒素気流下にて、ｎ−プロピルマグネシウムブ
ロマイド（２ｍｏｌ／ｌ １ｎＴＨＦ） ２７ｍ１を加
え、３１時間加熱還流する。水冷下、反応混合物に飽和
塩化アンモニウム水、ｎ−ヘキサンを加えた後濾過し、
ｎ−へキサン層を分取する。硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧上溶媒を留去して得られる残渣をフラッシュ・カ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１３：１）で精製し、無色油状の１α、３
β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−２０（Ｓ） −（３−ヒドロキシ−３−プロピルへキ
シルオキシ）プレグナ−５゜７−ジエン２８４■ｇを得
る。Ｉ Ｒ（ＣＤＣ１３） ａｍ−１： ３５００．２
Ｓ７０．２９４５．２７８０．１４４０．１２［ｉｏ、
ＭＳ（ｍ／ｚ） ： ７０２ （Ｍ” ’） 、
４０９（１００％）。
ｆ１７（１００％）、ＵＶλｗａｘ ｎｍ ： ２６３
、λｗｉｎ ｎｍ ： ２２７゜実施例７ １）前記実施例Ｅ３ｉ）で得たエステル体８００ｗ＋ｇ
（１，２１ｍ ｍｏｌ）をＴ ＨＦ ２０ｍ１に溶解し
、水冷、窒素気流下にて、ｎ−プロピルマグネシウムブ
ロマイド（２ｍｏｌ／ｌ １ｎＴＨＦ） ２７ｍ１を加
え、３１時間加熱還流する。水冷下、反応混合物に飽和
塩化アンモニウム水、ｎ−ヘキサンを加えた後濾過し、
ｎ−へキサン層を分取する。硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧上溶媒を留去して得られる残渣をフラッシュ・カ
ラムクロマトグラフィー（シリカゲル、ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１３：１）で精製し、無色油状の１α、３
β−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）
−２０（Ｓ） −（３−ヒドロキシ−３−プロピルへキ
シルオキシ）プレグナ−５゜７−ジエン２８４■ｇを得
る。Ｉ Ｒ（ＣＤＣ１３） ａｍ−１： ３５００．２
Ｓ７０．２９４５．２７８０．１４４０．１２［ｉｏ、
ＭＳ（ｍ／ｚ） ： ７０２ （Ｍ” ’） 、
４０９（１００％）。
１υ前記ｉ）で得たエーテル体２８４■ｇ （０，４０
腸ｍｏｌ）およびｎ−Ｂｕ４ＮＦ （１ｍｏｌ／］ ｊ
ｎＴＨＦ） ４■！をＴＨＦＩＯｓ＋Ｉに溶解し、１６
時間加熱還流する。
腸ｍｏｌ）およびｎ−Ｂｕ４ＮＦ （１ｍｏｌ／］ ｊ
ｎＴＨＦ） ４■！をＴＨＦＩＯｓ＋Ｉに溶解し、１６
時間加熱還流する。
反応混合物を酢酸エチルで希釈し、水で洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧上溶媒留去して得られ
る残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル、ジクロロメタン：エタノール＝２５：２）で精
製し、黄色油状の１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ
）−（３−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルへキシルオキ
シ）プレグナ−５゜７−ジエン６０ｍｇを得る。Ｉ Ｒ
（ｎｅａｔ） ｃｍ−” ：３４５０．３０００．２９
７０．２９２Ｇ、１４８Ｇ、１４００１１１７Ｇ、 Ｍ
Ｓ （ｍ／ｚ） ： ４７４ （Ｍ” ） 、３
１５（１００％）。
る残渣をフラッシュ・カラムクロマトグラフィー（シリ
カゲル、ジクロロメタン：エタノール＝２５：２）で精
製し、黄色油状の１α、３β−ジヒドロキン−２０（Ｓ
）−（３−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルへキシルオキ
シ）プレグナ−５゜７−ジエン６０ｍｇを得る。Ｉ Ｒ
（ｎｅａｔ） ｃｍ−” ：３４５０．３０００．２９
７０．２９２Ｇ、１４８Ｇ、１４００１１１７Ｇ、 Ｍ
Ｓ （ｍ／ｚ） ： ４７４ （Ｍ” ） 、３
１５（１００％）。
１ｉｉ）前記ｉｉ）で得たジエン体３９＋ｓｇ（０，０
８ｍ ｍａｔ）をＴ ＨＦ ２００ｍ１に溶解し、水冷
下アルゴンガスをバブリングしながら、４００Ｗ高圧水
銀灯−バイコールフィルターを用い、１．５分間光照射
する。次いで窒素気流下３時間加熱還流する。減圧上溶
媒を留去して得られる残渣を以下の精製工程に付す。
８ｍ ｍａｔ）をＴ ＨＦ ２００ｍ１に溶解し、水冷
下アルゴンガスをバブリングしながら、４００Ｗ高圧水
銀灯−バイコールフィルターを用い、１．５分間光照射
する。次いで窒素気流下３時間加熱還流する。減圧上溶
媒を留去して得られる残渣を以下の精製工程に付す。
■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、ジクロロメタン
：エタノール＝１２：１）％■プレパラティブＴＬＣ（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝：２０：
１．２回展開、■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１＝３）。無色泡状の１α
、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（３−ヒドロキシ
−３−ｎ−プロピルへキシルオキシ）−９，１０−セコ
プレグナ−５゜７、 １０（１９）−トリエン １．９
ｍｇを得る。 ＩＨ−ＮＭＲδ：０．５３（３Ｈ，ｓ）
、０．８８（６Ｈ，ｔｔ Ｊ＝６．８Ｈｚ） 、０
．９１ （３Ｈ，ｓ） 、 １．１８ （３Ｈ。
：エタノール＝１２：１）％■プレパラティブＴＬＣ（
シリカゲル、ジクロロメタン：エタノール＝：２０：
１．２回展開、■プレバラティブＴＬＣ（シリカゲル、
ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１＝３）。無色泡状の１α
、３β−ジヒドロキシ−２０（Ｓ）−（３−ヒドロキシ
−３−ｎ−プロピルへキシルオキシ）−９，１０−セコ
プレグナ−５゜７、 １０（１９）−トリエン １．９
ｍｇを得る。 ＩＨ−ＮＭＲδ：０．５３（３Ｈ，ｓ）
、０．８８（６Ｈ，ｔｔ Ｊ＝６．８Ｈｚ） 、０
．９１ （３Ｈ，ｓ） 、 １．１８ （３Ｈ。
ｄ、 Ｊ ＝ ８．１Ｈｚ） 、３．１７〜３．２８
（Ｉ Ｈ，ｍ）、３．３７〜３．４８（ＩＨ，ｍ）
、 ４．２３（ＩＨ，ｍ） 、４゜４４ （Ｉ Ｈ，ｍ
） 、４．９９ （Ｉ Ｈ，ｂｒｔ）、５．３３ （Ｉ
Ｈ。
（Ｉ Ｈ，ｍ）、３．３７〜３．４８（ＩＨ，ｍ）
、 ４．２３（ＩＨ，ｍ） 、４゜４４ （Ｉ Ｈ，ｍ
） 、４．９９ （Ｉ Ｈ，ｂｒｔ）、５．３３ （Ｉ
Ｈ。
ｂｒｔ）、６．０２（ＩＨ，ｄ、 Ｊ＝ＩＯ，９Ｈｚ
） 、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ＩＯ，９Ｈｚ） 、Ｍ
Ｓ （ｍ／ｚ）：４５Ｇ （Ｍ” −Ｈ２０）
、 ５４（１００％）、ＵＶ λｗａｘ ｎｍ：
２Ｇ３． λｗｉｎ ｎｍ ： ２２７゜手続補
正書 （方式） ％式％ ２、発明の名称 新規な２２−オキサビタミンＤ誘導体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都北区浮間５丁目 平成２年３月１２日 （全送日平成２年３月２７日） （注） 書類送付先及び連絡先 ５゜ 補正の対象 明細書 ６゜ 補正の内容 「願書に最初に添付した明細書の浄書 ・別紙のとおり（内容に変更なし）」
） 、６．３７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ＩＯ，９Ｈｚ） 、Ｍ
Ｓ （ｍ／ｚ）：４５Ｇ （Ｍ” −Ｈ２０）
、 ５４（１００％）、ＵＶ λｗａｘ ｎｍ：
２Ｇ３． λｗｉｎ ｎｍ ： ２２７゜手続補
正書 （方式） ％式％ ２、発明の名称 新規な２２−オキサビタミンＤ誘導体 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東京都北区浮間５丁目 平成２年３月１２日 （全送日平成２年３月２７日） （注） 書類送付先及び連絡先 ５゜ 補正の対象 明細書 ６゜ 補正の内容 「願書に最初に添付した明細書の浄書 ・別紙のとおり（内容に変更なし）」
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中ｎは１〜５であり、ｍ、ｍ’は０〜２である。但
しｎが２でｍ、ｍ’が共に０の場合を除く）で示される
２２−オキサビタミンＤ誘導体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1325488A JP3050564B2 (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | 新規な２２―オキサビタミンｄ誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1325488A JP3050564B2 (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | 新規な２２―オキサビタミンｄ誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03188061A true JPH03188061A (ja) | 1991-08-16 |
| JP3050564B2 JP3050564B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=18177437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1325488A Expired - Fee Related JP3050564B2 (ja) | 1989-12-15 | 1989-12-15 | 新規な２２―オキサビタミンｄ誘導体 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO1995027697A1 (en) * | 1994-04-11 | 1995-10-19 | Chugai Seiyaku Kabushiki Kaisha | 22-thiavitamin d3 derivative |
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1989
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| CN1046502C (zh) * | 1994-04-11 | 1999-11-17 | 中外制药株式会社 | 22－硫代维生素d3衍生物 |
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