JPH03189623A - 液晶セル用シール剤組成物 - Google Patents
液晶セル用シール剤組成物Info
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は液晶表示素子に用いられ結晶セル製造に際して
用いられシール剤組成物に関するものである。
用いられシール剤組成物に関するものである。
(従来の技術)
従来、液晶表示素子に用いられている液晶セルの透明導
電基板としては、ガラス上に酸化スズや酸化インジウム
等を蒸着やスパッタリングにより形成したものが用いら
れてきた。しかしガラス基板は割れやすいという欠点を
有しているため、薄型化、軽量化、大面積化など近年液
晶表示素子に要求される特徴を十分に満たすことは難し
かった。
電基板としては、ガラス上に酸化スズや酸化インジウム
等を蒸着やスパッタリングにより形成したものが用いら
れてきた。しかしガラス基板は割れやすいという欠点を
有しているため、薄型化、軽量化、大面積化など近年液
晶表示素子に要求される特徴を十分に満たすことは難し
かった。
そこで、ガラス基板の代わりに透明性を有する高分子フ
ィルム上に透明導電膜を形成したものを液晶表示素子の
基板として採用することが検討されてきている。
ィルム上に透明導電膜を形成したものを液晶表示素子の
基板として採用することが検討されてきている。
このような状況においてシール剤組成物に係る要求もガ
ラス基板を用いる場合とは様相を異にしており、具体的
には以下のことが要求されている。
ラス基板を用いる場合とは様相を異にしており、具体的
には以下のことが要求されている。
(1)プラスチックフィルム基板、透明導電膜、透明導
電膜の密着性を向上させるために設けられた下地層等と
の密着性に優れていること。
電膜の密着性を向上させるために設けられた下地層等と
の密着性に優れていること。
(2) プラスチックフィルム基板の採用のため、製
造工程、液晶セルの使用環境の変化などから、酸化物層
が適度の可とう性を有すること。
造工程、液晶セルの使用環境の変化などから、酸化物層
が適度の可とう性を有すること。
(3)量産化及び作業性の観点から適当な長さのポット
ライフを有し、また低温速硬化可能であること。
ライフを有し、また低温速硬化可能であること。
(4) スクリーン印刷性に優れていること。
(5)耐液晶性に優れていること。
(6)水蒸気、酸素等が液晶中に侵入することを防止で
きること。
きること。
(7)液晶の作動に関して電流値増大の原因になるイオ
ン性不純物を含まない硬化物層であること。
ン性不純物を含まない硬化物層であること。
(8) シール剤硬化物層に、にじみ出しや気泡残り
がないこと。
がないこと。
これらの要求に対して従来用いられてきたエポキシ〜ポ
リアミン、エポキシ−ポリアミド系のシール剤では満足
な結果は得られていなかった。
リアミン、エポキシ−ポリアミド系のシール剤では満足
な結果は得られていなかった。
(発明が解決しようとする課題)
本願発明者は、これらの諸要求を満足するため、鋭意研
究を行い、ポリチオール−エポキシ系の組成物の優れて
いることを見いだした。しかしながら、シール剤硬化工
程の加熱によるシール剤の粘度低下の結果起こるにじみ
出しや気泡残りのない良好な硬化物層を得るため、加圧
硬化に先立って行われるプリベータを厳密に管理する必
要があるという点で若干難点があるため、鋭意この点に
ついての改良検討を行い、酸化チタンとして硫酸法酸化
チタンを使用すると優れた改良効果があることを見いだ
し、本発明を完成するに至ったものである。
究を行い、ポリチオール−エポキシ系の組成物の優れて
いることを見いだした。しかしながら、シール剤硬化工
程の加熱によるシール剤の粘度低下の結果起こるにじみ
出しや気泡残りのない良好な硬化物層を得るため、加圧
硬化に先立って行われるプリベータを厳密に管理する必
要があるという点で若干難点があるため、鋭意この点に
ついての改良検討を行い、酸化チタンとして硫酸法酸化
チタンを使用すると優れた改良効果があることを見いだ
し、本発明を完成するに至ったものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、液晶セルの製造に用いられるシール剤であっ
て、その組成がエポキシ樹脂骨格中にリン酸エステル基
が含まれている液状エポキシ樹脂100重量部に対して
、ポリチオール系化合物80〜120重量部、硬化促進
剤0.1〜10重量部、無機充填剤10〜300重量部
であることを特徴とする液晶セル用シール剤組成物に関
するものである。
て、その組成がエポキシ樹脂骨格中にリン酸エステル基
が含まれている液状エポキシ樹脂100重量部に対して
、ポリチオール系化合物80〜120重量部、硬化促進
剤0.1〜10重量部、無機充填剤10〜300重量部
であることを特徴とする液晶セル用シール剤組成物に関
するものである。
通常の液晶セルにおいて、シール面は、用いる基板ある
いは透明導電膜の密着性を向上するために設けられた層
、及び透明導電膜(以下ITO膜と略記する)であるが
、ITO膜面が親水性表面のため、リン酸エステル基の
ないエポキシ系では密着性とゆう点で若干問題があった
。リン酸エステル基はITO膜との密着性に寄与するた
め、リン酸エステルを含有する液状エポキシ樹脂を使用
することにより、シール層の密着安定性が著しく向上す
る。
いは透明導電膜の密着性を向上するために設けられた層
、及び透明導電膜(以下ITO膜と略記する)であるが
、ITO膜面が親水性表面のため、リン酸エステル基の
ないエポキシ系では密着性とゆう点で若干問題があった
。リン酸エステル基はITO膜との密着性に寄与するた
め、リン酸エステルを含有する液状エポキシ樹脂を使用
することにより、シール層の密着安定性が著しく向上す
る。
また本発明においてポリチオール化合物としてはエポキ
シ樹脂との相溶性の良好な2個以上の一3H基を含有す
る化合物はすべて使用可能である。
シ樹脂との相溶性の良好な2個以上の一3H基を含有す
る化合物はすべて使用可能である。
具体的には以下のごとき化合物が単独もしくは併用して
用いられる。即ち2,2゛−ジメチルメルカプトジエチ
ルエーテル、ペンタエリスリトールβ−チオグリコレー
ト、グリセリンβ−チオグルコレート、ソルビトールβ
−チオグリコレート、トリスヒドロキンエチル(βチオ
ゲルコール)イソシアヌレート、トリスヒドロキシエチ
ル(メルカプトプロピル)イソシアヌレート等である。
用いられる。即ち2,2゛−ジメチルメルカプトジエチ
ルエーテル、ペンタエリスリトールβ−チオグリコレー
ト、グリセリンβ−チオグルコレート、ソルビトールβ
−チオグリコレート、トリスヒドロキンエチル(βチオ
ゲルコール)イソシアヌレート、トリスヒドロキシエチ
ル(メルカプトプロピル)イソシアヌレート等である。
リン酸エステルを含有する液状エポキシ樹脂100重量
部に対するポリチオール化合物の添加量は80〜120
重量部(好ましくは90〜110重量部)であり、80
重量部未満では硬化物層の可とう性が低下し、120重
量部以上では耐液晶性が低下する。
部に対するポリチオール化合物の添加量は80〜120
重量部(好ましくは90〜110重量部)であり、80
重量部未満では硬化物層の可とう性が低下し、120重
量部以上では耐液晶性が低下する。
次に本発明で用いられる硬化促進剤は酸無水物系エポキ
シ樹脂の硬化に際して用いられる促進剤はすべて使用で
きるが、2.4.6 トリ(ジメチルアミノメチル)
フェノールと分子内にエチレン性2重結合を有し且つ−
COOH基を有している化合物との塩が好ましい、シー
ル剤のポットライフと速硬化性は相反する特性であるが
、2,4.6 1−リ(ジメチルアミノメチル)フェノ
ールと分子内にエチレン性2重結合を有し且つ−COO
H基を有している化合物との塩を使用することにより、
適当な長さのポットライフを保持しつつ、低温速硬化性
も実現できる。リン酸エステルを含有する液状エポキシ
樹脂100重量部に対する硬化促進剤の添加量は0.1
〜10重量部(好ましくは0.3〜5重量部)であり、
0.1重量部未満では速硬化性が著しく低下し、10重
量部以上では適当なポットライフが得られない。
シ樹脂の硬化に際して用いられる促進剤はすべて使用で
きるが、2.4.6 トリ(ジメチルアミノメチル)
フェノールと分子内にエチレン性2重結合を有し且つ−
COOH基を有している化合物との塩が好ましい、シー
ル剤のポットライフと速硬化性は相反する特性であるが
、2,4.6 1−リ(ジメチルアミノメチル)フェノ
ールと分子内にエチレン性2重結合を有し且つ−COO
H基を有している化合物との塩を使用することにより、
適当な長さのポットライフを保持しつつ、低温速硬化性
も実現できる。リン酸エステルを含有する液状エポキシ
樹脂100重量部に対する硬化促進剤の添加量は0.1
〜10重量部(好ましくは0.3〜5重量部)であり、
0.1重量部未満では速硬化性が著しく低下し、10重
量部以上では適当なポットライフが得られない。
また印刷性、印刷時のにじみ防止とゆう観点から無機充
填剤の配合は不可欠であり、特に酸化チタン及びシリカ
が好ましい。酸化チタンとして、硫酸法酸化チタンを用
いると加圧硬化に先立って行われるプリベーク工程を厳
密に管理することなく、容易にシャープな直線性を有す
るにじみ出しや気泡残りのない良好な硬化物層を得るこ
とができる。リン酸エステルを含有する液状エポキシ樹
脂100重量部に対する無機充填剤の添加量は10〜3
00重量部(好ましくは50〜200重量部)であり、
10重量部未満ではスクリーン印刷性が著しく低下し、
300重量部以上では接着性が著しく低下する。
填剤の配合は不可欠であり、特に酸化チタン及びシリカ
が好ましい。酸化チタンとして、硫酸法酸化チタンを用
いると加圧硬化に先立って行われるプリベーク工程を厳
密に管理することなく、容易にシャープな直線性を有す
るにじみ出しや気泡残りのない良好な硬化物層を得るこ
とができる。リン酸エステルを含有する液状エポキシ樹
脂100重量部に対する無機充填剤の添加量は10〜3
00重量部(好ましくは50〜200重量部)であり、
10重量部未満ではスクリーン印刷性が著しく低下し、
300重量部以上では接着性が著しく低下する。
(実施例)
溶融押し出し法により製膜したポリエーテルスルホン(
以下PESと略記する)フィルムにアンダーコート処理
を施し、高周波マグネトロンスパッタリング装置を用い
て約300オングストロームの厚さにITO膜を形成し
、透明導電基板を作成した。該透明導電膜を6N−HC
Iでエツチングし、ITO膜のパターニングを行った0
次に、イミド系樹脂により配向膜を形成し、ラビング法
により配向処理を行った。
以下PESと略記する)フィルムにアンダーコート処理
を施し、高周波マグネトロンスパッタリング装置を用い
て約300オングストロームの厚さにITO膜を形成し
、透明導電基板を作成した。該透明導電膜を6N−HC
Iでエツチングし、ITO膜のパターニングを行った0
次に、イミド系樹脂により配向膜を形成し、ラビング法
により配向処理を行った。
一方、以下の配合にしたがい、シール剤の主剤及び硬化
剤を3本インクロールを用い混練して得た。
剤を3本インクロールを用い混練して得た。
(実施例1)
主剤(1)配合組成
硬化剤(1)配合組成
(実施例2)
実施例1において、硬化剤(1)配合組成中のポリチオ
ール化合物を2.2゛−ジメチルメルカプトジエチルエ
ーテルからトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートβ
マーキ+ブトプロピオネートに変更した硬化剤(2)を
作成した。
ール化合物を2.2゛−ジメチルメルカプトジエチルエ
ーテルからトリスヒドロキシエチルイソシアヌレートβ
マーキ+ブトプロピオネートに変更した硬化剤(2)を
作成した。
(比較例1)
実施例1において、硫酸法酸化チタンを塩素性酸化チタ
ンに変更した主剤(2)及び硬化剤(3)を作成した。
ンに変更した主剤(2)及び硬化剤(3)を作成した。
上記、主剤(1)〜(2)及び硬化剤(1)〜(3)を
100:90の割合で配合しスクリーン印刷により、印
刷幅0.5mm、印刷厚み20μmになるように、上部
フィルム基板に塗布した。これを、90℃、10〜20
分プリベークし、10μm径のギャップ剤(ポリマービ
ーズ)を散布した下部基板と重ね合わせ0.5g/dで
押圧して150℃、3時間加圧硬化して得たセルのシー
ル仕上がりについて表1に示す。
100:90の割合で配合しスクリーン印刷により、印
刷幅0.5mm、印刷厚み20μmになるように、上部
フィルム基板に塗布した。これを、90℃、10〜20
分プリベークし、10μm径のギャップ剤(ポリマービ
ーズ)を散布した下部基板と重ね合わせ0.5g/dで
押圧して150℃、3時間加圧硬化して得たセルのシー
ル仕上がりについて表1に示す。
表
1
表示体として有用な液晶セルであった。
(発明の効果)
得られたシール剤組成物は、加圧硬化に先立って行われ
るブリベーク工程を厳密に管理することなく、前記諸用
件を完全にクリヤーする優れた硬化シール層を形成する
ことができ好ましい。
るブリベーク工程を厳密に管理することなく、前記諸用
件を完全にクリヤーする優れた硬化シール層を形成する
ことができ好ましい。
Claims (3)
- (1)液晶セルの製造に用いられるシール剤であって、
その組成がエポキシ樹脂骨格中にリン酸エステル基が含
まれている液状エポキシ樹脂100重量部に対して、ポ
リチオール系化合物80〜120重量部、硬化促進剤0
.1〜10重量部、無機充填剤10〜300重量部であ
ることを特徴とする液晶セル用シール剤組成物。 - (2)硬化促進剤が2,4,6トリ(ジメチルアミノメ
チル)フェノールと分子内にエチレン性2重結合を有し
且つ−COOH基を有している化合物との塩である特許
請求の範囲第1項記載の液晶セル用シール剤組成物。 - (3)無機充填剤が酸化チタン及びシリカからなり、酸
化チタンが硫酸法酸化チタンである特許請求の範囲第1
項記載の液晶セル用シール剤組成物。
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP1328142A JP2801708B2 (ja) | 1989-12-20 | 1989-12-20 | 液晶セル用シール剤組成物 |
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| JP2801708B2 JP2801708B2 (ja) | 1998-09-21 |
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ID=18206967
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999040142A1 (en) * | 1998-02-04 | 1999-08-12 | Lord Corporation | Thiol-cured epoxy composition |
| EP1666526A4 (en) * | 2003-07-24 | 2006-12-06 | Nitto Denko Corp | RESIN COMPOSITION CONTAINING INORGANIC POWDER, FILM FORMING MATERIAL LAYER, TRANSFER SHEET, PROCESS FOR PRODUCING SUBSTRATE HAVING DIELECTRIC LAYER, AND SUBSTRATE HAVING DIELECTRIC LAYER |
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-
1989
- 1989-12-20 JP JP1328142A patent/JP2801708B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8048482B2 (en) | 2003-08-14 | 2011-11-01 | Akzo Nobel Coatings International B.V. | Paint comprising a liquid phase and an active powder phase |
Also Published As
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