JPH03192520A - 薄膜磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
薄膜磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03192520A JPH03192520A JP33150489A JP33150489A JPH03192520A JP H03192520 A JPH03192520 A JP H03192520A JP 33150489 A JP33150489 A JP 33150489A JP 33150489 A JP33150489 A JP 33150489A JP H03192520 A JPH03192520 A JP H03192520A
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- JP
- Japan
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- surface roughness
- medium
- recording medium
- film magnetic
- magnetic recording
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、情報処理システムの外部記憶装置として使
用される固定磁気ディスク装置に適用される薄膜磁気記
録媒体の製造方法に関する。
用される固定磁気ディスク装置に適用される薄膜磁気記
録媒体の製造方法に関する。
薄膜磁気記録媒体（以下、単に媒体とも称する）は、一
般に、ＡＩ合金基板表面を所定の平面度。
般に、ＡＩ合金基板表面を所定の平面度。
平行度９表面粗さに加工し、その表面にアルマイト処理
、 Ｎ１−Ｐ合金無電解めっき処理などを施して表面層
を形成して非磁性基板とし、この非磁性基板の表面を所
望の表面粗さに研磨仕上げした後精密洗浄を施し、その
上にスパッタ法により磁性を強化するためのＣｒなどか
らなる非磁性金属下地層Ｃｏ合金などの強磁性金属から
なる薄膜磁性層、磁性層を腐食などから保護しかつ媒体
表面に潤滑性能を付与するためのＣなどからなる保護層
を順次形成し、ヘッドバニッシなどにより保護層表面を
バニッシして平滑化して作製される。
、 Ｎ１−Ｐ合金無電解めっき処理などを施して表面層
を形成して非磁性基板とし、この非磁性基板の表面を所
望の表面粗さに研磨仕上げした後精密洗浄を施し、その
上にスパッタ法により磁性を強化するためのＣｒなどか
らなる非磁性金属下地層Ｃｏ合金などの強磁性金属から
なる薄膜磁性層、磁性層を腐食などから保護しかつ媒体
表面に潤滑性能を付与するためのＣなどからなる保護層
を順次形成し、ヘッドバニッシなどにより保護層表面を
バニッシして平滑化して作製される。
固定磁気ディスク装置では、通常Ｃ３５（Ｃｏｎｔａｃ
ｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られるために、媒
体表面は磁気ヘッドの安定した低浮上走行が実現できか
つ、摩擦係数が小さくて磁気ヘッドとの摺動が円滑に行
われるように、適切に微細にあれだ表面形状であること
が要求される。
ｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）方式が採られるために、媒
体表面は磁気ヘッドの安定した低浮上走行が実現できか
つ、摩擦係数が小さくて磁気ヘッドとの摺動が円滑に行
われるように、適切に微細にあれだ表面形状であること
が要求される。
これに対処するために、従来、媒体の各層（いずれも厚
さ数百人〜千Ａ程度の薄膜である）の支持体となる非磁
性基板の表面形状を制御することにより、得られる媒体
の表面を所要の表面形状としようとする方法が採られて
きた。
さ数百人〜千Ａ程度の薄膜である）の支持体となる非磁
性基板の表面形状を制御することにより、得られる媒体
の表面を所要の表面形状としようとする方法が採られて
きた。
上述の従来の方法では、非磁性基板の表面形状を一定に
してもスパッタ法で形成される媒体各層の膜質により得
られる媒体の表面形状が異なってくるという問題がある
。スパッタ成膜時に膜質を左右する要因は数多くあり、
それらをすべて一定に制御することはできず、主要な要
因をスパッタ条件として制御しても膜質にばらつきが生
じ、また、スパッタ条件のばらつきによっても膜質にば
らつきが生じ、得られる媒体の表面形状にばらつきが生
じることになる。
してもスパッタ法で形成される媒体各層の膜質により得
られる媒体の表面形状が異なってくるという問題がある
。スパッタ成膜時に膜質を左右する要因は数多くあり、
それらをすべて一定に制御することはできず、主要な要
因をスパッタ条件として制御しても膜質にばらつきが生
じ、また、スパッタ条件のばらつきによっても膜質にば
らつきが生じ、得られる媒体の表面形状にばらつきが生
じることになる。
この発明は、上述の問題点を解消して、その表面粗さを
よりばらつき少なく制御することが可能な薄膜磁気記録
媒体の製造方法を提供することを課題とする。
よりばらつき少なく制御することが可能な薄膜磁気記録
媒体の製造方法を提供することを課題とする。
上記の課題を解決するために、この発明によれば、非磁
性基板の表面を粗面化し洗浄したのち、この非磁性基板
上にスパッタ法により非磁性金属下地層１強磁性金属薄
膜磁性層、保護層を順次成膜積層する薄膜磁気記録媒体
の製造方法において、非磁性基板の洗浄後スパッタ投入
までの放置時間を制御する。
性基板の表面を粗面化し洗浄したのち、この非磁性基板
上にスパッタ法により非磁性金属下地層１強磁性金属薄
膜磁性層、保護層を順次成膜積層する薄膜磁気記録媒体
の製造方法において、非磁性基板の洗浄後スパッタ投入
までの放置時間を制御する。
このような放置は常温、常湿（温度的２０℃、相対湿度
約４０％）の雰囲気中でよいが、これに限定されるもの
ではない。常温、常湿雰囲気の場合、風速０．５ｍ／秒
程度の風があるとより好ましい。
約４０％）の雰囲気中でよいが、これに限定されるもの
ではない。常温、常湿雰囲気の場合、風速０．５ｍ／秒
程度の風があるとより好ましい。
本発明者は、非磁性基板の表面粗さと、その上にスパッ
タ法で磁性層などを成膜して得られる媒体の表面粗さと
の関係を追求した結果、非磁性基板の洗浄後スパッタ投
入までの放置時間が大きく影響することを見いだした。
タ法で磁性層などを成膜して得られる媒体の表面粗さと
の関係を追求した結果、非磁性基板の洗浄後スパッタ投
入までの放置時間が大きく影響することを見いだした。
これには放置により非磁性基板表面に形成される吸着層
が関係すると考えられる。放置時間が短く、吸着層が薄
い状態でスパッタが行われると、得られる媒体の表面粗
さは非磁性基板の表面粗さとほぼ等しいが、放置時間が
長くなり、吸着層が厚い状態でスパッタが行われると、
得られる媒体の表面粗さは非磁性基板の表面粗、さの数
倍にもあらくなる。
が関係すると考えられる。放置時間が短く、吸着層が薄
い状態でスパッタが行われると、得られる媒体の表面粗
さは非磁性基板の表面粗さとほぼ等しいが、放置時間が
長くなり、吸着層が厚い状態でスパッタが行われると、
得られる媒体の表面粗さは非磁性基板の表面粗、さの数
倍にもあらくなる。
非磁性基板の表面粗さを一定とした場合、前記放置時間
を制御することにより得られる媒体の表面粗さを制御す
ることができる。また、前記放置時間を一定とした場合
、非磁性基板の表面粗さを制御することにより得られる
媒体の表面粗さを制御することが可能である。
を制御することにより得られる媒体の表面粗さを制御す
ることができる。また、前記放置時間を一定とした場合
、非磁性基板の表面粗さを制御することにより得られる
媒体の表面粗さを制御することが可能である。
以下、この発明の実施例について説明する。
実施例１
へ１合金基板の表面に無電解めっき法で膜厚的１４μｍ
のＮ１−Ｐ合金層を形成し、このＮ１−Ｐ合金層表面を
２〜３μｍ研磨して表面粗さが中心線平均粗さＲａで
６８人、最表面の形状を示すΔＣｖ （１０％１％）で
７７人の非磁性基板とする。
のＮ１−Ｐ合金層を形成し、このＮ１−Ｐ合金層表面を
２〜３μｍ研磨して表面粗さが中心線平均粗さＲａで
６８人、最表面の形状を示すΔＣｖ （１０％１％）で
７７人の非磁性基板とする。
この非磁性基板に精密洗浄を施し、直後にその上にスパ
ッタ法で成膜を行う。非磁性基板温度を２００℃に加熱
し、ＤＣマグネトロン方式のスパッタ法でＣｒ下地層（
スパッタパワー８００Ｗ） 、 Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金
磁性層（スパッタパワー７５０ｗ）、 ａ−Ｃ保護層（
スパッタパワー３４００１１）を順次成膜積層して媒体
サンプルＮα１−１を作製した。この媒体の表面粗さは
Ｒａで６７人、ΔＣｖ（１０％−１％）で１２６人であ
り、非磁性基板の表面粗さに比べてＲａはほとんど変わ
らないがΔＣＶ （１０％−１％）はあらくなる傾向に
ある。
ッタ法で成膜を行う。非磁性基板温度を２００℃に加熱
し、ＤＣマグネトロン方式のスパッタ法でＣｒ下地層（
スパッタパワー８００Ｗ） 、 Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金
磁性層（スパッタパワー７５０ｗ）、 ａ−Ｃ保護層（
スパッタパワー３４００１１）を順次成膜積層して媒体
サンプルＮα１−１を作製した。この媒体の表面粗さは
Ｒａで６７人、ΔＣｖ（１０％−１％）で１２６人であ
り、非磁性基板の表面粗さに比べてＲａはほとんど変わ
らないがΔＣＶ （１０％−１％）はあらくなる傾向に
ある。
表面粗さは■小板研究所製表面粗さ計ＡＳ−３０ＨＫで
調べた。そのときの非磁性基板表面粗さプロファイルを
第５図に、媒体表面粗さプロファイルを第６図に示す。
調べた。そのときの非磁性基板表面粗さプロファイルを
第５図に、媒体表面粗さプロファイルを第６図に示す。
次に、媒体サンプルＮα１−１に用いたのと同じ表面粗
さの非磁性基板を用い、精密洗浄後スパッタ投入まで常
温常湿（温度的２０℃、相対湿度約４０％）のクリーン
ルーム内に風速０．５ｍ／秒の風をあてた状態で１２時
間放胃後、媒体サンプル？ＪＣＬ１−１の場合と同様に
して媒体サンプルＮα１−２を作製した。得られた媒体
の表面粗さはＲａで７７人、ΔＣＶ（１０％−１％）で
２１４人であり、非磁性基板表面粗゛さに比べてＲａの
変化は少ないがΔＣＶ（１０％−１％）はかなり大きく
変化していた。媒体サンプルＮ１１１−２の表面粗さプ
ロファイルを第７図に示すが、第６図に比べて図での上
方向への山の数が多く、かつ、高くなっていることが判
る。
さの非磁性基板を用い、精密洗浄後スパッタ投入まで常
温常湿（温度的２０℃、相対湿度約４０％）のクリーン
ルーム内に風速０．５ｍ／秒の風をあてた状態で１２時
間放胃後、媒体サンプル？ＪＣＬ１−１の場合と同様に
して媒体サンプルＮα１−２を作製した。得られた媒体
の表面粗さはＲａで７７人、ΔＣＶ（１０％−１％）で
２１４人であり、非磁性基板表面粗゛さに比べてＲａの
変化は少ないがΔＣＶ（１０％−１％）はかなり大きく
変化していた。媒体サンプルＮ１１１−２の表面粗さプ
ロファイルを第７図に示すが、第６図に比べて図での上
方向への山の数が多く、かつ、高くなっていることが判
る。
次に、非磁性基板の精密洗浄後スパッタ投入までの放置
時間を２４時間、３６時間、４８時間、７２時間と変化
させたこと以外は、媒体サンプルＮα１２の場合と同様
にして、媒体サンプルＮα１−３゜Ｎ［１１−４、Ｎ（
Ｌ １−５ 、 ＮｃＬｌ −６を作製し、大幅な変動
が予想される各媒体表面粗さΔＣｖ （１０％１％）を
調べた。
時間を２４時間、３６時間、４８時間、７２時間と変化
させたこと以外は、媒体サンプルＮα１２の場合と同様
にして、媒体サンプルＮα１−３゜Ｎ［１１−４、Ｎ（
Ｌ １−５ 、 ＮｃＬｌ −６を作製し、大幅な変動
が予想される各媒体表面粗さΔＣｖ （１０％１％）を
調べた。
以上のようにして得られた非磁性基板の精密洗浄後スパ
ッタ投入までの放置時間と表面粗さΔＣｖ（１０％−１
％）との関係を、第１図に横軸に放置時間、縦軸に△Ｃ
ｖ （１０％−１％）をとったときの線図で示す。第１
図より、非磁性基板の表面粗さを一定とした場合、放置
時間を制御することにより媒体のΔＣｖ （１０％−１
％）を制御することができ、媒体のＲａは非磁性基板の
Ｒａとあまり変化しないことから、放置時間を制御する
ことにより媒体の表面粗さが制御できることが判る。
ッタ投入までの放置時間と表面粗さΔＣｖ（１０％−１
％）との関係を、第１図に横軸に放置時間、縦軸に△Ｃ
ｖ （１０％−１％）をとったときの線図で示す。第１
図より、非磁性基板の表面粗さを一定とした場合、放置
時間を制御することにより媒体のΔＣｖ （１０％−１
％）を制御することができ、媒体のＲａは非磁性基板の
Ｒａとあまり変化しないことから、放置時間を制御する
ことにより媒体の表面粗さが制御できることが判る。
また、これらの媒体サンプルについてミッシングパルス
エラー発生状況を調べた。その結果より、放置時間とミ
ッシングエラーの平均エラー数との関係を第２図に示す
。放置時間の増大に伴い、平均エラー数の増加が懸念さ
れたが、７２時間程度の放置ではほとんど増加しなかっ
た。
エラー発生状況を調べた。その結果より、放置時間とミ
ッシングエラーの平均エラー数との関係を第２図に示す
。放置時間の増大に伴い、平均エラー数の増加が懸念さ
れたが、７２時間程度の放置ではほとんど増加しなかっ
た。
実施例２
実施例１において、Ｃｒ下地層のスパッタパワーを１０
０Ｈに変えたこと以外は実施例１と同様にして、媒体サ
ンプルＮα２−１〜Ｎα２−６を作製した。
０Ｈに変えたこと以外は実施例１と同様にして、媒体サ
ンプルＮα２−１〜Ｎα２−６を作製した。
これらの媒体について、媒体表面のΔＣｖ （１０％−
１％）とミッシングパルスエラーの発生状況を調べた。
１％）とミッシングパルスエラーの発生状況を調べた。
その結果により、放置時間とΔＣｖ （１０％−１％）
の関係を第３図に、放置時間とミッシングパルスエラー
の平均エラー数との関係を第４図に示す。
の関係を第３図に、放置時間とミッシングパルスエラー
の平均エラー数との関係を第４図に示す。
第３図、第４図とそれぞれ対応する第１図、第２図とよ
り、スパッタ条件が変わっても、非磁性基板の精密洗浄
後スパッタ投入までの放置時間と得られた媒体の表面粗
さとの関係およびミッシングエラーの発生状況との関係
はその傾向は変わらないことが判る。
り、スパッタ条件が変わっても、非磁性基板の精密洗浄
後スパッタ投入までの放置時間と得られた媒体の表面粗
さとの関係およびミッシングエラーの発生状況との関係
はその傾向は変わらないことが判る。
〔発明の効果〕
この発明によれば、薄膜磁気記録媒体の製造方法におい
て、非磁性基板の洗浄後スパッタ投入までの放置時間を
制御することにより得られる媒体の表面粗さを制御する
ことが可能となり、表面粗さが一定でばらつきの少ない
薄膜磁気記録媒体を安定して量産することが可能となる
。
て、非磁性基板の洗浄後スパッタ投入までの放置時間を
制御することにより得られる媒体の表面粗さを制御する
ことが可能となり、表面粗さが一定でばらつきの少ない
薄膜磁気記録媒体を安定して量産することが可能となる
。
第１図および第２図はこの発明の一実施例に関するもの
で、第１図は放置時間と媒体の表面粗さΔＣｖ （１０
％−１％）との関係を示す線図、第２図は放置時間と媒
体のミッシングエラーの平均エラー数との関係を示す線
図、第３図および第４図は異なる実施例に関するもので
、第３図は放ぼ時間と媒体の表面粗さΔＣｖ （１０％
−１％）との関係を示す線図、第４図は放置時間と媒体
のミッシングエラーの平均エラー数との関係を示す線図
、第５図は非磁性基板の表面粗さのプロファイルの一例
を示す線図、第６図は第５図に示した表面粗さの非磁性
基板を用い放置時間０で作製した媒体の表面粗さのプロ
ファイルを示す線図、第７図は第５図に示した表面粗さ
の非磁性基板を用い放置時間１２時間で作製した媒体の
表面粗さのプロファイル放置時間（時） 第１図 放置時間（時） 第２図 放置時間（時） 第 図 放置時間（時） 第４図
で、第１図は放置時間と媒体の表面粗さΔＣｖ （１０
％−１％）との関係を示す線図、第２図は放置時間と媒
体のミッシングエラーの平均エラー数との関係を示す線
図、第３図および第４図は異なる実施例に関するもので
、第３図は放ぼ時間と媒体の表面粗さΔＣｖ （１０％
−１％）との関係を示す線図、第４図は放置時間と媒体
のミッシングエラーの平均エラー数との関係を示す線図
、第５図は非磁性基板の表面粗さのプロファイルの一例
を示す線図、第６図は第５図に示した表面粗さの非磁性
基板を用い放置時間０で作製した媒体の表面粗さのプロ
ファイルを示す線図、第７図は第５図に示した表面粗さ
の非磁性基板を用い放置時間１２時間で作製した媒体の
表面粗さのプロファイル放置時間（時） 第１図 放置時間（時） 第２図 放置時間（時） 第 図 放置時間（時） 第４図
Claims (1)
- １）非磁性基板の表面を粗面化し洗浄したのちこの非磁
性基板上にスパッタ法により非磁性金属下地層、強磁性
金属薄膜磁性層、保護層を順次成膜積層する薄膜磁気記
録媒体の製造方法において、非磁性基板の洗浄後スパッ
タ投入までの放置時間を制御することにより得られる薄
膜磁気記録媒体の表面粗さを制御することを特徴とする
薄膜磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33150489A JPH03192520A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33150489A JPH03192520A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03192520A true JPH03192520A (ja) | 1991-08-22 |
Family
ID=18244378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33150489A Pending JPH03192520A (ja) | 1989-12-21 | 1989-12-21 | 薄膜磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03192520A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255821A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-24 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用基盤の変色防止法 |
-
1989
- 1989-12-21 JP JP33150489A patent/JPH03192520A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63255821A (ja) * | 1987-04-13 | 1988-10-24 | Kobe Steel Ltd | 磁気デイスク用基盤の変色防止法 |
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