JPH03196602A - Ni―Zn系フェライトの製造方法 - Google Patents
Ni―Zn系フェライトの製造方法Info
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- JPH03196602A JPH03196602A JP1337478A JP33747889A JPH03196602A JP H03196602 A JPH03196602 A JP H03196602A JP 1337478 A JP1337478 A JP 1337478A JP 33747889 A JP33747889 A JP 33747889A JP H03196602 A JPH03196602 A JP H03196602A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は軟質磁性材料であるNL−Zn系フェライト
の製造方法に関するものである。
の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
これまでのNi−Zn系フェライトは、Ni−Zn系の
フェライト原料を仮焼成してフェライト化し、このフェ
ライト化したものを粉砕し、バインダーを加えて所定の
形状に成形し、その後、本焼成することによって製造さ
れていた。
フェライト原料を仮焼成してフェライト化し、このフェ
ライト化したものを粉砕し、バインダーを加えて所定の
形状に成形し、その後、本焼成することによって製造さ
れていた。
ここで、N 1−Zn系のフェライト原料としては1例
えば、酸化鉄(Feよ03)、酸化ニッケル(Nip)
、酸化亜鉛(ZnO)および酸化銅(Cub)を主成分
原料とする組成物が用いられていた。
えば、酸化鉄(Feよ03)、酸化ニッケル(Nip)
、酸化亜鉛(ZnO)および酸化銅(Cub)を主成分
原料とする組成物が用いられていた。
また、仮焼成は、上記のようなN 1−Zn系のフェラ
イト原料をフェライト化するために必要な850〜10
00℃の温度で行なわれていた。
イト原料をフェライト化するために必要な850〜10
00℃の温度で行なわれていた。
また、本焼成は、成形したものを焼結させるために必要
な1000〜1300℃の温度で行なわれていた。
な1000〜1300℃の温度で行なわれていた。
[考案が解決しようとする課題]
ところで、従来は、比透磁率μやQ値
(quality factor 1 / tnaδ
)の大きい、また機械的強度の高いフェライトを製造す
るために、フェライト原料の主成分原料中に酸化物(s
fog 、 B is Os l vs Os I
Mg0)や炭酸塩(CaCOs )などを添加すること
が行われていた。
)の大きい、また機械的強度の高いフェライトを製造す
るために、フェライト原料の主成分原料中に酸化物(s
fog 、 B is Os l vs Os I
Mg0)や炭酸塩(CaCOs )などを添加すること
が行われていた。
しかし、主成分原料中にこれらの酸化物や炭酸塩を添加
して、例えば、比透磁率μの大きいフェライトを′製造
しようとすると、製造されたフェライトのQ値が小さく
なってしまい、また、Q値の大きいフェライトを製造し
ようとすると、製造されたフェライトの比透磁率μが低
下してしまった。
して、例えば、比透磁率μの大きいフェライトを′製造
しようとすると、製造されたフェライトのQ値が小さく
なってしまい、また、Q値の大きいフェライトを製造し
ようとすると、製造されたフェライトの比透磁率μが低
下してしまった。
すなわち、従来の製造方法では、比透磁率UとQ値とが
共に大きいフェライトを製造することができなかった。
共に大きいフェライトを製造することができなかった。
この発明は、比透磁率μとQ値とが共に大きいN 1−
Zn系フェライトを製造することができる方法を得るこ
とを目的とするものである。
Zn系フェライトを製造することができる方法を得るこ
とを目的とするものである。
[課題を解決するための手段]
この発明に係るN 1−Zn系フェライトの製造方法は
、N 1−Zn系のフェライト原料を仮焼成してフェラ
イト化させるフェライト化工程と、このフェライト化工
程において得られたものを粉砕する粉砕工程と、この粉
砕工程において得られたものを成形する成形工程と、こ
の成形工程において得られたものを本焼成して焼結させ
る焼結工程とを備えたN 1−Zn系フェライトの製造
方法において、前記フェライト原料中に塩化物を含有せ
しめることにより上記課題を解決したものである。
、N 1−Zn系のフェライト原料を仮焼成してフェラ
イト化させるフェライト化工程と、このフェライト化工
程において得られたものを粉砕する粉砕工程と、この粉
砕工程において得られたものを成形する成形工程と、こ
の成形工程において得られたものを本焼成して焼結させ
る焼結工程とを備えたN 1−Zn系フェライトの製造
方法において、前記フェライト原料中に塩化物を含有せ
しめることにより上記課題を解決したものである。
ここで、N 1−Zn系のフェライト原料としては、酸
化鉄(FexO3) 酸化ニッケル(Nip)および酸
化亜鉛(ZnO)を主成分原料とする組成物、または酸
化鉄(FeオOS)、酸化ニッケル(Nip)、酸化亜
鉛(ZnO)および酸化銅(Cub)を主成分原料とす
る組成物を用いることができる。
化鉄(FexO3) 酸化ニッケル(Nip)および酸
化亜鉛(ZnO)を主成分原料とする組成物、または酸
化鉄(FeオOS)、酸化ニッケル(Nip)、酸化亜
鉛(ZnO)および酸化銅(Cub)を主成分原料とす
る組成物を用いることができる。
なお、これらの組成物には、フェライトの機械的強度を
高めるために、更に、酸化物(例えば、B i * O
s V* Os PbO+ B* Os *C
ab、S i Ox + MgO,L i Os等)や
炭酸塩(例えば、Ca COs等)を加えても良い。
高めるために、更に、酸化物(例えば、B i * O
s V* Os PbO+ B* Os *C
ab、S i Ox + MgO,L i Os等)や
炭酸塩(例えば、Ca COs等)を加えても良い。
上記したフェライト原料は混合・粉砕した後に仮焼成し
てフェライト化させる。
てフェライト化させる。
前記フェライト化とは、仮焼成による加熱で前記フェラ
イト原料の組成物が相互に反応してスピネル構造になる
ことをいう。
イト原料の組成物が相互に反応してスピネル構造になる
ことをいう。
Ni−Zn系のフェライト原料は、仮焼成において75
0〜850℃で焼成すればフェライト化させることがで
きる。
0〜850℃で焼成すればフェライト化させることがで
きる。
成形工程において得られたものは、本焼成において90
0〜1100℃で焼成すれば焼結させることができる。
0〜1100℃で焼成すれば焼結させることができる。
フェライト原料中に含有させる塩化物としては、塩化亜
鉛(ZnC1,)、塩化アルミニウム(AICli、塩
化カリウム(KCI)、塩化スズ(S n Cl x
) 、塩化鉄(FeC1,。
鉛(ZnC1,)、塩化アルミニウム(AICli、塩
化カリウム(KCI)、塩化スズ(S n Cl x
) 、塩化鉄(FeC1,。
F e C1s ) 塩化銅(Cu Cl m )塩
化ナトリウム(NaCl) 塩化ニッケル(N i
C1* ) 塩化マグネシウム(MgC1重)、塩化
マンガン(M n C1* *M n Cl 4 )
、塩化リチウム(LiCl)からなる群より選択された
1種または2種以上の化合物を用いることができる。
化ナトリウム(NaCl) 塩化ニッケル(N i
C1* ) 塩化マグネシウム(MgC1重)、塩化
マンガン(M n C1* *M n Cl 4 )
、塩化リチウム(LiCl)からなる群より選択された
1種または2種以上の化合物を用いることができる。
前記フェライト原料中に含有せしめた塩化物の量は、仮
焼成によってフェライト化する主成分原料の0.05〜
3.0wt%が好ましい。
焼成によってフェライト化する主成分原料の0.05〜
3.0wt%が好ましい。
塩化物の含有量が、前記主成分原料の0.05wt%未
満、および3.0wt%を越えた場合は、比透磁率μと
Q値が共に大きいフェライトを製造することができない
が、塩化物の含有量を、前記主成分原料の0,05〜3
.0wt%とすれば比透磁率μとQ値が共に大きいフェ
ライトを製造することができるからである。
満、および3.0wt%を越えた場合は、比透磁率μと
Q値が共に大きいフェライトを製造することができない
が、塩化物の含有量を、前記主成分原料の0,05〜3
.0wt%とすれば比透磁率μとQ値が共に大きいフェ
ライトを製造することができるからである。
[実施例]
次に、この発明の実施例について説明する。
■まず、フェライト原料中に塩化物を含有させてフェラ
イトを製造すると、製造されたフェライトの比透磁率μ
およびQ値が共に大きくなることを、フェライト原料中
に酸化物や炭酸塩を含有させてフェライトを製造した場
合と比較して明らかにする(実施例1〜13、比較例1
〜6)。
イトを製造すると、製造されたフェライトの比透磁率μ
およびQ値が共に大きくなることを、フェライト原料中
に酸化物や炭酸塩を含有させてフェライトを製造した場
合と比較して明らかにする(実施例1〜13、比較例1
〜6)。
(実施例1〜13)
第1図はこの発明の一実施例を示す工程図である。
以下、この工程図を参照しながら、実施例1〜13につ
いて説明する。
いて説明する。
まず、配合1に示す組成の主成分原料に、第1表の実施
例1〜13に示す塩化物を同表に示す量だけ各々添加し
て、各フェライト原料を各々調合した。
例1〜13に示す塩化物を同表に示す量だけ各々添加し
て、各フェライト原料を各々調合した。
配合1
次に、このようにして調合したフェライト原料に、フェ
ライト原料500g当り水を10100O加え、ボール
ミルで10hr混合してスラリー状にし、このスラリー
状になったものを、スプレードライヤーから噴出させて
乾燥させ、粉末状の組成物を得た。
ライト原料500g当り水を10100O加え、ボール
ミルで10hr混合してスラリー状にし、このスラリー
状になったものを、スプレードライヤーから噴出させて
乾燥させ、粉末状の組成物を得た。
次に、この粉末状の組成物を、750℃の温度で2時間
、仮焼成してフェライト化させ、このフェライト化させ
たものをボールミル中に入れ、バインダー(PVA)を
加えて、10hr粉砕混合した。
、仮焼成してフェライト化させ、このフェライト化させ
たものをボールミル中に入れ、バインダー(PVA)を
加えて、10hr粉砕混合した。
次に、ボールミル中で粉砕混合したものをスプレードラ
イヤーから噴出させて乾燥させ、粉末状の組成物を得、
この粉末状の組成物をトロイダル状に成形し、大気中に
おいて、900℃の温度で2時間、本焼成してフェライ
トコアを得た。
イヤーから噴出させて乾燥させ、粉末状の組成物を得、
この粉末状の組成物をトロイダル状に成形し、大気中に
おいて、900℃の温度で2時間、本焼成してフェライ
トコアを得た。
次に、このフェライトコアに0.3n+mφの被覆導線
を60回巻き、このフェライトコアのインダクタンスし
およびQをインピーダンスアナライザで測定し、得られ
たL値とコアの寸法形状とから比透磁率μを算出した。
を60回巻き、このフェライトコアのインダクタンスし
およびQをインピーダンスアナライザで測定し、得られ
たL値とコアの寸法形状とから比透磁率μを算出した。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第1表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
第1表
(比較例1〜6)
配合1に示す組成(主成分原料のみ)からなるフェライ
ト原料を調合し、また配合1に示す組成の主成分原料に
、第2表の比較例2〜6に示す酸化物または炭酸塩を同
表に示す量だけ添加して、他のフェライト原料を各々調
合した。
ト原料を調合し、また配合1に示す組成の主成分原料に
、第2表の比較例2〜6に示す酸化物または炭酸塩を同
表に示す量だけ添加して、他のフェライト原料を各々調
合した。
次に、これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13
と同様にして各フェライトの比透磁率LL、Q値および
μQ積を求めた。
と同様にして各フェライトの比透磁率LL、Q値および
μQ積を求めた。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第2表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
■次に、塩化物を添加したフェライト原料を用いてフェ
ライトを製造すると、製造されたフェライトの比透磁率
μおよびQ値が、主原料の組成に関わりなく、共に大き
くなることを明らかにする(実施例1〜26)。
ライトを製造すると、製造されたフェライトの比透磁率
μおよびQ値が、主原料の組成に関わりなく、共に大き
くなることを明らかにする(実施例1〜26)。
(実施例14〜26)
配合2に示す組成の主成分原料に、第3表の実施例14
〜26に示す塩化物を同表に示す量だけ各々添加して、
各フェライト原料を各々調合した。
〜26に示す塩化物を同表に示す量だけ各々添加して、
各フェライト原料を各々調合した。
実施例1〜13および比較例1〜6の結果から、塩化物
を含有するフェライト原料を用いて製造されたフェライ
トの比透磁率μおよびQ値は、塩化物を含有せず、酸化
物や炭酸塩だけ含有するフェライト原料を用いて製造さ
れたフェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積と比較
して、塩化物の種類に関係なく、いずれも共に大きくな
っていることがわかる。
を含有するフェライト原料を用いて製造されたフェライ
トの比透磁率μおよびQ値は、塩化物を含有せず、酸化
物や炭酸塩だけ含有するフェライト原料を用いて製造さ
れたフェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積と比較
して、塩化物の種類に関係なく、いずれも共に大きくな
っていることがわかる。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第3表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
原料を各々調合した。
次に、これらのフェライト原料を用い、実施例1−13
と同様にして各フェライトの比透磁率U%Q値およびμ
Q積を求めた。
と同様にして各フェライトの比透磁率U%Q値およびμ
Q積を求めた。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第4表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
(比較例7〜12)
配合2に示す組成からなるフェライト原料を調合し、ま
た配合2に示す組成の主成分原料に、第4表の比較例8
〜12に示す酸化物または炭酸塩を同表に示す量だけ添
加して、他のフェライト(実施例27〜39) 配合3に示す組成の主成分原料に、第5表の実施例27
〜39に示す塩化物を同表に示す量だけ添加して、各フ
ェライト原料を各々調合した。
た配合2に示す組成の主成分原料に、第4表の比較例8
〜12に示す酸化物または炭酸塩を同表に示す量だけ添
加して、他のフェライト(実施例27〜39) 配合3に示す組成の主成分原料に、第5表の実施例27
〜39に示す塩化物を同表に示す量だけ添加して、各フ
ェライト原料を各々調合した。
配合3
第5表
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第5表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
(比較例13〜18)
配合3に示す組成からなるフェライト原料を調合し、ま
た配合3に示す組成の主成分原料に、第6表の比較例1
4〜18に示す酸化物または炭酸塩を同表に示す量だけ
添加して、他のフェライト原料を各々調合した。
た配合3に示す組成の主成分原料に、第6表の比較例1
4〜18に示す酸化物または炭酸塩を同表に示す量だけ
添加して、他のフェライト原料を各々調合した。
次に、これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13
と同様にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμ
Q積を求めた。
と同様にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμ
Q積を求めた。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第6表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
実施例1〜39および比較例1〜18の結果から、塩化
物を添加した原料を用いてフェライトを得ると、主成分
原料の組成に関わりなく、フェライトの比透磁率μおよ
びQ値が共に大きくなることがわかる。
物を添加した原料を用いてフェライトを得ると、主成分
原料の組成に関わりなく、フェライトの比透磁率μおよ
びQ値が共に大きくなることがわかる。
ることを明らかにする(実施例40〜48)。
(実施例40〜43)
配合1に示す組成の主成分原料に、第7表の実施例40
〜43に示す2種の塩化物を同表に示す量だけ添加して
、各フェライト原料を各々調合した。
〜43に示す2種の塩化物を同表に示す量だけ添加して
、各フェライト原料を各々調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびuQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびuQ積を
求めた。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第7表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
■次に、主成分原料中に2種以上の塩化物を添加してフ
ェライトを製造しても、製造されたフェライトの比透磁
率μ、Q値およびμQ積が高くな(実施例44〜48) 配合1に示す組成の主成分原料に、第8表の実施例44
〜48に示す4種の塩化物を同表に示す量だけ添加して
、各フェライト原料を各々調合した。
ェライトを製造しても、製造されたフェライトの比透磁
率μ、Q値およびμQ積が高くな(実施例44〜48) 配合1に示す組成の主成分原料に、第8表の実施例44
〜48に示す4種の塩化物を同表に示す量だけ添加して
、各フェライト原料を各々調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびJJQ積
を求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびJJQ積
を求めた。
各フェライトの比透磁率u、Q値およびμQ積は第8表
に示す通りとなった。
に示す通りとなった。
第8表
実施例40〜48の結果から、2種以上の塩化物を添加
したフェライト原料を用いて製造されたフェライトの比
透磁率μおよびQ値は、1種の塩化物を添加したフェラ
イト原料を用いて製造された実施例1〜13のフェライ
トの比透磁率UおよびQ値と同じように、いずれも共に
大きくなることがわかる。
したフェライト原料を用いて製造されたフェライトの比
透磁率μおよびQ値は、1種の塩化物を添加したフェラ
イト原料を用いて製造された実施例1〜13のフェライ
トの比透磁率UおよびQ値と同じように、いずれも共に
大きくなることがわかる。
第9表
■次に、フェライト原料中の塩化物の量を変化させて、
フェライトの比透磁率μおよびQ値が共に大きくなる塩
化物の添加量の範囲を明らかにする(実施例49〜83
、比較例19〜33)。
フェライトの比透磁率μおよびQ値が共に大きくなる塩
化物の添加量の範囲を明らかにする(実施例49〜83
、比較例19〜33)。
配合1に示す組成の主成分原料に、KCIを、第9表に
示すように変化させて添加した各フェライト原料を各々
調合した。
示すように変化させて添加した各フェライト原料を各々
調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
KCIの添加量に対する比透磁率U%Q値およびμQ積
は第9表に示す通りとなった。
は第9表に示す通りとなった。
第2図はこの第9表をグラフ化したものである。同図に
おいて、折れ線10は比透磁率μ、折れ線11はQ値、
折れ線12はμQ積を表わしている。
おいて、折れ線10は比透磁率μ、折れ線11はQ値、
折れ線12はμQ積を表わしている。
配合lに示す組成の主成分原料に、S n C1xを、
第10表に示すように変化させて添加した各フェライト
原料を各々調合した。
第10表に示すように変化させて添加した各フェライト
原料を各々調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
Sn Cl *の添加量に対する比透磁率扛、Q値およ
びμQ積は第10表に示す通りとなった。
びμQ積は第10表に示す通りとなった。
配合1に示す組成の主成分原料に、F e C1mを、
第11表に示すように変化させて添加した各フェライト
原料を各々調合した。
第11表に示すように変化させて添加した各フェライト
原料を各々調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
F e Cl mの添加量に対する比透磁率μ、Q値お
よびuQ積は第11表に示す通りとなった。
よびuQ積は第11表に示す通りとなった。
第3図はこの第10表をグラフ化したものである。同図
において、折れ線13は比透磁率μ、折れ41g14は
Q値、折れ[15はμQ積を表わしている。
において、折れ線13は比透磁率μ、折れ41g14は
Q値、折れ[15はμQ積を表わしている。
第4図はこの第11表をグラフ化したものである。同図
において、折れ線16は比透磁率μ、折れ線17はQ値
、折れlJillgはμQ積を表わしている。
において、折れ線16は比透磁率μ、折れ線17はQ値
、折れlJillgはμQ積を表わしている。
第12表
配合1に示す組成の主成分原料に、NaC1を、第12
表に示すように変化させて添加した各フェライト原料を
各々調合した。
表に示すように変化させて添加した各フェライト原料を
各々調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
NaC1の添加量に対する比透磁率μ、Q値およびμQ
積は第12表に示す通りとなった。
積は第12表に示す通りとなった。
第5図はこの第12表をグラフ化したものである。同図
において、折れ#i19は比透磁率U。
において、折れ#i19は比透磁率U。
折れ#120はQ値、折れ線21はμQ積を表わしてい
る。
る。
配合1に示す組成の主成分原料に、LiC1を、第13
表に示すように変化させて添加した各フェライト原料を
各々調合した。
表に示すように変化させて添加した各フェライト原料を
各々調合した。
これらのフェライト原料を用い、実施例1〜13と同様
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
にして各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積を
求めた。
LiC1の添加量に対する比透磁率μ、Q値およびuQ
積は第13表に示す通りとなった。
積は第13表に示す通りとなった。
以上説明した実施例49〜83、比較例19〜33の結
果から、塩化物の添加量が、主成分原料の0.05wt
%未満、および3.0wt%を越えた場合は、フェライ
トの比透磁率UとQ値が共に大きくならないが、塩化物
の添加量を、主成分原料の0.05〜3.0wt%とす
ればフェライトの比透磁率UとQ値が共に大きくなるこ
とがわかる。
果から、塩化物の添加量が、主成分原料の0.05wt
%未満、および3.0wt%を越えた場合は、フェライ
トの比透磁率UとQ値が共に大きくならないが、塩化物
の添加量を、主成分原料の0.05〜3.0wt%とす
ればフェライトの比透磁率UとQ値が共に大きくなるこ
とがわかる。
第6図はこの第13表をグラフ化したものである。同図
において、折れ線22は比透磁率μ、折れ線23はQ値
、折れ線24はuQ積を表わしている。
において、折れ線22は比透磁率μ、折れ線23はQ値
、折れ線24はuQ積を表わしている。
0次に、機械的強度を高めるためにフェライト原料中に
酸化物を含有させた場合でも、塩化物を添加してフェラ
イトを製造すれば、製造されたフェライトの比透磁率μ
およびQ値が大きくなることを明らかにする。
酸化物を含有させた場合でも、塩化物を添加してフェラ
イトを製造すれば、製造されたフェライトの比透磁率μ
およびQ値が大きくなることを明らかにする。
(実施例84〜88)
配合1に示す組成の主成分原料に、第14表に示す塩化
物および酸化物を各1種ずつ添加して原料を各々調合し
た。
物および酸化物を各1種ずつ添加して原料を各々調合し
た。
このフェライト原料を用い、実施例1−13と同様にし
て各フェライトの比透磁率u、Q値およびμQ積を求め
た。
て各フェライトの比透磁率u、Q値およびμQ積を求め
た。
各フェライトの比透磁率μ、Q値およびμQ積は第14
表に示す通りとなった。
表に示す通りとなった。
第14表
実施例84〜88の結果から、フェライト原料中に塩化
物を含有させれば、このフェライト原料中に酸化物が含
まれているか否かに関係なく、フェライトの比透磁率μ
およびQ値をともに大きくできることがわかる。
物を含有させれば、このフェライト原料中に酸化物が含
まれているか否かに関係なく、フェライトの比透磁率μ
およびQ値をともに大きくできることがわかる。
■なお、上述した方法によれば、本焼成の温度を900
〜1100℃と、従来の本焼成の温度(1000〜13
00℃)よりも低くできるので、チップインダクな製造
する場合に応用すれば効果的である。
〜1100℃と、従来の本焼成の温度(1000〜13
00℃)よりも低くできるので、チップインダクな製造
する場合に応用すれば効果的である。
すなわち、N 1−Zn系のフェライト原料中に塩化物
を含有せしめ、この原料を仮焼成してフェライト化させ
、このフェライト化させたものを粉砕し、この粉砕した
ものにバインダー等を加えてペースト化させ、このペー
スト化させたフェライトと、別に用意した電極ペースト
とを、フェライト中に所定巻形状および巻数の導体が形
成されるように、交互に印刷し、この印刷によって得ら
れたものをチップに切断し、本焼成することによって焼
結したチップインダクタを製造することができる。
を含有せしめ、この原料を仮焼成してフェライト化させ
、このフェライト化させたものを粉砕し、この粉砕した
ものにバインダー等を加えてペースト化させ、このペー
スト化させたフェライトと、別に用意した電極ペースト
とを、フェライト中に所定巻形状および巻数の導体が形
成されるように、交互に印刷し、この印刷によって得ら
れたものをチップに切断し、本焼成することによって焼
結したチップインダクタを製造することができる。
そして、この方法において、チップを従来法より低温で
焼成することができるので、高温に耐える高価な電極ペ
ーストを使用せず、安価な電極ペーストを使用すること
ができ、従って、チップインダクタを安価に製造するこ
とができるものである。
焼成することができるので、高温に耐える高価な電極ペ
ーストを使用せず、安価な電極ペーストを使用すること
ができ、従って、チップインダクタを安価に製造するこ
とができるものである。
[発明の効果]
この発明は、塩化物を含有するフェライト原料を用いて
フェライトを製造するので、比透磁率μおよびQ値がと
もに大きいフェライトを製造することができるという効
果がある。
フェライトを製造するので、比透磁率μおよびQ値がと
もに大きいフェライトを製造することができるという効
果がある。
また、この発明は、塩化物を含有するフェライト原料を
用いてフェライトを製造するので、仮焼成および本焼成
の温度を従来より低くできるので、電気炉の電力の使用
量を少なくさせ、また電気炉の炉材の消耗量を少なくさ
せることができ、従って、フェライトの製造コストを低
下させることができるという効果がある。
用いてフェライトを製造するので、仮焼成および本焼成
の温度を従来より低くできるので、電気炉の電力の使用
量を少なくさせ、また電気炉の炉材の消耗量を少なくさ
せることができ、従って、フェライトの製造コストを低
下させることができるという効果がある。
第1図はこの発明の工程図、第2図〜第6図は塩化物の
添加量と比透磁率u、Q値およびμQ積との関係を示し
たグラフである。
添加量と比透磁率u、Q値およびμQ積との関係を示し
たグラフである。
Claims (3)
- 1.Ni−Zn系のフェライト原料を仮焼成してフェラ
イト化させるフェライト化工程と、このフェライト化工
程において得られたものを粉砕する粉砕工程と、この粉
砕工程において得られたものを成形する成形工程と、こ
の成形工程において得られたものを本焼成して焼結させ
る焼結工程とを備えたNi−Zn系フェライトの製造方
法において、前記フェライト原料中に塩化物を含有せし
めたことを特徴とするNi−Zn系フェライトの製造方
法。 - 2.前記塩化物が、塩化亜鉛(ZnCl_2)、塩化ア
ルミニウム(AICl_2)、塩化カリウム(KCI)
、塩化スズ(SnCl_2)、塩化鉄(FeCl_2,
FeCl_3)、塩化銅(CuCl_2)、塩化ナトリ
ウム(NaCl)、塩化ニッケル(NiCl_2)、塩
化マグネシウム(MgCl_2)、塩化マンガン(Mn
Cl_2,MnCl_4)、塩化リチウム(LiCl)
からなる群より選択された1種または2種以上の化合物
であることを特徴とする請求項1記載のNi−Zn系フ
ェライトの製造方法。 - 3.前記フェライト原料中に含有せしめた塩化物の量が
、仮焼成によってフェライト化する主成分原料の0.0
5〜3.0wt%であることを特徴とする請求項1記載
のNi−Zn系フェライトの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1337478A JPH03196602A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | Ni―Zn系フェライトの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1337478A JPH03196602A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | Ni―Zn系フェライトの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03196602A true JPH03196602A (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=18309026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1337478A Pending JPH03196602A (ja) | 1989-12-26 | 1989-12-26 | Ni―Zn系フェライトの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03196602A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255637A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-11 | Murata Mfg Co Ltd | 酸化物磁性体磁器組成物およびそれを用いたインダクタ部品 |
| JP2006041986A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アンテナ装置 |
| US7924235B2 (en) | 2004-07-28 | 2011-04-12 | Panasonic Corporation | Antenna apparatus employing a ceramic member mounted on a flexible sheet |
| JP2013147396A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Tdk Corp | フェライト焼結体および電子部品 |
| JP2013147395A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Tdk Corp | フェライト焼結体および電子部品 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55144421A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-11 | Tdk Corp | Manufacture of ferrite |
-
1989
- 1989-12-26 JP JP1337478A patent/JPH03196602A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55144421A (en) * | 1979-04-24 | 1980-11-11 | Tdk Corp | Manufacture of ferrite |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002255637A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-11 | Murata Mfg Co Ltd | 酸化物磁性体磁器組成物およびそれを用いたインダクタ部品 |
| JP2006041986A (ja) * | 2004-07-28 | 2006-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | アンテナ装置 |
| US7924235B2 (en) | 2004-07-28 | 2011-04-12 | Panasonic Corporation | Antenna apparatus employing a ceramic member mounted on a flexible sheet |
| US8507072B2 (en) | 2004-07-28 | 2013-08-13 | Panasonic Corporation | Antenna apparatus |
| JP2013147396A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Tdk Corp | フェライト焼結体および電子部品 |
| JP2013147395A (ja) * | 2012-01-20 | 2013-08-01 | Tdk Corp | フェライト焼結体および電子部品 |
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