JPH03197192A - レーザ製版用オフセット印刷版 - Google Patents
レーザ製版用オフセット印刷版Info
- Publication number
- JPH03197192A JPH03197192A JP33948589A JP33948589A JPH03197192A JP H03197192 A JPH03197192 A JP H03197192A JP 33948589 A JP33948589 A JP 33948589A JP 33948589 A JP33948589 A JP 33948589A JP H03197192 A JPH03197192 A JP H03197192A
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- Japan
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- offset printing
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- laser beam
- image forming
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- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、レーザ製版用オフセット印刷原版に関する。
印刷方式としては大別して、凹版、平版（オフセット）
及び凸版（グラビア方式を含む）が知られ採用されてい
るが、オフセット印刷が製版及び印刷のしやすさをはじ
め、装置も他に比べて安価である等から、近時、印刷の
分野で伸長している。特に、事務用印刷においてはオフ
セット印刷は最も有効である。
及び凸版（グラビア方式を含む）が知られ採用されてい
るが、オフセット印刷が製版及び印刷のしやすさをはじ
め、装置も他に比べて安価である等から、近時、印刷の
分野で伸長している。特に、事務用印刷においてはオフ
セット印刷は最も有効である。
オフセット印刷版の製版は、感光剤を塗布したＡＱ板、
Ｚｎ板などの版材にスクリーンを密着させ、これに画像
照射を行ない、続いて、現像・親水化処理を施こすとい
う手段、電子写真感光体を版材とし、帯電、露光、現像
後、親水化処理を施こすという手段が採用されている。
Ｚｎ板などの版材にスクリーンを密着させ、これに画像
照射を行ない、続いて、現像・親水化処理を施こすとい
う手段、電子写真感光体を版材とし、帯電、露光、現像
後、親水化処理を施こすという手段が採用されている。
しかし、この従来から行なわれているオフセット製版法
では、例えばコンピューターなどに蓄積されている印刷
情報や、スキャナーで読み取った情報、原版から直接オ
フセット印刷版を作ることはできない。
では、例えばコンピューターなどに蓄積されている印刷
情報や、スキャナーで読み取った情報、原版から直接オ
フセット印刷版を作ることはできない。
本発明はコンピューターなどに蓄積された印刷情報や、
スキャナーで読み取られる情報、原版等から直接オフセ
ット印刷版が簡便に得られるレーザ製版用オフセット印
刷原版の提供を目的とするものである。
スキャナーで読み取られる情報、原版等から直接オフセ
ット印刷版が簡便に得られるレーザ製版用オフセット印
刷原版の提供を目的とするものである。
本発明は、少くとも表面が親水性である基板上に、画像
形成層が設けられており、該画像形成層は（ａ）レーザ
光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂および（Ｃ）脂
肪酸およびその誘導体よりなる群から選ばれた少なくと
も１種の化合物を主成分とする層であることを特徴とす
るレーザ製版用オフセット印刷版に関する。
形成層が設けられており、該画像形成層は（ａ）レーザ
光を吸収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂および（Ｃ）脂
肪酸およびその誘導体よりなる群から選ばれた少なくと
も１種の化合物を主成分とする層であることを特徴とす
るレーザ製版用オフセット印刷版に関する。
本発明における少くとも表面が親水性である基板″とは
、本来、それ自体が親水性である基板あるいはそれ自体
は親水性でない基板の表面を親水化処理した基板などを
意味する。
、本来、それ自体が親水性である基板あるいはそれ自体
は親水性でない基板の表面を親水化処理した基板などを
意味する。
これらの具体例としては、金属基板あるいは金属層を有
する基板もしくは親水化処理したプラスチック基板など
を挙げることができる。
する基板もしくは親水化処理したプラスチック基板など
を挙げることができる。
本発明は、レーザ光ビームをコンピューター情報、原稿
情報等の情報に応じて照射することにより、該画像形成
層中に含まれるレーザ光吸収色素がレーザ光エネルギー
を吸収し発熱することによって該画像形成層中の熱可塑
性樹脂を溶融し、前記基板上に孔（ピット）が形成され
、親水性の基板表面が露出し、画像を形成した部分と露
出しない未露光の部分との水に対するヌレの差、接触角
の差が大きく生じ、非常に高精細なオフセット印刷版が
直接得られることを見出したことによるものである。
情報等の情報に応じて照射することにより、該画像形成
層中に含まれるレーザ光吸収色素がレーザ光エネルギー
を吸収し発熱することによって該画像形成層中の熱可塑
性樹脂を溶融し、前記基板上に孔（ピット）が形成され
、親水性の基板表面が露出し、画像を形成した部分と露
出しない未露光の部分との水に対するヌレの差、接触角
の差が大きく生じ、非常に高精細なオフセット印刷版が
直接得られることを見出したことによるものである。
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明のレーザ製版用オフセット印刷原版を構成する金
属基板もしくは金属薄膜を有する基板は、ステンレス、
Ａ Ｑ 、 Ｃｒ、 Ｇｅ、 ＩＴＯ（スズをドープし
たＩｎ、０．）、ＺｎＯ，Ｎｉ、ニクロム、 ｐｔ。
属基板もしくは金属薄膜を有する基板は、ステンレス、
Ａ Ｑ 、 Ｃｒ、 Ｇｅ、 ＩＴＯ（スズをドープし
たＩｎ、０．）、ＺｎＯ，Ｎｉ、ニクロム、 ｐｔ。
Ｔｉ、Ｓｉ等の金属板、もしくはポリエステルフィルム
、ポリエチレンフィルム等のプラスチックフィルム上に
前記金属を蒸着、スパッタ、ラミネート等で薄膜状に設
けたものが使用でき、さらに０２プラズマで表面処理し
親水化処理を施したポリエステルフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、ナイロンフィルム、塩化ビニルフィルム
、塩化ビニリデンフィルム等が使用出来。
、ポリエチレンフィルム等のプラスチックフィルム上に
前記金属を蒸着、スパッタ、ラミネート等で薄膜状に設
けたものが使用でき、さらに０２プラズマで表面処理し
親水化処理を施したポリエステルフィルム、ポリプロピ
レンフィルム、ナイロンフィルム、塩化ビニルフィルム
、塩化ビニリデンフィルム等が使用出来。
基本的に水に対する静的接触角（θ）が小さく（θ〈６
０°が望ましい）、親水性であれば良い。
０°が望ましい）、親水性であれば良い。
レーザとしては、炭酸ガスレーザ（発振波長１０．６μ
ｍ）、イツトリウム・アルミニウム・ガーネット（ＷＡ
Ｇ） Ｌ／−ザ（発振波長１．０６μｍ）、銅蒸気レー
ザ（発振波長０．５１μｍ）、色素レーザ、エキシマレ
ーザ（ＸｅＦのときの発振波長０．３５１μ履、ＸｅＣ
Ωのときの発振波長０．３０８μｍ、にｒＦのときの発
振波長０．２４８μｍ、 ＡｒＦのときの発振波長０．
１９３μｍ）などがあるが、とくに本発明では、赤外光
タイプのものが好ましい。
ｍ）、イツトリウム・アルミニウム・ガーネット（ＷＡ
Ｇ） Ｌ／−ザ（発振波長１．０６μｍ）、銅蒸気レー
ザ（発振波長０．５１μｍ）、色素レーザ、エキシマレ
ーザ（ＸｅＦのときの発振波長０．３５１μ履、ＸｅＣ
Ωのときの発振波長０．３０８μｍ、にｒＦのときの発
振波長０．２４８μｍ、 ＡｒＦのときの発振波長０．
１９３μｍ）などがあるが、とくに本発明では、赤外光
タイプのものが好ましい。
レーザ光を吸収する色素は、それぞれの使用する波長を
有効に吸収できる色素であればとくに制限はない。
有効に吸収できる色素であればとくに制限はない。
赤外吸収色素についてのみ一応例示すると、シアニン色
素、スクワリリウム色素、メチン系色素、ナフトキノン
系色素、キノンイミン系色素、キノンジイミン系色素、
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオー
ル金属錯体色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素。
素、スクワリリウム色素、メチン系色素、ナフトキノン
系色素、キノンイミン系色素、キノンジイミン系色素、
フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオー
ル金属錯体色素、アントラキノン系色素、アゾ系色素。
トリスアゾ系色素、ピリリウム塩系色素、アミニウム塩
基色素等があり、特にシアニン色素、フタロシアニン色
素、ナフタロシアニン色素、ジチオール金属錯体色素が
分子吸光係数が大きく効果的である。
基色素等があり、特にシアニン色素、フタロシアニン色
素、ナフタロシアニン色素、ジチオール金属錯体色素が
分子吸光係数が大きく効果的である。
この赤外線吸収色素の代表例の幾つかは下記（化合物Ｈ
ａ １〜Ｎα１３）のとおりである。
ａ １〜Ｎα１３）のとおりである。
熱可塑性樹脂としては、ふっ素糸樹脂、シリコーン樹脂
、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビ
ニル−アクリレート共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレー
ト、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリスチレンな
どが挙げられる。
、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビ
ニル−アクリレート共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリアクリレート、ポリメタクリレー
ト、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリスチレンな
どが挙げられる。
とくに、下記一般式で示されるアクリル系のモノマー単
位を有するホモポリマーもしくはコポリマーが好ましい
。
位を有するホモポリマーもしくはコポリマーが好ましい
。
１
一４ＣＨ２−Ｃ＋
ＣＯＯ−（Ｃ１，）ｔｎ −（ＣＦ、 ）ｎ−ＣＦ、
Ｒ。
Ｒ。
Ｒ１＝Ｈ，’ＣＨ。
Ｒ，＝Ｈ，Ｆ
ｍ ＝１．２
ｎ ＝１〜７
この種のホモポリマーもしくはコポリマーは、それぞれ
の構成モノマーを常法に従い、重合することによって得
ることができる。
の構成モノマーを常法に従い、重合することによって得
ることができる。
合成例
ＣＨ。
＋ＣＨ２ｃａｎ の合成Ｃｏｏ （Ｃ
Ｈ２）ｚ （ＣＦ２）、 ＣＦ。
Ｈ２）ｚ （ＣＦ２）、 ＣＦ。
１）１．ＩＦＩ、２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレートＣＨ２＝ Ｃ（Ｃ１（、）ＣＯＯ（Ｃ
）１． ）、 （ＣＦ、 ）Ｆ ５０ ｇ（０，０９４
ｍｏｌ）、アゾビスイソブチロニトリル０．１５ｇを１
．１．１−トリクロルエタン５０ｇ中に加え、７０〜８
０℃で５時間撹拌し、粘稠な析出物を得た。
ルメタクリレートＣＨ２＝ Ｃ（Ｃ１（、）ＣＯＯ（Ｃ
）１． ）、 （ＣＦ、 ）Ｆ ５０ ｇ（０，０９４
ｍｏｌ）、アゾビスイソブチロニトリル０．１５ｇを１
．１．１−トリクロルエタン５０ｇ中に加え、７０〜８
０℃で５時間撹拌し、粘稠な析出物を得た。
析出物を炉別し、メタノール１００ｍＱで洗浄し、得ら
れた析出物を乳鉢で粉砕し、再びメタノール１００−で
洗浄し、目的物を得た。ＤＳＣで融点を測定したところ
、７５．６℃であった。
れた析出物を乳鉢で粉砕し、再びメタノール１００−で
洗浄し、目的物を得た。ＤＳＣで融点を測定したところ
、７５．６℃であった。
本発明で使用する脂肪酸もしくはその誘導体としては、
飽和または不飽和のモノまたはジカルボン酸またはこれ
らのエステル、アミド、アニリド、ヒドラジド、ウレイ
ド、無水物あるいはアンモニウム塩または金属塩のよう
な脂肪酸塩等であり、エステルは２個以上の水酸基を持
つ化合物とのエステル、たとえばモノ、ジまたはトリグ
リセリドなどを含む、また、これらのものはハロゲン、
ヒドロキシ基、アシル基、アシルオキシ基あるいは置換
または無置換のアリール基により置換されていてもよい
、これらの飽和または不飽和脂肪酸は直鎖のものでも枝
分かれしたものでもよく、不飽和脂肪酸は二重結合また
は三重結合を１個持つものでも、２個以上持つものでも
よい。これらの飽和または不飽和脂肪酸の炭素数は１０
以上であることが好ましい。
飽和または不飽和のモノまたはジカルボン酸またはこれ
らのエステル、アミド、アニリド、ヒドラジド、ウレイ
ド、無水物あるいはアンモニウム塩または金属塩のよう
な脂肪酸塩等であり、エステルは２個以上の水酸基を持
つ化合物とのエステル、たとえばモノ、ジまたはトリグ
リセリドなどを含む、また、これらのものはハロゲン、
ヒドロキシ基、アシル基、アシルオキシ基あるいは置換
または無置換のアリール基により置換されていてもよい
、これらの飽和または不飽和脂肪酸は直鎖のものでも枝
分かれしたものでもよく、不飽和脂肪酸は二重結合また
は三重結合を１個持つものでも、２個以上持つものでも
よい。これらの飽和または不飽和脂肪酸の炭素数は１０
以上であることが好ましい。
飽和脂肪酸の具体例としては、たとえばウンデカン酸、
ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、バルミチ
ン酸、ヘプタデカン酸、ステアリン酸、ナノデカン酸、
アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、
モンタン酸、メリシン酸などがあり、不飽和脂肪酸とし
ては、たとえばオレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、ソルビン酸、ステアロール酸などがある。またエステ
ルの具体例としては、たとえばこれらの脂肪酸のメチル
エステル、エチルエステル、ヘキシルエステル、オクチ
ルエステル、デシルエステル、ドデシルエステル、テト
ラデシルエステル、ステアリルエステル、エイコシルエ
ステル、トコシルエステルなどがある。
ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、バルミチ
ン酸、ヘプタデカン酸、ステアリン酸、ナノデカン酸、
アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、
モンタン酸、メリシン酸などがあり、不飽和脂肪酸とし
ては、たとえばオレイン酸、エライジン酸、リノール酸
、ソルビン酸、ステアロール酸などがある。またエステ
ルの具体例としては、たとえばこれらの脂肪酸のメチル
エステル、エチルエステル、ヘキシルエステル、オクチ
ルエステル、デシルエステル、ドデシルエステル、テト
ラデシルエステル、ステアリルエステル、エイコシルエ
ステル、トコシルエステルなどがある。
また金属塩の例としては、たとえばこれらの脂肪酸のナ
トリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ニッ
ケル、コバルト、亜鉛、カドミウム、アルミニウムなど
の金属塩がある。
トリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ニッ
ケル、コバルト、亜鉛、カドミウム、アルミニウムなど
の金属塩がある。
使用する脂肪酸または脂肪酸誘導体は、好ましくは融点
が５０〜２００℃、特に６０〜１５０℃の範囲のものが
好ましい０本発明の画像形成層には、これらの脂肪酸ま
たはその誘導体の１種または２種以上を混合して用いる
ことができる。
が５０〜２００℃、特に６０〜１５０℃の範囲のものが
好ましい０本発明の画像形成層には、これらの脂肪酸ま
たはその誘導体の１種または２種以上を混合して用いる
ことができる。
ベヘン酸（ＮＡＡ ２２２Ｓ；日本油脂製）４９重量部
をテトラヒドロフランに溶解し、これをアルミニウムを
蒸着した７５μｍ厚のポリエチレンフィルム上にブレー
ドで塗布し、乾燥後の膜厚が約５μｍの画像形成層を設
けた。
をテトラヒドロフランに溶解し、これをアルミニウムを
蒸着した７５μｍ厚のポリエチレンフィルム上にブレー
ドで塗布し、乾燥後の膜厚が約５μｍの画像形成層を設
けた。
作製した試料に、発振波長７８０ｎｍの半導体レーザー
光をビーム径３μ閣に絞り、照射光強度１０＋＋ｖで照
射したところ１輪郭の極めて明瞭なピットが形成し、ア
ルミニウム部分が露出した。
光をビーム径３μ閣に絞り、照射光強度１０＋＋ｖで照
射したところ１輪郭の極めて明瞭なピットが形成し、ア
ルミニウム部分が露出した。
このようにして製版された印刷版を常法に従いオフセッ
ト印刷に供したところ良好な印刷適正を示した。
ト印刷に供したところ良好な印刷適正を示した。
Claims (1)
- １、少くとも表面が親水性である基板上に、画像形成層
が設けられており、該画像形成層は（ａ）レーザ光を吸
収する色素、（ｂ）熱可塑性樹脂および（ｃ）脂肪酸お
よびその誘導体よりなる群から選ばれた少なくとも１種
の化合物を主成分とする層であることを特徴とするレー
ザ製版用オフセット印刷版。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33948589A JPH03197192A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | レーザ製版用オフセット印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33948589A JPH03197192A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | レーザ製版用オフセット印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03197192A true JPH03197192A (ja) | 1991-08-28 |
Family
ID=18327912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33948589A Pending JPH03197192A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | レーザ製版用オフセット印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03197192A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5235914A (en) * | 1988-08-19 | 1993-08-17 | Presstek, Inc. | Apparatus and method for imaging lithographic printing plates using spark discharges |
| US5237923A (en) * | 1988-08-19 | 1993-08-24 | Presstek, Inc. | Apparatus and method for imaging lithographic printing plates using spark discharges |
| JPH06199064A (ja) * | 1992-07-20 | 1994-07-19 | Presstek Inc | レーザ放電イメージング装置について用いるためのリソグラフ印刷プレート |
| US5339737A (en) * | 1992-07-20 | 1994-08-23 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5351617A (en) * | 1992-07-20 | 1994-10-04 | Presstek, Inc. | Method for laser-discharge imaging a printing plate |
| US5353705A (en) * | 1992-07-20 | 1994-10-11 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members having secondary ablation layers for use with laser-discharge imaging apparatus |
| US5379698A (en) * | 1992-07-20 | 1995-01-10 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging |
| USRE35512E (en) * | 1992-07-20 | 1997-05-20 | Presstek, Inc. | Lithographic printing members for use with laser-discharge imaging |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP33948589A patent/JPH03197192A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US5487338A (en) * | 1992-07-20 | 1996-01-30 | Presstek, Inc. | Lithographic printing plates for use with laser-discharge imaging apparatus |
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| US5996496A (en) * | 1992-07-20 | 1999-12-07 | Presstek, Inc. | Laser-imageable lithographic printing members |
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