JPH03199908A - 膜厚計測装置 - Google Patents
膜厚計測装置Info
- Publication number
- JPH03199908A JPH03199908A JP34167389A JP34167389A JPH03199908A JP H03199908 A JPH03199908 A JP H03199908A JP 34167389 A JP34167389 A JP 34167389A JP 34167389 A JP34167389 A JP 34167389A JP H03199908 A JPH03199908 A JP H03199908A
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- JP
- Japan
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- plate
- film thickness
- piezoelectric crystal
- vapor
- crystal
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- Pending
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- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Length Measuring Devices Characterised By Use Of Acoustic Means (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は膜厚計測装置、特に、薄膜化を必要とする半導
体製造分野等に利用される膜厚計測装置に関する。
体製造分野等に利用される膜厚計測装置に関する。
[従来技術]
半導体製造装置において、真空槽内で薄膜を作成する場
合、半導体の製造管理上作成中の薄膜の膜厚を計測する
必要がある。
合、半導体の製造管理上作成中の薄膜の膜厚を計測する
必要がある。
これを行うために、従来、第7図の装置を用いて膜厚の
計測を行っている。第7図において、水晶振動子11の
下部には、ばね性の電極12が取付けられており、この
水晶振動子11を治具13に取付け、その上部を蓋14
で押さえることにより膜厚測定装置を構成する。この膜
厚測定装置を半導体製造装置の真空槽内の薄膜が作成さ
れる位置の近傍に配置し、水晶振動子11にある電圧を
印加して振動させておく。
計測を行っている。第7図において、水晶振動子11の
下部には、ばね性の電極12が取付けられており、この
水晶振動子11を治具13に取付け、その上部を蓋14
で押さえることにより膜厚測定装置を構成する。この膜
厚測定装置を半導体製造装置の真空槽内の薄膜が作成さ
れる位置の近傍に配置し、水晶振動子11にある電圧を
印加して振動させておく。
この状態で、薄膜の作成を行うと、膜が水晶振動子11
上にも付着し、その結果、水晶振動子はその質量が変化
するために、固有振動周波数に変化が生じる。したがっ
て、この変化を周波数計等によって検出することにより
、膜厚を測定することができる。
上にも付着し、その結果、水晶振動子はその質量が変化
するために、固有振動周波数に変化が生じる。したがっ
て、この変化を周波数計等によって検出することにより
、膜厚を測定することができる。
[発明が解決しようとする課題]
上記のような従来の膜厚測定装置では、蒸着物を直接水
晶振動子に付着させており、蒸着物の付着による水晶振
動子の周波数変化がある程度大きくなると、周波数変化
が付着量に比例しなくなって使用できなくなるため、高
価な結晶の寿命が短いという問題点がある。また、蒸着
した膜が剥がれたり、他から紛れ込んだ膜の小片が水晶
振動子11と蓋14との間に挟まるなどして、誤動作し
、膜厚が測れなくなる場合があった。
晶振動子に付着させており、蒸着物の付着による水晶振
動子の周波数変化がある程度大きくなると、周波数変化
が付着量に比例しなくなって使用できなくなるため、高
価な結晶の寿命が短いという問題点がある。また、蒸着
した膜が剥がれたり、他から紛れ込んだ膜の小片が水晶
振動子11と蓋14との間に挟まるなどして、誤動作し
、膜厚が測れなくなる場合があった。
本発明は上記のような従来技術の欠点を解消するために
創案されたものであり、高価な結晶を短い寿命で交換す
る必要を無くすとともに、故障を少なくすることができ
る膜厚測定装置を提供することを目的とする。
創案されたものであり、高価な結晶を短い寿命で交換す
る必要を無くすとともに、故障を少なくすることができ
る膜厚測定装置を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記目的を遠戚するために、本発明における膜厚測定装
置は、蒸着物が付着する付着板と、圧電性結晶と、上記
付着板の重量変化を上記圧電性結晶に伝える機構とを有
している。
置は、蒸着物が付着する付着板と、圧電性結晶と、上記
付着板の重量変化を上記圧電性結晶に伝える機構とを有
している。
[作用]
上記のように構成された膜厚測定装置は、付着板に膜が
蒸着されることによって重量が変化し、この変化が伝達
機構により圧電性結晶に伝えられる。そして、この重量
変化により圧電性結晶には伸び、縮み、又はねじれなど
の形状変化が起こり、電気分極が生じて電圧が発生する
。この電圧を読み取り、処理することにより膜厚を測定
することができる。
蒸着されることによって重量が変化し、この変化が伝達
機構により圧電性結晶に伝えられる。そして、この重量
変化により圧電性結晶には伸び、縮み、又はねじれなど
の形状変化が起こり、電気分極が生じて電圧が発生する
。この電圧を読み取り、処理することにより膜厚を測定
することができる。
[実施例]
本発明の膜厚測定装置の一実施例を第1図、第2図およ
び第3図を用いて説明する。第1図はプローブであり、
蒸着物付着板1が支持具2により支持されている。付着
板1は取り替え可能な板状の物であれば、どのような物
質から戒っていてもよく、また、支持具2はある程度剛
性を持ったもの、例えば、ガラス繊維やグラファイト繊
維を用いることができる。このプローブを第2図に示す
ように、支点3により支持するとともに、支点3の後で
圧電性結晶4を支持具2に固定し、この圧電性結晶4を
ケース5内に収容する。このとき、支点3をスリットと
して兼用することにより、ケース5内には不要な蒸散物
が侵入しないようにすることができる。圧電性結晶4に
はZnS、Zn5e、CdSなどの種類があり、圧電効
果はっぎの式で表される。
び第3図を用いて説明する。第1図はプローブであり、
蒸着物付着板1が支持具2により支持されている。付着
板1は取り替え可能な板状の物であれば、どのような物
質から戒っていてもよく、また、支持具2はある程度剛
性を持ったもの、例えば、ガラス繊維やグラファイト繊
維を用いることができる。このプローブを第2図に示す
ように、支点3により支持するとともに、支点3の後で
圧電性結晶4を支持具2に固定し、この圧電性結晶4を
ケース5内に収容する。このとき、支点3をスリットと
して兼用することにより、ケース5内には不要な蒸散物
が侵入しないようにすることができる。圧電性結晶4に
はZnS、Zn5e、CdSなどの種類があり、圧電効
果はっぎの式で表される。
p、=d工、IT、4 (i=1.2.3、j=1.
2、・・・・6)ここで、Pl :誘電分極、dlj:
圧電テンソル、T、:応力であり、ZnOの場合、d3
z=−4,7、d33=+12、dxs=−12〜−1
7(XIO−12クーロン/ニユートン)である。
2、・・・・6)ここで、Pl :誘電分極、dlj:
圧電テンソル、T、:応力であり、ZnOの場合、d3
z=−4,7、d33=+12、dxs=−12〜−1
7(XIO−12クーロン/ニユートン)である。
一方、第3図に示すように圧電性結晶4には電圧計6が
接続され、この電圧計6の出力が演算回路7に入力され
るとともに、演算回路7の出力が表示回路8に入力され
る。
接続され、この電圧計6の出力が演算回路7に入力され
るとともに、演算回路7の出力が表示回路8に入力され
る。
この膜厚測定装置の使用方法を説明すると、ケース5を
半導体製造装置内に入れ、蒸着物付着板1を薄膜が作成
される位置の近傍に置く。この後、薄膜の製造を行うと
、付着板lにも蒸着物が付着し、付着板1の重量が変化
する。この変化が剛性を持った支持具2によって圧電性
結晶4に伝えられ、圧電性結晶4は応力によって伸びを
生じる。これにより、圧電性結晶4は電気分極を生じ、
電圧が発生する。
半導体製造装置内に入れ、蒸着物付着板1を薄膜が作成
される位置の近傍に置く。この後、薄膜の製造を行うと
、付着板lにも蒸着物が付着し、付着板1の重量が変化
する。この変化が剛性を持った支持具2によって圧電性
結晶4に伝えられ、圧電性結晶4は応力によって伸びを
生じる。これにより、圧電性結晶4は電気分極を生じ、
電圧が発生する。
この電圧が電圧計6に入力され、測定された電圧値が演
算回路7により膜厚に変換されて表示回路8に製造中の
半導体の膜厚が表示される。
算回路7により膜厚に変換されて表示回路8に製造中の
半導体の膜厚が表示される。
そして、付着板1に大量の蒸着物が付着して、測定でき
ないようになったときには、付着板1を新たな付着板と
取り替えることにより、再び膜厚の測定を行うことがで
きる。
ないようになったときには、付着板1を新たな付着板と
取り替えることにより、再び膜厚の測定を行うことがで
きる。
第4図は本発明の他の実施例であり、圧電性結晶4が支
点3の前で支持具2に固定されており、また、ケース5
には蒸着物の侵入を防ぐためにスリット9が設けられて
いる。この場合には、付着板1に蒸着物が付着すると、
付着板1の重量変化により圧電性結晶4が縮み、電気分
極により電圧が発生する。
点3の前で支持具2に固定されており、また、ケース5
には蒸着物の侵入を防ぐためにスリット9が設けられて
いる。この場合には、付着板1に蒸着物が付着すると、
付着板1の重量変化により圧電性結晶4が縮み、電気分
極により電圧が発生する。
更に、第5図、第6図は本発明の第3、第4の実施例で
あり、第5図では圧電性結晶4に付着板1がつり下げら
れており、付着板lに蒸着物が付着すると、圧電性結晶
4に引っ張り応力が働き、電圧が発生する。また、第6
図では、付着板lの一方の辺に支持具2が取付けられて
おり、付着板lに蒸着物が付着することにより、付着板
lが傾(5) (6) き、回転トルクが発生して圧電性結晶4がねじれ、電圧
が発生する。
あり、第5図では圧電性結晶4に付着板1がつり下げら
れており、付着板lに蒸着物が付着すると、圧電性結晶
4に引っ張り応力が働き、電圧が発生する。また、第6
図では、付着板lの一方の辺に支持具2が取付けられて
おり、付着板lに蒸着物が付着することにより、付着板
lが傾(5) (6) き、回転トルクが発生して圧電性結晶4がねじれ、電圧
が発生する。
なお、上記実施例では、圧電性結晶の出力電圧が入力さ
れる電圧計の出力を演算処理して表示回路に表示する例
を説明したが、電圧計の出力を半導体製造装置の制御回
路に入力して薄膜製造の制御に用いることもできる。
れる電圧計の出力を演算処理して表示回路に表示する例
を説明したが、電圧計の出力を半導体製造装置の制御回
路に入力して薄膜製造の制御に用いることもできる。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明は、蒸着物を圧電性結晶に
直接付着させないため、高価な結晶を短い寿命で交換す
る必要はなく、付着板を交換するだけで十分であるので
、簡便、安価となるとともに、圧電性結晶には膜が付着
しないため、故障を少なくすることができる。
直接付着させないため、高価な結晶を短い寿命で交換す
る必要はなく、付着板を交換するだけで十分であるので
、簡便、安価となるとともに、圧電性結晶には膜が付着
しないため、故障を少なくすることができる。
第1図は本発明の膜厚測定装置に使用するプローブの側
面図、第2図は本発明の膜厚測定装置の第一の実施例を
示す図、第3図は本発明の膜厚測定装置の膜厚測定回路
を示すブロック図、第4図、第5図、第6図は本発明の
膜厚測定装置の他の実施例を示す図、第7図は従来の膜
厚測定装置を示す図である。 l・・蒸着物付着板、2・・支持具、3・・支点、4・
・圧電性結晶、5・・ケース、6・・電圧計、7・・演
算回路、8・・表示回路、9・・スリット、工l・・水
晶振動子、12・・ばね性電極、工3・・治具、14・
・蓋
面図、第2図は本発明の膜厚測定装置の第一の実施例を
示す図、第3図は本発明の膜厚測定装置の膜厚測定回路
を示すブロック図、第4図、第5図、第6図は本発明の
膜厚測定装置の他の実施例を示す図、第7図は従来の膜
厚測定装置を示す図である。 l・・蒸着物付着板、2・・支持具、3・・支点、4・
・圧電性結晶、5・・ケース、6・・電圧計、7・・演
算回路、8・・表示回路、9・・スリット、工l・・水
晶振動子、12・・ばね性電極、工3・・治具、14・
・蓋
Claims (1)
- (1)蒸着物が付着する付着板と、圧電性結晶と、上記
付着板の重量変化を上記圧電性結晶に伝える機構とを有
することを特徴とする膜厚計測装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34167389A JPH03199908A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 膜厚計測装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34167389A JPH03199908A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 膜厚計測装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03199908A true JPH03199908A (ja) | 1991-08-30 |
Family
ID=18347903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34167389A Pending JPH03199908A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 膜厚計測装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03199908A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2404787A (en) * | 2000-07-05 | 2005-02-09 | Metryx Ltd | Apparatus and method for investigating semiconductor wafers |
| US7020577B2 (en) | 2000-07-05 | 2006-03-28 | Metryx Limited | Apparatus and method for investigating semiconductors wafer |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP34167389A patent/JPH03199908A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2404787A (en) * | 2000-07-05 | 2005-02-09 | Metryx Ltd | Apparatus and method for investigating semiconductor wafers |
| GB2404787B (en) * | 2000-07-05 | 2005-04-13 | Metryx Ltd | Apparatus and method for investigating semiconductor wafers |
| US7020577B2 (en) | 2000-07-05 | 2006-03-28 | Metryx Limited | Apparatus and method for investigating semiconductors wafer |
| US7340372B2 (en) * | 2000-07-05 | 2008-03-04 | Metryx Limited | Apparatus and method for investigating parameters of layers deposited on semiconductor wafers |
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